JP2022058493A - 蒸着用マスク及びこれを用いたｏｌｅｄパネル - Google Patents

Abstract

【課題】均一な貫通ホールを有する蒸着用マスクを提供する。【解決手段】蒸着用マスクは、鉄－ニッケル合金を含む金属板を含み、前記金属板は、複数個の貫通ホールＨ及び前記複数個の貫通ホールの間のブリッジＢＲを含む有効領域ＡＡと、前記有効領域の外周に配置される非有効領域ＵＡとを含み、前記貫通ホールは、前記金属板の第１面上の第１面孔Ｖ１と、第２面上の第２面孔Ｖ２が連通する連結部によって形成され、前記第２面上における前記第２面孔の幅は、前記第１面上における前記第１面孔の幅より大きく、前記複数個の貫通ホールは、縦軸方向において一列に配置され、横軸方向においてはずれて配置され、前記貫通ホールは、縦軸方向の第１直径と横軸方向の第２直径が異なる。【選択図】図７

Description

実施例は、蒸着用マスクに関する。より詳細には、実施例に係る蒸着用マスクを用いて
ＯＬＥＤパネルを作製することができる。

高解像度及び低電力を有する表示装置が要求されるにつれて、液晶表示装置や電界発光
表示装置のような様々な表示装置が開発されている。

電界発光表示装置は液晶表示装置に比べて低発光、低消費電力、高解像度などの優れた
特性から、次世代表示装置として脚光を浴びている。

電界表示装置には有機発光表示装置と無機発光表示装置がある。すなわち、発光層の物
質によって有機発光表示装置と無機発光表示装置とに区別することができる。

その中でも、有機発光表示装置は、広い視野角を有し、速い応答速度を有するという点
、低電力が要求されるという点から注目を集めている。

このような発光層を構成する有機物質は、ファインメタルマスク（ｆｉｎｅ ｍｅｔａ
ｌ ｍａｓｋ）方式によって、基板上に画素を形成するためのパターンを形成することが
できる。

このとき、ファインメタルマスク、すなわち蒸着用マスクは、基板上に形成されるパタ
ーンに対応する貫通ホールを有することができ、基板上にファインメタルマスクをアライ
ンした後、有機物質を蒸着することにより、画素を形成する赤（Ｒｅｄ）、緑（Ｇｒｅｅ
ｎ）、青（Ｂｌｕｅ）のパターンを形成することができる。

蒸着用マスクとして使用し得る金属板は、エッチング工程によって複数個の貫通ホール
が形成されていてよい。

このとき、エッチングされていない領域で測定された蒸着用マスクの厚さと、エッチン
グされている領域において貫通ホールを連結及び支持する蒸着用マスクの厚さとの差が大
きい場合には、蒸着用マスクを引っ張る時、前記エッチングされている領域で蒸着用マス
クの捩れが発生することがある。また、エッチング工程においてエッチングを防止するフ
ォトレジスト層又は感光性フィルムレジスト層が脱膜することがあり、エッチングの均一
性が低下して貫通ホールの均一性が低下することもある。

複数個の貫通ホールが均一でない場合、蒸着の均一性が低下することがあり、これによ
って、形成されるパターンの蒸着効率が低下して工程効率が低下するという問題点があっ
た。

実施例は、均一な貫通ホールを有する蒸着用マスクを提供するためのものである。

実施例に係る蒸着用マスクは金属板を含み、前記金属板は、複数個の貫通ホール及び該
複数個の貫通ホールの間におけるブリッジを有する有効領域と、前記有効領域の外周に配
置される非有効領域と、を含み、前記貫通ホールは、第１面上の第１面孔と該第１面に対
向する第２面上の第２面孔とが出会う連結部に形成され、前記第１面孔の幅は、前記第２
面孔の幅より小さく、前記第１面孔の深さは前記第２面孔の深さより小さく、下記式１
＜式１＞
ｋ＝Ｈ２（Ｔ－Ｈ１）
（前記式において、
前記Ｔは、前記非有効領域で測定された蒸着用マスクの厚さであり、
前記Ｈ１は、前記複数個の貫通ホールのうち、隣接した２つの貫通ホールの間における
ブリッジの厚さが最大である地点において、前記連結部を基準に前記第１面方向への厚さ
であり、
前記Ｈ２は、前記隣接した２つの貫通ホールの間におけるブリッジの厚さが最大である
地点において、前記連結部を基準に前記第２面方向への厚さである。）によって計算され
たｋ値は、０．６５～１未満である。

実施例に係る蒸着用マスクは、金属板を含み、前記金属板は、複数個の貫通ホール及び
該複数個の貫通ホールの間におけるブリッジを有する有効領域と、前記有効領域の外周に
配置される非有効領域と、を含み、前記非有効領域に配置され、前記金属板の長さ方向の
一端の近くに位置する第１ハーフエッチング部、及び前記一端と反対する他端の近くに位
置する第２ハーフエッチング部を含み、前記金属板を０．７ｋｇｆの力で前記長さ方向に
引っ張った時、下記式２
＜式２＞
α＝２Ｂ／（ｄ１＋ｄ２）
（前記式２において、
前記ｄ１は、前記第１ハーフエッチング部と該第１ハーフエッチング部に隣接した有効
領域との間における非有効領域で測定された金属板の幅であり、
前記ｄ２は、前記第２ハーフエッチング部と該第２ハーフエッチング部に隣接した有効
領域との間における非有効領域で測定された金属板の幅であり、
前記Ｂは、前記有効領域の中間地点で測定された金属板の幅である。）によって計算さ
れた捩れ指数αは、０．８５～１．１５である。

実施例に係る蒸着用マスクは、エッチングされていない領域で測定された蒸着用マスク
の厚さと、エッチングされている領域において貫通ホールを連結及び支持する蒸着用マス
クの厚さとの差を小さくすることができる。すなわち、実施例は、有機物質が蒸着される
領域における蒸着用マスクの厚さと有機物質が蒸着されない領域における蒸着用マスクの
厚さとの差による段差を減少させることができる。これによって、蒸着用マスクを引っ張
る時、貫通ホールを連結及び支持するエッチングされたブリッジにおいて蒸着用マスクが
捩れることを防止することができる。

また、実施例に係る蒸着用マスクは、貫通ホールを形成するための金属板エッチング工
程において、エッチングを防止するフォトレジスト層又は感光性フィルムレジスト層が脱
膜することを防止することができるため、エッチングの均一性を向上させることができ、
複数個の貫通ホールの均一性を向上させることができる。

したがって、実施例に係る蒸着用マスクで作製したＯＬＥＤパネルは、パターンの蒸着
効率に優れ、蒸着均一性が向上し得る。

基板上に有機物質を蒸着する工程を説明するための概念図である。 基板上に有機物質を蒸着する工程を説明するための概念図である。 基板上に有機物質を蒸着する工程を説明するための概念図である。 蒸着用マスクの平面図である。 蒸着用マスクの平面図である。 図４におけるＡ－Ａ’の断面図である。 実施例に係る蒸着用マスクの捩れ指数を説明するための断面図である。 実施例に係る蒸着用マスクの捩れ指数を説明するための平面図である。 実施例に係る図４におけるＡ－Ａ’の断面図である。 比較例に係る図４におけるＡ－Ａ’の断面図である。 実施例に係る蒸着用マスクの蒸着工程を説明するための図である。 比較例に係る蒸着用マスクの蒸着工程を説明するための図である。

