JP7284395B2 - 光学材料用硬化性組成物、光学材料及び光学材料の製造方法 - Google Patents

Description

本開示は、光学材料用硬化性組成物、光学材料及び光学材料の製造方法に関する。

可視光波長以下の微細な凹凸パターン構造を有するフィルムは、反射防止フィルムとして利用されることが知られている。このような用途においては、フィルム表面に微細凹凸を形成することで、反射光が低減されることが知られている。

特許文献１～６には、このような微細凹凸を有するフィルムが開示されている。特に特許文献１においては、微細凹凸形状を形成するための樹脂組成において、重合性基が１つであるアクリルアミドを使用することを開示している。

特許文献７には、２以上のアクリルアミド基を有する化合物を含有する光学材料用硬化性組成物を使用したインプリント用光硬化性組成物が開示されている。

国際公開第２０１８／１７３８６７号 国際公開第２０１６／１７４８９３号 国際公開第２０１７／２１７４４２号 国際公開第２０１８／０１２３４３号 国際公開第２０１８／０１２３４４号 国際公開第２０１８／０７９５２５号 特開２０１８－１２７５２２号公報

本開示は、より強度に優れた樹脂を使用することによって、外部から力を加えられた際にも凹凸構造が崩れることのない光学材料用硬化性組成物及び光学材料を提供することを目的とする。

本開示は、表面に微細な凹凸を有する重合体層を形成するために使用される光学材料用硬化性組成物であって、
微細な凹凸は、前記重合体層の表面に存在する複数の凸部のピッチが２０ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であり、
２以上のアクリルアミド基を有する化合物を含有し、１のアクリルアミド基を有する化合物を実質的に含有しないことを特徴とする光学材料用硬化性組成物である。

本開示は、表面に微細な凹凸を有する重合体層を形成するために使用される光学材料用硬化性組成物であって、
微細な凹凸は、前記重合体層の表面に存在する複数の凸部のピッチが２０ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であり、
２以上のアクリルアミド基を有する化合物を含有し、１のアクリルアミド基を有する化合物を実質的に含有しないことを特徴とする光学材料用硬化性組成物でもある。

上記光学材料用硬化性組成物は、下記条件で硬化させた硬化物が、
ヤング率： １６０～４３２Ｎ／ｍｍ ^２
限界歪み： １０％以上
を満たすものであることが好ましい。
（硬化条件）
ＪＩＳ Ｋ ６２１５－５の７号形ダンベルを作製する金型に硬化性組成物を充填し、高圧水銀ランプを用いて、３６５ｎｍの波長を含む紫外線（照射量：１，２００ｍＪ／ｃｍ ^２ ）を照射して硬化。

本開示は、上述した光学材料用硬化性組成物を、基材層の表面上に塗布する工程（１）、
基材層を金型に押しあてて、光学材料用硬化性組成物の表面に凹凸構造を形成する工程（２）、
凹凸構造を表面に有する光学材料用硬化性組成物を硬化させる工程（３）及び
金型を重合体層から剥離する工程（４）
を有することを特徴とする光学材料の製造方法でもある。
前記重合体層の厚みは、１μｍ以上、２０μｍ以下であることが好ましい。
前記重合体層の表面に存在する複数の凸部の高さは、各々、５０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることが好ましい。
前記重合体層の表面に存在する複数の凸部のアスペクト比は、各々、０．１３以上、２５以下であることが好ましい。

本開示は、基材層及び重合体層を有する光学材料であって、
重合体層は、表面に微細な凹凸を有し、アミド基を有し、表面に微細な凹凸を有し、上述した光学材料用硬化性組成物を使用して形成されたものであり、
微細な凹凸は、前記重合体層の表面に存在する複数の凸部のピッチが２０ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であり、
以下の性質を満たす樹脂層であることを特徴とする光学材料。
ヤング率： １６０～４３２Ｎ／ｍｍ ^２
限界歪み： １０％以上

本開示は、基材層及び重合体層を有する光学材料であって、重合体層は、表面に微細な凹凸を有し、微細な凹凸を有する表面を下記条件下でスチールウールを擦過した後の凹凸の残存率が８０％以上であり、
請求項１又は２に記載された光学材料用硬化性組成物を使用して形成されたものであり、
微細な凹凸は、前記重合体層の表面に存在する複数の凸部のピッチが２０ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であることを特徴とする光学材料でもある。
（擦過条件）
試験機として株式会社トリニティーラボ製「トライボマスターＴＬ２０１Ｔｓ」を用い、ステージ上にフィルムを水平状態で固定した。日本スチールウール社製のスチールウール（製品名：＃００００）を摩擦子として用い、荷重を２００ｇ／ｃｍ ^２ 、ストローク幅を６０ｍｍ、速度を６０ｍｍ／ｓ、擦る回数を１０往復として、フィルムの表面を擦過した。

上記重合体層の厚みは、１μｍ以上、２０μｍ以下であることが好ましい。
上記重合体層の表面に存在する複数の凸部のピッチは、２０ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であることが好ましい。
上記重合体層の表面に存在する複数の凸部の高さは、各々、５０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることが好ましい。
上記重合体層の表面に存在する複数の凸部のアスペクト比は、各々、０．１３以上、２５以下であることが好ましい。

