JP2021183689A - 重合性組成物 - Google Patents

Abstract

【課題】防汚性および機械的強度（例えば、耐擦傷性）に優れたフィルムを与えることができる重合性組成物の提供。【解決手段】（Ａ）アルキレンオキシド基および（メタ）アクリル基を有し、アルキレンオキシド当量が１００未満であり、（メタ）アクリル当量が２００未満であり、同一の重合性基を２つ以上有する化合物、（Ｂ）分子量が１４０以上３５０以下であり、アルキレンオキシド基を有さず、（メタ）アクリル基を有し、（メタ）アクリル当量が１３７以下であり、炭素−炭素二重結合を２つ以上有する化合物、（Ｃ）フルオロ（ポリ）エーテル基を有し、炭素−炭素二重結合を１つ以上有する化合物、および（Ｄ）重合開始剤を含み、前記重合性組成物の合計質量に対し、前記（Ａ）１．８質量％〜９８質量％、前記（Ｂ）１．８質量％〜９８質量％、前記（Ｃ）０．１質量％〜１０質量％、前記（Ｄ）０．１質量％〜１０質量％である、重合性組成物。【選択図】図１

Description

本開示は、重合性組成物に関する。

可視光波長以下の微細な凹凸構造を表面に有するフィルムは、反射防止フィルムとして利用されることが知られている。このような凹凸構造の表面においては、入射光に対して空気層から屈折率が連続的に変化するために、反射光を劇的に減少させることができる。特許文献１および２には、このような微細な凹凸構造を表面に有するフィルムが開示されている。

国際公開第２０１８／１９８７６８号 特開２０１９−６４０５６号

上記のようなフィルムは、その表面の凹凸構造により優れた反射防止性を有する。一方で、上記のようなフィルムにおいては、表面に指紋（皮脂）等の汚れが付着すると、凹凸構造に沿って汚れが広がりやすく、また、汚れが凹部に入り込むために汚れを拭き取ることが困難であるという問題がある。さらに、表面に付着した汚れを拭き取る際に、凹凸構造が崩れ、反射防止性が損されるという問題もある。このような汚れが付着した部位や凹凸構造が崩れた部位は、正常部位の反射率との差異が大きくなるため、目視でもその部位が容易に視認できる。

従って、本開示は、防汚性（例えば、指紋拭き取り性）および機械的強度（例えば、耐擦傷性）に優れたフィルムを与えることができる重合性組成物を提供することを目的とする。

本開示は、以下の態様を含む。
［１］ 重合性組成物であって、
（Ａ）アルキレンオキシド基および（メタ）アクリル基を有し、アルキレンオキシド当量が１００未満であり、（メタ）アクリル当量が２００未満であり、同一の重合性基を２つ以上有する化合物、
（Ｂ）分子量が１４０以上３５０以下であり、アルキレンオキシド基を有さず、（メタ）アクリル基を有し、（メタ）アクリル当量が１３７以下であり、炭素−炭素二重結合を２つ以上有する化合物、
（Ｃ）フルオロ（ポリ）エーテル基を有し、炭素−炭素二重結合を１つ以上有する化合物、および
（Ｄ）重合開始剤
を含み、
前記重合性組成物の合計質量に対し、
前記（Ａ）の含有量が１．８質量％〜９８質量％であり、
前記（Ｂ）の含有量が１．８質量％〜９８質量％であり、
前記（Ｃ）の含有量が０．１質量％〜１０質量％であり、
前記（Ｄ）の含有量が０．１質量％〜１０質量％である、
重合性組成物。
［２］ 成分（Ａ）の化合物は、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエチレングリコールジアクリレート、ヘキサエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ペンタエチレングリコールジメタクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレートおよびエチレンオキサイド１２モル変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートからなる群から選択される、上記［１］に記載の重合性組成物。
［３］ 成分（Ｂ）の化合物は、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、グリセリンジアクリレート、グリセリンジメタクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリントリメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイル−オキシプロピルメタクリレート、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビスアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビスアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’，Ｎ”−トリアクリロイルジエチレントリアミン、１，３，５−トリアクリロイルヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジンおよび１，３，５−トリメタクリロイルヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジンからなる群から選択される、上記［１］または［２］に記載の重合性組成物。
［４］ 成分（Ｃ）の化合物は、一般式（Ａ１）、（Ａ２）および（Ａ３）のいずれか：

［式中、Ｒｆは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し、
Ｒ^１は、フルオロ（ポリ）エーテル基であり、
Ｒ^２は、下記式：
−（Ｑ）_ｈ−（ＣＦＺ）_ｉ−（ＣＨ_２）_ｊ−
（式中、Ｑは、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ^ａ−（式中、Ｒ^ａは、水素原子または有機基を表す）または２価の極性基を表し、Ｚは、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表し、ｈ、ｉおよびｊはそれぞれ独立して０以上５０以下の整数であって、ｈ、ｉおよびｊの和は少なくとも１であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり、
Ｒ^３は、２価の有機基を表し、
Ｒ^４は、各出現において、それぞれ独立して、Ｒ^４ａまたはＲ^４ｂを表し：ただし、少なくとも１つのＲ^４はＲ^４ａであり、
Ｒ^４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、硬化性部位を有する２価の有機基を表し、
Ｒ^４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、硬化性部位を有しない２価の有機基を表し、
ｎ１は、１以上５０以下の整数であり、
Ｒ^５は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−または単結合を表し、
Ｒ^６は、Ｒｆ−Ｒ^１−Ｒ^２（式中、Ｒｆ、Ｒ^１、およびＲ^２は、上記と同意義である）、１価の有機基または水素原子を表し、
Ｒ^７は、環構造、ヘテロ原子および／または官能基を有してもよい（ｎ２＋ｎ３）価の有機基を表し、
Ｒ^８は、２価の有機基を表し、
Ｘ^１は、水素原子、塩素原子、フッ素原子、またはフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表し、
ｎ２は、１以上３以下の整数であり、
ｎ３は、１以上３以下の整数である。］
で表される化合物である、上記［１］〜［３］のいずれか１項に記載の重合性組成物。
［５］ 成分（Ｃ）の化合物は、一般式（１）または（２）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
Ｒ^Ｆ２は、−Ｒｆ^２ _ｐ−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基であり；
Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
Ｒ^Ｄは、各出現においてそれぞれ独立して、炭素−炭素二重結合を含む基であり；
αは、１〜９の整数であり；
βは、１〜９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数である。］
で表される化合物である、上記［１］〜［３］のいずれか１項に記載の重合性組成物。
［６］ 支持体と、
複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する重合体層と
を含む積層体であって、
前記重合体層は、上記［１］に記載の重合性組成物の硬化物である、積層体。
［７］ 前記重合体層の厚みは、１μｍ以上２０μｍ以下である、上記［６］に記載の積層体。
［８］ 前記重合体層の表面に存在する複数の凸部のピッチは、２０ｎｍ以上４００ｎｍ以下である、上記［６］または上記［７］のいずれか１項に記載の積層体。
［９］ 前記重合体層の表面に存在する複数の凸部の高さは、５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である、上記［６］〜［８］のいずれか１項に記載の積層体。
［１０］ 前記重合体層の表面に存在する複数の凸部のアスペクト比は、０．１３以上２５以下である、上記［６］〜［９］のいずれか１項に記載の積層体。
［１１］ 上記［６］〜［１０］のいずれか１項に記載の積層体を含む、反射防止フィルム。
［１２］ 上記［６］〜［１１］のいずれか１項に記載の積層体の製造方法であって、
（１）上記［１］〜［４］のいずれか１項に記載の重合性組成物を、支持体の表面上に塗布して、重合性組成物層を形成する工程、
（２）前記重合性組成物層を金型に押しあてて、重合性組成物層の表面に凹凸構造を形成する工程、
（３）前記凹凸構造を表面に有する重合性組成物層を硬化させて重合体層を形成する工程、および
（４）金型を重合体層から剥離する工程
を含む、製造方法。

本開示によれば、優れた防汚性および機械的強度を有するフィルムを与えることができる重合性組成物が提供される。

図１は、本開示の一の態様における積層体の断面図である。 図２は、本開示の別の態様における積層体の断面図である。 図３は、本開示の積層体の製造方法における工程１を説明する図である。 図４は、本開示の積層体の製造方法における工程２を説明する図である。 図５は、本開示の積層体の製造方法における工程４を説明する図である。

（重合性組成物）
本開示の重合性組成物は、下記成分（Ａ）〜（Ｄ）：
（Ａ）アルキレンオキシド基および（メタ）アクリル基を有し、アルキレンオキシド当量が１００未満であり、（メタ）アクリル当量が２００未満であり、同一の重合性基を２つ以上有する化合物
（Ｂ）分子量が１４０〜３５０であり、アルキレンオキシド基を有さず、（メタ）アクリル基を有し、（メタ）アクリル当量が１３７以下であり、炭素−炭素二重結合を２つ以上有する化合物
（Ｃ）フルオロ（ポリ）エーテル基を有し、炭素−炭素二重結合を１つ以上有する化合物
（Ｄ）重合開始剤
を含み、当該重合性組成物の合計質量に対し、
上記成分（Ａ）の含有量は、１．８質量％〜９８質量％であり、
上記成分（Ｂ）の含有量は、１．８質量％〜９８質量％であり、
上記成分（Ｃ）の含有量は、０．１質量％〜１０質量％であり、
上記成分（Ｄ）の含有量は、０．１質量％〜１０質量％である。

（成分（Ａ））
上記成分（Ａ）は、アルキレンオキシド基および（メタ）アクリル基を有し、アルキレンオキシド当量が１００未満であり、（メタ）アクリル当量が２００未満であり、同一の重合性基を２つ以上有する化合物（以下、「化合物（Ａ）」ともいう）である。

上記化合物（Ａ）は、いわゆる活性エネルギー線硬化性単量体であり得る。化合物（Ａ）は、アルキレンオキシド基を有することにより、硬化物に適度な柔軟性を付与することができ、かつ同一の重合性基を２つ以上有することにより、硬化物に適度な硬度を付与することができ、その結果、耐擦傷性に優れる重合体層を形成し得る。

上記アルキレンオキシド基とは、−（Ｃ_ｎＨ_２ｎ）Ｏ−で表される基である。式中、ｎは、好ましくは１〜１０の整数であり、より好ましくは１〜４の整数、さらに好ましくは２〜３の整数であり得る。１つの化合物に複数のアルキレンオキシド基が含まれる場合、アルキレンオキシド基は、同じであっても異なっていてもよい。

上記アルキレンオキシド等量とは、アルキレンオキシド基１モルあたりの化合物の質量であり、化合物の分子量を化合物分子内のアルキレンオキシド基の数で除して得られる。

上記化合物（Ａ）において、アルキレンオキシド等量は、１００未満であり、好ましくは６０〜９８、より好ましくは７０〜９７、さらに好ましくは７５〜９６であり得る。化合物（Ａ）が上記の範囲のアルキレンオキシド等量を有することにより、硬化物に適度な柔軟性を付与することができる。

上記（メタ）アクリル基とは、アクリル基およびメタクリル基を包含し、ＣＨ_２＝ＣＨＲ−ＣＯ−で表される基である。式中、Ｒは水素原子またはメチル基である。

上記アクリル当量とは、（メタ）アクリル基１モルあたりの化合物の質量であり、化合物の分子量を化合物分子内の（メタ）アクリル基の数で除して得られる。

上記化合物（Ａ）において、（メタ）アクリル等量は、２００未満であり、好ましくは１００〜１９５、より好ましくは１２５〜１９０、さらに好ましくは１２８〜１８６であり得る。化合物（Ａ）が上記の範囲の（メタ）アクリル等量を有することにより、硬化物に適度な硬度を付与することができる。

