JP2022066032A - 基板搬送装置 - Google Patents

Abstract

【課題】パーティクルを効率よく排出する。【解決手段】基板を搬送する基板搬送装置であって、基板保持部と、支持部と、支持部を一方向に移動させる駆動部と、支持部の移動方向に伸びるスリットを有する筐体と、筐体内において、支持部に対して固定されてスリットを封止するスリット封止部と排気部と、を有し、スリット封止部は、複数の貫通孔が形成された第１シールベルトと、支持部と第１シールベルトとによって第１環状経路を形成する複数の第１プーリと、複数の貫通孔が形成された第２シールベルトと、第１環状経路よりも内周側で、支持部と第２シールベルトとによって第２環状経路を形成する複数の第２プーリと、を有し、複数の第１プーリと、複数の第２プーリとは、スリットを封止する領域において、第１シールベルトの複数の貫通孔と第２シールベルトの複数の貫通孔とが互いに重ならないように配置される。【選択図】図６

Description

本開示は、基板搬送装置に関する。

特許文献１には、搬送アームを駆動させることで、一の処理モジュールから他の処理モジュールに対して基板を搬送するための基板搬送装置が開示されている。

特開２０１４－３６１７５号公報

本開示は、駆動部の駆動時に発生するパーティクルを効率よく排出することが可能な技術を提供する。

本開示の一態様による基板搬送装置は、基板を搬送する基板搬送装置であって、前記基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部を支持する支持部と、前記支持部を一方向に移動させる駆動部と、前記駆動部を収容し、前記支持部の移動方向に伸びるスリットを有する筐体と、前記筐体内において、前記支持部の移動に伴って移動可能な状態で前記支持部に対して固定されて、前記スリットを封止するスリット封止部と、前記筐体内を排気する排気部と、を有し、前記スリット封止部は、複数の貫通孔が形成されて、前記支持部に対して固定された第１シールベルトと、前記第１シールベルトを掛け渡すことで、前記支持部と前記第１シールベルトとによって前記スリットを封止する領域を通る第１環状経路を形成する複数の第１プーリと、複数の貫通孔が形成されて、前記支持部に対して固定された第２シールベルトと、前記第２シールベルトを架け渡すことで、前記第１環状経路よりも内周側で、前記支持部と前記第２シールベルトとによって前記スリットを封止する領域を通る第２環状経路を形成する複数の第２プーリと、を有し、前記複数の第１プーリと、前記複数の第２プーリとは、前記スリットを封止する領域において、前記第１シールベルトの複数の貫通孔と前記第２シールベルトの複数の貫通孔とが互いに重ならないように配置される。

本開示によれば、駆動部の駆動時に発生するパーティクルを効率よく排出することが可能な技術が提供される。

図１は、基板所為システムの一例を示す模式的な斜視図である。 図２は、塗布現像装置の一例を示す模式図である。 図３は、制御装置のハードウェア構成の一例を示すブロック図である。 図４は、搬送ユニットの一例を模式的に示す平面図である。 図５は、搬送ユニットの一例を模式的に示す斜視図である。 図６は、Ｙ軸方向駆動部の内部構成の一例を示す模式図である。 図７は、図６のVII－VII矢視図の一例である。 図８（ａ）、図８（ｂ）、図８（ｃ）は、第１シールベルトおよび第２シールベルトの貫通孔の配置およびその組み合わせの一例について説明する図である。 図９は、Ｙ軸方向駆動部における第１シールベルトおよび第２シールベルトの配置の一例を示す図である。 図１０は、第１シールベルトおよび第２シールベルトの配置変更の一例を示す図である。

以下、種々の例示的実施形態について説明する。

一つの例示的実施形態において、基板搬送装置が提供される。基板搬送装置は、基板を搬送する基板搬送装置であって、前記基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部を支持する支持部と、前記支持部を一方向に移動させる駆動部と、前記駆動部を収容し、前記支持部の移動方向に伸びるスリットを有する筐体と、前記筐体内において、前記支持部の移動に伴って移動可能な状態で前記支持部に対して固定されて、前記スリットを封止するスリット封止部と、前記筐体内を排気する排気部と、を有し、前記スリット封止部は、複数の貫通孔が形成されて、前記支持部に対して固定された第１シールベルトと、前記第１シールベルトを掛け渡すことで、前記支持部と前記第１シールベルトとによって前記スリットを封止する領域を通る第１環状経路を形成する複数の第１プーリと、複数の貫通孔が形成されて、前記支持部に対して固定された第２シールベルトと、前記第２シールベルトを架け渡すことで、前記第１環状経路よりも内周側で、前記支持部と前記第２シールベルトとによって前記スリットを封止する領域を通る第２環状経路を形成する複数の第２プーリと、を有し、前記複数の第１プーリと、前記複数の第２プーリとは、前記スリットを封止する領域において、前記第１シールベルトの複数の貫通孔と前記第２シールベルトの複数の貫通孔とが互いに重ならないように配置される。

上記の基板搬送装置では、第１シールベルトおよび第２シールベルトの複数の貫通孔が互いに重ならないように配置されることで、第１シールベルトおよび第２シールベルトによってスリットが適切に封止される。したがって、筐体内のパーティクルがスリットを介して外部に飛散されることが防がれる。一方、第１シールベルトおよび第２シールベルトはそれぞれ複数の貫通孔を有しているので、筐体内では、排気部による排気が、第１シールベルトおよび第２シールベルトによって妨げられない。したがって、駆動部の駆動時に発生するパーティクルを筐体内から効率よく排出することが可能な技術が提供される。

前記複数の第１プーリと、前記複数の第２プーリとは、前記スリットを封止する領域以外の領域の少なくとも一部において、前記第１シールベルトの複数の貫通孔と前記第２シールベルトの複数の貫通孔とが重なるように配置される態様としてもよい。

上記のように、スリットを封止する領域以外の領域の少なくとも一部において、第１シールベルトの複数の貫通孔と第２シールベルトの複数の貫通孔とが重なるように配置される場合、貫通孔を利用した気体の移動が促進されるため、筐体内からのパーティクルの排出を効率よく行うことができる。

前記第１シールベルトおよび前記第２シールベルトは、前記スリットを封止する領域において互いに接触している態様としてもよい。

上記のように、第１シールベルトおよび第２シールベルトがスリットを封止する領域において互いに接触している場合、スリットの封止を適切に行うことができるため、パーティクルの外部への飛散をより確実に防ぐことができる。

前記第１シールベルトおよび前記第２シールベルトは、前記スリットを封止する領域以外の領域の少なくとも一部において、互いに離間している態様としてもよい。

上記のように、スリットを封止する領域以外の領域の少なくとも一部において、第１シールベルトおよび第２シールベルトが互いに離間している場合、第１シールベルトと第２シールベルトとに設けられた複数の貫通孔を利用した気体の移動が促進される。したがって、筐体内からのパーティクルの排出を効率よく行うことができる。

