JP2022019392A - 加工装置 - Google Patents
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Abstract
Description
該ハンドは、エアーの噴出によって負圧が発生し非接触でウエーハを支持するベルヌーイパッドであるのが好適である。
該ウエーハテーブルは、ウエーハの外周余剰領域を支持し外周余剰領域よりも内側の部分を非接触とする環状支持部と、該環状支持部の外周に配設されフレームを支持するフレーム支持部とを備えるのが好都合である。
該テープ貼着手段は、使用前のテープが巻かれたロールテープを支持するロールテープ支持部と、使用済みのテープを巻き取るテープ巻き取り部と、該ロールテープからテープを引き出すテープ引き出し部と、引き出されたテープをフレームに圧着する圧着部と、フレームの外周にはみ出したテープをフレームに沿って切断する切断部とを備えるのが望ましい。
該テープ圧着手段は、該ウエーハテーブルの上方に配設された上部チャンバーと、該ウエーハテーブルを収容した下部チャンバーと、該上部チャンバーを昇降させ該下部チャンバーに接触させた閉塞状態と該下部チャンバーから離反させた開放状態とを生成する昇降機構と、該閉塞状態で該上部チャンバーおよび該下部チャンバーを真空にする真空部と、該上部チャンバーおよび該下部チャンバーを大気に開放する大気開放部と、を備え、該ウエーハテーブルに支持されたウエーハの裏面にテープ付フレームのテープが位置づけられた状態で、該昇降機構を作動して該閉塞状態を維持しつつ該上部チャンバーおよび該下部チャンバーを真空にし、該上部チャンバーに配設された押圧ローラでテープ付フレームのテープをウエーハの裏面に圧着するのが好ましい。
該フレームユニット搬出手段は、ウエーハを保持するウエーハ保持部およびフレームを保持するフレーム保持部を含むフレームユニット保持部と、該フレームユニット保持部を仮置きテーブルに搬送する搬送部と、を備えるのが好適である。
該フレームユニット搬出手段は、該フレームユニット保持部を水平方向に二次元で移動する二次元移動機構と、該フレームユニット保持部に保持されたフレームユニットのウエーハの外周を撮像する撮像部と、を備え、該二次元移動機構を作動してウエーハの外周の少なくとも三ヶ所を該撮像部で撮像し、ウエーハの中心座標を求め、ウエーハの中心を該仮置きテーブルの中心と一致させるのが好都合である。
該補強部除去手段は、ウエーハの外周に形成されたリング状の補強部の付け根に向けてレーザー光線を照射して切断溝を形成するレーザー光線照射手段と、該仮置きテーブルに仮置きされたフレームユニットを保持し上昇させると共に該レーザー光線照射手段に位置づける第一の昇降テーブルと、該切断溝からリング状の補強部を分離する分離部とを備え、該分離部は、該切断溝に対応するテープに紫外線を照射してテープの粘着力を低減させる紫外線照射部と、リング状の補強部を外周に露出させてウエーハの内側を吸引保持すると共にフレームを支持する第二の昇降テーブルと、リング状の補強部の外周に作用してリング状の補強部を分離する分離器と、分離されたリング状の補強部が廃棄される廃棄部とを備え、該第一の昇降テーブルは該切断溝が形成されたフレームユニットを該仮置きテーブルに仮置きし、該仮置きテーブルは仮置きテーブル搬送部によって該分離部に位置づけられ、該第二の昇降テーブルが該仮置きテーブルに仮置きされたフレームユニットを支持するのが望ましい。
該仮置きテーブルはヒーターを備え、該第一の昇降テーブルはヒーターによってテープが加熱されリング状の補強部の付け根にテープが密着したフレームユニットを該仮置きテーブルから保持するのが好ましい。
該仮置きテーブルは、ウエーハの外周余剰領域を支持し外周余剰領域よりも内側の部分を非接触とする環状支持部と、該環状支持部の外周に配設されフレームを支持するフレーム支持部とを備えるのが好適である。該リング無しユニット搬出手段は、該第二の昇降テーブルに支持されたリング無しユニットに対面しフレームを保持するフレーム保持部を備え該フレームカセットテーブルに向かって移動すると共に該フレーム保持部を反転させる反転機構と、該反転機構によって反転しウエーハの表面が上を向いたリング無しユニットを支持するリング無しユニット支持部と、該リング無しユニット支持部に支持されたリング無しユニットを該フレームカセットテーブルに載置されたフレームカセットに進入させて収容する押し込み部とを備えるのが好都合である。
ると、Y軸送り手段によってY軸可動部材332をY軸方向に移動させることにより、リング無しユニット支持部310に支持されたリング無しユニットU’を押圧片338によってフレームカセットテーブル200に載置されたフレームカセット198に進入させて収容するようになっている。
4:ウエーハ
4a:ウエーハの表面
4b:ウエーハの裏面
6:ウエーハカセット
8:ウエーハカセットテーブル
10:ウエーハ搬出手段
12:ウエーハテーブル
20:外周余剰領域
24:補強部
56:環状支持部(ウエーハテーブル)
58:フレーム支持部(ウエーハテーブル)
64:フレーム
64a:開口部
64’:テープ付フレーム
66:フレーム収容手段
68:フレーム搬出手段
70:フレームテーブル
96:テープ
96R:ロールテープ
98:テープ貼着手段
100:テープ付フレーム搬送手段
102:テープ圧着手段
104:ロールテープ支持部
106:テープ巻き取り部
108:テープ引き出し部
110:圧着部
112:切断部
160:上部チャンバー
162:下部チャンバー
164:昇降機構
166:真空部
168:大気開放部
192:フレームユニット搬出手段
194:補強部除去手段
196:リング無しユニット搬出手段
198:フレームカセット