上記重合性基とは、重合開始剤から発生する活性ラジカル等によって重合反応に関与し得る基である。当該重合性基としては、炭素−炭素二重結合を有する基、例えば（メタ）アクリル基、ビニル基、ビニルオキシ基、イソプロペニル基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。好ましい態様において、重合性基は、（メタ）アクリル基であり得る。

上記化合物（Ａ）は、上記重合性基を有する。当該重合性基は、１種であっても２種以上であってもよい。化合物（Ａ）は、同一の重合性基を、分子内に少なくとも２つ有する。一の態様において、化合物（Ａ）は、同一の重合性基を、分子内に２〜１０、好ましくは２〜６有する。

上記化合物（Ａ）の分子量は、特に限定されないが、好ましくは２００〜２，５００、より好ましくは２５０〜１，５００であり得る。

好ましい態様において、上記化合物（Ａ）は、下記の式で表される化合物であり得る。
ＣＨ_２＝ＣＨＲ^１１−ＣＯ−Ｏ（Ｃ_ｎＨ_２ｎＯ）_ｍ−ＣＯ−ＣＨＲ^１１＝ＣＨ_２
ＣＲ^１２ _ｘＲ^１３ _４−ｘ
Ｏ｛−Ｃ_ａＨ_２ａ−ＣＲ^１２ _ｙＲ^１３ _３−ｙ｝_２
［式中、
Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水素原子またはＣ_１−３アルキル基であり、
Ｒ^１２は、それぞれ独立して、−（Ｃ_ｎＨ_２ｎＯ）_ｍ−ＣＯ−ＣＨＲ^１１＝ＣＨ_２であり、
Ｒ^１３は、それぞれ独立して、水素原子または−Ｃ_ｂＨ_２ｂ−Ｒ^１４であり、
Ｒ^１４は、それぞれ独立して、水素原子または水酸基であり、
ｍは、それぞれ独立して、１〜６の整数であり、
ｎは、（Ｃ_ｎＨ_２ｎＯ）単位毎にそれぞれ独立して、１〜６の整数であり、
ａは、１〜６の整数であり、
ｂは、１〜６の整数であり、
ｘは、２〜４の整数であり、
ｙは、１〜３の整数であり、
アルキレンオキシド当量が１００未満であり、
（メタ）アクリル当量が２００未満であり、
同一の重合性基を２つ以上有する。］

好ましい態様において、上記式中：
Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基であり、
Ｒ^１２は、それぞれ独立して、−（Ｃ_ｎＨ_２ｎＯ）_ｍ−ＣＯ−ＣＨＲ^１１＝ＣＨ_２であり、

Ｒ^１３は、それぞれ独立して、水素原子または−（Ｃ_ｂＨ_２ｂ）−Ｒ^１４であり、
Ｒ^１４は、それぞれ独立して、水素原子または水酸基であり、
ｍは、それぞれ独立して、１〜６の整数であり、
ｎは、（Ｃ_ｎＨ_２ｎＯ）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数、より好ましくは１〜２の整数であり、
ａは、１〜３の整数、より好ましくは１〜２の整数であり、
ｂは、１〜６の整数、より好ましくは１〜２の整数であり、
ｘは、３〜４の整数であり、
ｙは、２〜３の整数である。

上記化合物（Ａ）としては、特に限定されないが、例えば、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエチレングリコールジアクリレート、ヘキサエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ペンタエチレングリコールジメタクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレート、エチレンオキサイド１２モル変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。

上記化合物（Ａ）は、例えば、ブレンマー（登録商標）ＡＤＥ−２００（日油株式会社）、ブレンマー（登録商標）ＰＤＥ−１５０（日油株式会社）、ブレンマー（登録商標）ＰＤＥ−２００（日油株式会社）、Ａ−２００（新中村化学工業株式会社）、ファンクリル（登録商標）ＦＡ−２２０Ｍ（日立化成株式会社）、ライトアクリレート（登録商標）３ＥＧ−Ａ（共栄社化学株式会社）、ライトアクリレート４ＥＧ−Ａ（共栄社化学株式会社）、ライトエステル（登録商標）３ＥＧ（共栄社化学株式会社）、ライトエステル（登録商標）４ＥＧ（共栄社化学株式会社）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＥＡ−１２（日本化薬株式会社）、アロニックス（登録商標）Ｍ−２４０（東亞合成株式会社）等として入手可能である。

上記成分（Ａ）として、上記化合物（Ａ）を、単独で用いてもよく、２種以上の混合物として用いてもよい。

上記重合性組成物の合計質量に対する成分（Ａ）の含有量は、１．８質量％〜９８質量％であり、好ましくは１０質量％〜９５質量％であり得る。成分（Ａ）の含有量を上記の範囲にすることにより、耐擦傷性が向上する。ここに、「重合性組成物の合計質量」とは、溶剤を除く不揮発成分の合計質量をいい、典型的には、成分（Ａ）〜（Ｄ）および下記する他の成分の合計質量である。

（成分（Ｂ））
上記成分（Ｂ）は、分子量が１４０〜３５０であり、アルキレンオキシド基を有さず、（メタ）アクリル基を有し、（メタ）アクリル当量が１３７以下であり、炭素−炭素二重結合を２つ以上有する化合物（以下、「化合物（Ｂ）」ともいう）である。

上記化合物（Ｂ）は、いわゆる活性エネルギー線硬化性単量体であり得る。化合物（Ｂ）は、重合体層と支持体との密着性を向上させ、かつ炭素−炭素二重結合を２つ以上有することにより、硬化物に適度な硬度を付与することができ、その結果、耐擦傷性に優れる重合体層を形成し得る。

上記化合物（Ｂ）は、アルキレンオキシド基を有しない。アルキレンオキシド基を有しないことにより、硬化物に適度な硬度を付与することができる。

上記化合物（Ｂ）における（メタ）アクリル基は、上記化合物（Ａ）について記載した（メタ）アクリル基と同意義である。上記化合物（Ａ）における（メタ）アクリル基と、上記化合物（Ｂ）における（メタ）アクリル基は、同じであっても、異なっていてもよい。

上記化合物（Ｂ）において、（メタ）アクリル等量は、１３７以下であり、好ましくは５０〜１２０、より好ましくは７０〜１０５、さらに好ましくは７６〜１０１であり得る。化合物（Ｂ）が上記の範囲の（メタ）アクリル等量を有することにより、硬化物に適度な硬度を付与することができる。

上記化合物（Ｂ）は、炭素−炭素二重結合を２つ以上、好ましくは２〜１０、より好ましくは２〜６、さらに好ましくは２〜３有する。当該炭素−炭素二重結合は、上記重合性基として含まれていてもよい。かかる重合性基は、１種であっても２種以上であってもよい。

上記化合物（Ｂ）の分子量は、１４０〜３５０であり、好ましくは１４５〜３３０、より好ましくは１５０〜３００、さらに好ましくは１５３〜２９９であり得る。

好ましい態様において、上記化合物（Ｂ）は、下記の式で表される化合物であり得る。
ＣＨ_２＝ＣＨＲ^１１−ＣＯ−Ｏ（Ｃ_ｎＨ_２ｎＯ）_ｍ−ＣＯ−ＣＨＲ^１１＝ＣＨ_２
ＣＲ^１２ _ｘＲ^１３ _４−ｘ
Ｏ｛−Ｃ_ａＨ_２ａ−ＣＲ^１２ _ｙＲ^１３ _３−ｙ｝_２
ＣＨ_２＝ＣＨＲ^１１−ＣＯ−ＮＨ−（Ｃ_ｃＨ_２ｃ）−ＮＨ−ＣＯ−ＣＨＲ^１１＝ＣＨ_２
Ｒ^１５−ＮＨ−（Ｃ_ｄＨ_２ｄ）−ＮＲ^１５−（Ｃ_ｄＨ_２ｄ）−ＮＨ−Ｒ^１５
（３価のトリアジン環）Ｒ^２０ _ｚＲ^２１ _３−ｚ
［式中、
Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水素原子またはＣ_１−３アルキル基であり、
Ｒ^１２は、それぞれ独立して、−（Ｃ_ｎＨ_２ｎＯ）_ｍ−ＣＯ−ＣＨＲ^１１＝ＣＨ_２であり、
Ｒ^１３は、それぞれ独立して、水素原子または−Ｃ_ｂＨ_２ｂ−Ｒ^１４であり、
Ｒ^１４は、それぞれ独立して、水素原子または水酸基であり、
Ｒ^１５は、水素原子または−ＣＯ−ＣＨＲ^１１＝ＣＨ_２であり、
Ｒ^２０は、−ＣＯ−ＣＨＲ^１１＝ＣＨ_２であり、
Ｒ^２１は、水素原子であり、
ｍは、それぞれ独立して、１〜６の整数であり、
ｎは、（Ｃ_ｎＨ_２ｎＯ）単位毎にそれぞれ独立して、１〜６の整数であり、
ａは、１〜６の整数であり、
ｂは、１〜６の整数であり、
ｃは、１〜６の整数であり、
ｄは、それぞれ独立して、１〜６の整数であり、
ｘは、２〜４の整数であり、
ｙは、１〜３の整数であり、
ｚは、２〜３の整数であり、
分子量が１４０以上３５０以下であり、
アルキレンオキシド基を有さず、
（メタ）アクリル当量が１３７以下であり、
炭素−炭素二重結合を２つ以上有する。］

好ましい態様において、上記式中：
Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基であり、
Ｒ^１２は、それぞれ独立して、−（Ｃ_ｎＨ_２ｎＯ）_ｍ−ＣＯ−ＣＨＲ^１１＝ＣＨ_２であり、

Ｒ^１３は、それぞれ独立して、水素原子または−（Ｃ_ｂＨ_２ｂ）−Ｒ^１４であり、
Ｒ^１４は、それぞれ独立して、水素原子または水酸基であり、
Ｒ^１５は、水素原子または−ＣＯ−ＣＨＲ^１１＝ＣＨ_２であり、
Ｒ^２０は、−ＣＯ−ＣＨＲ^１１＝ＣＨ_２であり、
Ｒ^２１は、水素原子であり、
ｍは、それぞれ独立して、１〜６の整数であり、
ｎは、（Ｃ_ｎＨ_２ｎＯ）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数、より好ましくは１〜２の整数であり、
ａは、１〜３の整数、より好ましくは１〜２の整数であり、
ｂは、１〜６の整数、より好ましくは１〜２の整数であり、
ｃは、１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｄは、１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｘは、３〜４の整数であり、
ｙは、２〜３の整数であり、
ｚは、２〜３の整数である。

上記化合物（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、グリセリンジアクリレート、グリセリンジメタクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリントリメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイル−オキシプロピルメタクリレート、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビスアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビスアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’，Ｎ”−トリアクリロイルジエチレントリアミン、１，３，５−トリアクリロイルヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリメタクリロイルヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。

上記化合物（Ｂ）は、ブレンマーＧＭＲ−Ｍ（日油株式会社）、ブレンマーＧＭＲ−Ｒ（日油株式会社）、ブレンマーＧＡＭ（日油株式会社）、ブレンマーＧＡＭ−Ｒ（日油株式会社）、Ａ−ＴＭＭ−３（新中村化学工業株式会社）、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ（新中村化学工業株式会社）、Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ（新中村化学工業株式会社）、Ａ−ＴＭＰＴ（新中村化学工業株式会社）、ＴＭＰＴ（新中村化学工業株式会社）、７０１Ａ（新中村化学工業株式会社）、７０１（新中村化学工業株式会社）、ライトアクリレートＰＥ−３Ａ（共栄社化学株式会社）、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ（共栄社化学株式会社）、ライトエステルＴＭＰ（共栄社化学株式会社）、ライトエステルＧ−２０１Ｐ（共栄社化学株式会社）、ライトエステルＧ−１０１Ｐ（共栄社化学株式会社）、ＦＡＭ−３０１（富士フィルム株式会社）、アロニックスＭ−３０９（東亞合成株式会社）、アロニックスＭ−３０５（東亞合成株式会社）、アロニックスＭ−３０６（東亞合成株式会社）、アロニックスＭ−９２０（東亞合成株式会社）、アロニックスＭ−９３０（東亞合成株式会社）等として入手可能である。