以下では添付の図面を参照して実施例を具体的に説明する。

添付の図面を参照して説明するとき、同一の構成要素には同一の図面符号を付し、それ
に関する重複説明は省略する。

第１、第２などの用語は、構成要素を説明するために使うことができるが、これらの構
成要素は前記用語に限定されず、一つの構成要素を他の構成要素と区別する目的にのみ使
われる。

また、ある部分がある構成要素を「含む」とされているとき、これは、特別に反対の記
載がない限り、他の構成要素を除外するのではなく、他の構成要素をさらに具備し得ると
いうことを意味する。

図面において、各層（膜）、領域、パターン又は構造物の厚さや大きさは、説明の明確
性及び便宜のために変形され得るものであり、実際の大きさを全体的に反映するものでは
ない。

図１乃至図３を参照して、基板上に有機物質を蒸着する工程を説明する。

図１は、実施例に係る蒸着用マスク１００が含まれた有機物蒸着装置を示す図である。

有機物蒸着装置は、蒸着用マスク１００、マスクフレーム２００、基板３００、有機物
蒸着容器４００及び真空チャンバー５００を含むことができる。

前記蒸着用マスク１００は複数個の貫通ホールを有することができる。前記蒸着用マス
ク１００は複数個の貫通ホールを有する金属板であってもよい。このとき、前記貫通ホー
ルは、基板上に形成されるパターンに対応するように形成することができる。

前記マスクフレーム２００は開口部を有することができる。前記蒸着用マスク１００の
複数個の貫通ホールは、前記開口部に対応する領域上に配置することができる。これによ
って、前記有機物蒸着容器４００に供給される有機物質を前記基板３００上に蒸着するこ
とができる。前記蒸着用マスクは、前記マスクフレーム２００上に配置して固定すること
ができる。例えば、前記蒸着用マスクを引っ張って、前記マスクフレーム２００上に溶接
によって固定することができる。

図１及び図２を参照すると、前記蒸着用マスク１００は、前記蒸着用マスク１００の最
外側に設けられた縁部において、互いに反対の方向に引っ張ることができる。前記蒸着用
マスク１００は、前記蒸着用マスク１００の長さ方向において、前記蒸着用マスク１００
の一端及び該一端とは反対の他端を相互反対方向に引っ張ることができる。前記蒸着用マ
スク１００の一端と前記他端は互いに向かい合って平行に配置され得る。前記蒸着用マス
ク１００の一端は、前記蒸着用マスク１００の最外側に設けられた４個の縁をなす端部の
いずれか一つであってよい。例えば、前記蒸着用マスク１００は、０．４～１．５ｋｇｆ
の力で引っ張ることができる。これによって、引っ張られた前記蒸着用マスク１００を前
記マスクフレーム２００上に据え付けることができる。

次に、前記蒸着用マスク１００を溶接によって前記マスクフレーム２００に固定するこ
とができる。その後、前記マスクフレーム２００の外部に配置される前記蒸着用マスク１
００の一部分を切断などの方法で除去することができる。例えば、前記溶接過程で前記蒸
着用マスク１００が変形されることにより、前記蒸着用マスク１００が前記蒸着用マスク
１００と前記マスクフレーム２００との固定領域以外の領域に配置される場合には、前記
蒸着用マスクの一部分を除去することができる。

図１及び図３を参照すると、前記基板３００は表示装置の製造に用いられる基板であっ
てよい。前記基板３００上には、光の３原色である画素を形成するために、赤（Ｒｅｄ）
、緑（Ｇｒｅｅｎ）、青（Ｂｌｕｅ）のパターンを形成することができる。

前記有機物蒸着容器４００は坩堝であってよい。前記坩堝の内部には有機物質を配置す
ることができる。

前記真空チャンバー５００内で前記坩堝に熱源及び／又は電流が供給されることにより
、前記有機物質を前記基板１００上に蒸着することができる。

図３は、前記蒸着用マスク１００の一つの貫通ホールを拡大した図である。

前記蒸着用マスク１００は、第１面１０１、及び該第１面に対向する第２面１０２を有
することができる。

前記蒸着用マスク１００の前記第１面１０１は、第１面孔Ｖ１を含み、前記蒸着用マス
ク１００の前記第２面１０２は第２面孔Ｖ２を含むことができる。

前記貫通ホールは、前記第１面孔Ｖ１及び前記第２面孔Ｖ２とが連通する連結部ＣＡに
よって形成することができる。

前記第２面孔Ｖ２の幅は、前記第１面孔Ｖ１の幅より大きくすることができる。このと
き、前記第１面孔Ｖ１の幅は前記第１面１０１で測定し、前記第２面孔Ｖ２の幅は前記第
２面１０２で測定することができる。

前記第１面孔Ｖ１は、前記基板３００に向かって配置することができる。これによって
、前記第１面孔Ｖ１が蒸着物Ｄ、すなわちパターンに対応する形状を有することができる
。

前記第２面孔Ｖ２は、前記有機物蒸着容器４００に向かって配置することができる。こ
れによって、前記第２面孔Ｖ２は、前記有機物蒸着容器４００から供給される有機物質を
広い幅で収容することができ、前記第２面孔Ｖ２に比べて幅の小さい前記第１面孔Ｖ１を
通して前記基板３００上に微細なパターンを速やかに形成することができる。

図４及び図５は、蒸着用マスク１００の正面図である。

前記蒸着用マスク１００は複数個の貫通ホールを有することができる。図４に示す複数
個の貫通ホールは前記第２面孔Ｖ２を示したものであってよい。任意のいずれか一つの貫
通ホールである基準ホールの水平方向の直径Ｃｘと垂直方向の直径Ｃｙを測定する場合、
前記基準ホールに隣接するホール（図面では総６個）間のそれぞれの水平方向の直径Ｃｘ
間の偏差と、垂直方向の直径（Ｃｙ）間の偏差は２％～１０％とすることができる。すな
わち、一つの基準ホールの隣接ホール間の大きさの偏差を２％～１０％とする場合には蒸
着の均一度を確保することができる。

例えば、前記基準ホールと前記隣接ホールとの大きさの偏差は、４％～９％であってよ
い。例えば、前記基準ホールと前記隣接ホールとの大きさの偏差は５％～７％であっても
よい。

前記基準ホールと前記隣接ホールとの大きさの偏差が２％未満の場合には、蒸着後にＯ
ＬＥＤパネルにおいてモアレの発生率が高くなることがある。前記基準ホールと前記隣接
ホールとの大きさの偏差が１０％を超える場合には、蒸着後のＯＬＥＤパネルにおいて色
ムラの発生率が高くなることがある。

