JPWO2020189373A1 - 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム - Google Patents
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Abstract
Description
基板を処理室に収容する工程と、
基板に第1の元素を含む第1処理ガスを供給して、基板に第1の元素を含む膜を形成する第1の成膜工程と、
第1の元素を含む膜に第2の元素を含む第2処理ガスを供給して、第1の元素を含む膜から第1の元素を除去して第2の元素を含む膜に改質する第2の成膜工程と、
を有する技術が提供される。
以下、実施形態の例について、図を参照しながら説明する。
基板処理装置10は、加熱手段(加熱機構、加熱系)としてのヒータ207が設けられた処理炉202を備える。ヒータ207は円筒形状であり、保持板としてのヒータベース(図示せず)に支持されることにより垂直に据え付けられている。
半導体装置(デバイス)の製造工程の一工程として、ウエハ200上に、例えばフラッシュメモリのコントロールゲート膜や、MOSFETのワードライン電極を構成する金属膜を形成する工程の一例について、図4を用いて説明する。金属膜を形成する工程は、上述した基板処理装置10の処理炉202を用いて実行される。以下の説明において、基板処理装置10を構成する各部の動作はコントローラ121により制御される。
複数枚のウエハ200がボート217に装填(ウエハチャージ)されると、図1に示されているように、複数枚のウエハ200を支持したボート217は、ボートエレベータ115によって持ち上げられて処理室201内に搬入(ボートロード)される。この状態で、シールキャップ219はOリング220を介して反応管203の下端開口を閉塞した状態となる。
処理室201内が所望の圧力(真空度)となるように真空ポンプ246によって真空排気される。この際、処理室201内の圧力は、圧力センサ245で測定され、この測定された圧力情報に基づき、APCバルブ243がフィードバック制御される(圧力調整)。真空ポンプ246は、少なくともウエハ200に対する処理が完了するまでの間は常時作動させた状態を維持する。また、処理室201内が所望の温度となるようにヒータ207によって加熱される。この際、処理室201内が所望の温度分布となるように、温度センサ263が検出した温度情報に基づきヒータ207への通電量がフィードバック制御される(温度調整)。ヒータ207による処理室201内の加熱は、少なくともウエハ200に対する処理が完了するまでの間は継続して行われる。
続いて、初期成膜工程S300が行われる。初期成膜工程S300は、少なくとも、以下に記載する第1の成膜工程S303と第2の成膜工程S305を有する。それぞれの工程について、図5、図6、図7を用いて説明する。
第1の成膜工程S303は、図5,図6の実線で示す様に、少なくとも、第1処理ガスの供給工程S303aを有する。なお、図5,図6の破線で示す様に、パージ工程S303b,S303d、第1処理ガスとは異なる処理ガス供給工程S303c、判定工程S303eを含む様に構成しても良い。以下に、それぞれの工程について説明する。
第1処理ガス供給工程S303aでは、処理室201内のウエハ200に、第1処理ガスとしてのSiH4ガスが供給される。
バルブ314を開き、ガス供給管310内に第1処理ガスであるSiH4ガスを流す。SiH4ガスは、MFC312により流量調整され、ノズル410のガス供給孔410aから処理室201内に供給され、排気管231から排気される。このとき、同時にバルブ514を開き、ガス供給管510内にN2ガス等の不活性ガスを流す。ガス供給管510内を流れたN2ガスは、MFC512により流量調整され、SiH4ガスと一緒に処理室201内に供給され、排気管231から排気される。このとき、ノズル420やノズル430内へのSiH4ガスの侵入を防止するために、バルブ524,534を開き、ガス供給管520,530内にN2ガスを流す。N2ガスは、ガス供給管320,330、ノズル420,430を介して処理室201内に供給され、排気管231から排気される。このとき、ウエハ200に対してSiH4ガスとN2ガスが同時に供給されることとなる。
パージ工程S303bでは、不活性ガスとしてのN2ガスが処理室201内に供給される。処理室201内に不活性ガスとしてのN2ガスを供給し、処理室201内の圧力調整が行われる。N2ガスの流量は、例えば0.1〜5slm、好ましくは0.3〜3slm、より好ましくは0.5〜2slmの範囲内の流量とする。この時の圧力は、後の第1ガスの供給時の圧力となる様に調整される。圧力は、例えば1〜3990Paの範囲内の圧力とする。