前記第１シールベルトと前記第２シールベルトとの対向面のうち少なくとも一方に吸着部材が設けられる態様としてもよい。

上記のように、第１シールベルトと第２シールベルトとの対向面のうち少なくとも一方に吸着部材が設けられる場合、スリットを封止する領域において第１シールベルトと第２シールベルトとの密着性を高めることができる。そのため、この状態でスリットを封止する構成とすることで、スリットの封止を適切に行うことができる。

前記第１シールベルトと前記第２シールベルトとの対向面のうち少なくとも一方に、摩擦係数を高めるための表面処理が行われている態様としてもよい。

上記のように、第１シールベルトと第２シールベルトとの対向面のうち少なくとも一方に摩擦係数を高めるための表面処理が行われている場合、スリットを封止する領域において第１シールベルトと第２シールベルトとの密着性を高めることができる。そのため、この状態でスリットを封止する構成とすることで、スリットの封止を適切に行うことができる。

前記第２シールベルトの前記第１シールベルトとの対向面に、吸着部材が設けられるか、または、摩擦係数を高めるための表面処理が行われている態様としてもよい。

第２シールベルトの対向面に、吸着部材が設けられるか、または、摩擦係数を高めるための表面処理が行われている場合、吸着部材または表面処理が複数の第２プーリに対する第２シールベルトの移動に干渉することが防がれる。そのため、上記の構成によれば、第２シールベルトのスムーズな移動を促すことができる。

以下、図面を参照して種々の例示的実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。

［基板処理システム］
図１に示される基板処理システム１は、ワークＷに対し、感光性被膜の形成、当該感光性被膜の露光、および当該感光性被膜の現像を施すシステムである。処理対象のワークＷは、例えば基板、あるいは所定の処理が施されることで膜又は回路等が形成された状態の基板である。ワークＷに含まれる基板は、一例として、シリコンを含むウェハである。ワークＷ（基板）は、円形に形成されていてもよい。処理対象のワークＷは、ガラス基板、マスク基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）などであってもよく、これらの基板等に所定の処理が施されて得られる中間体であってもよい。感光性被膜は、例えばレジスト膜である。

基板処理システム１は、塗布・現像装置２と、露光装置３とを備える。塗布・現像装置２は、ワークＷにレジスト膜（感光性被膜）を形成する装置である。露光装置３は、ワークＷ（基板）に形成されたレジスト膜を露光する装置である。具体的には、露光装置３は、液浸露光等の方法によりレジスト膜の露光対象部分にエネルギー線を照射する。塗布・現像装置２は、露光装置３による露光処理前に、ワークＷの表面にレジスト（薬液）を塗布してレジスト膜を形成する処理を行い、露光処理後にレジスト膜の現像処理を行う。

（基板処理装置）
以下、基板処理装置の一例として、塗布・現像装置２の構成を説明する。図１および図２に示されるように、塗布・現像装置２は、キャリアブロック４と、処理ブロック５と、インタフェースブロック６と、制御装置１００とを備える。

キャリアブロック４は、塗布・現像装置２内へのワークＷの導入および塗布・現像装置２内からのワークＷの導出を行う。例えばキャリアブロック４は、ワークＷ用の複数のキャリアＣを支持可能であり、受け渡しアームを含む搬送ユニットＡ１を内蔵している。キャリアＣは、例えば円形の複数枚のワークＷを収容する。搬送ユニットＡ１は、キャリアＣからワークＷを取り出して処理ブロック５に渡し、処理ブロック５からワークＷを受け取ってキャリアＣ内に戻す。処理ブロック５は、処理モジュール１１，１２，１３，１４を有する。

処理モジュール１１は、液処理ユニットＵ１と、熱処理ユニットＵ２と、これらのユニットにワークＷを搬送する搬送ユニットＡ３とを内蔵している。処理モジュール１１は、液処理ユニットＵ１および熱処理ユニットＵ２によりワークＷの表面上に下層膜を形成する。液処理ユニットＵ１は、下層膜形成用の処理液をワークＷ上に塗布する。熱処理ユニットＵ２は、下層膜の形成に伴う各種熱処理を行う。

処理モジュール１２は、液処理ユニットＵ１と、熱処理ユニットＵ２と、これらのユニットにワークＷを搬送する搬送ユニットＡ３とを内蔵している。処理モジュール１２は、液処理ユニットＵ１および熱処理ユニットＵ２により下層膜上にレジスト膜を形成する。液処理ユニットＵ１は、レジスト膜形成用の処理液（レジスト）を下層膜上に塗布する。熱処理ユニットＵ２は、レジスト膜の形成に伴う各種熱処理を行う。

処理モジュール１３は、液処理ユニットＵ１と、熱処理ユニットＵ２と、これらのユニットにワークＷを搬送する搬送ユニットＡ３とを内蔵している。処理モジュール１３は、液処理ユニットＵ１および熱処理ユニットＵ２によりレジスト膜上に上層膜を形成する。液処理ユニットＵ１は、上層膜形成用の処理液をレジスト膜の上に塗布する。熱処理ユニットＵ２は、上層膜の形成に伴う各種熱処理を行う。

処理モジュール１４は、液処理ユニットＵ１と、熱処理ユニットＵ２と、これらのユニットにワークＷを搬送する搬送ユニットＡ３とを内蔵している。処理モジュール１４は、液処理ユニットＵ１および熱処理ユニットＵ２により、露光処理が施されたレジスト膜の現像処理および現像処理に伴う熱処理を行う。液処理ユニットＵ１は、露光済みのワークＷの表面上に現像液を塗布した後、これをリンス液により洗い流すことで、レジスト膜の現像処理を行う。熱処理ユニットＵ２は、現像処理に伴う各種熱処理を行う。熱処理の具体例としては、現像処理前の加熱処理（ＰＥＢ：Post Exposure Bake）、現像処理後の加熱処理（ＰＢ：Post Bake）等が挙げられる。

処理ブロック５内におけるキャリアブロック４側には棚ユニットＵ１０が設けられている。棚ユニットＵ１０は、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。棚ユニットＵ１０の近傍には昇降アームを含む搬送ユニットＡ７が設けられている。搬送ユニットＡ７は、棚ユニットＵ１０のセル同士の間でワークＷを昇降させる。

処理ブロック５内におけるインタフェースブロック６側には棚ユニットＵ１１が設けられている。棚ユニットＵ１１は、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。棚ユニットＵ１０，Ｕ１１は、ワークＷに次の処理を行うために当該ワークＷを待機させるので、これら棚ユニットＵ１０，Ｕ１１もワークＷに対して処理を施す処理ユニットに該当する。

