JP2021503683A - フローティングソースメモリ構造体の検出方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (45)
- 共通ビット線を共有する複数のメモリセルであって、それぞれが共通ソース線とワード線に関連する前記複数のメモリセルのうちのあるメモリセルに記憶されている情報を取得する方法であって、
前記共通ビット線および関連する前記共通ソース線を、電源電圧とグランドの間の所定の電圧に初期化するステップと、
前記共通ビット線および関連する前記共通ソース線の少なくとも一方を所定の電圧から偏位させることにより、関連する前記共通ソース線と前記共通ビット線との間の電圧分離を行うステップと、
関連する前記ワード線において、前記メモリセルに記憶された情報に対応する導電状態にするための読み出し電圧を前記メモリセルに与えるステップと、
検出回路を使用し、関連する前記ワード線の前記読み出し電圧の結果として生じる、関連する前記共通ソース線への電荷の流れまたは前記共通ソース線からの電荷の流れを検出することによって、導電状態を決定するステップとを含む方法。 - 前記所定の電圧が、実質上前記電源電圧またはグランドである、請求項1に記載の方法。
- 前記共通ビット線が、選択装置または回路を介して外部回路からアクセス可能であり、前記共通ビット線を初期化する前記所定の電圧が前記外部回路から供給される、請求項1に記載の方法。
- 関連する前記共通ソース線が、互いに電気的に絶縁され、かつそれぞれ前記外部回路から電気的に絶縁された複数の共通ソース線のうちの1つであり、関連する前記共通ソース線のみまたはすべての前記共通ソース線が、前記共通ビット線との接続の活性化により、前記所定の電圧に初期化される、請求項3に記載の方法。
- 前記接続が、1または複数の指定された前記メモリセルによって実施される、請求項4に記載の方法。
- 前記検出回路が、前記電荷の流れの後に、前記共通ビット線上の電圧に基づいて、前記記憶された情報を決定する、請求項4に記載の方法。
- 前記検出回路が、前記共通ビット線上の電圧が判別レベルを超えるか否かを検出する、請求項6に記載の方法。
- 前記所定の電圧が、前記判別レベルよりも高い前記電源電圧に実質的に等しい、請求項7に記載の方法。
- 前記所定の電圧と前記電荷の流れに起因する前記共通ビット線上の電圧の両方が、前記判別レベルよりも低い、請求項7に記載の方法。
- 前記検出回路が、前記ワード線上に前記読み出し電圧が供給されてから所定の期間内に、前記共通ビット線上の電圧が判別レベルを超えるか否かを検出する、請求項6に記載の方法。
- 前記電圧分離が、関連する前記共通ソース線と前記ワード線の所定のセットにおける前記共通ソース線との間の容量結合の結果として、関連する前記共通ソース線の電位の変化によって行われる、請求項4に記載の方法。
- 前記電荷の流れが、関連する前記共通ソース線の電位の変化の後の所定の回復時間の後に起こる、請求項11に記載の方法。
- 前記共通ビット線は、導電性半導体材料の層上に形成される、請求項11に記載の方法。
- 前記共通ビット線を共有するメモリセルの数が、前記共通ソース線のいずれか1つに関連付けられたメモリセルの数よりも多い、請求項13に記載の方法。
- 前記ワード線の所定のセット内の第1グループが、関連する前記共通ソース線に関連付けられ、前記ワード線の所定のセット内の第2グループが、関連する前記共通ソース線以外の共通ソース線に関連付けられ、前記電位の変化が、前記ワード線の前記第1グループ内の電位の変化によって少なくとも部分的に達成される、請求項14に記載の方法。
- ワード線の前記第1グループの電位の変化が、関連する前記共通ソース線と前記共通ビット線との間の前記電圧分離を提供する、請求項15に記載の方法。
- 選択装置が前記検出回路の入力端子を一方向導電モードで選択メモリセルの前記共通ビット線に接続し、ワード線の前記第2グループ内の電位の変化が、前記共通ビット線と前記検出回路の前記入力端子の間の前記一方向導電モードを中断させる、請求項14に記載の方法。
- ワード線の前記第2グループ内の電位のさらなる変化が、前記共通ビット線と前記検出回路の入力端子の間の前記一方向導電モードを復元する、請求項17に記載の方法。
- ワード線の前記第2グループ内の電位の変化が等振幅である、請求項17に記載の方法。
- 前記振幅が、グランドに対する電源電圧に等しい、請求項19に記載の方法。
- 前記判別レベルが電源電圧以下のPMOSしきい値電圧である、請求項7に記載の方法。
- 前記入力端子が、PMOSトランジスタを有する前記検出回路の入力部分に接続され、前記検出回路の判別レベルが前記PMOSトランジスタのしきい値電圧に対応する、請求項17に記載の方法。
- 前記検出回路が2つのデジタルCMOS出力レベルのうちの1つを出力として提供し、前記デジタルCMOS出力レベルがグランドまたは前記電源電圧のいずれかである、請求項22に記載の方法。
- 前記検出回路の出力として前記デジタルCMOS出力レベルのうちの1つを提供するため、電荷共有を有効にする前に、前記検出回路の入力端子を、電源レベルを含むしきい値電圧よりも高い電圧レベルに強制するステップをさらに含む、請求項23に記載の方法。