上記成分（Ｂ）として、上記化合物（Ｂ）を、単独で用いてもよく、２種以上の混合物として用いてもよい。

上記重合性組成物の合計質量に対する成分（Ｂ）の含有量は、１．８質量％〜９８質量％以下であり、好ましくは１０質量％〜９５質量％であり得る。成分（Ｂ）の含有量を１．８質量％以上とすることにより、重合体層の基材への密着性が向上し、９８質量％以下とすることにより、耐擦傷性が向上する。

（成分（Ｃ））
上記成分（Ｃ）は、フルオロ（ポリ）エーテル基を有し、炭素−炭素二重結合を１つ以上有する化合物（以下、「化合物（Ｃ）」ともいう）である。

上記化合物（Ｃ）は、いわゆる活性エネルギー線硬化性単量体であり得る。化合物（Ｃ）は、重合体層に、指紋拭き取り性、撥水性、撥油性、撥液性、防汚性等の機能を付与する。

上記フルオロ（ポリ）エーテル基は、好ましくは、下記式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
［式中、Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。

好ましい態様において、上記フルオロ（ポリ）エーテル基は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基である。即ち、Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０〜１００の整数であってもよい。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下または３０以下であってもよい。

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよい。例えば、上記繰り返し単位は、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよい。−（ＯＣ_５Ｆ_１０）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよい。−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよい。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−（即ち、上記式中、Ｒ^Ｆａはフッ素原子である）は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよい。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよい。

一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。上記繰り返し単位を直鎖状とすることにより、表面処理層の表面滑り性、摩擦耐久性等を向上させることができる。

一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状である。上記繰り返し単位を分枝鎖状とすることにより、表面処理層の動摩擦係数を大きくすることができる。

一の態様において、フルオロ（ポリ）エーテル基は、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）〜（ｆ５）のいずれかで表される基である。
−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ− （ｆ１）
［式中、ｄは、１〜２００の整数であり、ｅは０または１である。］；
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｇ− （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２〜１００の整数である。］；
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５〜２００、より好ましくは１０〜１００、さらに好ましくは１５〜５０、例えば２５〜３５の整数である。一の態様において、ｅは０である。別の態様において、ｅは１である。上記式（ｆ１）は、好ましくは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−または−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ−で表される基であり、より好ましくは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−で表される基である。

上記式（ｆ２）において、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０〜２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−で表される基であってもよい。

上記式（ｆ３）において、Ｒ^６は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ−または−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ−である。

上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

一の態様において、上記フルオロ（ポリ）エーテル基は、上記式（ｆ１）で表される基である。

一の態様において、上記フルオロ（ポリ）エーテル基は、上記式（ｆ２）で表される基である。

一の態様において、上記フルオロ（ポリ）エーテル基は、上記式（ｆ３）で表される基である。

一の態様において、上記フルオロ（ポリ）エーテル基は、上記式（ｆ４）で表される基である。

一の態様において、上記フルオロ（ポリ）エーテル基は、上記式（ｆ５）で表される基である。

上記フルオロ（ポリ）エーテル基において、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１〜１０であり、好ましくは０．２〜５であり、より好ましくは０．２〜２であり、さらに好ましくは０．２〜１．５であり、さらにより好ましくは０．２〜０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２〜０．９５であり、より好ましくは０．２〜０．９である。

一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは１．０以上であり、より好ましくは１．０〜２．０である。

一の態様において、上記化合物（Ｃ）は、（ａ１）イソシアネート基（−ＮＣＯ基）を有する化合物及び（ｂ１）活性水素を有する化合物を反応させて得られる化合物であり得る。

［（ａ１）イソシアネート基（−ＮＣＯ基）を有する化合物］
化合物（ａ１）であるイソシアネート基を有する化合物は、例えば、ポリイソシアネートを挙げることができる。本明細書において、ポリイソシアネートとは、分子内にイソシアネート基を２個以上有する化合物を意味する。化合物（ａ１）は、ジイソシアネートを三量体化することにより得られるポリイソシアネートであってもよい。かかるジイソシアネートを三量体化することにより得られるポリイソシアネートは、トリイソシアネートであり得る。ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートは、これらが重合した重合体として存在してもよい。

ジイソシアネートとしては、特に限定されないが、トリメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート等のイソシアネート基が脂肪族基に結合したジイソシアネート；トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等のイソシアネート基が芳香族基に結合したジイソシアネートが挙げられる。

好ましい実施形態において、化合物（ａ１）は、イソシアヌレート型ポリイソシアネートであり得る。当該イソシアヌレート型ポリイソシアネートは、これらが重合した重合体として存在してもよい。即ち、イソシアヌレート型ポリイソシアネートは、イソシアヌレート環を１つのみ有する単環式化合物であってもよく、又はこの単環式化合物が重合して得られる多環式化合物、あるいはこれらの混合物であってもよい。かかるイソシアヌレート型ポリイソシアネートは、例えば、スミジュール（登録商標）Ｎ３３００（住友バイエルウレタン株式会社製）として市販されている。

具体的なポリイソシアネートとしては、特に限定するものではないが、下記の構造を有する化合物が挙げられる。

これらのポリイソシアネートは重合体として存在してもよく、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型ポリイソシアネートである場合、下記構造を有する重合体として存在してもよい。

［（ｂ１）活性水素を有する化合物］
化合物（ｂ１）は、下記の２成分：
（ｂ１−１）活性水素とパーフルオロポリエーテル基とを有する化合物、及び
（ｂ１−２）活性水素と炭素−炭素二重結合とを含むモノマー、
を含むことが好ましい。化合物（ｂ１）は、さらに（ｂ１−３）他の活性水素を有する化合物を含むことがより好ましい。

本明細書において「活性水素」とは、イソシアネート基にプロトンとして供与され得る水素原子を意味する。活性水素を含有する基は、例えば、−ＯＨ基、−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ基、−ＳＨ基、−ＳＯ_３Ｈ基、−ＳＯ_２Ｈ基、−ＳＯＨ基、−ＮＨ_２基、−ＮＨ−基又は−ＳｉＨ基等が挙げられる。例えば、化合物（ｂ１）に含まれる活性水素が−ＯＨ基の場合、化合物（ａ１）と化合物（ｂ１）とが反応すると、ウレタン結合が形成される。

化合物（ｂ１）と化合物（ａ１）とは、化合物（ｂ１）中の活性水素のモル数が、化合物（ａ１）中のイソシアネート基のモル数と等しいことが好ましい。例えば、化合物（ｂ１）の有する活性水素を有する官能基が１つである場合、化合物（ｂ１）のモル数と化合物（ａ１）中のイソシアネート基のモル数とが等しくなることが好ましい。

［（ｂ１−１）活性水素とパーフルオロポリエーテル基とを有する化合物］
化合物（ｂ１−１）は、活性水素とパーフルオロポリエーテル基とを含む化合物であり、例えば、パーフルオロポリエーテル基に加えて、１つの分子末端に１つの活性水素を含有する基、例えば水酸基を有するか、あるいは２つの末端のそれぞれに１つの水酸基を有する化合物であり得る。パーフルオロポリエーテル基については上記したため、重複する記載は省略する。

化合物（ｂ１−１）は、特に限定されないが、５００〜１２，０００、好ましくは１，０００〜１０，０００、より好ましくは１，５００〜８，０００の数平均分子量を有する。なお、本発明において「平均分子量」は数平均分子量を言い、「平均分子量」は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

好ましくは、化合物（ｂ１−１）は、以下の一般式（ｂ１−１−ｉ）及び（ｂ１−１−ｉｉ）のいずれか：
Ｒｆ^１−ＰＦＰＥ−Ｒ^１−ＣＨ_２ＯＨ （ｂ１−１−ｉ）
ＨＯＣＨ_２−Ｒ^１−ＰＦＰＥ−Ｒ^１−ＣＨ_２ＯＨ （ｂ１−１−ｉｉ）
で表される少なくとも１種の化合物であり得る。ここで、ＰＦＰＥは、上記したとおりである。

上記式（ｂ１−１−ｉ）及び（ｂ１−１−ｉｉ）中、Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６の（例えば、直鎖又は分枝鎖の）アルキル基を表し、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜３の直鎖又は分枝鎖のアルキル基である。好ましくは、Ｒｆ^１は直鎖である。また、好ましくは、上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいアルキル基は、末端炭素原子がＣＦ_２Ｈ−であり他のすべての炭素原子がフッ素により全置換されているフルオロアルキル基又はパーフルオロアルキル基であり、より好ましくはパーフルオロアルキル基であり、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、又は−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式（ｂ１−１−ｉ）及び（ｂ１−１−ｉｉ）中、Ｒ^１は、それぞれ独立して、以下の式：
−（Ｙ）_ｆ−（ＣＦ_２）_ｇ−（ＣＨ_２）_ｈ−
で表される基である。この式中、Ｙは二価の極性基である。この二価の極性基の例としては、特に限定されないが、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＳ−、−ＳＣＯ−、−Ｏ−、等が挙げられ、好ましくは−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ−、−Ｏ−である。またこの式中、ｆ、ｇ及びｈは、それぞれ独立して、０〜５０、好ましくは０〜２０、例えば１〜２０の整数であって、ｆ、ｇ及びｈの和は少なくとも１、好ましくは１〜１０である。ｆ、ｇ及びｈは０〜２の整数であることが一層好ましく、ｆ＝０又は１、ｇ＝２、ｈ＝０又は１であることがより一層好ましい。また、添字ｆ、ｇ及びｈを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

好ましい態様において、化合物（ｂ１−１）は、上記式（ｂ１−１−ｉ）で表される化合物である。
Ｒｆ^１−ＰＦＰＥ−Ｒ^１−ＣＨ_２ＯＨ （ｂ１−１−ｉ）

［（ｂ１−２）活性水素と炭素−炭素二重結合とを含むモノマー］
活性水素と炭素−炭素二重結合を有するモノマー（ｂ１−２）は、活性水素、特に水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステル又はビニルモノマーであることが好ましい。モノマー（ｂ１−２）の具体例としては、
ＨＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２）_ｉＯＣＯ（Ｒ^１８）Ｃ＝ＣＨ_２
（式中、Ｒ^１８は水素原子、塩素原子、フッ素原子、又はフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、ｉ＝１〜１０）、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート；
ＣＨ_３ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ^１８）Ｃ＝ＣＨ_２
（式中、Ｒ^１８は水素原子、塩素原子、フッ素原子、又はフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基）、例えば、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；
ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ^１８）Ｃ＝ＣＨ_２
（式中、Ｒ^１８は水素原子、塩素原子、フッ素原子、又はフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基）、例えば、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート；
Ｃ_６Ｈ_５ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ^１８）Ｃ＝ＣＨ_２
（式中、Ｒ^１８は水素原子、塩素原子、フッ素原子、又はフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基）、例えば、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート；
ＨＯＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ^１８）Ｃ＝ＣＨ_２）_３
（式中、Ｒ^１８は水素原子、塩素原子、フッ素原子、又はフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基）、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート；
Ｃ（ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ^１８）Ｃ＝ＣＨ_２）_３ＣＨ_２ＯＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ^１８）Ｃ＝ＣＨ_２）_２ＣＨ_２ＯＨ
（式中、Ｒ^１８は水素原子、塩素原子、フッ素原子、又はフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基）、例えば、ジペンタエリスリトールポリアクリレート；
ＨＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣ_６Ｈ_４ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ^１８）Ｃ＝ＣＨ_２
（式中、Ｒ^１８は水素原子、塩素原子、フッ素原子、又はフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基）、例えば、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸；
Ｈ（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｎ１１ＯＣＯ（Ｒ^１８）Ｃ＝ＣＨ_２
（式中、ｎ１１は１〜３０、Ｒ^１８は水素原子、塩素原子、フッ素原子、又はフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基）、例えば、ポリ（エチレングリコール）アクリレート；
Ｈ（ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２）_ｎ１１ＯＣＯ（Ｒ^１８）Ｃ＝ＣＨ_２
（式中、ｎ１１は１〜３０、Ｒ^１８は水素原子、塩素原子、フッ素原子、又はフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基）、例えばポリ（プロピレングリコール）アクリレート
ＨＯ（ＣＨ_２）_ｋＣＨ＝ＣＨ_２
（ｋ＝１〜２０）；
（ＣＨ_３）_３ＳｉＣＨ（ＯＨ）ＣＨ＝ＣＨ_２；及び
スチリルフェノール、が挙げられる。