200:フレームカセットテーブル
202:フレームユニット保持部
202a:ウエーハ保持部
202b:フレーム保持部
204:仮置きテーブル
206:搬送部
224:撮像部
232:仮置きテーブル搬送部
244:レーザー光線照射手段
246:第一の昇降テーブル
248:分離部
256:切断溝
270:紫外線照射部
272:第二の昇降テーブル
274:分離器
276:廃棄部
306:フレーム保持部
308:反転機構
310:リング無しユニット支持部
312:押し込み部
U:フレームユニット
U’:リング無しユニット
Claims (12)
- 外周余剰領域に対応する裏面にリング状の補強部が凸状に形成されたウエーハから凸状の補強部を除去する加工装置であって、
複数のウエーハが収容されたウエーハカセットが載置されるウエーハカセットテーブルと、
該ウエーハカセットテーブルに載置されたウエーハカセットからウエーハを搬出するウエーハ搬出手段と、
該ウエーハ搬出手段によって搬出されたウエーハの表面側を支持するウエーハテーブルと、
ウエーハを収容する開口部が形成されたリング状のフレームを複数収容するフレーム収容手段と、
該フレーム収容手段からフレームを搬出するフレーム搬出手段と、
該フレーム搬出手段によって搬出されたフレームを支持するフレームテーブルと、
該フレームテーブルの上方に配設されフレームにテープを貼着するテープ貼着手段と、
テープが貼着されたフレームを該ウエーハテーブルまで搬送し該ウエーハテーブルに支持されたウエーハの裏面にフレームの開口部を位置づけてテープ付フレームを該ウエーハテーブルに載置するテープ付フレーム搬送手段と、
テープ付フレームのテープをウエーハの裏面に圧着するテープ圧着手段と、
該テープ圧着手段によってテープ付フレームのテープとウエーハの裏面とが圧着されたフレームユニットを該ウエーハテーブルから搬出するフレームユニット搬出手段と、
該フレームユニット搬出手段によって搬出されたフレームユニットのウエーハからリング状の補強部を切断し除去する補強部除去手段と、
リング状の補強部が除去されたリング無しユニットを該補強部除去手段から搬出するリング無しユニット搬出手段と、
該リング無しユニット搬出手段によって搬出されたリング無しユニットを収容するフレームカセットが載置されるフレームカセットテーブルと、
を含む加工装置。 - 該ウエーハ搬出手段は、搬送アームと、該搬送アームの先端に配設されウエーハカセットに収容されたウエーハの裏面を支持しウエーハの表裏を反転させるハンドと、を備える請求項1記載の加工装置。
- 該ハンドは、エアーの噴出によって負圧が発生し非接触でウエーハを支持するベルヌーイパッドである請求項2記載の加工装置。
- 該ウエーハテーブルは、ウエーハの外周余剰領域を支持し外周余剰領域よりも内側の部分を非接触とする環状支持部と、該環状支持部の外周に配設されフレームを支持するフレーム支持部とを備える請求項1記載の加工装置。
- 該テープ貼着手段は、使用前のテープが巻かれたロールテープを支持するロールテープ支持部と、使用済みのテープを巻き取るテープ巻き取り部と、該ロールテープからテープを引き出すテープ引き出し部と、引き出されたテープをフレームに圧着する圧着部と、フレームの外周にはみ出したテープをフレームに沿って切断する切断部とを備える請求項1記載の加工装置。
- 該テープ圧着手段は、該ウエーハテーブルの上方に配設された上部チャンバーと、該ウエーハテーブルを収容した下部チャンバーと、該上部チャンバーを昇降させ該下部チャンバーに接触させた閉塞状態と該下部チャンバーから離反させた開放状態とを生成する昇降機構と、該閉塞状態で該上部チャンバーおよび該下部チャンバーを真空にする真空部と、該上部チャンバーおよび該下部チャンバーを大気に開放する大気開放部と、を備え、
該ウエーハテーブルに支持されたウエーハの裏面にテープ付フレームのテープが位置づけられた状態で、該昇降機構を作動して該閉塞状態を維持しつつ該上部チャンバーおよび該下部チャンバーを真空にし、該上部チャンバーに配設された押圧ローラでテープ付フレームのテープをウエーハの裏面に圧着する請求項1記載の加工装置。 - 該フレームユニット搬出手段は、ウエーハを保持するウエーハ保持部およびフレームを保持するフレーム保持部を含むフレームユニット保持部と、該フレームユニット保持部を仮置きテーブルに搬送する搬送部と、を備える請求項1記載の加工装置。
- 該フレームユニット搬出手段は、該フレームユニット保持部を水平方向に二次元で移動する二次元移動機構と、該フレームユニット保持部に保持されたフレームユニットのウエーハの外周を撮像する撮像部と、を備え、
該二次元移動機構を作動してウエーハの外周の少なくとも三ヶ所を該撮像部で撮像し、ウエーハの中心座標を求め、ウエーハの中心を該仮置きテーブルの中心と一致させる請求項7記載の加工装置。 - 該補強部除去手段は、ウエーハの外周に形成されたリング状の補強部の付け根に向けてレーザー光線を照射して切断溝を形成するレーザー光線照射手段と、該仮置きテーブルに仮置きされたフレームユニットを保持し上昇させると共に該レーザー光線照射手段に位置づける第一の昇降テーブルと、該切断溝からリング状の補強部を分離する分離部とを備え、
該分離部は、該切断溝に対応するテープに紫外線を照射してテープの粘着力を低減させる紫外線照射部と、リング状の補強部を外周に露出させてウエーハの内側を吸引保持すると共にフレームを支持する第二の昇降テーブルと、リング状の補強部の外周に作用してリング状の補強部を分離する分離器と、分離されたリング状の補強部が廃棄される廃棄部とを備え、