実施例は前記基準ホールと前記隣接ホールとの大きさの偏差を±３μｍ以下とすること
ができる。これによって、蒸着効率を向上させることができる。

前記貫通ホールは、方向によって、一列に配置したり互いにずれるように配置すること
ができる。

例えば、図４を参照すると、前記貫通ホールは、縦軸において一列に配置し、横軸にお
いて一列に配置することができる。

例えば、図５を参照すると、前記貫通ホールは、縦軸において一列に配置し、横軸にお
いて互いにずれるように配置してもよい。

前記貫通ホールは、縦方向において測定された第１直径と、横方向において測定された
第２直径とが相互に対応しても異なってもよい。前記貫通ホールは、Ａ－Ａ’の断面方向
に対応する第１対角線方向において測定された第３直径と、前記第１対角線方向と交差す
る第２対角線方向において測定された第４直径とが相互に対応しても異なってもよい。前
記貫通ホールは、丸みをつけることができる。

図６は、複数個の貫通ホールの断面を拡大した図である。

図６を参照すると、蒸着用マスク１００は金属物質を含むことができる。前記蒸着用マ
スク１００は多結晶で構成され、面心立方構造であってもよい。

例えば、前記蒸着用マスク１００はニッケル合金を含むことができる。例えば、前記蒸
着用マスク１００は、ニッケル約３５～３７重量％、鉄約６３～６５重量％、及び微量の
Ｃ、Ｓｉ、Ｓ、Ｐ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ａｇ、Ｎｂ、Ｖ、Ｉｎ
、Ｓｂのうち少なくとも一つが含まれたインバー（Ｉｎｖａｒ）を含むことができる。こ
こでいう微量は、１重量％以下を意味することができる。詳しくは、ここで、微量は０．
５重量％以下を意味してもよい。ただし、これに実施例が制限されるものではなく、様々
な金属物質を含み得ることは勿論である。

前記蒸着用マスク１００は、前記第１面１０１上に複数の第１面孔Ｖ１を有することが
できる。前記第１面孔Ｖ１は、第１サブ第１面孔Ｖ１ａ、及び該第１サブ第１面孔Ｖ１ａ
に隣接した第２サブ第１面孔Ｖ１ｂを含むことができる。

前記蒸着用マスク１００は、前記第２面１０２上に複数の第２面孔Ｖ２を有することが
できる。前記第２面孔Ｖ２は、第１サブ第２面孔Ｖ２ａ、及び該第１サブ第２面孔Ｖ２ａ
に隣接した第２サブ第２面孔Ｖ２ｂを含むことができる。

前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａ及び前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａは、連結部ＣＡを通じて
連通して一つの貫通ホールを形成し、前記第２サブ第１面孔Ｖ１ｂ及び前記第２サブ第２
面孔Ｖ２ｂは連結部ＣＡを通じて連通して他の貫通ホールを形成することができる。すな
わち、前記蒸着用マスク１００は複数個の貫通ホールを有することができる。

前記蒸着用マスク１００の厚さＴは１０μｍ～５０μｍであってよい。例えば、前記蒸
着用マスク１００の厚さＴは１０μｍ～３０μｍであってもよい。前記蒸着用マスク１０
０の厚さＴが１０μｍ未満の場合には、製造効率が低いことがある。

前記蒸着用マスク１００の厚さＴが５０μｍを超える場合には、貫通ホールを形成する
ための工程効率が低下することがある。ここで、前記蒸着用マスク１００の厚さＴは、圧
延工程後に測定されたものを意味することができる。

前記蒸着用マスク１００の厚さは５０μｍ以下であってよい。例えば、前記蒸着用マス
ク１００の厚さは３０μｍ以下であってもよい。

前記蒸着用マスク１００は貫通ホールの厚さ方向に沿って、異なる貫通ホールの幅を有
することができる。

例えば、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの幅Ｗ１は前記連結部ＣＡの幅Ｗ３より大きくて
よい。詳しくは、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａは前記第１面１０１から前記連結部ＣＡに
向かうにつれて前記貫通ホールの幅が減少してもよい。より詳しくは、前記第１サブ第１
面孔Ｖ１ａは、前記第１面１０１から前記連結部ＣＡに向かうにつれて前記貫通ホールの
幅が漸次減少してもよい。

例えば、前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの幅Ｗ２は前記連結部ＣＡの幅Ｗ３より大きくて
よい。詳しくは、前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａは、前記第２面１０２から前記連結部ＣＡ
に向かうにつれて前記貫通ホールの幅が減少してもよい。より詳しくは、前記第１サブ第
２面孔Ｖ２ａは前記第２面１０２から前記連結部ＣＡに向かうにつれて前記貫通ホールの
幅が漸次減少してもよい。

前記貫通ホールの幅は２０μｍ以上であってよい。

例えば、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの幅Ｗ１及び前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの幅Ｗ
２のうちの少なくとも一つは２０μｍ～５０μｍの幅を有することができる。例えば、前
記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの幅Ｗ１及び前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの幅Ｗ２のうちの少
なくとも一つは３０μｍ～５０μｍの幅を有することができる。例えば、前記第１サブ第
１面孔Ｖ１ａの幅Ｗ１及び前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの幅Ｗ２のうちの少なくとも一つ
は２０μｍ～４０μｍの幅を有することができる。

詳しくは、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの幅Ｗ１は２０μｍ～５０μｍの幅を有するこ
とができ、前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの幅Ｗ２は５０μｍ～９０μｍの幅を有すること
ができる。例えば、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの幅Ｗ１は２０μｍ～５０μｍの幅を有
することができ、前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの幅Ｗ２は６０μｍ～９０μｍの幅を有す
ることができる。例えば、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの幅Ｗ１は３０μｍ～５０μｍの
幅を有することができ、前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの幅Ｗ２は７０μｍ～９０μｍの幅
を有することができる。

前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの深さＨ２は、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１よ
り大きくてよい。

一方、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１は、前記蒸着用マスク１００の厚さＴと
の関係比率が１：（３～３０）であってよい。例えば、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深
さＨ１は、前記蒸着用マスク１００の厚さＴとの関係比率が１：（３．５～１２．５）で
あってもよい。例えば、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１は、前記蒸着用マスク１
００の厚さＴとの関係比率が１：（４．５～１０．５）であってもよい。

前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１が前記蒸着用マスク１００の厚さＴとの関係に
おいて前記比率を超える場合には、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１が大きくなっ
て有機物質の厚さ変化が大きくなるため、有機物質が蒸着されない領域が発生することが
ある。これによって、前記蒸着用マスクを用いて製造されたＯＬＥＤパネルの製造収率が
低下することがある。

前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１は、０．１μｍ～７μｍであってよい。例えば
、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１は２μｍ～６．５μｍであってもよい。例えば
、前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１は２μｍ～４．５μｍであってもよい。前記第
１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１が０．１μｍ未満の場合には、前記蒸着用マスクを用い
た有機物質の蒸着効率が低下することがある。前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの深さＨ１が
７μｍを超える場合には、微細な大きさのパターンを形成し難く、有機物質が蒸着されな
い領域が発生し得るため、これを用いて製造されたＯＬＥＤパネルの製造収率が低下する
ことがある。