［（ｂ１−３）他の活性水素を有する化合物］
他の活性水素を有する化合物（ｂ１−３）は、パーフルオルオロポリエーテル基及び炭素−炭素二重結合の両方を有さず、少なくとも１つの活性水素を有する化合物であることが好ましい。化合物（ｂ１−３）は、１つの分子末端に１つの活性水素含有基、例えば水酸基を有するか、あるいは２つの末端のそれぞれに１つの活性水素含有基、例えば水酸基を有する化合物であり得る。化合物（ｂ１−３）の好ましい例は、
炭素数１〜１６の直鎖状あるいは分枝鎖状炭化水素からなる１価のアルコール、
炭素数１から１６の直鎖状あるいは分枝鎖状炭化水素からなる２級アミン、
芳香族基を有する２級アミン、
Ｒｆアルコール；Ｑ（ＣＦ_２）_ｌ（ＣＨ＝ＣＨ）_ｍ（ＣＨＩ）_ｎ（ＣＨ_２）_ｏＯＨ（Ｑは水素原子、フッ素原子、（ＣＦ_３）_２ＣＦ−基であり、ｌは１〜１０の整数、ｍ、ｎはそれぞれ独立して０又は１、ｏは１〜１０の整数）、
ポリアルキレングリコールモノエステル；例えば、Ｒ^３（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｐＯＨ、Ｒ^３（ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２）_ｑＯＨ（Ｒ^３は炭素数１から１６の直鎖状又は分枝鎖状炭化水素あるいはアセチル基あるいはアルキルフェノキシ基であり、ｐ，ｑはそれぞれ独立して１から２０の整数）、
芳香族アルコール、
活性水素を有するシラン化合物、を挙げることができる。

活性水素を有するシラン化合物の具体例としては、（ＣＨ_３）_３Ｓｉ（ＣＨ_２）_ｓ１ＯＨ（ｓ１は１から２０の整数）及び以下に示す構造を有する化合物を挙げることができる。

化合物（ｂ１−３）の活性水素を有するシラン化合物は、特に限定されないが、１００〜２０，０００、好ましくは５００〜１５，０００、より好ましくは８００〜１２，０００の数平均分子量を有していてもよい。

上記式（ｂ１−３−ｉ）及び（ｂ１−３−ｉｉ）中、Ｒ^１１、Ｒ^１８、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立して、アルキル基又はアリール基である。

上記アルキル基としては、特に限定されるものではないが、炭素数１〜１０のアルキル基、及び炭素数３〜２０のシクロアルキル基が挙げられ、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基である。当該アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは、直鎖である。好ましい具体的としては、Ｒ^１１に関してはｎ−ブチル基であり、Ｒ^１８〜Ｒ^１５に関してはメチル基である。

上記アリール基としては、特に限定されるものではないが、炭素数６〜２０のアリール基が挙げられる。当該アリール基は、２個又はそれ以上の環を含んでいてもよい。好ましいアリール基は、フェニル基である。

上記アルキル基及びアリール基は、所望により、その分子鎖又は環中に、ヘテロ原子、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含有していてもよい。

さらに、上記アルキル基及びアリール基は、所望により、ハロゲン；１個又はそれ以上のハロゲンにより置換されていてもよい、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_３−１０シクロアルキル基、Ｃ_３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６−１０アリール基、５〜１０員のヘテロアリール基から選択される、１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

上記式（ｂ１−３−ｉ）及び（ｂ１−３−ｉｉ）中、Ｒ^１６は、２価の有機基を表す。好ましくは、Ｒ^１６は、−（ＣＨ_２）_ｒ−（式中、ｒは１〜２０の整数、好ましくは１〜１０の整数である）である。

上記式（ｂ１−３−ｉ）及び（ｂ１−３−ｉｉ）中、ｌ１及びｎ１は、それぞれ独立して、０又は１であり；ｍ１は、１〜５００の整数、好ましくは１〜２００、より好ましくは５〜１５０の整数であり；ｏ１は、０〜２０の整数、例えば１〜２０の整数であり、ｐ１は０又は１である。

上記式（ｂ１−３−ｉ）で示される具体的な化合物としては、例えば、下記の化合物が挙げられる。

また、化合物（ｂ１−３）は、活性水素含有基として、アミノ基を有するシラン化合物であってもよい。かかる化合物としては、限定するものではないが、例えば、以下のものが挙げられる。ここで、ｍは、１〜５００である。

化合物（ｂ１−１）、（ｂ１−２）及び（ｂ１−３）は、（Ａ）中のイソシアネート基９モルに対し、それぞれ０．１〜２モル、５〜８．８５モル及び０．０５〜２モルの範囲にあってもよい。

一態様において成分（Ａ）は、化合物（ａ１）のイソシアネート基由来の部分である−ＮＨＣ（＝Ｏ）−と、化合物（ｂ１）の活性水素が脱離した部分とが結合した構造を含むことが好ましい。成分（Ａ）は、Ｒ_ｘ１−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−構造、及びＲ_ｘ２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−構造を含むことがより好ましい。ここで、Ｃ（＝Ｏ）はカルボニル基を示す。例えば、Ｒ_ｘ１は、Ｒｆ^１−ＰＦＰＥ−Ｒ^１−ＣＨ_２Ｏ−、又はＨＯＣＨ_２−Ｒ^１−ＰＦＰＥ−Ｒ^１−ＣＨ_２Ｏ−であり、Ｒ_ｘ２は、以下の式で表される構造；
ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１８）ＣＯＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２）_ｉＯ−、
ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１８）ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ−、
ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１８）ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）Ｏ−、
ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１８）ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＯＣ_６Ｈ_５）Ｏ−、
（ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１８）ＣＯＯＣＨ_２）_３ＣＣＨ_２Ｏ−、
Ｃ（ＣＨ_２ＣＯＯ（Ｒ^１８）Ｃ＝ＣＨ_２）_３ＣＨ_２ＯＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ^１８）Ｃ＝ＣＨ_２）_２ＣＨ_２Ｏ−、
ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１８）ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣ_６Ｈ_４ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、
ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１８）ＣＯＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ１１−、
ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１８）ＣＯＯ（ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ）_ｎ１１−、
ＣＨ_２＝ＣＨ（ＣＨ_２）_ｋＯ−、
ＣＨ_２＝ＣＨＣＨ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_３）Ｏ−、又は
Ａｒ−Ｐｈ−Ｏ−のいずれかを有する。ここで、Ｐｈは水素原子の一部が置換されていてもよいベンゼン環であり、Ａｒは少なくともスチリル基を有する構造である。Ｒ^１、Ｒ^１８、Ｒｆ^１ _、ｎ１１、ｉ、ｋ、及びＰＦＰＥは上記したとおりである。

本態様の成分（Ａ）の具体的な構造としては、限定するものではないが、例えば以下に示すようなものを挙げることができる。

ここで、Ｒ_ｘ１１、Ｒ_ｘ１２及びＲ_ｘ１３は、互いに独立して、Ｒ_ｘ１、Ｒ_ｘ２又はＲ_ｘ３であり、Ｒ_ｘ１１、Ｒ_ｘ１２及びＲ_ｘ１３の少なくとも１つはＲ_ｘ１であり、Ｒ_ｘ１１、Ｒ_ｘ１２及びＲ_ｘ１３の少なくとも１つはＲ_ｘ２である。Ｒ_ｙ１、Ｒ_ｙ２及びＲ_ｙ３は、互いに独立して、炭素数１〜１０のアルキレン基、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｎ５−（式中、ｎ５は１〜１０の整数であり、好ましくは３〜６の整数、代表的には６である）又は以下に示す構造である。ここで、＊は接合手を示す。Ｒ_ｘ１及びＲ_ｘ２は上記の通りである。Ｒ_ｘ３は、化合物（ｂ１−３）の活性水素が脱離した構造である。

一の態様において、上記化合物（Ｃ）は、一般式（Ａ１）、（Ａ２）および（Ａ３）のいずれか：

［式中、Ｒｆは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し、
Ｒ^１は、フルオロ（ポリ）エーテル基であり、
Ｒ^２は、下記式：
−（Ｑ）_ｈ−（ＣＦＺ）_ｉ−（ＣＨ_２）_ｊ−
（式中、Ｑは、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ^ａ−（式中、Ｒ^ａは、水素原子または有機基を表す）または２価の極性基を表し、Ｚは、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表し、ｈ、ｉおよびｊはそれぞれ独立して０以上５０以下の整数であって、ｈ、ｉおよびｊの和は少なくとも１であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり、
Ｒ^３は、２価の有機基を表し、
Ｒ^４は、各出現において、それぞれ独立して、Ｒ^４ａまたはＲ^４ｂを表し：ただし、少なくとも１つのＲ^４はＲ^４ａであり、
Ｒ^４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、硬化性部位を有する２価の有機基を表し、
Ｒ^４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、硬化性部位を有しない２価の有機基を表し、
ｎ１は、１以上５０以下の整数であり、
Ｒ^５は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−または単結合を表し、
Ｒ^６は、Ｒｆ−Ｒ^１−Ｒ^２（式中、Ｒｆ、Ｒ^１、およびＲ^２は、上記と同意義である）、１価の有機基または水素原子を表し、
Ｒ^７は、環構造、ヘテロ原子および／または官能基を有してもよい（ｎ２＋ｎ３）価の有機基を表し、
Ｒ^８は、２価の有機基を表し、
Ｘ^１は、水素原子、塩素原子、フッ素原子、またはフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表し、
ｎ２は、１以上３以下の整数であり、
ｎ３は、１以上３以下の整数である。］
で表される化合物であってもよい。

本明細書中、特に記載が無い限り、「アルキル基」としては、例えば、炭素数１〜１２（好ましくは１〜６、より好ましくは１〜３、更に好ましくは１）のアルキル基（例、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基）が挙げられる。当該「アルキル基」は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは、直鎖状である。

本明細書中、特に記載が無い限り、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基を意味する。当該「炭化水素基」としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。なお、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。

本明細書中、特に記載が無い限り、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されるものではないが、例えば、ハロゲン；１個またはそれ以上のハロゲンにより置換されていてもよい、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_３−１０シクロアルキル基、Ｃ_３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６−１０アリール基、５〜１０員のヘテロアリール基等が挙げられる。

本明細書中、特に記載が無い限り、「有機基」または「１価の有機基」とは、炭素を含有する基を意味する。当該「有機基」または「１価の有機基」としては、特に限定されるものではないが、上記炭化水素基が挙げられる。また、「２価の有機基」とは、「１価の有機基」からさらに１個の水素原子を除去することによって誘導される２価の基を意味する。