第1処理ガスとは異なる処理ガス供給工程S303aでは、処理室201内のウエハ200に、第1処理ガスとは異なる処理ガスとしてのHCDSガスが供給される。
バルブ314−2を開き、ガス供給管310内に第1処理ガスとは異なる処理ガスであるHCDSガスを流す。HCDSガスは、MFC312−2により流量調整され、ノズル410のガス供給孔410aから処理室201内に供給され、排気管231から排気される。このとき、同時にバルブ514を開き、ガス供給管510内にN2ガス等の不活性ガスを流す。ガス供給管510内を流れたN2ガスは、MFC512により流量調整され、HCDSガスと一緒に処理室201内に供給され、排気管231から排気される。このとき、ノズル420やノズル430内へのHCDSガスの侵入を防止するために、バルブ524,534を開き、ガス供給管520,530内にN2ガスを流す。N2ガスは、ガス供給管320,330、ノズル420,430を介して処理室201内に供給され、排気管231から排気される。このとき、ウエハ200に対してHCDSガスとN2ガスが同時に供給されることとなる。
続いて、パージ工程S303dが行われる。なお、パージ工程S303dは、上述のパージ工程S303bと略同様の工程であるので、説明を省略する。パージ工程S303dを行うことにより、処理室201内に存在する未反応のHCDSガスや、副生成物(HCl)を除去する。
続いて、判定工程S303eが行われても良い。判定工程S303eでは、第1処理ガス供給工程S303aと第1処理ガスとは異なる処理ガス供給工程S303cとが、所定回数行われたか、を判定する。所定回数行われていれば、YES(Y)判定とし、第1の成膜工程S303を終了し、次の工程を行わせる。所定回数行われていなければ、No(N)判定として、第1の成膜工程S303を再度行わせる様に構成される。
なお、パージ工程S304は、上述のパージ工程S303b,S303dと略同様の工程であるので、説明を省略する。ここでパージ工程を行うことにより、処理室201内の第1処理ガスや第1処理ガスとは異なる処理ガスが、第2の成膜工程S305で供給される金属含有ガスと反応することを抑制することが可能となる。例えば、HCDSガスとWF6ガスとが反応し、タングステンシリサイド(WSi)が生成されることを抑制する。
第2の成膜工程S305は、図7の実線で示す様に、少なくとも第2処理ガス供給工程S305aを有する。図7の破線で示す様に、パージ工程S305bや判定工程S305cを含む様に構成しても良い。以下にそれぞれの工程について説明する。
第2処理ガス供給工程S305aでは、ウエハ200に第2処理ガスとしてのWF6ガスが供給される。
バルブ324を開き、ガス供給管320内に第2処理ガスであるWF6ガスを流す。WF6スは、MFC321により流量調整され、ノズル420のガス供給孔420aから処理室201内に供給され、排気管231から排気される。このとき、同時にバルブ524を開き、ガス供給管520内にN2ガス等の不活性ガスを流す。ガス供給管520内を流れたN2ガスは、MFC522により流量調整され、WF6ガスと一緒に処理室201内に供給され、排気管231から排気される。このとき、ノズル410やノズル430内へのWF6ガスの侵入を防止するために、バルブ514,534を開き、ガス供給管510,530内にN2ガスを流す。N2ガスは、ガス供給管310,330、ノズル410,430を介して処理室201内に供給され、排気管231から排気される。このとき、ウエハ200に対してWF6ガスとN2ガスが同時に供給されることとなる。
パージ工程S305bは、上述の他のパージ工程と略同様の手順であるため、説明を省略する。パージ工程S305bを行うことにより、ウエハ200上や処理室201内に存在する副生物を除去する。これにより、第2の膜としてのW膜中の不純物濃度を低下させることが可能となる。即ち、W膜の抵抗率を低下させることが可能となる。
判定工程S305cでは、第2処理ガス供給工程S305aが所定時間(所定回数)行われたか否かを判定する。所定回数行われていれば、YES(Y)判定とし、第2の成膜工程S305を終了し、次の工程を行わせる。所定回数行われていなければ、No(N)判定として、第2の成膜工程S303を再度行わせる様に構成される。