前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの深さＨ２は、１５μｍ～２５μｍであってよい。例えば
、前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの深さＨ２は２０μｍ～２５μｍであってもよい。

前記連結部ＣＡの終端の任意の地点Ａ１と前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの終端の任意の
地点Ｂ１とをつなぐ傾斜角は２０°～７０°の範囲であってよい。例えば、前記連結部Ｃ
Ａの終端の任意の地点Ａ１と前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの終端の任意の地点Ｂ１とをつ
なぐ傾斜角は３０°～６０°の範囲であってもよい。例えば、前記連結部ＣＡの終端の任
意の地点Ａ１と前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの終端の任意の地点Ｂ１とをつなぐ傾斜角は
３２°～３８°又は５２°～５８°の範囲であってもよい。前記連結部ＣＡの終端の任意
の地点Ａ１と前記第１サブ第２面孔Ｖ２ａの終端の任意の地点Ｂ１とをつなぐ傾斜角が２
０°～７０°の範囲であるとき、蒸着の均一性を向上させることができる。前記傾斜角の
範囲を外れる場合には、有機物質が蒸着されない領域が発生し得るため、蒸着効率及び工
程効率が低下することがある。

前記第１面孔Ｖ１は前記蒸着用マスク１００の深さ方向の連結部に向かうにつれて貫通
ホールの幅が狭くなってよい。例えば、前記第１面孔Ｖ１の内表面は曲率を有する構造で
あってもよい。また、前記第２面孔Ｖ２も、前記蒸着用マスク１００の深さ方向の連結部
に向かうにつれて貫通ホールの幅が狭くなってよい。例えば、前記第１面孔Ｖ１の内表面
は曲率を有する構造であってもよい。これによって、蒸着物質の投入密度を調節すること
ができ、単純なスロープ構造に比べて蒸着の均一度を向上させることができる。

前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの幅Ｗ１と前記連結部ＣＡの幅Ｗ３との差（Ｗ１－Ｗ３）
は、０．２μｍ～１４μｍの範囲であってよい。

前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの終端の任意の点Ｃ１から前記連結部ＣＡの終端の任意の
地点Ａ１までの垂直距離は、０．１μｍ～７μｍの範囲であってよい。前記第１サブ第１
面孔Ｖ１ａの終端の任意の点Ｃ１から前記連結部ＣＡの終端の任意の地点Ａ１までの垂直
距離は、１μｍ～６μｍの範囲であってもよい。前記第１サブ第１面孔Ｖ１ａの終端の任
意の点Ｃ１から前記連結部ＣＡの終端の任意の地点Ａ１までの垂直距離は、２μｍ～４．
５μｍの範囲であってもよい。

前記垂直距離が０．１μｍ未満の場合には、前記蒸着用マスク１００を用いた有機物質
の蒸着効率が低下することがある。前記垂直距離が７μｍを超える場合には、微細な大き
さのパターンを形成し難く、有機物質が蒸着されない領域が発生し得るため、これを用い
て製造されたＯＬＥＤパネルの製造収率が低下することがある。

前記第１面孔Ｖ１は、前記第１面１０１上のオープン領域の縁部、すなわち、オープン
領域の外周部が曲率を有することができる。または、前記第２面孔Ｖ２は、前記第２面１
０２上のオープン領域の縁部、すなわち、オープン領域の外周部が曲率を有することがで
きる。例えば、前記オープン領域の縁部は、一定の範囲の曲率を有する丸み付き構造であ
ってよい。前記縁部の丸み付き部分の曲率を延長して形成される仮想の円の直径は、５μ
ｍ～２０μｍ範囲であってよい。例えば、前記縁部の丸み付き部分の曲率を延長して形成
される仮想の円の直径は、７μｍ～１５μｍ範囲であってもよい。前記縁部の丸み付き部
分の曲率を延長して形成される仮想の円の直径は、８μｍ～１２μｍ範囲であってもよい
。前記範囲において蒸着率が高く、均一な有機物質の蒸着が可能となり得る。

前記縁部の丸み付き部分の曲率を延長して形成される仮想の円の直径が５μｍ未満の場
合には、曲率処理をしないものと蒸着率に大差がない。前記縁部の丸み付き部分の曲率を
延長して形成される仮想の円の直径が２０μｍを超える場合には蒸着率が低下することが
ある。

前記第２サブ第２面孔Ｖ２ｂの幅Ｗ５は、前記第２サブ第１面孔Ｖ１ｂの幅Ｗ４より大
きくてよい。例えば、前記第２サブ第１面孔Ｖ１ｂの幅Ｗ４は前記連結部ＣＡの幅Ｗ６よ
り大きくてよい。詳しくは、前記第２サブ第１面孔Ｖ１ｂは前記第１面１０１から前記連
結部ＣＡに向かうにつれて前記貫通ホールの幅が減少してもよい。より詳しくは、前記第
２サブ第１面孔Ｖ１ｂは前記第１面１０１から前記連結部ＣＡに向かうにつれて前記貫通
ホールの幅が漸次減少してもよい。

例えば、前記第２サブ第２面孔Ｖ２ｂの幅Ｗ５は前記連結部ＣＡの幅Ｗ６より大きくて
よい。詳しくは、前記第２サブ第２面孔Ｖ２ｂは、前記第２面１０２から前記連結部ＣＡ
に向かうにつれて前記貫通ホールの幅が減少してもよい。より詳しくは、前記第２サブ第
２面孔Ｖ２ｂは、前記第２面１０２から前記連結部ＣＡに向かうにつれて前記貫通ホール
の幅が漸次減少してもよい。

前記第２サブ第２面孔Ｖ２ｂの深さＨ４は、前記第２サブ第１面孔Ｖ１ｂの深さＨ３よ
り大きくてよい。

図７及び図８を参照すると、前記蒸着用マスク１００は、複数個の貫通ホールＨ及び該
複数個の貫通ホール間のブリッジＢＲを有する有効領域ＡＡと、該有効領域の外周に配置
される非有効領域ＵＡとを含むことができる。

前記有効領域ＡＡは、複数個の貫通ホールのうち、最外側に位置している貫通ホールの
外側を連結した時の内側領域であってよい。前記非有効領域ＵＡは、複数個の貫通ホール
のうち、最外側に位置している貫通ホールの外側を連結した時の外側の領域であってよい
。詳しくは、複数個の貫通ホールＨのうち、最外側に位置している第２面孔の終端は、前
記有効領域ＡＡと前記非有効領域ＵＡとの境界になり得る。

前記有効領域ＡＡは、最外側に位置している第２面孔Ｖ２の終端の地点を基準にして内
側領域、すなわち、蒸着物質が投入される第２面孔Ｖ２が配置される領域を意味する。一
方、最外側に位置している第２面孔Ｖ２の終端を基準にして外側領域、すなわち、蒸着に
関与しない領域を非有効領域ＵＡと定義する。