上記式（Ａ１）および（Ａ３）中、Ｒｆは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい直鎖または分枝鎖の炭素数１〜１６のアルキル基であり、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい直鎖または分枝鎖の炭素数１〜３のアルキル基、より好ましくは１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい直鎖の炭素数１〜３のアルキル基である。好ましくは、上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいアルキル基は、末端炭素原子がＣＦ_２Ｈ−であり他のすべての炭素原子がフッ素により全置換されているフルオロアルキル基、またはパーフルオロアルキル基であり、より好ましくはパーフルオロアルキル基であり、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式中、Ｒ^１は、上記したフルオロ（ポリ）エーテル基である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｒ^２は、式：−（Ｑ）_ｈ−（ＣＦＺ）_ｉ−（ＣＨ_２）_ｊ−で表される基である。ここに、ｈ、ｉおよびｊはそれぞれ独立して０以上５０以下の整数であって、ｈ、ｉおよびｊの和は少なくとも１であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

上記式中、Ｑは、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ^ａ−（式中、Ｒ^ａは、水素原子または有機基を表す）または２価の極性基を表し、好ましくは酸素原子または２価の極性基であり、より好ましくは酸素原子である。

上記Ｑにおける「２価の極性基」としては、特に限定されないが、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（＝ＮＲ^ｂ）−、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ^ｂ−（これらの式中、Ｒ^ｂは、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。

上記式中、Ｚは、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表し、好ましくはフッ素原子である。

上記「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。

Ｒ^２は、好ましくは、式：−（Ｏ）_ｈ−（ＣＦ_２）_ｉ−（ＣＨ_２）_ｊ−（式中、ｈ、ｉおよびｊは、上記と同意義であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である）で表される基である。

上記式：−（Ｏ）_ｈ−（ＣＦ_２）_ｉ−（ＣＨ_２）_ｊ−で表される基としては、例えば、−（Ｏ）_ｈ’−（ＣＦ_２）_ｉ’−（ＣＨ_２）_ｊ’−Ｏ−［（ＣＨ_２）_ｊ”−Ｏ−］_ｊ’’’（式中、ｈ’は０または１であり、ｉ’、ｊ’およびｊ”は、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり、ｊ’’’は、０または１である）で表される基が挙げられる。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｒ^３は、２価の有機基を表す。

Ｒ^３基は、好ましくは、−Ｃ（Ｒ^３ａ）（Ｒ^３ｂ）−である。ここに、Ｒ^３ａおよびＲ^３ｂは、それぞれ独立して、水素原子、またはアルキル基を表し、好ましくは、Ｒ^３ａおよびＲ^３ｂの一方はアルキル基である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｒ^４は、各出現において、それぞれ独立して、Ｒ^４ａまたはＲ^４ｂである。ただし、少なくとも１つのＲ^４は、Ｒ^４ａである。

上記Ｒ^４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、硬化性部位を有する２価の有機基を表す。

上記「硬化性部位」としては、特に限定されるものではないが、例えば、アリル基、ケイヒ酸基、ソルビン酸基、アクリロイル基およびメタクリロイル基（以下、アクリロイル基およびメタクリロイル基を合わせて、「（メタ）アクリロイル基」とも言う。）が挙げられる。

好ましい硬化性部位はコーティングの対象の材料によって異なり、例えば、当該材料が非晶質の合成樹脂（例、アクリル樹脂）である場合、当該「硬化性部位」としては、好ましくは、アリル基、ケイヒ酸基、ソルビン酸基、またはＣＨ_２＝ＣＸ^１−Ｃ（Ｏ）−（式中、Ｘ^１は、水素原子、塩素原子、フッ素原子またはフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表す）（例、（メタ）アクリロイル基）であり、より好ましくは、アクリロイル基およびメタクリロイル基である。

Ｒ^４ａは、好ましくは、下記式：

で表される基である。

上記式中、Ｒ^３１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、またはアルキル基を表す。当該Ｒ^３１は、好ましくは水素原子である。

上記式中、Ｒ^３２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、またはアルキル基を表す。当該Ｒ^３２は、好ましくはメチル基または水素原子であり、より好ましくは水素原子である

上記式中、Ｒ^３３は、各出現において、それぞれ独立して、硬化性部位を有する有機基を表す。

かかる硬化性部位としては、上記と同様のものが挙げられるが、ＣＨ_２＝ＣＸ^１−Ｃ（Ｏ）−（式中、Ｘ^１は、水素原子、塩素原子、フッ素原子またはフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表す）が好ましく、具体的にはＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−Ｃ（Ｏ）−またはＣＨ_２＝ＣＨ−Ｃ（Ｏ）−が挙げられる。

上記式中、Ｙ^１は、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^ｃ）−、フェニレンまたはカルバゾリレンを表す。ここでＲ^ｃは有機基を表し、好ましくはアルキル基である。

Ｙ^１は、好ましくは−Ｏ−、フェニレン、またはカルバゾリレンであり、より好ましくは−Ｏ−またはフェニレンであり、更に好ましくは−Ｏ−である。

上記式中、Ｙ^２は、主鎖の原子数が１〜１６（より好ましくは２〜１２、更に好ましくは２〜１０）であるリンカーを表す。当該Ｙ^２としては、特に限定されるものではないが、例えば、−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ）_ｐ１−（ｐ１は、１〜１０の整数、例えば２〜１０の整数を表す）、−（ＣＨＲ^ｄ）_ｐ２−Ｏ−（ｐ２は、１〜４０の整数であり、Ｒ^ｄは、水素、またはメチル基を表す）、−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ）_ｐ３−ＣＯ−ＮＨ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ｐ３は、１〜１０の整数、例えば２〜１０の整数を表す）、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_ｐ４−（ｐ４は１〜６の整数を表す）、−（ＣＨ_２）_ｐ５−Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_ｐ６−（ｐ５は１〜８の整数、好ましくは、２または４を表し、ｐ６は１〜６の整数、好ましくは３を表す）、または−Ｏ−（但し、Ｙ^１は−Ｏ−ではない）が挙げられる。好ましいＹ^２としては、−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ）_ｐ１−（ｐ１は、１〜１０の整数、例えば２〜１０の整数を表す）または−（ＣＨＲ^ｄ）_ｐ２−Ｏ−（ｐ２は、１〜４０の整数であり、Ｒ^ｄは、水素、またはメチル基を表す）、具体的には、−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ）_２−または−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−が挙げられる。なお、これらの基は、左端が分子主鎖側（Ｙ^１側）に結合し、右端が硬化性部位側（Ｒ^３３側）に結合する。

Ｒ^４ａは、さらに好ましくは、下記式：

で表される基である。

上記式中、Ｘ^１は、水素原子、塩素原子、フッ素原子またはフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表し、好ましくは水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基、例えばメチル基である。上記式中、ｑ１は、１〜１０の整数であり、好ましくは１〜５の整数、例えば１または２である。ｑ２は、１〜１０の整数であり、好ましくは１〜５の整数、例えば２である。

上記Ｒ^４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、硬化性部位を有しない２価の有機基である。

Ｒ^４ｂは、好ましくは、−（ＣＨＲ^４ｃ−ＣＲ^４ｄＲ^４ｅ）_ｓ−である。ここに、Ｒ^４ｃおよびＲ^４ｄは、それぞれ独立して、水素原子、またはアルキル基を表し、ｓは０から５０の整数であり、Ｒ^４ｅ基は、−Ｑ’−Ｒ^４ｆである。ここに、Ｑ’は上記Ｑと同意義であり、Ｒ^４ｆは、硬化性部位を有しない有機基であり、後記の基Ｒ^４ｇがリンカーを介して、または直接Ｑ’に結合する基である。

当該リンカーは、好ましくは、
（ａ）−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ）_ｓ１−（ｓ１は、１〜１０の整数、例えば２〜１０の整数を表す。）、
（ｂ）−（ＣＨＲ^４ｈ）_ｓ２−Ｏ−（ｓ２は、１〜４０の整数である繰り返し数を表す。Ｒ^４ｈは、水素またはメチル基を表す。）、
（ｃ）−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ）_ｓ１−ＣＯ−ＮＨ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ｓ１は、上記と同意義である。）、
（ｄ）−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、
（ｅ）−（ＣＨ_２）_ｓ３−（ｓ３は１〜６の整数を表す。）、または
（ｆ）−（ＣＨ_２）_ｓ４−Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_ｓ５−（ｓ４は１〜８の整数、好ましくは、２または４を表す。ｓ５は１〜６の整数、好ましくは３を表す。）、または
（ｇ）−Ｏ−（但し、Ｑ’は−Ｏ−ではない）
である。

Ｒ^４ｇは、好ましくは以下の基である。
（ｉ）アルキル基
例：メチル、エチル

（ｉｉ）フッ素で置換されたアルキル基を含有する鎖状基
例：

（ｉｉｉ）単環式炭素環、二環式炭素環、三環式炭素環、および四環式炭素環からなる群より選択される１個以上の環状部を含有する基
例：

（ｉｖ）１個以上（好ましくは１または２個）のカルボキシ基で置換された炭化水素基を含有する基
例：

（ｖ）１個以上（好ましくは１個）のアミノ基を含有する基
（ｖｉ）水素
（ｖｉｉ）イミダゾリウム塩を含有する基
例：

Ｒ^４ｇは、より好ましくは、水素原子、またはフッ素化されていてもよく、かつエチレン鎖を介して結合してもよいアルキル基であり、より好ましくは、水素原子、メトキシエチル基、イソブチル基、またはＲ^３ｉ−ＣＦ_２−（ＣＦ_２）_ｓ６−（ＣＨ_２）_ｓ７−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−（Ｒ^ｘはフッ素原子または水素原子であり、ｓ６は０〜６の整数であり、およびｓ７は１〜６の整数である）であり、更に好ましくは、３−（ペルフルオロエチル）プロポキシエチル基［示性式：ＣＦ_３−（ＣＦ_２）−（ＣＨ_２）_３−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−］である。

上記Ｒ^４中、構成単位Ｒ^４ａと構成単位Ｒ^４ｂは、それぞれがブロックを形成していてもよく、ランダムに結合していてもよい。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、ｎ１は、１以上１００以下の整数、好ましくは１以上５０以下の整数、更に好ましくは２以上３０以下の整数である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｒ^５は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−または単結合を表し、好ましくは−Ｏ−である。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｒ^６は、Ｒｆ−Ｒ^１−Ｒ^２（式中、Ｒｆ、Ｒ^１、およびＲ^２は、上記と同意義である）、１価の有機基または水素原子を表す。

Ｒ^６は、好ましくは、フッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、更に好ましくはメチルである。

上記式（Ａ３）中、Ｒ^７は、環構造、ヘテロ原子および／または官能基を有してもよい（ｎ２＋ｎ３）価の有機基を表す。

上記式（Ａ３）中、ｎ２は、１以上３以下の整数である。

上記式（Ａ３）中、ｎ３は、１以上３以下の整数である。

好ましくは、ｎ２＋ｎ３は、３であり、例えばｎ２が１であり、かつｎ３が２であり、あるいはｎ２が２であり、かつｎ３が１である。

上記Ｒ^７における「環構造、ヘテロ原子および／または官能基を有してもよい（ｎ２＋ｎ３）価の有機基」としては、例えば、１価の有機基からさらに水素原子を（ｎ２＋ｎ３−１）個除去することによって誘導される基が挙げられる。

Ｒ^７は、好ましくは、下記式：

で表される基である。

より好ましくは、Ｒ^７は、下記式：

で表される基である。

上記式（Ａ３）中、Ｒ^８は、２価の有機基を表す。当該Ｒ^８は、好ましくは、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｒ−（式中、ｒは１以上１０以下の整数、好ましくは１以上３以下の整数である）、−ＮＨ−（ＣＨ_２）_ｒ−（式中、ｒは上記と同意義である）であり、より好ましくは、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｒ−（式中、ｒは１以上３以下の整数である）である。

上記式（Ａ３）中、Ｘ^１は、水素原子、塩素原子、フッ素原子、またはフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表す。

Ｘ^１は、好ましくは、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基であり、より好ましくは水素原子または炭素数１〜６のアルキル基、更に好ましくは水素原子またはメチルである。