本開示は、反射光低減効果に優れ、かつ、耐擦り傷性及び防汚性に優れる光学材料を提供することができる。

本開示の光学材料の一例を示す模式図である。 本開示の光学材料の製造方法の一例を示す模式図である。 本開示の光学材料の技術的範囲を示す図である。

以下、本開示を詳細に説明する。
本開示の光学材料について、図１を参照して以下に説明する。図１は、実施形態の防汚性フィルムを示す断面模式図である。

本開示の光学材料は、基材層２と、重合体層１とを備えている。図１に示したように、重合体層１は、表面に微細な凹凸を有する。このような微細な凹凸は、ナノメートルサイズの凹凸構造である。このような凹凸構造によれば、空気層から基材にかけて屈折率が連続的に変化するために、反射光を劇的に減少させることができる。

図１に示された微細な凹凸構造は、樹脂によって形成されたものである。このような構造は、擦過等の物理的な力を加えられた際に、凸部が変形したり折れたりすることによって、性能が低下してしまうという問題がある。

従って、樹脂としての強度を高めることによって、凹凸構造の耐久性を高めることが本開示において重要となる。一方、上述したような凹凸形状を有する光学材料における効果である、映り込みの防止や表面保護といった機能も十分に維持する必要がある。したがって、光学特性、製造時の離形性等の種々の性能を維持しつつ、凹凸構造の耐久性を高めることが必要とされる。

本開示においては、表面に微細な凹凸を有し、アミド基を有し、かつ、特定の物理的性質を有する樹脂である重合体層１を形成し、これによって上述した目的を達成するものである。

本開示においては、
ヤング率： １６０～４３２Ｎ／ｍｍ^２
限界歪み： １０％以上
との条件を満たす硬化樹脂によって重合体層が形成されたものである。
上記性能を満たすものとすることで、適度の柔軟性を有しつつ同時に荷重がかけられた際にも強度においても優れた性能を有するものとなる。

なお、上記ヤング率及び限界歪みは、以下に示す方法によって測定された値である。
（測定用サンプル調製方法）
光学材料における重合体層の形成に使用される硬化性組成物をＪＩＳ Ｋ ６２１５－５の７号形ダンベルを作製する金型に充填し、紫外線（照射量：１，２００ｍＪ／ｃｍ^２）を照射して硬化する
という条件で成形・硬化することでサンプルを作成する。これについて、以下に示す条件で引っ張り試験を行った。
（引っ張り試験方法）
硬化樹脂をダンベル状７号形（ＪＩＳ Ｋ６２１５－５）の試験片とし、オートグラフ（島津製作所社製、ＡＧＳ－１００ＮＸ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１６１法にしたがい２５℃で試験片を６０mm／分の引張速度で引張り試験を行い、１Ｎ－５Ｎ荷重中のヤング率を測定した。

ヤング率が１６０Ｎ／ｍｍ^２未満、かつ限界歪みが１０％未満では、過剰に柔軟な性質となり、外部から力を加えられた際に、凸部の先端が変形または削れ易く、あるいは力の加えられた方向に沿って凸部が倒れ、そのまま起き上がらず、凹凸構造の維持が困難となる。ヤング率の下限は、１７０Ｎ／ｍｍ^２であることがより好ましく、１８０Ｎ／ｍｍ^２であることが更に好ましい。かつ限界歪みの下限は、１０％であることがより好ましく、２０％であることが更に好ましい。

ヤング率が４３２Ｎ／ｍｍ^２を超え、かつ限界歪みが１０％未満では、硬くて脆い性質となり、外部から力を加えられた際に凸部が折れ易く、凹凸構造の維持が困難となる。ヤング率の上限は、３５０Ｎ／ｍｍ^２であることがより好ましく、２３３Ｎ／ｍｍ^２であることが更に好ましい。かつ限界歪みの下限は、１０％であることがより好ましく、２０％であることが更に好ましい。

本開示は、重合体層が表面に微細な凹凸を有し、微細な凹凸を有する表面を下記条件下でスチールウールを擦過した後の凹凸の残存率が８０％以上であるような光学材料でもある。
このように、スチールウールを擦過後でも、凹凸が消失しないような光学材料を使用することで、反射防止機能の耐久性に優れ、強度にも優れた光学材料とすることができる。

上記スチールウールによる擦過は、下記条件によって行ったものである。
試験機として株式会社トリニティーラボ製「トライボマスターＴＬ２０１Ｔｓ」を用い、ステージ上にフィルムを水平状態で固定した。日本スチールウール社製のスチールウール（製品名：＃００００）を摩擦子として用い、荷重を２００ｇ／ｃｍ^２、ストローク幅を６０ｍｍ、速度を６０ｍｍ／ｓ、擦る回数を１０往復として、フィルムの表面を擦過した。