該第一の昇降テーブルは該切断溝が形成されたフレームユニットを該仮置きテーブルに仮置きし、該仮置きテーブルは仮置きテーブル搬送部によって該分離部に位置づけられ、該第二の昇降テーブルが該仮置きテーブルに仮置きされたフレームユニットを支持する請求項7記載の加工装置。 - 該仮置きテーブルはヒーターを備え、該第一の昇降テーブルはヒーターによってテープが加熱されリング状の補強部の付け根にテープが密着したフレームユニットを該仮置きテーブルから保持する請求項9記載の加工装置。
- 該仮置きテーブルは、ウエーハの外周余剰領域を支持し外周余剰領域よりも内側の部分を非接触とする環状支持部と、該環状支持部の外周に配設されフレームを支持するフレーム支持部とを備える請求項9記載の加工装置。
- 該リング無しユニット搬出手段は、該第二の昇降テーブルに支持されたリング無しユニットに対面しフレームを保持するフレーム保持部を備え該フレームカセットテーブルに向かって移動すると共に該フレーム保持部を反転させる反転機構と、該反転機構によって反転しウエーハの表面が上を向いたリング無しユニットを支持するリング無しユニット支持部と、該リング無しユニット支持部に支持されたリング無しユニットを該フレームカセットテーブルに載置されたフレームカセットに進入させて収容する押し込み部とを備える請求項10記載の加工装置。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20230140371A (ko) | 2022-03-29 | 2023-10-06 | 가부시기가이샤 디스코 | 텐션 확인 방법 및 테이프 첩착 장치 |
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Families Citing this family (7)
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---|---|---|---|---|
JP7324667B2 (ja) * | 2019-09-20 | 2023-08-10 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
KR20220038214A (ko) * | 2020-09-18 | 2022-03-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 수리 장치 및 그것을 이용한 마스크 수리 방법 |
KR20220048938A (ko) * | 2020-10-13 | 2022-04-20 | 가부시기가이샤 디스코 | 레이저 가공 장치 |
JP2022122205A (ja) * | 2021-02-09 | 2022-08-22 | 株式会社ディスコ | シートの貼着装置 |
JP2022128193A (ja) | 2021-02-22 | 2022-09-01 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
CN115101631B (zh) * | 2022-07-06 | 2024-01-19 | 威海众达信息科技有限公司 | 一种能够快速精准定位的焊盘膜剥离装置 |
CN115377045B (zh) * | 2022-10-25 | 2023-03-24 | 四川晶辉半导体有限公司 | 一种引线框架焊盘及固焊装置 |
Family Cites Families (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6672358B2 (en) * | 1998-11-06 | 2004-01-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Sample processing system |
JP2003152058A (ja) * | 2001-11-13 | 2003-05-23 | Lintec Corp | ウェハ転写装置 |
JP4201564B2 (ja) * | 2001-12-03 | 2008-12-24 | 日東電工株式会社 | 半導体ウエハ搬送方法およびこれを用いた半導体ウエハ搬送装置 |
JP2006156633A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Lintec Corp | 脆質部材の処理装置 |
JP4741331B2 (ja) | 2005-09-29 | 2011-08-03 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
JP2007214357A (ja) | 2006-02-09 | 2007-08-23 | Nitto Denko Corp | ワーク貼付け支持方法およびこれを用いたワーク貼付け支持装置 |
JP2007235069A (ja) * | 2006-03-03 | 2007-09-13 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ加工方法 |
JP2007266352A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法 |
JP5065637B2 (ja) | 2006-08-23 | 2012-11-07 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
JP5111938B2 (ja) * | 2007-05-25 | 2013-01-09 | 日東電工株式会社 | 半導体ウエハの保持方法 |
JP2009064801A (ja) * | 2007-09-04 | 2009-03-26 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハ |
JP4964107B2 (ja) * | 2007-12-03 | 2012-06-27 | 東京応化工業株式会社 | 剥離装置 |
JP2010062375A (ja) | 2008-09-04 | 2010-03-18 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法 |
JP5543812B2 (ja) | 2010-03-23 | 2014-07-09 | 日東電工株式会社 | 粘着テープ貼付け方法および粘着テープ貼付け装置 |
US8758552B2 (en) * | 2010-06-07 | 2014-06-24 | Skyworks Solutions, Inc. | Debonders and related devices and methods for semiconductor fabrication |
JP5654810B2 (ja) * | 2010-09-10 | 2015-01-14 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
JP5893887B2 (ja) * | 2011-10-11 | 2016-03-23 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP2013157381A (ja) | 2012-01-27 | 2013-08-15 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウェーハ処理装置 |
JP5992803B2 (ja) | 2012-11-07 | 2016-09-14 | リンテック株式会社 | シート貼付装置及び貼付方法 |
JP2014165217A (ja) * | 2013-02-21 | 2014-09-08 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置および剥離システム |
US9206037B2 (en) * | 2014-03-04 | 2015-12-08 | Disco Corporation | MEMS device chip manufacturing method |
JP6128050B2 (ja) * | 2014-04-25 | 2017-05-17 | トヨタ自動車株式会社 | 非接触型搬送ハンド |
JP6385131B2 (ja) * | 2014-05-13 | 2018-09-05 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
JP6366351B2 (ja) * | 2014-05-13 | 2018-08-01 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
JP6375209B2 (ja) | 2014-11-10 | 2018-08-15 | 日東電工株式会社 | 粘着テープ貼付け方法および粘着テープ貼付け装置 |
JP6672053B2 (ja) * | 2016-04-18 | 2020-03-25 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
CN110476224B (zh) * | 2017-04-07 | 2023-06-09 | 三菱电机株式会社 | 半导体的制造方法 |
JP6976745B2 (ja) * | 2017-06-30 | 2021-12-08 | 株式会社ディスコ | ウエーハ生成装置 |
JP2019012773A (ja) * | 2017-06-30 | 2019-01-24 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
JP7030497B2 (ja) * | 2017-12-13 | 2022-03-07 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置、基板処理装置の制御方法、プログラムを格納した記憶媒体 |
US12044962B2 (en) * | 2019-04-19 | 2024-07-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Forming apparatus, forming method, and article manufacturing method |
US11427412B2 (en) * | 2019-05-09 | 2022-08-30 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Substrate conveying robot and substrate conveying method |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20230140371A (ko) | 2022-03-29 | 2023-10-06 | 가부시기가이샤 디스코 | 텐션 확인 방법 및 테이프 첩착 장치 |
DE102023210935A1 (de) | 2022-11-11 | 2024-05-16 | Disco Corporation | Band-anhaftvorrichtung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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