- 較正された遅延の後に、前記検出回路の前記入力端子の電圧が、電荷の流れによって判別レベルを超え、前記検出回路の出力として前記デジタルCMOS出力レベルの他の1つを変化させる、請求項24に記載の方法。
- 前記判別レベルが、前記電源電圧よりも小さく、かつグランドよりも大きい電圧である、請求項22に記載の方法。
- 前記検出回路がオペアンプを有する、請求項26に記載の方法。
- 前記検出回路が差動アンプを有する、請求項26に記載の方法。
- 前記検出回路が、前記電荷の流れが安定する前であって、前記共通ビット線上の電圧が判別点を超えた後に、前記記憶された情報を決定する、請求項6に記載の方法。
- 前記所定の電圧が、実質的にNMOSトランジスタのしきい値電圧を差し引いた電圧である、請求項5に記載の方法。
- 前記メモリセルがメモリストリングに編成されており、前記選択されたメモリセルが前記メモリストリングの1つに含まれており、前記選択装置が、前記選択されたメモリセルを含む前記メモリストリングに前記検出回路の入力端子を一方向導電モードで接続している、請求項29または30に記載の方法。
- 各前記メモリストリングのメモリセルが並列に接続されている、請求項31に記載の方法。
- 前記共通ビット線を共有するメモリセルの数が、関連する共通ソース線に関連するメモリセルの数に等しい、請求項1に記載の方法。
- 共通ソース線と共通ビット線を共有する複数のメモリセルのうち、アドレス指定されたメモリセルに記憶された情報を取得する方法であって、前記共通ビット線が、選択装置または回路によって検出回路の入力端子に選択的に接続されており、前記各メモリセルが、複数のワード線のうちのワード線に関連付けられており、
前記共通ビット線を前記検出回路の入力端子に一時的に接続し、前記共通ビット線と前記共通ソース線を1以上の指定されたトランジスタに一時的に接続することにより、前記共通ビット線と前記共通ソース線の両方を電源電圧とグランドの間の第1電圧に初期化するステップと、
指定されたトランジスタを非導電状態にし、前記共通ビット線を前記共通ソース線から切断することで、前記共通ソース線を前記第1電圧について浮動させるステップと、
前記選択装置または回路を使用して、前記共通ビット線に第2電圧を印加し、前記検出回路の入力端子に第3電圧を印加することで、前記共通ビット線と前記共通ソース線との間に異なった電圧を生じさせ、前記第3電圧と前記第2電圧が異なるようにするステップと、
前記アドレス指定されたメモリセルに関連付けられた前記ワード線上の読み出し電圧を提供して、前記アドレス指定されたメモリセルを前記アドレス指定されたメモリセルに記憶された情報に対応する導電状態にすることで、前記共通ソース線と前記共通ビット線の容量間の電荷の流れを可能とするステップと、
前記電荷の流れの検出に基づいて、前記アドレス指定されたメモリセルの導電状態を決定するステップとを含む方法。 - 前記選択装置または回路が、前記共通ビット線に接続されたソース端子を有するMOSトランジスタを有し、前記第2電圧が前記MOSトランジスタのゲート端子と前記共通ソース線との間のダイオード接続によって維持される、請求項34に記載の方法。
- フローティング共通ソース線が、前記検出回路の判別レベルよりも低い電圧を有する、請求項34に記載の方法。
- 好ましい電圧が、隣接する導体との容量結合によってフローティング共通ソース線内で生成される、請求項34に記載の方法。
- 前記フローティング共通ソース線は、前記検出回路の判別レベルよりも低い電圧を有する、請求項37に記載の方法。
- 前記アドレス指定されたメモリセルの導電状態が、前記検出回路の入力端子における電圧スイングによって決定される、請求項34に記載の方法。
- 前記アドレス指定されたメモリセルの導電状態が導通状態であるとき、前記検出回路の入力端子における前記電圧スイングの振幅が判別レベルを超える、請求項39に記載の方法。
- 外部の前記検出回路の前記入力端子の電圧スイングが、基準時間内に前記判別レベルを超える、請求項40に記載の方法。
- 前記基準時間が特定の場所で作成される、請求項41に記載の方法。
- 前記複数のメモリセルがNOR型メモリストリングを有するメモリセルであり、前記基準期間が、前記NOR型メモリストリングの前記アドレス指定されたメモリセルの位置に応じて変化することがある、請求項41に記載の方法。
- 基準時間が環境条件に応じて変化する、請求項40に記載の方法。
- 前記環境条件が温度と電源電圧を含む、請求項44に記載の方法。
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Cited By (1)
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EP3642841A4 (en) * | 2017-06-20 | 2021-07-28 | Sunrise Memory Corporation | 3-DIMENSIONAL NOR MEMORY ARCHITECTURE AND MANUFACTURING PROCESS FOR IT |