前記有効領域ＡＡに配置される蒸着用マスク１００は、複数個の貫通ホールを支持する
ことができる。すなわち、前記複数個の貫通ホールの間にはブリッジが配置され得る。詳
しくは、隣接した貫通ホールの間には前記ブリッジが配置され得る。蒸着用マスク１００
の第１面上に位置している第１ブリッジ部と金属板の第２面上に位置している第２ブリッ
ジ部によって均一な大きさの貫通ホールが支持され得る。

また、前記有効領域ＡＡに配置される蒸着用マスク１００は、前記有機物質の蒸着工程
において、前記有機物蒸着容器から供給される有機物質が前記基板上に一定の範囲のパタ
ーンの幅で蒸着され得るようにする、蒸着に関与する領域（蒸着領域）であってよい。

前記非有効領域ＵＡに配置される蒸着用マスク１００は、オープン部を含まない非エッ
チング領域であってよい。すなわち、前記非有効領域ＵＡに配置される蒸着用マスク１０
０は、前記有機物質の蒸着工程において、有機物質を通過させ得るオープン領域を含まな
いので、蒸着に関与しない領域（非蒸着領域）であり得る。

前記非有効領域ＵＡは、第１ハーフエッチング部Ｅ及び第２ハーフエッチング部Ｅを含
むことができる。

図７を参照すると、前記第１及び第２ハーフエッチング部Ｅは、金属板の第１面に溝を
含むことができる。すなわち、前記第１及び第２ハーフエッチング部Ｅは、非有効領域Ｕ
Ａに位置した蒸着用マスク１００の前記第１面が部分的にエッチングされることによって
溝が形成され得る。これによって、蒸着用マスクは前記第１及び第２ハーフエッチング部
Ｅが形成される領域において段差を有することができる。

蒸着用マスクは非有効領域ＵＡにおいて異なる厚さを有することができる。エッチング
されていない部分の厚さＴは、前記ハーフエッチング部Ｅが配置される領域の厚さより大
きくてよい。例えば、前記ハーフエッチング部Ｅが配置される領域は、エッチングされて
いない部分で測定された厚さＴの約１／２の厚さを有することができる。

前記ハーフエッチング部Ｅ及び／又は前記ハーフエッチング部Ｅの周辺領域は、前記マ
スクフレームと溶接によって連結される領域であってよい。例えば、前記ハーフエッチン
グ部Ｅ及び／又は前記ハーフエッチング部Ｅの周辺領域は溶接によって変形されることに
より、前記マスクフレーム２００に固定され得る。詳しくは、前記ハーフエッチング部Ｅ
の溝には、全体的に又は部分的に溶接物質を埋めることができる。

図８を参照すると、前記非有効領域ＵＡに配置される蒸着用マスク１００は、両端が水
平方向に引っ張られ、マスクフレーム上に固定され得る。より詳しくは、前記非有効領域
ＵＡに配置される蒸着用マスクの一端及び他端は、ｙ軸方向と平行に配置され、前記一端
及び他端は、ｙ軸方向と垂直なｘ軸方向、すなわち水平方向に引っ張られ得る。

前記非有効領域ＵＡに配置される前記ハーフエッチング部Ｅは、部分的に又は全体的に
丸みをつけた形状を有することができる。例えば、前記非有効領域ＵＡに配置される前記
ハーフエッチング部Ｅは、弧状を有することができる。すなわち、前記ハーフエッチング
部Ｅは直線形状及び曲線形状を有することができる。詳しくは、前記ハーフエッチング部
Ｅは、蒸着用マスクの垂直方向に延長された直線部、及び該直線部の両端をつなぐ曲線部
を含むことができる。このとき、前記直線部は、前記蒸着用マスクｘ軸方向の縁をなす端
部と垂直な角度を有することができる。前記直線部は複数個の貫通ホールを横切る長さを
有することができる。前記直線部は、有効領域と非有効領域との境界に位置している第２
面孔の終端をつなぐ垂直方向の仮想の線と平行であってもよい。一方、前記曲線部は均等
な曲率を有することができる。または、前記曲線部は位置によって異なる曲率を有しても
よい。例えば、蒸着用マスクの垂直方向の長さをｃとするとき、前記曲線部は１／２ｃ長
の地点に近づくにつれて曲率半径が増加してもよい。ただし、実施例はこれに制限されず
、長方形のハーフエッチング部を含んでもよいことは勿論である。

図６、図７及び図９を参照すると、実施例に係る蒸着用マスクは、前記有効領域ＡＡと
前記非有効領域ＵＡにおける蒸着用マスク１００の段差が小さくなっている。

下記の式１によって計算されたｋ値は、前記非有効領域ＵＡ、すなわちエッチングされ
ていない領域における蒸着用マスク１００の厚さと、前記有効領域ＡＡ、すなわちエッチ
ングされている領域における蒸着用マスク１００の厚さとの差の比を表すことができる。

＜式１＞
ｋ＝Ｈ２（Ｔ－Ｈ１）

前記の式において、前記Ｔは、前記非有効領域ＵＡで測定された蒸着用マスク１００の
厚さＴである。ここで、前記Ｔは、エッチングされていない部分で測定されたものを意味
することができる。すなわち、ハーフエッチング部が形成されていない領域で測定された
ものである。

前記Ｈ１は、前記複数個の貫通ホールのうち、隣接した２つの貫通ホール間のブリッジ
の厚さが最大である地点において、前記連結部を基準に前記第１面方向への厚さであり、
前記Ｈ２は、前記隣接した２つの貫通ホール間のブリッジの厚さが最大である地点におい
て、前記連結部を基準に前記第２面方向への厚さである。

前記式１のＨ１及びＨ２は、前記複数個の貫通ホールのうち、対角線方向に隣接した２
つの貫通ホール間のブリッジで測定した厚さである。

例えば、前記Ｈ２は、任意のブリッジの厚さが最大である地点で測定された、前記連結
部ＣＡから、前記第２面孔Ｖ２が配置された前記第２面１０２までの最短距離を意味する
ものであり、前記最短距離は基板の厚さ方向において測定することができる。

実施例に係る蒸着用マスクは、前記式１によって計算されたｋ値が０．６５～１未満で
あってよい。

実施例に係る蒸着用マスクは、前記式１によって計算されたｋ値が０．８～１．０未満
であってもよい。

すなわち、エッチングされていない領域で測定された蒸着用マスクの厚さとエッチング
されている領域で貫通ホールを連結及び支持する蒸着用マスクの厚さとの差が小さいか、
又は段差がなくて済むので、蒸着用マスクを引っ張る時、前記エッチングされている領域
で蒸着用マスクの捩れを防止することができる。また、実施例に係る蒸着用マスクは、エ
ッチング工程においてエッチングを防止するフォトレジスト層又は感光性フィルムレジス
ト層が脱膜することを防止できるので、エッチングの均一性が向上し、貫通ホールの均一
性を向上させることができる。実施例は、前記基準ホールと前記隣接ホールとの大きさの
偏差を±３μｍ以下にすることができ、蒸着効率を向上させることができる。