パージ工程S306は、上述の他のパージ工程と略同様の手順であるため、説明を省略する。パージ工程S306を行うことにより、第2の膜としてのW膜中の不純物濃度を低下させることが可能となる。即ち、W膜の抵抗率を低下させることが可能となる。
判定工程S307は、第1の成膜工程S303と第2の成膜工程S305とを繰り返す場合に、この2つの工程が、所定回数行われたか否かを判定する。所定回数行われていれば、YES(Y)判定とし、初期膜成膜工程S300を終了し、次の工程を行わせる。所定回数行われていなければ、No(N)判定として、初期膜成膜工程S300を再度行わせる様に構成される。
初期膜成膜工程S300の後、メイン膜形成工程(第3の成膜工程)S400が行われる。メイン膜形成工程S400は、図4の実線に示す様に、少なくとも第2処理ガス供給工程S403と、第3処理ガス供給工程S405とが行われる。ウエハ200上に形成するメイン膜の膜特性を向上のため、図4の破線で示すパージ工程S404,S406、判定工程S407を行わせても良い。以下にそれぞれの工程について説明する。
第2処理ガス供給工程S403では、第2の膜としてのW膜を有する初期膜が形成されたウエハ200に対して、上述の第2処理ガス供給工程S305aと略同様の手順が行われるので、説明は省略する。第2処理ガス供給工程S403が行われることにより、第2の膜としてのW膜を有する初期膜上にWとFを含む(WFx)膜が形成される。ここでxは4よりも小さい自然数である。なお、初期のW膜の結晶(W原子)は密に並んでおり、第2処理ガス供給工程S403では、この初期のW膜の結晶(W原子)の並びに沿って、WFxが吸着する。
次に、パージ工程S404が行われる。パージ工程S404は、上述の各パージ工程と略同様の手順であるため、説明を省略する。
第3処理ガス供給工程S405では、WFxが吸着したウエハ200に対して、第3処理ガス(反応ガス)としての、H2ガスが供給される。
バルブ334を開き、ガス供給管330内に反応ガスであるH2ガスを流す。H2ガスは、MFC332により流量調整され、ノズル430のガス供給孔430aから処理室201内に供給され、排気管231から排気される。このとき、ウエハ200に対してH2ガスが供給されることとなる。このとき同時にバルブ534を開き、ガス供給管530内にN2ガス等の不活性ガスを流す。ガス供給管530内を流れたN2ガスは、MFC532により流量調整され、H2ガスと一緒に処理室201内に供給され、排気管231から排気される。なお、このとき、ノズル410,420内へのH2ガスの侵入を防止するために、バルブ514,524を開き、ガス供給管510,520内にN2ガスを流す。N2ガスは、ガス供給管310,320、ノズル410,420を介して処理室201内に供給され、排気管231から排気される。
次に、パージ工程S406が行われる。パージ工程S406では、処理室201内に残留する未反応もしくはW層形成に寄与した後のH2ガスを処理室201内から排除する。なお、パージ工程S406は、上述の各パージ工程と略同様の手順であるため、説明を省略する。
次に判定工程S407が行われる。判定工程S407では、第2処理ガス供給工程S403と第3処理ガス供給工程S405とが、所定回数行われたか否かが判定される。所定回数行われていれば、YES(Y)判定とし、メイン膜成膜工程S400を終了し、次の工程を行わせる。所定回数行われていなければ、No(N)判定として、メイン膜成膜工程S400を再度行わせる様に構成される。
ガス供給管510,520,530のそれぞれからN2ガスを処理室201内へ供給し、排気管231から排気する。N2ガスはパージガスとして作用し、これにより処理室201内が不活性ガスでパージされ、処理室201内に残留するガスや副生成物が処理室201内から除去される(アフターパージ)。その後、処理室201内の雰囲気が不活性ガスに置換され(不活性ガス置換)、処理室201内の圧力が常圧に復帰される(大気圧復帰)。
その後、ボートエレベータ115によりシールキャップ219が下降されて、反応管203の下端が開口される。そして、処理済ウエハ200がボート217に支持された状態で反応管203の下端から反応管203の外部に搬出(ボートアンロード)される。その後、処理済のウエハ200は、ボート217より取り出される(ウエハディスチャージ)。
本実施形態の例によれば、以下に示す1つまたは複数の効果を得ることができる。(a)TiN膜上に密にW層を形成することができる。(b)W膜の抵抗率を低下させることができる。例えば、図9の▲で示す様に、本技術によれば、従来技術◆に比べて、抵抗率を低減することが可能となる。(c)被覆率(カバレッジ)を向上させつつ、抵抗率を向上させることが可能となる。