上記式（Ａ１）〜（Ａ３）で表される化合物は、特に限定されるものではないが、約５×１０^２〜１×１０^５の数平均分子量を有していてよい。かかる範囲のなかでも、約２，０００〜１０，０００の数平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。当該数平均分子量は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより求めることができる。

一の態様において、上記化合物（Ｃ）は、下記式（１）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
Ｒ^Ｆ２は、−Ｒｆ^２ _ｐ−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基であり；
Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
Ｒ^Ｄは、各出現においてそれぞれ独立して、炭素−炭素二重結合を含む基であり；
αは、１〜９の整数であり；
βは、１〜９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数である。］
で表される化合物であってもよい。

上記式（１）において、Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−である。

上記式（２）において、Ｒ^Ｆ２は、−Ｒｆ^２ _ｐ−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−である。

上記式において、Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基である。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基における「Ｃ_１−１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−６アルキル基、特にＣ_１−３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−６アルキル基、特にＣ_１−３アルキル基である。

上記Ｒｆ^１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１−１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１−１６パーフルオロアルキル基である。

上記Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１−３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１−３パーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式において、Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基である。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基における「Ｃ_１−６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−３アルキレン基である。

上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１−６アルキレン基であり、より好ましくはＣ_１−６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１−３パーフルオロアルキレン基である。

上記Ｃ_１−６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−３パーフルオロアルキレン基、具体的には−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−である。

上記式において、ｐは、０または１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。

上記式において、ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。

上記Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。

Ｒ^Ｆは、上記したフルオロ（ポリ）エーテル基であり得る。

上記式中、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^Ａは、Ｒ^ＤとＲ^Ｆ１またはＲ^Ｆ２を有する基とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^Ａは、式（１）および（２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

上記式中のαは、１〜９の整数であり、βは、１〜９の整数であり、γは、１〜９の整数である。これらα、βおよびγは、Ｘ^Ａの価数に応じて決定され、式（１）において、αおよびβの和は、Ｘ^Ａの価数の値である。例えば、Ｘ^Ａが１０価の有機基である場合、αおよびβの和は１０であり、例えばαが９かつβが１、αが５かつβが５、またはαが１かつβが９となり得る。また、Ｘ^Ａが２価の有機基である場合、αおよびβは１である。式（２）において、γはＸ^Ａの価数の値から１を引いた値である。

上記Ｘ^Ａは、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。α、βおよびγは、Ｘ^Ａに応じて、１〜６の整数、１〜３の整数または１等であり得る。

上記Ｘ^Ａの例としては、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
−（Ｒ^３１）_ｐ’−（Ｘ^ａ）_ｑ’−Ｒ^３２−
［式中：
Ｒ^３１は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｓ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｓ’−であり、
Ｒ^３２は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｔ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｔ’−であり、
ｓ’は、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
ｔ’は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数であり、
Ｘ^ａは、−（Ｘ^ｂ）_ｒ’−を表し、
Ｘ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、置換または非置換のＣ_３−１０シクロアルキレン、置換または非置換のｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＲ^３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、−ＮＲ^３４−、−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、および−（ＣＨ_２）_ｎ’−からなる群から選択される基を表し、
上記置換基としては、上記炭化水素基の置換基と同意義であり、
Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基を表し、好ましくはＣ_１−６アルキル基、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｒ’は、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐ’は、０または１であり、
ｑ’は、０または１であり、
ここに、ｐ’およびｑ’の少なくとも一方は１であり、ｐ’またはｑ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。］
で表される２価の基が挙げられる。

Ｒ^Ｄは、各出現においてそれぞれ独立して、炭素−炭素二重結合を含む基である。

上記Ｒ^Ｄにおける炭素−炭素二重結合を含む基は、−Ｙ−Ａ（式中、Ｙは、単結合、酸素原子または２価の有機基を表し、Ａは、−ＣＲ^１１＝ＣＨ_２であり、Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水素原子またはＣ_１−３アルキル基（好ましくはメチル基）である。）で表される基である。

上記Ｙは、単結合、酸素原子または２価の有機基を表す。Ｙは、好ましくは単結合、酸素原子、−ＣＲ^２４ _２−または−ＣＯ−であり、より好ましくは−ＣＯ−である。

上記Ｒ^２４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、より好ましくはメチル基である。好ましい態様において、Ｒ^２４は、水素原子である。

好ましい態様において、Ｒ^Ｄは、下記式（Ｄ１）、（Ｄ２）または（Ｄ３）：

［式中、
ＹおよびＡは、上記と同意義であり、
Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１−Ｙ−Ａ；
Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２−ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２’−ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−Ｙ−Ａであり；
Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−Ｙ−Ａであり；
Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−Ｙ−Ａであり；
Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
式（Ｄ３）中、Ａは少なくとも１つは存在する。］
で表される基である。

上記式中、Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１−Ｙ−Ａである。

上記Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^１は、２価の有機基である。

上記Ｚ^１は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｚ１−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｚ２−（式中、ｚ１は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ２は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）、−（ＣＨ_２）_ｚ３−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４−（式中、ｚ３は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ４は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または−（ＣＨ_２）_ｚ５−Ｃ_３−１０シクロアルキレン−（ＣＨ_２）_ｚ６−（式中、ｚ５は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ６は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ_１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｃ_１−６アルキレン基または−（ＣＨ_２）_ｚ３−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４−である。Ｚ^１がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１は、Ｃ_１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。別の態様において、Ｚ^１は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。

上記式中、Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^ｂ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数である。尚、ｋ１とｌ１の合計は、３である。

好ましい態様において、式（Ｄ２）において、ｋ１は２または３、好ましくは３である。

Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２−ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２である。

Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^２は、２価の有機基である。

上記Ｚ^２は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｚ５−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｚ６−（式中、ｚ５は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ６は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）、−（ＣＨ_２）_ｚ７−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８−（式中、ｚ７は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ８は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または−（ＣＨ_２）_ｚ９−Ｃ_３−１０シクロアルキレン−（ＣＨ_２）_ｚ１０−（式中、ｚ９は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ１０は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ_１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^２は、Ｃ_１−６アルキレン基または−（ＣＨ_２）_ｚ７−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８−である。Ｚ^２がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^２は、Ｃ_１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。別の態様において、Ｚ^２は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。

Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２’−ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’である。

Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２’として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）に結合する。

上記Ｚ^２’は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｚ５’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｚ６’−（式中、ｚ５’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ６’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）、−（ＣＨ_２）_ｚ７’−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８’−（式中、ｚ７’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ８’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または−（ＣＨ_２）_ｚ９’−Ｃ_３−１０シクロアルキレン−（ＣＨ_２）_ｚ１０’−（式中、ｚ９’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ１０’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ_１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^２’は、Ｃ_１−６アルキレン基または−（ＣＨ_２）_ｚ７’−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８’−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８’−である。Ｚ^２’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^２’は、Ｃ_１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２’は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。別の態様において、Ｚ^２’は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−Ｙ−Ａである。

上記Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^３として記載する構造は、右側がＹに結合する。

一の態様において、Ｚ^３は酸素原子である。

一の態様において、Ｚ^３は２価の有機基である。

上記Ｚ^３は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｚ５”−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｚ６”−（式中、ｚ５”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ６”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）、−（ＣＨ_２）_ｚ７”−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８”−（式中、ｚ７”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ８”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または−（ＣＨ_２）_ｚ９”−Ｃ_３−１０シクロアルキレン−（ＣＨ_２）_ｚ１０”−（式中、ｚ９”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ１０”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ_１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^３は、Ｃ_１−６アルキレン基または−（ＣＨ_２）_ｚ７”−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８”−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８”−である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^３は、Ｃ_１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^３は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。別の態様において、Ｚ^３は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^３３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

別の態様において、Ｒ^３３’は、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基である。

上記ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、上記ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｑ２’とｒ２’の合計は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位において、３である。

ｑ２’は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは２〜３、さらに好ましくは３である。

Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−Ｙ−Ａである。かかる−Ｚ^３−Ｙ−Ａは、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

上記Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^３３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

別の態様において、Ｒ^３３は、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基である。

上記ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｐ２、ｑ２およびｒ２の合計は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位において、３である。

一の態様において、ｐ２は、０である。

一の態様において、ｐ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数、２〜３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ２’は、３である。

一の態様において、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、より好ましくは３である。

一の態様において、ｐ２は０であり、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、さらに好ましくは３である。

上記Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−Ｙ−Ａである。かかる−Ｚ^３−Ｙ−Ａは、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

上記Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^ｆ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

別の態様において、Ｒ^ｆ１は、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基である。

上記ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｋ２、ｌ２およびｍ２の合計は、（ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２）単位において、３である。

好ましい態様において、式（Ｄ３）において、ｋ２は０であり、ｌ２は２または３、好ましくは３であり、ｎ２は、２または３、好ましくは３である。

一の態様において、Ｒ^Ｄは、式（Ｄ１）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｄは、式（Ｄ２）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｄは、式（Ｄ３）で表される基である。

上記化合物（Ｃ）としては、例えば、以下のものが市販品されている。
オプツール（登録商標）ＤＡＣ−ＨＰ（ダイキン工業株式会社）
フルオロリンク（登録商標）ＭＤ７００（ソルベイ社）
フルオロリンク（登録商標）ＡＤ１７００（ソルベイ社）
フォンブリン（登録商標）ＭＴ７０（ソルベイ社）
ＳＨＩＮ−ＥＴＳＵ ＳＵＢＥＬＹＮＫ ＫＹ−１２０３（信越化学工業株式会社）
ＳＨＩＮ−ＥＴＳＵ ＳＵＢＥＬＹＮＫ ＫＹ−１２１１（信越化学工業株式会社）
ＳＨＩＮ−ＥＴＳＵ ＳＵＢＥＬＹＮＫ ＫＹ−１２０７（信越化学工業株式会社）

上記成分（Ｃ）として、上記化合物（Ｃ）を、単独で用いてもよく、２種以上の混合物として用いてもよい。

上記重合性組成物の合計質量に対する成分（Ｃ）の含有量は、０．１質量％〜１０質量％以下であり、好ましくは０．２質量％〜８質量％であり得る。成分（Ｃ）の含有量を０．１質量％以上とすることにより、重合体層の表面における成分（Ｃ）の配合量が十分になり、優れた撥水撥油性、表面滑り性等を得ることができる。表面滑り性が向上することにより耐擦傷性も向上する。また、成分（Ｃ）の含有量を１０質量％以下とすることにより、上記重合性組成物における他の成分との相溶性を高く保持することができる。相溶性を高くすることにより、各成分の分離を抑制することができ、その結果、重合体層の表面（支持体とは反対側の表面）における成分（Ｃ）の濃度を均一にすることができ、優れた防汚性および耐擦傷性を得ることができる。また、成分（Ｃ）の含有量を１０質量％以下とすることにより、成分（Ｃ）が重合体層の支持体側にも分布することを抑制することができ、その結果、重合体層と基材との密着性の低下を抑制することができ、さらに、高温／高湿の環境下におけるブリードアウトを抑制することができ、高い信頼性（光学特性）を得ることができる。

（成分（Ｄ））
上記成分（Ｄ）は、重合開始剤である。

上記重合開始剤としては、光重合開始剤、熱重合開始剤等が挙げられる。重合開始剤は、好ましくは光重合開始剤である。光重合開始剤とは、活性エネルギー線に対して活性であり、単量体を重合する重合反応を開始させる化合物である。

上記光重合開始剤としては、特に限定されないが、例えば、ラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合開始剤等が挙げられる。このような光重合開始剤としては、例えば、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、２，２’−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のアセトフェノン類；ベンゾフェノン、４，４’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等のケトン類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類；ベンジルジメチルケタール、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のベンジルケタール類；２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド類；１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン等のアルキルフェノン類等が挙げられる。

上記光重合開始剤としては、例えば、以下のものが市販品されている。
２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド：
ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＴＰＯ（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社）
ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド：
ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）８１９（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社）
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン：
ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社）