前記式１によって計算されたｋ値が０．６５未満の場合には、前記非有効領域ＵＡ、す
なわちエッチングされていない領域で測定された蒸着用マスクの厚さと、前記有効領域Ａ
Ａ、すなわちエッチングされている領域で貫通ホールを連結及び支持する蒸着用マスクの
厚さとの差が大きいため、蒸着用マスクを引っ張る時、前記エッチングされている領域で
蒸着用マスクの捩れが発生することがある。

図１０を参照して、Ｈ２値が小さい時における問題点を説明する。前記Ｈ２値が小さく
てｋ値が小さくなる場合には、エッチング工程においてエッチングを防止するフォトレジ
スト層又は感光性フィルムレジスト層が脱膜することがある。また、エッチングの均一性
が低下することにより、貫通ホールの均一性が低下することがある。複数個の貫通ホール
が均一でない場合、蒸着の均一性が低下することがあり、その結果、形成されるパターン
の蒸着効率が低下し、工程効率が低下することがある。

図７及び図８を参照して、捩れ指数を説明する。蒸着用マスクを長さ方向、すなわち、
水平方向に引っ張った時、前記蒸着用マスクが捩れる程度を、下記式２による捩れ指数α
で表現することができる。

＜式２＞
α＝２Ｂ／（ｄ１＋ｄ２）

前記捩れ指数αは、金属板を０．７ｋｇｆの力で前記長さ方向に引っ張った際に測定さ
れたものである。

前記式２において、
前記ｄ１は、前記第１ハーフエッチング部と該第１ハーフエッチング部に隣接した有効
領域との間の非有効領域において測定された金属板の幅であり、
前記ｄ２は、前記第２ハーフエッチング部と該第２ハーフエッチング部に隣接した有効
領域との間の非有効領域において測定された金属板の幅であり、
前記Ｂは、前記有効領域の中間地点で測定された金属板の幅である。

前記有効領域と前記非有効領域は、垂直方向において第１境界領域ＢＡ１と第２境界領
域ＢＡ２によって区別することができる。前記第１境界領域ＢＡ１と前記第２境界領域Ｂ
Ａ２との間には複数個の貫通ホールとブリッジを含むことができる。

前記非有効領域ＵＡには複数個のハーフエッチング部Ｅを含むことができる。例えば、
前記非有効領域ＵＡには第１及び第２ハーフエッチング部Ｅを含むことができる。前記第
１ハーフエッチング部に隣接した有効領域は前記第１境界領域ＢＡ１であってよい。前記
第２ハーフエッチング部に隣接した有効領域は前記第２境界領域ＢＡ２であってよい。

詳しくは、前記第１境界領域ＢＡ１に隣接した非有効領域ＵＡには一つのハーフエッチ
ング部Ｅである第１ハーフエッチング部を配置することができる。前記第２境界領域ＢＡ
２に隣接した非有効領域ＵＡには、他のハーフエッチング部Ｅである第２ハーフエッチン
グ部を配置することができる。このとき、ハーフエッチング部Ｅの曲線部は、それぞれ引
っ張られる水平方向に突出した形状であってよい。これによって、前記ハーフエッチング
部Ｅは、引張時に加えられる応力を分散させることができる。

前記第１境界領域ＢＡ１に隣接したハーフエッチング部Ｅの一側面は、第３境界領域Ｂ
Ａ３と定義することができる。前記第２境界領域ＢＡ２に隣接したハーフエッチング部Ｅ
の一側面は、第４境界領域ＢＡ４と定義することができる。

すなわち、金属板は、前記第１境界領域ＢＡ１、前記第２境界領域ＢＡ２を基準に、貫
通ホールによって厚さ変化が発生し得る。また、金属板は、前記第３境界領域ＢＡ３、前
記第４境界領域ＢＡ４を基準に、溝によって厚さ変化が発生し得る。詳しくは、前記第１
境界領域ＢＡ１、前記第２境界領域ＢＡ２、前記第３境界領域ＢＡ３、前記第４境界領域
ＢＡ４は、エッチングによって厚さ変化が発生する地点の境界を表す領域であってよい。

前記式２において、前記ｄ１は、前記第１ハーフエッチング部と該第１ハーフエッチン
グ部に隣接した有効領域との間の非有効領域において測定された金属板の幅であり、前記
ｄ２は、前記第２ハーフエッチング部と該第２ハーフエッチング部に隣接した有効領域と
の間の非有効領域において測定された金属板の幅である。

すなわち、前記ｄ１及び前記ｄ２は、非有効領域ＵＡに位置したハーフエッチング部の
直線部と、有効領域及び非有効領域間の境界に位置した第２面孔との間の１／２地点で測
定された垂直方向の蒸着用マスクの長さである。

前記Ｂは、前記有効領域の中間地点で測定された金属板の幅である。すなわち、前記Ｂ
は、ｄ１の測定地点とｄ２の測定地点との間の１／２地点で測定された垂直方向の蒸着用
マスクの長さである。

実施例に係る蒸着用マスクは、前記式２によって計算された捩れ指数αが０．８５～１
．１５であるものを含むことができる。例えば、実施例は、前記式２によって計算された
捩れ指数αが０．９～１．１のものを含むことができる。

実施例は、前記捩れ指数αが０．８５～１．１５のものを含むので、引張による力が均
等に分散され得る。また、実施例に係る蒸着用マスクは、位置による垂直方向の長さ差が
減少し得る。これによって、実施例に係る蒸着用マスクは、前記有効領域ＡＡと前記非有
効領域ＵＡにおける金属板の幅の差が小さくて済み、貫通ホールの捩れが減少し得る。

前記捩れ指数αが０．８５未満である又は１．１５を超える場合には、前記貫通ホール
を支持する有効領域ＡＡに配置される蒸着用マスクの捩れが増加することがある。これに
よって、前記蒸着用マスクによって形成されるパターンは、蒸着効率が低下することがあ
る。また、前記蒸着用マスクによって形成されるパターンは互いに重なる部分が発生する
ことがあり、ＯＬＥＤパターンの製造収率が低下することがある。

前記有効領域ＡＡに配置される蒸着用マスク１００は、前記非有効領域ＵＡに配置され
る蒸着用マスク１００と一体に形成されたものであってよい。

前記有効領域ＡＡに配置される蒸着用マスクは、複数個の貫通ホールを支持するブリッ
ジを含むことができる。

前記ブリッジは、前記金属板の前記第１面１０１上の前記第１面孔Ｖ１の間を支持する
第１ブリッジ部ＢＲ１、及び前記金属板の前記第２面１０２上の前記第２面孔Ｖ２の間を
支持する第２ブリッジ部ＢＲ２を含むことができる。