インタフェースブロック６は、露光装置３との間でワークＷの受け渡しを行う。例えばインタフェースブロック６は、受け渡しアームを含む搬送ユニットＡ８を内蔵しており、露光装置３に接続される。搬送ユニットＡ８は、棚ユニットＵ１１に配置されたワークＷを露光装置３に渡す。搬送ユニットＡ８は、露光装置３からワークＷを受け取って棚ユニットＵ１１に戻す。

（制御装置）

制御装置１００は、塗布・現像装置２を制御する。制御装置１００は、少なくとも液処理ユニットＵ１、熱処理ユニットＵ２、搬送ユニットＡ３を制御する。

制御装置１００は、一つ又は複数の制御用コンピュータにより構成される。例えば制御装置１００は、図３に示される回路１１０を有する。回路１１０は、一つ又は複数のプロセッサ１１１と、メモリ１１２と、ストレージ１１３と、入出力ポート１１４と、タイマ１１５とを有する。ストレージ１１３は、例えばハードディスク等、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体を有する。記憶媒体は、後述する基板処理方法を制御装置１００に実行させるためのプログラムを記憶している。記憶媒体は、不揮発性の半導体メモリ、磁気ディスクおよび光ディスク等の取り出し可能な媒体であってもよい。メモリ１１２は、ストレージ１１３の記憶媒体からロードしたプログラムおよびプロセッサ１１１による演算結果を一時的に記憶する。

プロセッサ１１１は、メモリ１１２と協働して上記プログラムを実行する。入出力ポート１１４は、プロセッサ１１１からの指令に従って、液処理ユニットＵ１、搬送ユニットＡ３、等との間で電気信号の入出力を行う。タイマ１１５は、例えば一定周期の基準パルスをカウントすることで経過時間を計測する。なお、制御装置１００のハードウェア構成は、専用の論理回路又はこれを集積したＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）により構成されていてもよい。

［搬送ユニット］
次に、図４～図７を参照して、処理モジュール１２における搬送ユニットＡ３の一例について説明する。搬送ユニットＡ３は、処理モジュール１２内において、ワークＷを保持した状態で当該ワークＷを搬送する。搬送ユニットＡ３は、処理モジュール１２に含まれる複数の処理ユニットの間でワークＷを搬送する。図４に例示する処理モジュール１２では、水平な一方向に沿って、２つの液処理ユニットＵ１と２つの熱処理ユニットＵ２とが、この順に並んで配置されている。

本開示では、熱処理ユニットＵ２から液処理ユニットＵ１へ向かう方向を「Ｙ軸正方向」とし、液処理ユニットＵ１から熱処理ユニットＵ２へ向かう方向を「Ｙ軸負方向」とする。搬送ユニットＡ３から液処理ユニットＵ１（又は熱処理ユニットＵ２）へ向かう方向を「Ｘ軸正方向」とし、液処理ユニットＵ１（熱処理ユニットＵ２）から搬送ユニットＡ３へ向かう方向を「Ｘ軸負方向」とする。また、鉛直上向きを「Ｚ軸正方向」とし、鉛直下向きを「Ｚ軸負方向」とする。各軸の正方向および負方向のいずれか一方を含む方向を単に「Ｘ軸方向」等と表記する。

搬送ユニットＡ３は、例えば、保持アーム２０と、Ｘ軸方向駆動部３０と、Ｙ軸方向駆動部４０と、Ｚ軸方向駆動部５０と、回転駆動部６０と、基台７０と、を有する。搬送ユニットＡ３は、上記のＸ軸方向駆動部３０と、Ｙ軸方向駆動部４０と、Ｚ軸方向駆動部５０と、回転駆動部６０によって、保持アーム２０を移動することにより、ワークＷを所望の位置に搬送する装置である。搬送ユニットＡ３は、上記の駆動部によって保持アーム２０をｘ軸方向、ｙ軸方向、ｚ軸方向およびθ方向（図中のＭｘ、Ｍｙ、ＭｚおよびＭθ方向）に移動することができる。

保持アーム２０（基板保持部）は、ワークＷを保持するように構成されている。保持アーム２０は、ワークＷの表面が上方を向くように当該ワークＷを保持する。表面Ｗａは、液処理ユニットＵ１においてレジストの塗布膜が形成される面である。保持アーム２０は、ワークＷの周縁を囲み、ワークＷの表面とは反対側の裏面の周縁部を支持するように形成されていてもよい。搬送ユニットＡ３は、ワークＷを保持した保持アーム２０を変位させることで液処理ユニットＵ１等の処理ユニットに対する当該ワークＷの搬入出を行う。つまり、搬送ユニットＡ３は、保持アーム２０を変位させることで一の処理ユニットにワークＷを搬入し、保持アーム２０を変位させることで当該処理ユニットからワークＷを搬出する。搬送ユニットＡ３は、一の処理ユニットに対して複数のワークＷについての搬入出をそれぞれ行ってもよい。

Ｘ軸方向駆動部３０は、保持アーム２０を水平な一方向（図示のＸ軸方向：Ｍｘ方向）において変位させるように構成されている。Ｘ軸方向駆動部３０は、例えば、モータ等の動力源によって、Ｘ軸方向に沿って保持アーム２０を往復移動させるように構成されたアクチュエータを含む。図４～図６に示す例では、Ｘ軸方向駆動部３０は、Ｘ軸方向に保持アーム２０を往復移動させるように回転駆動部６０上に配置されている。Ｘ軸方向駆動部３０が、Ｘ軸方向（Ｘ軸正方向およびＸ軸負方向のいずれか）に保持アーム２０を移動させることにより、保持アーム２０に保持されているワークＷがＸ軸方向に沿って移動する。Ｘ軸方向駆動部３０は、保持アーム２０を移動させる方向（Ｘ軸方向）に沿って延びるように形成されている。Ｘ軸方向駆動部３０の駆動機構の詳細については後述する。

Ｙ軸方向駆動部４０は、保持アーム２０を水平な一方向（図示のＹ軸方向：Ｍｙ方向）において変位させるように構成されている。Ｙ軸方向駆動部４０は、例えば、モータ等の動力源によって、Ｙ軸方向に沿って保持アーム２０を往復移動させるように構成されたアクチュエータを含む。Ｙ軸方向駆動部４０は、Ｚ軸方向駆動部５０を支持している。また、Ｚ軸方向駆動部５０は、Ｘ軸方向駆動部３０および後述の回転駆動部６０を支持する基台７０を支持している。そのため、Ｙ軸方向駆動部４０は、保持アーム２０を間接的に支持しているＺ軸方向駆動部５０をＹ軸方向（Ｙ軸正方向およびＹ軸負方向のいずれか）に移動させる。この結果、Ｙ軸方向駆動部４０が保持アーム２０をＹ軸方向に移動させることになり、保持アーム２０に保持されているワークＷがＹ軸方向に沿って移動する。Ｙ軸方向駆動部４０は、保持アーム２０を移動させる方向（Ｙ軸方向）に沿って延びるように形成されている。