121 コントローラ
200 ウエハ(基板)
201 処理室
Claims (15)
- 基板を処理室に収容する工程と、
前記基板に第1の元素を含む第1処理ガスを供給して、前記基板に第1の元素を含む第1の膜を形成する第1の成膜工程と、
前記第1の元素を含む膜に第2の元素を含む第2処理ガスを供給して、前記第1の膜から前記第1の元素を除去して前記第2の元素を含む第2の膜に改質する第2の成膜工程と、
を有する半導体装置の製造方法。 - 前記第2の成膜工程では、前記第2処理ガスを連続して供給する請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の成膜工程では、前記第2処理ガスを間欠供給する請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の成膜工程では、フラッシュタンクを介して前記第2処理ガスを供給する請求項1乃至3のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1の成膜工程では、前記第1処理ガスと、前記第1の元素を含み前記第1処理ガスとは異なる処理ガスを供給する工程を有する請求項1乃至4のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1の成膜工程では、前記第1処理ガスと前記第1処理ガスとは異なる処理ガスとを、交互に供給する請求項5に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1処理ガスは、シリコンと水素を含みハロゲンを含まない原料であり、
前記第1処理ガスとは異なる処理ガスは、シリコンと水素とハロゲンを含む原料である請求項5または6に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第1処理ガスは、シラン系の原料であり、
前記第1処理ガスとは異なる処理ガスは、ハロシラン系の原料である請求項5または6に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第2の膜に、前記第2処理ガスと第3処理ガスとを供給して、前記基板に第2の元素を含む第3の膜をさらに形成する第3の成膜工程と、を有する請求項1乃至8のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第3の成膜工程では、前記第2処理ガスと前記第3処理ガスとを交互に供給する請求項9に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1の元素は、14族元素であり、前記第2の元素は、金属元素である請求項1乃至10のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1の膜は、前記第1の元素を主成分とする膜であり、
前記第2の膜は、前記第2の元素を主成分とする膜である
請求項1乃至11のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第3の膜は、前記第2の元素を主成分とする膜である
請求項9に記載の半導体装置の製造方法。 - 基板を処理する処理室と、
前記処理室内の前記基板に対して第1の元素を含む第1処理ガスを供給する第1処理ガス供給部と、
前記処理室内の前記基板に対して第2の元素を含む第2処理ガスを供給する第2処理ガス供給部と、
前記基板に対して前記第1処理ガスを供給して、前記基板に第1の元素を含む膜を形成する処理と、前記基板上の前記第1の元素を含む第1の膜に前記第2処理ガスを供給して、前記第1の膜から前記第1の元素を除去して前記第2の元素を含む第2の膜に改質する処理と、を行うように前記第1処理ガス供給部と前記第2処理ガス供給部とを制御するよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 基板を処理室に収容させる手順と、
前記基板に第1の元素を含む第1処理ガスを供給して、前記基板に第1の元素を含む膜を成膜させる第1の成膜手順と、
前記第1の元素を含む第1の膜に第2の元素を含む第2処理ガスを供給して、前記第1の膜から前記第1の元素を除去して前記第2の元素を含む第2の膜に改質させる第2の成膜手順と、をコンピュータにより基板処理装置に実行させるプログラム。
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