前記第１ブリッジＢＲ１と前記第２ブリッジＢＲ２は、互いに異なる幅を有することが
できる。前記第１面における前記第１ブリッジ部ＢＲ１の幅は、前記第２面における前記
第２ブリッジ部ＢＲ２の幅より大きくてよい。ここで、前記第１ブリッジ部ＢＲ１の幅は
前記第１面で測定されたものであり、前記第２ブリッジ部ＢＲ２の幅は前記第２面で測定
されたものでよい。詳しくは、前記第１ブリッジ部ＢＲ１の幅は、隣接した貫通ホールの
間を支持するそれぞれの前記第１ブリッジ部ＢＲ１の平均幅を意味することができる。前
記第２ブリッジ部ＢＲ２の幅は、隣接した貫通ホールの間を支持するそれぞれの前記第２
ブリッジ部ＢＲ２の平均幅を意味することができる。

前記第１ブリッジ部ＢＲ１及び前記第２ブリッジ部ＢＲ２は、蒸着用マスクの厚さによ
って幅が変わり得る。したがって、下記の厚さは例示に過ぎず、これに制限されない。

一例として、前記第１ブリッジ部ＢＲ１の幅は、２０μｍ～５０μｍであってよい。例
えば、前記第１ブリッジ部ＢＲ１の幅は３０μｍ～４５μｍであってもよい。例えば、前
記第１ブリッジ部ＢＲ１の幅は３０μｍ～４０μｍであってもよい。

一例として、前記第２ブリッジ部ＢＲ２の幅は、０．５μｍ～７μｍであってよい。例
えば、前記第２ブリッジ部ＢＲ２の幅は１μｍ～５μｍであってもよい。例えば、前記第
２ブリッジ部ＢＲ２の幅は１μｍ～３μｍであってもよい。

前記第１ブリッジ部ＢＲ１及び前記第２ブリッジ部ＢＲ２は、平面積が互いに異なり得
る。例えば、前記第１ブリッジ部ＢＲ１は前記第２ブリッジ部ＢＲ２に比べて、平面積が
大きくてもよい。

前記第１ブリッジ部ＢＲ１は平面領域であってよい。また、前記第２ブリッジ部ＢＲ２
も平面領域であってよい。前記第１ブリッジ部ＢＲ１及び前記第２ブリッジ部ＢＲ２が平
面であり得るので、エッチング工程においてエッチングを防止するフォトレジスト層又は
感光性フィルムレジスト層の付着力を高めることができ、均一性の向上した貫通ホールを
形成することができる。

前記有効領域ＡＡで測定された前記蒸着用マスク１００の第１面の深さは、前記非有効
領域ＵＡで測定された前記蒸着用マスク１００の第１面の深さに対応し、前記有効領域Ａ
Ａで測定された前記蒸着用マスク１００の前記第２面の深さは、前記非有効領域ＵＡで測
定された前記蒸着用マスク１００の第２面の深さに対応するものでよい。

または、前記有効領域ＡＡで測定された前記蒸着用マスク１００の第１面の深さと非有
効領域ＵＡで測定された前記蒸着用マスク１００の第１面の深さとの偏差は、前記有効領
域ＡＡで測定された前記蒸着用マスク１００の第２面の深さと前記非有効領域ＵＡで測定
された前記蒸着用マスク１００の第２面の深さとの偏差より小さくてもよい。前記蒸着用
マスク１００の第２面は前記第２面孔Ｖ２が形成される面であり、前記第１面に比べてエ
ッチング面積が大きいため、前記第１面に比べて深さ偏差が大きくなり得る。

すなわち、前記第１ブリッジ部ＢＲ１における前記第１面１０１は、前記非有効領域Ｕ
Ａにおける前記第１面１０１に対応する深さを有することができる。これによって、引張
による捩れを減少させることができる。

または、前記第１ブリッジ部ＢＲ１における前記第１面１０１は、前記非有効領域ＵＡ
における前記第１面１０１と異なる深さを有してもよい。このとき、前記第１ブリッジ部
ＢＲ１における前記第１面１０１は、前記非有効領域ＵＡにおける前記第１面１０１と向
かい合いつつ相互平行に配置され得る。これによって、引張による捩れを減少させること
ができる。

一例として、前記第１ブリッジ部ＢＲ１における前記第１面１０１は、前記非有効領域
ＵＡにおける前記第１面１０１と５μｍ未満の深さ差を有することができる。ただし、当
該数値は、深さ差が０μｍのものを含み、蒸着用マスクの厚さによって変わり得るので、
それに制限されない。

前記第２ブリッジ部ＢＲ２における前記第２面１０２は、前記非有効領域ＵＡにおける
前記第２面１０２に対応する深さを有することができる。これによって、引張による捩れ
を減少させることができる。

または、前記第２ブリッジ部ＢＲ２における前記第２面１０２は、前記非有効領域ＵＡ
における前記第２面１０２と異なる深さを有してもよい。このとき、前記第２ブリッジ部
ＢＲ２における前記第２面１０２は、前記非有効領域ＵＡにおける前記第２面１０２と向
かい合いつつ相互平行に配置され得る。これによって、引張による捩れを減少させること
ができる。

一例として、前記第２ブリッジ部ＢＲ２における前記第２面１０２は、前記非有効領域
ＵＡにおける前記第２面１０２と５μｍ未満の深さ差を有することができる。ただし、当
該数値は、深さ差が０μｍのものを含み、蒸着用マスクの厚さによって変わり得るので、
それに制限されない。

すなわち、実施例に係る蒸着用マスクは、引張による捩れが小さい構造を有し得るので
、均一な貫通ホールを形成することができ、よって、実施例に係る蒸着用マスクで作製し
たＯＬＥＤパネルは、パターンの蒸着効率に優れ、且つ蒸着均一性が向上し得る。

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。これらの実施例は本
発明をさらに詳しく説明するために例示として提示したものに過ぎない。したがって、本
発明がこれらの実施例に限定されるものではない。

＜実験例１：ｋ値による貫通ホールの均一性評価＞

前記の表１は、ｋ値による貫通ホールの均一性評価結果を示したものである。

基準ホールと隣接したホールとの大きさ偏差が±３μｍを超えるとき、不良と表示し、
基準ホールと隣接したホールとの大きさ偏差が±３μｍ以下であるとき、良好と表示した
。

前記表１を参照すると、ｋ値が０．６５以上のとき、貫通ホールの均一性が増加するこ
とが分かる。これによって、実施例に係る蒸着用マスクを用いて製造される有機物質パタ
ーンの蒸着効率が向上することが分かる。

一方、ｋ値が０．６５未満のとき、貫通ホールの均一性が減少するため、これを用いて
製造される有機物質パターンは互いに大きさが異なることがあり、ＯＬＥＤパネルの製造
収率が低下することがある。

＜実験例２：ｋ値による引張時の捩れ評価＞

前記の表２は、ｋ値による引張時の蒸着用マスクの捩れの評価結果を示したものである
。

この時、ｋ値は、蒸着用マスク試験片を０．７ｋｇｆで引っ張って、捩れを測定したも
のである。

前記蒸着用マスクの捩れによって、基板上に配置される有機物質間に重なりが発生した
り、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンの幅の偏差が不規則な場合、不良と表示し、基板上に配置される
有機物質間に重なりが発生しなく、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンの幅の偏差が規則的な場合、良好
と表示した。