Ｚ軸方向駆動部５０は、例えば、Ｙ軸方向駆動部４０に支持されている。また、Ｚ軸方向駆動部５０は、基台７０を支持している。Ｚ軸方向駆動部５０は、例えば、モータ等の動力源によって、鉛直方向（図示のＺ軸方向：Ｍｚ方向）に沿って保持アーム２０を往復移動させるように構成されたアクチュエータを含む。Ｚ軸方向駆動部５０は、Ｘ軸方向駆動部３０および後述の回転駆動部６０を支持する基台７０を支持している。そのため、Ｚ軸方向駆動部５０は、保持アーム２０を間接的に支持している基台７０をＺ軸方向（Ｚ軸正方向およびＺ軸負方向のいずれか）に移動させる。この結果、Ｚ軸方向駆動部５０が保持アーム２０をＺ軸方向に移動させることになり、保持アーム２０に保持されているワークＷがＺ軸方向に沿って移動する。Ｚ軸方向駆動部５０は、保持アーム２０を移動させる方向（Ｚ軸方向）に沿って延びるように形成されている。

回転駆動部６０は、図６に示すように、基台７０上に設けられている。回転駆動部６０は、例えば、モータ等の動力源によって、Ｘ軸方向駆動部３０を鉛直な回転軸まわり（Ｍθ方向）に回転させるように構成された回転アクチュエータである。回転駆動部６０によりＸ軸方向駆動部３０が回転することで、Ｘ軸方向駆動部３０による保持アーム２０の移動方向が変化する。

基台７０は、例えば、Ｘ軸方向に沿って延びるように形成されている。基台７０のＸ軸負方向における一端部（例えば、一端部の両側面のそれぞれ）は、Ｚ軸方向駆動部５０に接続されている。

（搬送機構の詳細）
次に、図６～図９を参照して、基板搬送装置として機能する搬送機構の一部であるＹ軸方向駆動部４０およびその周辺の構造についてさらに説明する。以下の実施形態ではＹ軸方向駆動部４０について説明するが、Ｘ軸方向駆動部３０、Ｚ軸方向駆動部５０および回転駆動部６０の構成は、Ｙ軸方向駆動部４０と基本的に同様のため、説明を省略する。

図６は、Ｙ軸方向駆動部４０と、Ｙ軸方向駆動部４０が支持する基台７０周辺を示している。Ｙ軸方向駆動部４０は、例えば、筐体４１と、一対のモータ４２と、一対のプーリ４３と、タイミングベルト４４と、スライダ４５（支持部）と、２つのスライダガイド４６ａ，４６ｂと、を有する。さらに、筐体４１には、２重に配置された第１シールベルト８１および第２シールベルト８２と、第１シールベルト８１を支持する一対の第１プーリ８３と、第２シールベルト８２を支持する一対の第２プーリ８４と、が設けられる。さらに、Ｙ軸方向駆動部４０には一対のファン９１（排気部）が設けられる。一対のモータ４２、一対のプーリ４３、タイミングベルト４４、スライダ４５、および２つのスライダガイド４６ａ，４６ｂは、支持部としてのスライダ４５の移動に係る駆動部として機能し得る。

筐体４１は、Ｙ軸方向駆動部４０に含まれる各要素を収容する。筐体４１は、Ｙ軸方向に沿って延びるように形成されている。筐体４１のうち複数の処理ユニットと対向する側面（壁）には、Ｙ軸方向に沿って延びるスリット４１ａが設けられている（図５も参照）。スリット４１ａからは、スライダ４５の一部が筐体４１の外に突出している。

一対のモータ４２は、Ｙ軸方向に沿って伸びる筐体４１の両端に設けられる。また、一対のプーリ４３は、例えば、Ｙ軸方向に沿った筐体４１の両端に配置される。一対のプーリ４３は、それぞれ、Ｘ軸方向に沿う回転軸周りに回転可能に筐体４１内に設けられている。タイミングベルト４４は、一対のプーリ４３に架け渡されている。一対のモータ４２、一対のプーリ４３およびタイミングベルト４４は、筐体４１に含まれるＹ軸に沿って伸びる一対の側面のうち、処理ユニットから遠い側の側面（スリット４１ａが設けられていない側面）に沿って配置される。

一対のファン９１は、処理ユニットから遠い側の側面（スリット４１ａが設けられていない側面）に設けられる。一例としてＹ軸方向に延びる側面の両端部であって、一対のモータ４２に対抗する位置の近傍に設けられていてもよい（図７も参照）。ファン９１は、筐体４１内の排気を行う。ファン９１によって、筐体４１内の気体が外部へ放出される。

上述のモータ４２は、回転トルクを発生させる動力源であり、例えばサーボモータである。一対のモータ４２は、一対のプーリ４３に個別に接続されており、それぞれがプーリ４３を回転させる。一対のモータ４２によるトルク（駆動力）がそれぞれプーリ４３に伝達されると、一対のプーリ４３に架け渡されたタイミングベルト４４がＹ軸方向に沿って移動する。

スライダ４５は、例えば、図６に示されるように、Ｘ軸方向に延在するように形成される。スライダ４５のＸ軸方向における基端部（処理ユニットから遠い方の一端部）は、筐体４１内においてタイミングベルト４４に接続されている。スライダ４５のＸ軸方向における先端部（処理ユニットに近い方の一端部）は、スリット４１ａを通して筐体５２外に突出している。スライダ４５の先端部には、例えば、Ｚ軸方向駆動部５０の下端部が接続されている。

スライダ４５は、Ｘ軸方向に伸びる一対の本体支持部４５ａと、一対の本体支持部４５ａのそれぞれから下方に伸びる一対の第１脚部４５ｂおよび第２脚部４５ｃ（図７参照）を有する。さらに、スライダ４５は、一対の本体支持部４５ａの先端部側の端部から下方（Ｚ軸方向）に伸びる本体部４５ｄとを有する。一対の本体支持部４５ａは、Ｙ軸に沿って延びるタイミングベルト４４のＹ軸方向に沿った互いに異なる位置を基端部として、Ｘ軸正方向に向かって延びる。図７に示すように、第１脚部４５ｂおよび第２脚部４５ｃは、本体支持部４５ａのＸ軸方向に沿った互いに異なる位置から下方（Ｚ軸負方向）に延びる。

スライダガイド４６ａ，４６ｂは、それぞれ筐体４１の底面においてＹ軸方向に延在するように配置される。スライダガイド４６ａ，４６ｂは、それぞれ第１脚部４５ｂおよび第２脚部４５ｃのＹ軸方向への移動をガイドする機能を有する。第１脚部４５ｂまたは第２脚部４５ｃのＹ軸方向への移動をガイドするための構成は、特に限定されない。例えば、スライダガイド４６ａは、第１脚部４５ｂの下端を受ける溝がＹ軸方向に沿って形成されていてもよく、スライダガイド４６ｂは、第２脚部４５ｃの下端を受ける溝がＹ軸方向に沿って形成されていてもよい。