上記成分（Ｄ）として、上記重合開始剤を、単独で用いてもよく、２種以上の混合物として用いてもよい。

上記重合性組成物の合計質量に対する成分（Ｄ）の含有量は、０．１質量％〜１０質量％以下であり、好ましくは０．２質量％〜８質量％であり得る。

（成分（Ｅ））
本開示の重合性組成物は、上記成分（Ａ）〜（Ｄ）以外に、さらなる成分（Ａ）〜（Ｄ）とは異なる成分（Ｅ）を含んでいてもよい。かかる成分（Ｅ）は、重合性組成物および／またはその硬化物に、適当な透明性、粘度、屈折率、柔軟性等を与えるために用いられる。

上記成分（Ｅ）の化合物は、好ましくは炭素−炭素二重結合を１つ以上有し、フッ素を含んでいてもよい。成分（Ｅ）の化合物としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレングリコールジアクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アクリロイルモルホリン、プロポキシ化ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート等が挙げられる。

成分（Ｅ）としては、例えば、以下のものが市販品されている。
ポリエチレングリコールジアクリレート：
ブレンマー（登録商標）ＡＤＥ−４００Ａ（日油株式会社）
ブレンマー（登録商標）ＡＤＥ−３００（日油株式会社）
Ａ−１０００（新中村化学工業株式会社）
エトキシ化グリセリントリアクリレート：
Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ（新中村化学工業株式会社）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：
Ａ−ＤＰＨ（新中村化学工業株式会社）
アクリロイルモルホリン：
ＡＣＭＯ（ＫＪケミカルズ株式会社）
プロポキシ化ペンタエリスリトールトリアクリレート：
ＡＴＭ−４ＰＬ（新中村化学工業株式会社）
トリプロピレングリコールジアクリレート：
ＡＰＧ−２００（新中村化学工業株式会社）

上記成分（Ｅ）として、上記化合物を、単独で用いてもよく、２種以上の混合物として用いてもよい。

上記重合性組成物の合計質量に対する成分（Ｅ）の含有量は、好ましくは５５質量％以下、より好ましくは４５質量％以下、さらに好ましくは３５質量％以下であり得る。

（溶剤）
本開示の重合性組成物は、さらに、溶剤を含有していてもよい。かかる溶剤としては、例えば、アルコール（炭素数１〜１０：例えば、メタノール、エタノール、ｎ−又はｉ−プロパノール、ｎ−、ｓｅｃ−、又は、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、オクタノール等）、ケトン（炭素数３〜８：例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ジブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エステル又はエーテルエステル（炭素数４〜１０：例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等）、γ−ブチロラクトン、エチレングリコールモノメチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルアセテート、エーテル（炭素数４〜１０：例えば、ＥＧモノメチルエーテル（メチルセロソロブ）、ＥＧモノエチルエーテル（エチルセロソロブ）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソロブ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、芳香族炭化水素（炭素数６〜１０：例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、アミド（炭素数３〜１０：例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、ハロゲン化炭化水素（炭素数１〜２：例えば、メチレンジクロライド、エチレンジクロライド等）、石油系溶剤（例えば、石油エーテル、石油ナフサ等）等が挙げられる。

上記溶剤は、単独で用いてもよく、２種以上の混合物として用いてもよい。

（積層体）
本開示の積層体は、図１に示すように、支持体２と、複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する重合体層３とを含み、かかる重合体層は、上記本開示の重合性組成物が硬化した層である。

（支持体）
上記支持体２は、その表面に本開示の重合性組成物の重合体層を形成できるものであれば特に限定されないが、フィルム形状であることが好ましい。

上記支持体２の厚みは、特に限定されないが、例えば、５０〜１００μｍが好ましく、６０〜８０μｍがより好ましい。支持体の厚みを上記範囲とすることにより、透明性および加工性を確保することが容易になる。

上記支持体２を構成する材料としては、透明性を有するフィルム状の各種のプラスチックやガラスを用いることができる。透明性を有するプラスチックフィルムの材料としては、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ノルボルネン系樹脂等の樹脂が挙げられる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）や、ＰＭＭＡ／ＰＣ積層フィルム等が好ましい。なお、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートは、機械的強度、寸法安定性、耐熱性、耐薬品性、光学特性等、およびフィルム表面の平滑性やハンドリング性に優れているためより好ましい。ポリカーボネートは、透明性、耐衝撃性、耐熱性、寸法安定性、燃焼性に優れているためより好ましい。トリアセチルセルロースは光学異方性が小さいためより好ましい。

上記支持体２は、上記の材料に加えて、さらに可塑剤等の添加剤を適宜含んでいてもよい。

上記支持体２の表面には、易接着処理（例えば、プライマー処理）が施されていてもよい。例えば、上記支持体として、易接着処理が施された、トリアセチルセルロースフィルムまたはポリエチレンテレフタラートフィルムを用いることができる。また、上記支持体の表面にはケン化処理が施されていてもよい。例えば、上記支持体として、ケン化処理が施されたトリアセチルセルロースフィルムを用いることができる。さらに、複屈折による着色、虹むらを抑えた超複屈折ポリエステルフィルムを用いることができる。

（重合体層）
上記重合体層３は、上記した本開示の重合性組成物が効果することにより形成された層である。

上記重合体層３の厚みは、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、より好ましくは５μｍ〜１５μｍであり得る。

上記重合体層３は、好ましくは複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を有する。

上記凹凸構造の形状は、特に限定されず、凹部または凸部の形状のいずれかが、ピラー状、円錐状、釣鐘状、三角柱、四角柱などの多角柱形状、これらの錐台形状などのいずれでもよい。また、凹凸構造において、形状規則性の高いものであってもよく、ランダムなものであってもよい。好ましい態様において、凹凸構造は、規則的に配置され円錐状等の形状の凸部を有する。

上記凸部の形状は、好ましくは略円筒状であるが、これに限定されず、他の形状、例えば三角柱、四角柱などの多角柱形状、頂部が細ったこれらの錐台形状であってもよい。

好ましい態様において、上記凹凸構造は、好ましくは略円柱状が複数並んだ、いわゆるモスアイ構造である。

上記重合体層３の表面に存在する凸部間のピッチ（隣接する凸部７の頂点間の距離Ｐ）は、好ましくは２０ｎｍ〜４００ｎｍ、より好ましくは５０ｎｍ〜３５０ｎｍ、さらに好ましくは１００ｎｍ〜３００ｎｍである。当該ピッチを上記の範囲とすることにより、より高い反射率防止能を得ることができる。

上記重合体層３の表面に存在する凸部の高さは、好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍ、より好ましくは５０ｎｍ〜４００ｎｍ、さらに好ましくは１００ｎｍ〜３００ｎｍである。当該高さを上記の範囲とすることにより、より高い反射防止能を得ることができる。

上記重合体層３の表面に存在する凸部のアスペクト比は、好ましくは０．１３〜２５、より好ましくは０．３〜１０、さらに好ましくは１．０〜５．０である。当該アスペクト比を上記の範囲とすることにより、反射率がより低くなる。ここに、アスペクト比とは、隣接する凸部間のピッチＰと凸部の高さＨとの比（Ｈ／Ｐ）をいう。

（他の層）
一の態様において、図２に示すように、上記重合体層３の表面（支持体とは反対側の表面）に別の防汚層４を設けてもよい。かかる防汚層４は、下記する工程１を行った後に、防汚剤を含有する組成物を塗布、乾燥する工程により形成してもよく、あるいは、下記工程４を行った後に、防汚剤を含有する組成物を塗布、乾燥する工程により形成してもよい。

本開示の積層体は、反射防止層として好適に用いられる。従って、本開示の積層体は、光学フィルム（ディスプレイ用反射防止フィルム等）、光学素子、加飾フィルム（インテリア加飾、エクステリア加飾）等において好適に使用することができる。これらは、テレビ、車載ディスプレイ、各種光学センサー、ＰＣ（デスクトップＰＣ、ノートＰＣ等）、モバイル端末（スマホ、タブレット、電子リーダー等）、デジタルサイネージ等に用いることができる。また、低反射の透明素材を通した視認性が求められる掲示板、ショールーム、スタジアム、レストラン、ショーウインドウ、ショーケース、美術展示等にも好適に使用することができる。

（積層体の製造方法）
本開示の上記積層体の製造方法は、
（１）本開示の重合性組成物を、支持体の表面上に塗布して、重合性組成物層を形成する工程、
（２）上記重合性組成物層を金型に押しあてて、重合性組成物層の表面に凹凸構造を形成する工程、
（３）上記凹凸構造を表面に有する重合性組成物層を硬化させて重合体層を形成する工程、および
（４）上記金型を重合体層から剥離する工程
を含む。

（工程１）
工程１において、図３に示すように、本開示の重合性組成物を、支持体の表面上に塗布して、重合性組成物層５を形成する。重合性組成物の塗布方法としては、例えば、スプレー方式、グラビア方式、スロットダイ方式、バーコート方式等で塗布する方法が挙げられる。膜厚を均一にし、生産性を向上する観点から、グラビア方式又はスロットダイ方式で塗布する方法が好ましい。

上記重合性組成物に溶剤（揮発成分）が含まれる場合は、重合性組成物の塗布後に、溶剤を除去する加熱処理（乾燥処理）を行ってもよい。加熱温度は、特に限定されないが、溶剤の沸点以上とすることが好ましい。

（工程２）
工程２において、図４に示すように、上記重合性組成物層５を金型６に押しあてて、重合性組成物層の表面に凹凸構造を形成する。この際、上記重合性組成物層は、上記金型と支持体の間に挟み込まれた状態となる。その結果、金型の表面の凹凸構造が、重合性組成物層の表面（支持体側とは反対側の表面）に転写される。

（工程３）
工程３において、上記凹凸構造を表面に有する重合性組成物層５を硬化させて重合体層３を形成する。この結果、凹凸構造を表面に有する重合体層が形成される。

上記重合性組成物層の硬化方法としては、例えば、活性エネルギー線の照射、加熱等による方法が挙げられる。高生産性の観点から、重合性組成物層の硬化は、活性エネルギー線の照射によって行われることが好ましく、中でも、紫外線の照射によって行われることがより好ましい。活性エネルギー線の照射は、重合性組成物の支持体側から行ってもよく、重合性組成物の金型側から行ってもよい。また、重合性組成物に対する活性エネルギー線の照射回数は、１回のみであってもよいし、複数回であってもよい。本工程３は、前記工程２と同じタイミングで行ってもよい。

上記活性エネルギー線としては、特に限定されないが、例えば、３５０ｎｍ以下の波長領域の電磁波、つまり紫外光線、電子線、Ｘ線、γ線等が挙げられる。

（工程４）
工程４において、図５に示すように、金型６を重合体層３から剥離する。その結果、本開示の積層体が得られる。

（別法）
上記工程１および２の別法として、本開示の重合性組成物を金型の表面に塗布して、重合性組成物層を形成した後、重合性組成物層を、金型と支持体の間に挟み込む状態で、支持体を金型上の重合性組成物層に押し当てて重合性組成物層の表面に凹凸構造を形成してもよい。

（金型）
上記金型は、重合体層の凹凸構造に応じた凹凸構造をその表面に有する。

上記金型の形状としては、特に限定されないが、平板状、ロール状等が挙げられる。

一の態様において、金型の形状は、外周面に凹凸構造を施したロール状である。かかる金型を用いることにより、上記工程１〜４を連続的かつ効率的に行うことができ、生産性を向上することができる。

上記金型の材料としては、特に限定されないが、例えば、ガラス；ステンレス、ニッケル等の金属；ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、環状オレフィン系高分子（代表的には、ノルボルネン系樹脂、例えば日本ゼオン社製の「ゼオノア（登録商標）」、ＪＳＲ社製の「アートン（登録商標）」）等のポリオレフィン系樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース等の樹脂等が挙げられる。