前記の表２を参照すると、ｋ値が０．８以上のとき、引張時に蒸着用マスクの捩れが減
少し得るので、基板上に形成されるパターン層が重なり合うことを防止することができる
。

また、図１１を参照すると、ｋ値が０．８以上である実施例に係る蒸着用マスクは、Ｒ
、Ｇ、Ｂパターンが重ならず、Ｒ、Ｇ、Ｂパターン間の幅の偏差が規則的であることが分
かる。これによって、ＯＬＥＤパネルの製造収率を向上させることができる。

一方、ｋ値が０．８未満のとき、引張時に蒸着用マスクの捩れが増加することがあり、
これによって、基板上に形成されるパターン層が重なり合うことがある。

図１２を参照すると、ｋ値が０．８未満である比較例に係る蒸着用マスクは、Ｒ、Ｇ、
Ｂパターン間に重なりが発生し、ＯＬＥＤパネルの製造収率が低下することがある。

すなわち、実施例に係る蒸着用マスクは、ｋ値が０．８以上のとき、貫通ホールの均一
性が向上すると同時に、引張時に捩れを防止することができる。したがって、前記蒸着用
マスクを用いて製造されるＯＬＥＤパネルの蒸着効率及び工程効率を向上させることがで
きる。

上述した実施例に説明された特徴、構造、効果などは、本発明の少なくとも一つの実施
例に含まれ、必ずしも一つの実施例に限定されるわけではない。なお、各実施例で例示さ
れた特徴、構造、効果などは、実施例の属する分野における通常の知識を有する者によっ
て他の実施例に対しても組合せ又は変形されて実施可能である。したがって、このような
組合せと変形に関連する内容は本発明の範囲に含まれるものと解釈すべきである。

また、以上では実施例を中心に説明したが、これは単なる例示に過ぎず、本発明を限定
するものではなく、本発明の属する分野における通常の知識を有する者であれば、本実施
例の本質的な特性から逸脱しない範囲で、以上に例示されていない様々な変形及び応用が
可能であることが分かるだろう。例えば、実施例に具体的に表された各構成要素は、変形
して実施できるものである。そして、このような変形及び応用に関係する差異点は、添付
する特許請求の範囲で規定する本発明の範囲に含まれるものと解釈すべきであろう。

Claims (11)

1. 鉄‐ニッケル合金を含む金属板を含み、
   前記金属板は、複数個の貫通ホール及び前記複数個の貫通ホールの間のブリッジを含む
   有効領域と、前記有効領域の外周に配置される非有効領域とを含み、
   前記貫通ホールは、前記金属板の第１面上の第１面孔と、第２面上の第２面孔が連通す
   る連結部によって形成され、
   前記第２面上における前記第２面孔の幅は、前記第１面上における前記第１面孔の幅よ
   り大きく、
   前記金属板は、前記非有効領域に配置され、前記金属板の長さ方向の一端の近くに位置
   する第１溝と、前記金属板の前記長さ方向の他端の近くに位置する第２溝とを含み、
   前記第１溝の深さと前記第２溝の深さは、前記第１面孔の深さよりは大きく、前記第２
   面孔の深さよりは小さく、
   前記第１面孔の深さは、前記第１面から前記連結部までの深さであり、
   前記第２面孔の深さは、前記第２面から前記連結部までの深さであり、
   前記第１溝と前記第２溝は、前記金属板の前記第１面に形成され、
   前記第１溝と前記第２溝は、直線部及び前記直線部と連結される曲線部を含み、
   前記直線部は、前記有効領域と前記非有効領域との境界に位置した前記第２面孔の終端
   をつなぐ垂直方向の仮想の線と平行し、
   前記曲線部は、前記直線部の両端に連結され、前記直線部より水平方向の外側に形成さ
   れる、蒸着用マスク。
2. 前記第１面孔は、前記第１面上のオープン領域の角部が曲率を有し、
   前記角部のラウンド状の部分の曲率と同一の曲率を有する仮想の円の直径は、５μｍ～
   ２０μｍである、請求項１に記載の蒸着用マスク。
3. 前記金属板を０．７ｋｇｆの力で前記長さ方向に引っ張った際に、下記の式２によって
   計算されたねじれ指数αは、０．８５～１．１５である、請求項１または２に記載の蒸着
   用マスク。
   ＜式２＞
   α=２Ｂ／(ｄ１＋ｄ２)
   前記式２において、
   前記ｄ１は、前記第１溝と前記第１溝と隣接した有効領域との間の非有効領域で測定さ
   れた金属板の幅であり、
   前記ｄ２は、前記第２溝と前記第２溝と隣接した有効領域との間の非有効領域で測定さ
   れた金属板の幅であり、
   前記Ｂは、前記有効領域の中間地点で測定された金属板の幅である。
4. 前記金属板の厚さは、１０μｍ～３０μｍである、請求項１から３のいずれか一項に記
   載の蒸着用マスク。
5. 前記第１面孔の幅は、２０μｍ～５０μｍであり、
   前記第２面孔の幅は、５０μｍ～９０μｍであり、
   前記第１面孔の深さは、０．１μｍ～７μｍであり、
   前記第２面孔の深さは、２０μｍ～２５μｍである、請求項１から４のいずれか一項に
   記載の蒸着用マスク。
6. 前記ブリッジは、前記金属板の前記第１面上の前記第１面孔の間を支持する第１ブリッ
   ジ部と、前記金属板の前記第２面上の前記第２面孔の間を支持する第２ブリッジ部とを含
   み、
   前記第１面における前記第１ブリッジ部の幅は、前記第２面における前記第２ブリッジ
   部の幅より大きい、請求項１から５のいずれか一項に記載の蒸着用マスク。
7. 前記第１ブリッジ部の幅は、２０μｍ～５０μｍであり、
   前記第２ブリッジ部の幅は、０．５μｍ～７μｍである、請求項６に記載の蒸着用マス
   ク。
8. 前記第１面孔の深さと前記金属板の厚さの比率は、１：(３～３０)である、請求項１か
   ら７のいずれか一項に記載の蒸着用マスク。
9. 前記金属板の前記長さ方向の前記一端は、前記第１溝の方向に突出した第１突出部を含
   み、
   前記金属板の前記長さ方向の前記他端は、前記第２溝の方向に突出した第２突出部を含
   む、請求項１から８のいずれか一項に記載の蒸着用マスク。
10. 前記第１突出部の中央部の幅は、前記第１溝の中央部の幅より小さく、
    前記第２突出部の中央部の幅は、前記第１溝の中央部の幅より小さい、請求項９に記載
    の蒸着用マスク。
11. 前記第１溝と前記第２溝は、前記金属板の前記第１面にのみ形成される、請求項１から
    １０のいずれか一項に記載の蒸着用マスク。

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