本体部４５ｄは、一対の本体支持部４５ａの先端部（タイミングベルト４４に対して遠い方の一端部）から垂直方向に下方（Ｚ軸方向）に伸びる略平板状の部材である。また、本体部４５ｄの処理ユニットに近い方の主面４５ｅは、筐体４１のスリット４１ａから突出するように設けられていてもよい。主面４５ｅは、Ｚ軸方向駆動部５０の筐体と接続されている。また、本体部４５ｄには、Ｘ軸方向に本体部４５ｄを貫通するように２つのファン９２が設けられている。このファン９２は、Ｚ軸方向駆動部５０の内部からＹ軸方向駆動部４０の内部（筐体４１の内部）へ排気を行う機能を有する。そのため、Ｚ軸方向駆動部５０の筐体には、ファン９２に対して連通する開口が設けられている（図示省略）。

スライダ４５は、他部材を介して保持アーム２０に接続されており、保持アーム２０と共に移動する。モータ４２によるトルクによってタイミングベルト４４がＹ軸方向に沿って移動すると、タイミングベルト４４に接続されているスライダ４５（Ｚ軸方向駆動部５０）も、Ｙ軸方向に沿って往復移動する。その結果、保持アーム２０およびワークＷもＹ軸方向に沿って移動する。

このとき、スライダ４５と共にＺ軸方向駆動部５０も移動するので、スライダ４５の本体部４５ｄに設けられたファン９２からは、Ｚ軸方向駆動部５０の筐体内から継続して筐体４１内へ排気される。また、筐体４１に設けられたファン９１から筐体４１外への排気が継続して行われる。このように、Ｙ軸方向駆動部４０の筐体４１内では、ファン９２を介して給気されファン９１を介して排気が行われる。

ここで、二重に配置された第１シールベルト８１および第２シールベルト８２について説明する。

第１シールベルト８１および第２シールベルト８２は、筐体４１のスリット４１ａを塞ぐように設けられている。すなわち、第１スールベルトおよび第２シールベルト８２は、スライダ４５の移動に伴って移動可能な状態でスライダ４５に対して固定されて、スリット４１ａを封止するスリット封止部の一部として機能する。

上記のように、スリット４１ａは、スライダ４５のＹ軸方向に沿った移動を許容するように、Ｙ軸に沿って長尺に形成されている。そのためスリット４１ａのうちスライダ４５が存在する領域は、スライダ４５によってスリット４１ａが塞がれる。第１シールベルト８１および第２シールベルト８２はスリット４１ａのうちスライダ４５が存在しない領域を塞ぐように設けられる。そのため、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２の幅（Ｚ軸方向の幅）は、スリット４１ａの幅（Ｚ軸方向の幅）よりも大きくされる。

一対の第１プーリ８３は、例えば、Ｙ軸方向に沿った筐体４１の両端に配置される。ま一対の第１プーリ８３は、それぞれ、Ｚ軸方向に沿う回転軸周りに回転可能に筐体４１内に設けられている。第１シールベルト８１は、一対の第１プーリ８３に架け渡されている。また、第１シールベルト８１は、環状ではなく、その一部が切り欠かれている。第１シールベルト８１の両端は、スライダ４５の本体部４５ｄのＹ軸方向の両端に接続されている。そのため、スライダ４５がＹ軸方向に移動すると、スライダ４５の移動に追随して第１シールベルト８１がＹ軸方向に移動する。つまり、第１シールベルト８１とスライダ４５の本体部４５ｄとによって一対の第１プーリ８３の外側を通る環状経路（第１環状経路）が形成される。

一対の第２プーリ８４は、例えば、Ｙ軸方向に沿った筐体４１の両端に配置される。ただし、一対の第２プーリ８４は、それぞれ一対の第１プーリ８３よりも内側に配置される。一対の第２プーリ８４は、それぞれ、Ｚ軸方向に沿う回転軸周りに回転可能に筐体４１内に設けられている。第２シールベルト８２は、一対の第２プーリ８４に架け渡されている。また、第２シールベルト８２は、環状ではなく、その一部が切り欠かれている。第２シールベルト８２の両端は、スライダ４５の本体部４５ｄのＹ軸方向の両端に接続されている。そのため、スライダ４５がＹ軸方向に移動すると、スライダ４５の移動に追随して第２シールベルト８２がＹ軸方向に移動する。つまり、第２シールベルト８２とスライダ４５の本体部４５ｄとによって一対の第２プーリ８４の外側を通る環状経路（第２環状経路）が形成される。

第１シールベルト８１および第２シールベルト８２は、第１シールベルト８１が第２シールベルト８２に対して外周となる状態で重ねられている。第１シールベルト８１および第２シールベルト８２は、Ｙ軸方向に延びる領域（すなわち、第１プーリ８３および第２プーリ８４から離れた領域）では、互いに接触していてもよい。第１シールベルト８１および第２シールベルト８２は、どちらも本体部４５ｄに対して固定されている。これにより、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２は、スライダ４５の本体部４５ｄのＹ軸方向の移動に伴って同時に移動することになる。

第１シールベルト８１による第１環状経路と、第２シールベルト８２による第２環状経路とは、いずれも、スリット４１ａが設けられている領域では、筐体４１のスリット４１ａが形成されている面に沿って経路が形成される。すなわち、第１シールベルト８１、第２シールベルト８２、およびスライダ４５の本体部４５ｄがスリット４１ａに沿ってＹ軸方向に移動するように、経路が形成される。このとき、スリット４１ａのＹ軸方向の端部と、Ｚ軸方向（上下方向）の端部と、外周側に設けられる第１シールベルト８１とが接触した状態が形成されることで、スリット４１ａが封止される。したがって、スリット４１ａを封止する領域とは、スリット４１ａと第１シールベルト８１とが接触する領域と、スリット４１ａに沿って第１シールベルト８１および第２シールベルト８２が移動する領域とを含む。また、上記の第１シールベルト８１および第２シールベルト８２の移動経路を規定する第１プーリ８３および第２プーリ８４も、スリット封止部の一部として機能する。

第１シールベルト８１および第２シールベルト８２の材質は特に限定されず、例えば、ポリエステル等の樹脂によって構成されていてもよい。また、ゴムのように弾性を有する材料によって構成されていてもよい。また、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２は、互いに接触（密着）した状態でスリット４１ａに対して当接した場合、スリット４１ａに対するシール性（密閉性）を高めることができる。一例として、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２が互いに密着しやすいような形状・特性とすることができる。例えば、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２の少なくとも一方の対向面には、ゴム等の吸着性を有する部材（吸着部材）が設けられていてもよい。また、吸着部材は、シールベルトの全面に設けられてもよし、一部のみに設けられていてもよい。また、吸着部材に代えて、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２の少なくとも一方の対向面に粗面処理等の摩擦係数が高くなるような加工を施すことで、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２が互いに密着しやすいような特性としてもよい。摩擦係数が高くなる加工としては、粗面処理等が挙げられる。