CN111684525B (zh) * | 2017-11-17 | 2024-04-16 | 日升存储公司 | 浮动源极存储器架构中的感测 |
US11201069B2 (en) | 2019-09-24 | 2021-12-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor device |
KR20210035446A (ko) | 2019-09-24 | 2021-04-01 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0757482A (ja) * | 1993-08-10 | 1995-03-03 | Hitachi Ltd | 半導体不揮発性記憶装置 |
JP2008021781A (ja) * | 2006-07-12 | 2008-01-31 | Unisantis Electronics Japan Ltd | 不揮発性半導体メモリ及びその駆動方法 |
US20170148517A1 (en) * | 2015-11-25 | 2017-05-25 | Eli Harari | Three-dimensional vertical nor flash thin film transistor strings |
JP2019504479A (ja) * | 2015-11-25 | 2019-02-14 | サンライズ メモリー コーポレイション | 3次元垂直norフラッシュ薄膜トランジスタストリング |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3884448B2 (ja) * | 2004-05-17 | 2007-02-21 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
DE10357786B3 (de) | 2003-12-10 | 2005-05-19 | Infineon Technologies Ag | Vorladungsanordnung für Lesezugriff für integrierte nicht-flüchtige Speicher |
US8681558B2 (en) * | 2009-10-07 | 2014-03-25 | Spansion Llc | Parallel bitline nonvolatile memory employing channel-based processing technology |
US9082500B1 (en) | 2014-01-10 | 2015-07-14 | Ememory Technology Inc. | Non-volatile memory |
JP6613630B2 (ja) | 2015-06-01 | 2019-12-04 | 凸版印刷株式会社 | 半導体集積回路 |
US10121553B2 (en) * | 2015-09-30 | 2018-11-06 | Sunrise Memory Corporation | Capacitive-coupled non-volatile thin-film transistor NOR strings in three-dimensional arrays |
CN111684525B (zh) * | 2017-11-17 | 2024-04-16 | 日升存储公司 | 浮动源极存储器架构中的感测 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0757482A (ja) * | 1993-08-10 | 1995-03-03 | Hitachi Ltd | 半導体不揮発性記憶装置 |
JP2008021781A (ja) * | 2006-07-12 | 2008-01-31 | Unisantis Electronics Japan Ltd | 不揮発性半導体メモリ及びその駆動方法 |
US20170148517A1 (en) * | 2015-11-25 | 2017-05-25 | Eli Harari | Three-dimensional vertical nor flash thin film transistor strings |
JP2019504479A (ja) * | 2015-11-25 | 2019-02-14 | サンライズ メモリー コーポレイション | 3次元垂直norフラッシュ薄膜トランジスタストリング |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023105763A1 (ja) * | 2021-12-10 | 2023-06-15 | キオクシア株式会社 | メモリデバイス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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