上記金型の凹凸構造の製造方法としては、特に限定されないが、陽極酸化法、フォトリソグラフィ法、レーザー描画法、電子線描画法、プラズマエッチング法、機械切削法などが挙げられる。

上記金型の表面は、離型処理が施されていることが好ましい。金型の表面に離型処理を施すことにより、金型を重合体層から容易に剥離することができる。また、金型の表面自由エネルギーが低くなるため、上記工程２において、支持体を金型に押し当てる際に、重合性組成物層の金型と接触する側の表面に化合物（Ｃ）を均一に配向させることができ、防汚性が向上する。

上記金型の離型処理に用いられる離型剤としては、例えば、フッ素系化合物、シリコン系化合物、リン酸エステル系化合物等が挙げられる。特に、フッ素系化合物が好ましく、オプツール（登録商標）ＤＳＸ（ダイキン工業株式会社）等が挙げられる。

以下、本開示の物品について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。

実施例
成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｅ）の化合物として、下記表１に示す化合物を準備した。

成分（Ｃ）として、オプツール（登録商標）ＤＡＣ（ダイキン工業株式会社）を準備した。
成分（Ｄ）として、Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ.Ｖ.）を準備した。

成分（Ｃ）との比較用に、成分（Ｃ）’として、ＣＨＥＭＩＮＯＸ（登録商標）ＦＡＡＣ−６（ユニマテック株式会社、２−（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート）を準備した。

支持体として、フジタックＴＤ−６０（６０μｍ厚、富士フィルム株式会社）を準備した。

金型として、ピッチ２５０ｎｍ、深さ３５０ｎｍの円錐型凹部がパターニングされたＮｉ製凹版（株式会社共同インターナショナル）を準備した。かかる金型を、オプツールＤＳＸ（ダイキン工業株式会社）をＳ−１３５（フロロテクノロジー社）で２００倍に希釈した溶液中に、３分間浸漬させた。次いで、引き上げた金型を１００℃で１時間アニール処理した。次いで、金型の表面をＳ−１３５でリンスすることで、未反応のオプツールＤＳＸを除去した。

・積層体の製造
下記表２に示す配合で、成分（Ａ）〜（Ｅ）を、遮光容器内で均一に溶解させ、重合性組成物を得た。得られた重合性組成物を、支持体の表面に、重合性組成物の厚みが７μｍとなるようバーコーターで塗布した。次いで、重合性組成物層を、金型と支持体の間に挟む状態で支持体を金型に押し当て、ＨＥＲＡＥＵＳ社製のＵＶランプ「ＬＩＧＨＴ ＨＡＮＭＡＲ６Ｊ６Ｐ３」を用いて、支持体側から紫外線（積算照射量：１，２００ｍＪ／ｃｍ^２）を照射して、重合性組成物層を硬化させ、重合体層を形成した。金型を重合体層から剥離し、本開示の積層体であるフィルムを得た。

・評価
得られたフィルムについて、下記に示すように、基材密着性、耐擦傷性、指紋拭き取り性、視感反射率を測定した。結果を表２に示す。

＜基材密着性＞
まず、フィルムの表面に対して、カッターナイフで、碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを１ｍｍ間隔で入れて、１００個の正方形状の升目（１ｍｍ角）を刻んだ。次いで、日東電工社製のポリエステル粘着テープ「Ｎｏ．３１Ｂ」を升目部分に圧着した後、粘着テープを升目部分の表面に対して９０°の方向に、１００ｍｍ／ｓの速度で剥がした。その後、基材上の重合体層の剥離状態を目視観察した。判定基準は、下記の通りである。
〇：全ての升目で剥がれが無かった。
×：一升以上剥がれた。

＜耐擦傷性＞
試験機として「ラビングテスター」（株式会社井元製作所製）を用い、ステージ上にフィルムを水平状態で固定した。トレシースタンダード「カラークロス（ネイビー）」（東レ株式会社）を摩擦子として用い、荷重を１ｋｇ／ｃｍ^２、ストローク幅を３０ｍｍ、速度を８０ｒｐｍ、擦る回数を３０，０００往復として、フィルムの表面を擦過した。その後、フィルム表面の擦過状態を目視観察した。判定基準は、下記の通りとした。
○：擦過前と比べて全く変化が無かった。
△：わずかに白化して見えた。
×：明らかに白化して見えた。

＜指紋拭き取り性＞
まず、フィルムに対して、支持体の重合体層とは反対側の表面に、光学粘着層を介して、黒色ＰＥＴ板を貼り付けた。そして、フィルムの重合体層の表面（黒色ＰＥＴ板を貼り付けた側とは反対側の表面）に指紋を付着させた後、「ＢＥＭＣＯＴ Ｍ−３ＩＩ」（旭化成株式会社）で１０往復擦り、指紋が拭き取れるかどうかを目視観察した。判定基準は、下記の通りとした。
○：指紋が完全に拭き取れ、拭き残りが見えなかった。
△：指紋は目立たないが、蛍光灯を映り込ませると拭き残りがわずかに見えた。
×：指紋が全く拭き取れなかった。

＜視感反射率＞
まず、フィルムに対して、支持体の重合体層とは反対側の表面に、光学粘着層を介して、黒色ＰＥＴ板を貼り付けた。そして、フィルムの重合体層の表面（黒色ＰＥＴ板を貼り付けた側とは反対側の表面）に対して、分光測色計「ＣＭ−２６ｄ」（コニカミノルタ株式会社）を用いてＤ６５光源での視感反射率を測定した。視感反射率が低いほど反射防止性に優れる。また、前記の耐擦傷性、および指紋拭き取り性の評価部位についても同様に視感反射率を測定した。擦傷後、指紋拭き取り後も視感反射率に変化のないことが好ましい。

上記の結果から、本発明の重合性組成物を用いて重合体層を形成した実施例１〜１０は、優れた基材密着性、耐擦傷性、指紋拭き取り性および視感反射率を有することが確認された。

本開示の重合性組成物から得られる重合体層を有する積層体は、光学フィルム（ディスプレイ用反射防止フィルム等）、光学素子、加飾フィルム（インテリア加飾、エクステリア加飾）等において好適に使用することができる。

２…支持体
３…重合体層
４…防汚層
５…重合性組成物層
６…金型

Claims (12)

1. 重合性組成物であって、
   （Ａ）アルキレンオキシド基および（メタ）アクリル基を有し、アルキレンオキシド当量が１００未満であり、（メタ）アクリル当量が２００未満であり、同一の重合性基を２つ以上有する化合物、
   （Ｂ）分子量が１４０以上３５０以下であり、アルキレンオキシド基を有さず、（メタ）アクリル基を有し、（メタ）アクリル当量が１３７以下であり、炭素−炭素二重結合を２つ以上有する化合物、
   （Ｃ）フルオロ（ポリ）エーテル基を有し、炭素−炭素二重結合を１つ以上有する化合物、および
   （Ｄ）重合開始剤
   を含み、
   前記重合性組成物の合計質量に対し、
   前記（Ａ）の含有量が１．８質量％〜９８質量％であり、
   前記（Ｂ）の含有量が１．８質量％〜９８質量％であり、
   前記（Ｃ）の含有量が０．１質量％〜１０質量％であり、
   前記（Ｄ）の含有量が０．１質量％〜１０質量％である、
   重合性組成物。
2. 成分（Ａ）の化合物は、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエチレングリコールジアクリレート、ヘキサエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ペンタエチレングリコールジメタクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレートおよびエチレンオキサイド１２モル変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートからなる群から選択される、請求項１に記載の重合性組成物。
3. 成分（Ｂ）の化合物は、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、グリセリンジアクリレート、グリセリンジメタクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリントリメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイル−オキシプロピルメタクリレート、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビスアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビスアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’，Ｎ”−トリアクリロイルジエチレントリアミン、１，３，５−トリアクリロイルヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジンおよび１，３，５−トリメタクリロイルヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジンからなる群から選択される、請求項１または２に記載の重合性組成物。
4. 成分（Ｃ）の化合物は、一般式（Ａ１）、（Ａ２）および（Ａ３）のいずれか：
   

   

   ［式中、Ｒｆは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し、
   Ｒ^１は、フルオロ（ポリ）エーテル基であり、
   Ｒ^２は、下記式：
   −（Ｑ）_ｈ−（ＣＦＺ）_ｉ−（ＣＨ_２）_ｊ−
   （式中、Ｑは、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ^ａ−（式中、Ｒ^ａは、水素原子または有機基を表す）または２価の極性基を表し、Ｚは、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表し、ｈ、ｉおよびｊはそれぞれ独立して０以上５０以下の整数であって、ｈ、ｉおよびｊの和は少なくとも１であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
   で表される基であり、
   Ｒ^３は、２価の有機基を表し、
   Ｒ^４は、各出現において、それぞれ独立して、Ｒ^４ａまたはＲ^４ｂを表し：ただし、少なくとも１つのＲ^４はＲ^４ａであり、
   Ｒ^４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、硬化性部位を有する２価の有機基を表し、
   Ｒ^４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、硬化性部位を有しない２価の有機基を表し、
   ｎ１は、１以上５０以下の整数であり、
   Ｒ^５は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−または単結合を表し、
   Ｒ^６は、Ｒｆ−Ｒ^１−Ｒ^２（式中、Ｒｆ、Ｒ^１、およびＲ^２は、上記と同意義である）、１価の有機基または水素原子を表し、
   Ｒ^７は、環構造、ヘテロ原子および／または官能基を有してもよい（ｎ２＋ｎ３）価の有機基を表し、
   Ｒ^８は、２価の有機基を表し、
   Ｘ^１は、水素原子、塩素原子、フッ素原子、またはフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表し、
   ｎ２は、１以上３以下の整数であり、
   ｎ３は、１以上３以下の整数である。］
   で表される化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の重合性組成物。
5. 成分（Ｃ）の化合物は、一般式（１）または（２）：
   

   

   ［式中：
   Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
   Ｒ^Ｆ２は、−Ｒｆ^２ _ｐ−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
   Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基であり；
   Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基であり；
   Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
   ｐは、０または１であり；
   ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
   Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
   Ｒ^Ｄは、各出現においてそれぞれ独立して、炭素−炭素二重結合を含む基であり；
   αは、１〜９の整数であり；
   βは、１〜９の整数であり；
   γは、それぞれ独立して、１〜９の整数である。］
   で表される化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の重合性組成物。
6. 支持体と、
   複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する重合体層と
   を含む積層体であって、
   前記重合体層は、請求項１に記載の重合性組成物の硬化物である、積層体。
7. 前記重合体層の厚みは、１μｍ以上２０μｍ以下である、請求項６に記載の積層体。
8. 前記重合体層の表面に存在する複数の凸部のピッチは、２０ｎｍ以上４００ｎｍ以下である、請求項６または７のいずれか１項に記載の積層体。
9. 前記重合体層の表面に存在する複数の凸部の高さは、５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である、請求項６〜８のいずれか１項に記載の積層体。
10. 前記重合体層の表面に存在する複数の凸部のアスペクト比は、０．１３以上２５以下である、請求項６〜９のいずれか１項に記載の積層体。
11. 請求項６〜１０のいずれか１項に記載の積層体を含む、反射防止フィルム。
12. 請求項６〜１１のいずれか１項に記載の積層体の製造方法であって、
    （１）請求項１〜４のいずれか１項に記載の重合性組成物を、支持体の表面上に塗布して、重合性組成物層を形成する工程、
    （２）前記重合性組成物層を金型に押しあてて、重合性組成物層の表面に凹凸構造を形成する工程、
    （３）前記凹凸構造を表面に有する重合性組成物層を硬化させて重合体層を形成する工程、および
    （４）金型を重合体層から剥離する工程
    を含む、製造方法。

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