図６に示すように、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２のうち、スライダ４５に対して接続している部分から連続してＹ軸方向に沿って延びる部分は、スリット４１ａを塞ぐように配置される。すなわち、スライダ４５に接続している領域は、スリット４１ａを介して筐体４１の外方に露出した状態でスリット４１ａを封止する。Ｙ軸方向に沿ったスライダ４５の移動によって、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２のうちスリット４１ａを塞ぐように配置される部分は変化し得る。これに対して、スリット４１ａのうちスライダ４５が塞がない領域には、二重に重ねられた第１シールベルト８１および第２シールベルト８２が配置するように、第１プーリ８３および第２プーリ８４が配置される。

このように第１プーリ８３および第２プーリ８４によって、スリット４１ａを封止する領域に対して、二重に重ねられた第１シールベルト８１および第２シールベルト８２が配置するように、２つの環状経路が設けられる。なお、スリット４１ａを封止する領域とは、上述のように、スリット４１ａに対向すると共にスリット４１ａの端部を覆う領域である。

上記の第１シールベルト８１および第２シールベルト８２は、それぞれ複数の貫通孔を有している。第１プーリ８３および第２プーリ８４を利用して第１シールベルト８１および第２シールベルト８２の重なり位置を調整することで、Ｙ軸方向駆動部４０の内部での気体の流れが調整され得る。

図８（ａ）は、第１シールベルト８１および第２シールベルトのそれぞれに設けられる貫通孔８１ａ，８２ａの配置を説明する図である。第１シールベルト８１および第２シールベルト８２には、同一形状の貫通孔が設けられている。第１シールベルト８１および第２シールベルト８２における貫通孔の配置は特に限定されないが、少なくとも以下の条件を満たすことが必要である。具体的には、ベルトの延在方向（長手方向）に第１シールベルト８１および第２シールベルトの相対位置を変更した場合に、貫通孔８１ａ，８２ａが互いに重ならない状態が形成可能であることが求められる。

図８（ａ）に示す例では、ベルトの幅方向に沿って貫通孔が２個設けられる部分（図８（ａ）に示す破線Ｐ１で示される箇所）と、ベルトの幅方向に沿って貫通孔が１個設けられる部分（図８（ａ）に示す破線Ｐ２で示される箇所）と、が交互に形成されている。このような貫通孔の配置となっている場合、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２の長手方向に沿った相対位置を変更することで、貫通孔が重なる状態と重ならない状態とを形成することができる。

図８（ｂ）に示す例では、第１シールベルト８１における破線Ｐ１の部分と、第２シールベルト８２における破線Ｐ２の部分とが重なるように、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２の配置を変更している。このような状態とすると、第１シールベルト８１の貫通孔８１ａと第２シールベルト８２の貫通孔８２ａとが重ならない状態が形成される。この場合、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２を重ねた状態では、貫通孔が形成されていない状態であるといえる。

一方、図８（ｃ）に示す例では、第１シールベルト８１における破線Ｐ１の部分と、第２シールベルト８２における破線Ｐ１の部分とが重なるように、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２の配置を変更している。このような状態とすると、第１シールベルト８１の貫通孔８１ａと第２シールベルト８２の貫通孔８２ａとが重なる状態が形成される。この場合、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２を重ねた状態であっても、貫通孔が形成されている状態となっている。

図９では、二重に重ねられた第１シールベルト８１と第２シールベルト８２の貫通孔８１ａ，８２ａの相対位置の一例を模式的に示している。図９に示すように、Ｙ軸方向駆動部４０では、二重に重ねられた第１シールベルト８１と第２シールベルト８２とがスリット４１ａを塞ぐ領域では、両者の貫通孔８１ａ，８２ａを介して気体が通過できない状態、すなわち、図８（ｂ）に示す状態を形成している。一方、二重に重ねられた第１シールベルト８１と第２シールベルト８２とがスリット４１ａの前から離れている領域では、両者の貫通孔８１ａ，８２ａを介して気体が通過可能な状態、すなわち図８（ｃ）に示す状態を形成している。二重に重ねられた第１シールベルト８１と第２シールベルト８２との相対位置は、第１プーリ８３および第２プーリ８４の位置関係によって調整されている。すなわち、Ｙ軸方向に沿って一列に配置された第１プーリ８３および第２プーリ８４に対してＸ軸正方向の領域（スリット４１ａに近い領域）では、図８（ｂ）に示すように貫通孔８１ａ，８２ａが互いに重なり合わない状態を形成する。一方、Ｙ軸方向に沿って一列に配置された第１プーリ８３および第２プーリ８４に対してＸ軸負方向の領域（スリット４１ａから遠い領域）では、図８（ｃ）に示すように貫通孔８１ａ，８２ａが互いに重なり合う状態を形成する。

この結果、図９に示すように、スリット４１ａを介した筐体４１内外での気体の移動は規制される。そのため、スライダ４５の本体部４５ｄに設けられたファン９２を介したＺ軸方向駆動部５０内からの筐体４１内への気体の導入のみが行われる。一方、筐体４１内部、特に、Ｙ軸方向に沿って一列に配置された第１プーリ８３および第２プーリ８４に対してＸ軸負方向の領域（スリット４１ａから遠い領域）では貫通孔８１ａ，８２ａを介した気体の移動が可能となっている。したがって、図９に示すように、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２の一方の主面から他方の主面へ向かうＸ軸方向の気体の移動が可能となっている。

図９に示すような第１シールベルト８１および第２シールベルト８２の配置を実現するための第１プーリ８３および第２プーリ８４の配置は、各ベルトに設けられた複数の貫通孔の配置によって異なる。例えば、図８（ａ）に示す配置の貫通孔を有するシールベルトを用いて、図９に示す構成を実現するためには、第１プーリ８３によるベルトと移動量と、第２プーリ８４による移動量との差分を調整する必要がある。

第１シールベルト８１および第２シールベルト８２における貫通孔８１ａ，８２ａは、それぞれ隣接する破線Ｐ１間を１周期として繰り返されている形状となっている。図９に示す構成では、第１シールベルト８１は第２シールベルト８２から離間して第１プーリ８３を経てスリット４１ａ側（Ｘ軸正方向の領域）から逆側（Ｘ軸負方向の領域）において再び第２シールベルト８２と重なる。第１シールベルト８１と第２シールベルト８２とが離れて移動する間のシールベルトの移動量の差が、貫通孔の配置の周期に対して半周期（破線Ｐ１－破線Ｐ２の間）、もしくはｎ周期＋半周期（ｎは自然数）とすることで、図９に示す構成とすることができる。第１プーリ８３および第２プーリ８４の配置によって、ｎは変化し得るが、差分に「半周期」の成分が含められるように第１プーリ８３および第２プーリ８４を配置することで、上記の構成が実現され得る。なお、Ｙ軸方向に延びる第１シールベルト８１および第２シールベルト８２の両端において上記の関係とすることで、図９に示す構成が実現される。すなわち、（スライダ４５の本体部４５ｄを含む）シールベルトの移動経路全体で見ると、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２の移動経路の差は、貫通孔の配置の周期（本実施形態では、破線Ｐ１－破線Ｐ１の間）のｎ倍（ｎは自然数）とされる。このときに、片側（Ｙ軸正方向またはＹ軸負方向）のプーリの配置による経路の差によって、貫通孔の配置の周期の半周期分ずつずれが生じるように、一対の第１プーリ８３および第２プーリ８４を配置することによって図９に示す構成を得ることができる。

［作用］
上記の基板搬送装置としての搬送ユニットＡ３のＹ軸方向駆動部４０では、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２の複数の貫通孔８１ａ，８２ａが互いに重ならないように、スリットを封止する領域（スリット４１ａ）に配置される。そのため、貫通孔８１ａ，８２ａを有する第１シールベルト８１および第２シールベルト８２であっても、スリット４１ａが適切に封止される。したがって、筐体４１内のパーティクルがスリット４１ａを介して外部に飛散されることが防がれる。一方、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２はそれぞれ複数の貫通孔８１ａ，８２ａを有しているため、貫通孔８１ａ，８２ａを介して筐体４１内での気体が移動できる。そのため、排気部（ファン９１）による排気が、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２によって妨げられない。したがって、モータ４２を含む駆動部の駆動時に発生するパーティクルを筐体４１内から効率よく排出することが可能な技術が提供される。

Ｙ軸方向駆動部４０では、ワークＷを保持する保持アーム２０を移動させるために、スライダ４５をＹ軸方向に移動させる。このとき、スライダ４５の移動に伴って、筐体４１内ではパーティクルが発生する。一例としては、スライダガイド４６ａ，４６ｂに沿ってスライダ４５が移動することによって、スライダガイド４６ａ，４６ｂに塗布されているグリス等がパーティクルとなって飛散する可能性がある。また、スライダ４５が移動する場合には、モータ４２、プーリ４３、タイミングベルト４４等も移動するため、部材同士の接触箇所等にはグリスが塗布されている。これらのグリスはスライダ４５の動作を繰り返す際にパーティクルとなって飛散し得る。一方、Ｙ軸方向駆動部４０では排気を行う機構としてファン９１を有している。ファン９１を動作させることでパーティクルを含む内部の気体を外部に排出する。ただし、筐体４１内部には種々の部材が配置されているため、これらの部材がファン９１による気体流の形成を阻害する可能性がある。特に、シールベルトのように、長尺状の部材であって且つ上下方向（Ｚ軸方向）に延びて配置する部材は、筐体４１の空間を大きく区切るような形になる。また、上記のＹ軸方向駆動部４０では、ファン９２から筐体４１に気体が導入される。ファン９２からはＺ軸方向駆動部５０の筐体内からの気体が導入されるため、パーティクルが含まれ得る。したがって、ファン９２から導入される気体を適切にファン９１へ向けて移動させたい。この場合、特に筐体４１の内部に配置されるシールベルトが気体の移動を困難にする可能性がある。

これに対して、上記の第１シールベルト８１および第２シールベルト８２は、それぞれ複数の貫通孔が設けられているので、筐体４１の内部では、貫通孔を介した気体の移動が可能な状態とすることができる。一方、スリット４１ａを封止する際には、第１シールベルト８１の貫通孔８１ａと第２シールベルト８２の貫通孔８２ａとが重ならないようにこれらのシールベルトを配置するためスリット４１ａの封止が適切に行われる。このため、上記の第１シールベルト８１および第２シールベルト８２を含む搬送ユニットＡ３によれば、スリット４１ａの封止を行うシールベルトとして機能しつつ、内部では、パーティクルを含む気体の移動を阻害しない構成を実現することができる。

また、上記の搬送ユニットＡ３では、スリット４１ａを封止する領域以外の領域の少なくとも一部において、第１シールベルト８１の複数の貫通孔８１ａと第２シールベルト８２の複数の貫通孔８２ａとが重なるように配置される。また、このような構成を実現するように、第１プーリ８３および第２プーリ８４が配置される。このような構成とすることで、筐体４１の内部では、貫通孔を利用した気体の移動が促進されるため、筐体内からのパーティクルの排出を効率よく行うことができる。

また、搬送ユニットＡ３では、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２が、スリット４１ａを封止する領域において互いに接触している。このような構成とすることで、スリット４１ａの封止を適切に行うことができるため、パーティクルの外部への飛散をより確実に防ぐことができる。スリット４１ａは、他のモジュール等に対向する側面に設けられているため、スリット４１ａが開口している状態では他のモジュール等へのパーティクルの飛散も懸念される。これに対して、スリット４１ａの封止を確実に行う構成とすることで、パーティクルの飛散が抑制され得る。

なお、上記の搬送ユニットＡ３において、第１シールベルト８１と第２シールベルト８２との対向面のうち少なくとも一方に吸着部材が設けられる構成としてもよい。この場合、スリット４１ａを封止する領域において第１シールベルト８１と第２シールベルト８２との密着性を高めることができる。そのため、この状態でスリット４１ａを封止する構成とすることで、スリット４１ａの封止を適切に行うことができる。

また、上記の搬送ユニットＡ３において、第１シールベルト８１と第２シールベルト８２との対向面のうち少なくとも一方に摩擦係数を高めるための表面処理が行われている構成としてもよい。この場合も、スリット４１ａを封止する領域において第１シールベルト８１と第２シールベルト８２との密着性を高めることができる。そのため、この状態でスリット４１ａを封止する構成とすることで、スリット４１ａの封止を適切に行うことができる。

なお、吸着部材を設ける、または表面処理を行う領域は、第１シールベルト８１と第２シールベルト８２との対向面の両面に行ってもよいが、一方のみに行う構成としてもよい。この場合、第２シールベルト８２の第１シールベルト８１との対向面に、吸着部材が設けられるか、または、摩擦係数を高めるための表面処理が行われていてもよい。第２シールベルトは、第１シールベルト８１の内側に配置されるため、第２プーリ８４と接する主面と、第１シールベルト８１との対向面と、が互いに異なる。そのため、第１シールベルトとの対向面の吸着部材または表面処理が、第２プーリ８４に対する第２シールベルト８２の移動に干渉することが防がれるため、第２シールベルト８２のスムーズな移動を促すことができる。

［変形例］
以上、種々の例示的実施形態について説明してきたが、上述した例示的実施形態に限定されることなく、様々な省略、置換、および変更がなされてもよい。また、異なる実施形態における要素を組み合わせて他の実施形態を形成することが可能である。

例えば、搬送ユニットＡ３の各部の構成は適宜変更され得る。また、Ｙ軸方向駆動部４０の各部の構成も一例であって適宜変更し得る。例えば、スライダ４５を駆動させるための構成は適宜変更され得る。

また、第１シールベルト８１を掛け渡す第１プーリ８３および第２シールベルト８２を掛け渡す第２プーリ８４の数は特に限定されない。すなわち、第１プーリ８３および第２プーリ８４はそれぞれ３つ以上設けられていてもよい。

また、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２における貫通孔の数、配置は同じである必要はなく、互いに異なっていてもよい。上記のように、スリット４１ａを封止する領域において、貫通孔８１ａ，８２ａが互いに重ならず、スリット４１ａを確実に塞ぐことが可能な構成であれば、貫通孔の形状は適宜変更し得る。また、貫通孔は周期的に形成されていなくてもよい。例えば、シールベルトのうち、スリット４１ａを封止する領域を通過し得る領域では貫通孔の数を少なくし、裏面側（筐体４１の内側）を移動する領域では貫通孔の数を増やしてもよい。

さらに、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２は、スリット４１ａを封止する領域とは異なる領域では、互いに離間した状態で移動する構成としてもよい。

図１０は、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２の移動経路の一部が互いに離間している状態を示している。図１０では、スライダ４５の本体部の表示等を省略している。図１０に示す例では、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２の移動する環状経路を調整する構成として、第１プーリ８５および第２プーリ８６が設けられている。ただし、図１０に示す例では、第１プーリ８５および第２プーリ８６は一列に配置されておらず、第２プーリ８６に比べて第１プーリ８５が図示下方に配置されている。この結果、図示上方では、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２が互いに接触した状態で移動し得るので、この領域をスリット４１ａの封止のために使用することができる。一方、図示下方では、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２が互いに離間した状態で移動し得る。この場合、第１シールベルト８１の貫通孔と第２シールベルト８２の貫通孔とが互いに重なっていない状態でも、第１シールベルト８１と第２シールベルト８２との間の空間を利用して気体が移動可能となる。なお、図１０に示すように、貫通孔同士が図示上下方向で互いに重なる配置とした場合には、筐体４１内の気体の移動がさらにスムーズとなる。

このように、スリット４１ａを封止する領域以外の領域の少なくとも一部において、第１シールベルト８１および第２シールベルト８２が互いに離間している構成としてもよい。この場合、第１シールベルト８１と第２シールベルト８２とに設けられた複数の貫通孔を利用した気体の移動が促進される。したがって、筐体４１内からのパーティクルの排出を効率よく行うことができる。

また、上記実施形態で説明した搬送ユニットＡ３の構成は一例である。上記実施形態では、Ｙ軸方向駆動部４０について説明したが、同様の構成が他のＸ軸方向駆動部３０、Ｚ軸方向駆動部５０、回転駆動部６０等に設けられていてもよい。その場合、ファンの配置、シールベルトの配置等は、各駆動部によって変更され得る。ただし、スリットを封止するための構成として、上記のように複数の貫通孔が形成された２つのシールベルトを組み合わせた構成を採用することで、上記で説明した作用と同様の作用が得られる。

以上の説明から、本開示の種々の実施形態は、説明の目的で本明細書で説明されており、本開示の範囲および主旨から逸脱することなく種々の変更をなし得ることが、理解されるであろう。したがって、本明細書に開示した種々の実施形態は限定することを意図しておらず、真の範囲と主旨は、添付の特許請求の範囲によって示される。

１…基板処理システム、２０…保持アーム、３０…Ｘ軸方向駆動部、４０…Ｙ軸方向駆動部、４１…筐体、４１ａ…スリット、４２…モータ、４３…プーリ、４４…タイミングベルト、４５…スライダ、４５ａ…本体支持部、４５ｂ…第１脚部、４５ｃ…第２脚部、４５ｄ…本体部、４５ｅ…主面、４６ａ，４６ｂ…スライダガイド、５０…Ｚ軸方向駆動部、６０…回転駆動部、７０…基台、８１…第１シールベルト、８１ａ…貫通孔、８２…第２シールベルト、８２ａ…貫通孔、８３，８５…第１プーリ、８４，８６…第２プーリ、９１，９２…ファン、１００…制御装置。

Claims (7)

1. 基板を搬送する基板搬送装置であって、
   前記基板を保持する基板保持部と、
   前記基板保持部を支持する支持部と、
   前記支持部を一方向に移動させる駆動部と、
   前記駆動部を収容し、前記支持部の移動方向に伸びるスリットを有する筐体と、
   前記筐体内において、前記支持部の移動に伴って移動可能な状態で前記支持部に対して固定されて、前記スリットを封止するスリット封止部と、
   前記筐体内を排気する排気部と、
   を有し、
   前記スリット封止部は、
   複数の貫通孔が形成されて、前記支持部に対して固定された第１シールベルトと、
   前記第１シールベルトを掛け渡すことで、前記支持部と前記第１シールベルトとによって前記スリットを封止する領域を通る第１環状経路を形成する複数の第１プーリと、
   複数の貫通孔が形成されて、前記支持部に対して固定された第２シールベルトと、
   前記第２シールベルトを架け渡すことで、前記第１環状経路よりも内周側で、前記支持部と前記第２シールベルトとによって前記スリットを封止する領域を通る第２環状経路を形成する複数の第２プーリと、を有し、
   前記複数の第１プーリと、前記複数の第２プーリとは、前記スリットを封止する領域において、前記第１シールベルトの複数の貫通孔と前記第２シールベルトの複数の貫通孔とが互いに重ならないように配置される、基板搬送装置。
2. 前記複数の第１プーリと、前記複数の第２プーリとは、前記スリットを封止する領域以外の領域の少なくとも一部において、前記第１シールベルトの複数の貫通孔と前記第２シールベルトの複数の貫通孔とが重なるように配置される、請求項１に記載の基板搬送装置。
3. 前記第１シールベルトおよび前記第２シールベルトは、前記スリットを封止する領域において互いに接触している、請求項１または２に記載の基板搬送装置。
4. 前記第１シールベルトおよび前記第２シールベルトは、前記スリットを封止する領域以外の領域の少なくとも一部において、互いに離間している、請求項１～３のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
5. 前記第１シールベルトと前記第２シールベルトとの対向面のうち少なくとも一方に吸着部材が設けられる、請求項１～４のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
6. 前記第１シールベルトと前記第２シールベルトとの対向面のうち少なくとも一方に、摩擦係数を高めるための表面処理が行われている、請求項１～４のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
7. 前記第２シールベルトの前記第１シールベルトとの対向面に、吸着部材が設けられるか、または、摩擦係数を高めるための表面処理が行われている、請求項１～４のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
   

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