凹凸の残存率は、下記条件によって算出した値である。

凹凸の残存率は、同一試料中の擦過面および非擦過面の走査型電子顕微鏡画像の比較により算出した。擦過面とは擦過した領域の内、擦過始点を０％、擦過終点を１００％とした場合に３０~７０％の領域から任意に選択した箇所とし、非擦過面とは同一試料中で擦過していない領域から任意に選択した箇所とした。具体的には、６０°傾斜台を用いて５０，０００倍率で走査型電子顕微鏡観察した傾斜画像に対して、一辺が２．０μｍ、もう一辺が１．５μｍの長方形となる枠線をその重心が傾斜画像の重心と重なるよう画像上に描き、描いた枠線内に存在する凸部の数を数えた。この際に、画像に見る先端断面の直径が５０ｎｍ以上である凸部、例えば円錐台状である凸部は、擦過によって破損した凸部として、数える凸部の対象から除いた。また、描いた枠線に重なる凸部は、画像に見る凸部の５０％以上の面積が枠線内に存在するものを数える凸部の対象とした。同一試料中で任意の擦過面および任意の非擦過面からそれぞれ３箇所の走査型電子顕微鏡画像について、凸部の数を数え、擦過面の凸部数の平均値を非擦過面の凸部数の平均値で割り、その百分率を凹凸の残存率とした。凹凸の残存率は８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。８０％未満では傷が目立つなどの外観異常が視認し易くなり、また反射率が向上するなどの光学特性を損なうなどの不具合を生じて好ましくない。

本開示において、重合体層を構成する樹脂成分は、アミド基を有する。アミド基を有する樹脂とすることによって、基材層との接着性を良好なものとすることができる。

なお、重合体層を構成する樹脂成分がアミド基を有することは、公知の任意の手法によって分析できるものであり、具体的には、例えば、赤外線吸収（ＩＲ）によって、１６８０－１５１５ｃｍ^－１付近に存在するＣ＝Ｏ伸縮吸収の有無によって確認することができる。

本開示の重合体層のその他の特徴について、以下詳述する。
重合体層は、複数の凸部（突起）が可視光の波長（７８０ｎｍ）以下のピッチ（隣接する凸部４の頂点間の距離）で設けられる凹凸構造、すなわち、モスアイ構造（蛾の目状の構造）を表面に有していることが好ましい。このようにすることで、光学材料は、モスアイ構造による優れた反射防止性（低反射性）を示すことができる。

重合体層は、厚みが、１～２０μｍであることが好ましく、８～１２μｍであることが更に好ましい。このような構成によれば、光学材料の欠陥や異物を視認され易くなることが防止される。更に、重合体層が形成される際の硬化収縮に起因する光学材料のカール等の発生が防止される。なお、本明細書において、重合体層の厚みは、基材２側の表面から凸部の頂点までの距離を指す。

凸部の形状としては、例えば、柱状の下部と半球状の上部とによって構成される形状（釣鐘状）、錐体状（コーン状、円錐状）等の、先端に向かって細くなる形状（テーパー形状）が挙げられる。図１中、隣接する凸部の間隙の底辺は傾斜した形状となっているが、傾斜せずに水平な形状であってもよい。

複数の凸部の平均ピッチは、モアレ、虹ムラ等の光学現象の発生を充分に防止する観点から、好ましくは２０～４００ｎｍ、より好ましくは１００～２００ｎｍである。このような構成によれば、光学材料の外観上の問題の発生が防止される。複数の凸部の平均ピッチは、具体的には、走査型電子顕微鏡で撮影された平面写真の１μｍ角の領域内における、すべての隣接する凸部のピッチの平均値を指す。

複数の凸部の平均高さは、後述する複数の凸部４の好ましい平均アスペクト比と両立させる観点から、好ましくは５０～５００ｎｍ、より好ましくは１００～３００ｎｍである。このような構成によれば、光学材料の反射防止性能が不充分となることが防止される。複数の凸部の平均高さは、具体的には、走査型電子顕微鏡で撮影された断面写真における、連続して並んだ１０個の凸部の高さ（図１中のＨ）の平均値を指す。但し、１０個の凸部を選択する際は、欠損や変形した部分（測定用試料を準備する際に変形させてしまった部分等）がある凸部を除く。

複数の凸部の平均アスペクト比は、好ましくは０．１３以上、２５以下、より好ましくは１．０以上、１．３以下である。複数の凸部の平均アスペクト比が０．１３未満である場合、モアレ、虹ムラ等の光学現象の発生を充分に防止することができず、優れた反射防止性が得られないことがある。複数の凸部の平均アスペクト比が２５よりも大きい場合、凹凸構造の加工性が低下し、スティッキングが発生したり、凹凸構造を形成する際の転写具合が悪化したりする（後述する金型６が詰まったり、巻き付いてしまう、等）ことがある。複数の凸部の平均アスペクト比は、上述した複数の凸部の平均高さと平均ピッチとの比（高さ／ピッチ）を指す。

凸部は、ランダムに配置されていても、規則的（周期的）に配置されていてもよい。凸部の配置には周期性があってもよいが、その周期性に起因する不要な回折光が発生しない等の利点から、図２に示すように、凸部の配置には周期性がない（ランダムである）ことが好ましい。

重合体層は、光学材料用硬化性組成物の硬化物である。重合体層としては、例えば、活性エネルギー線硬化性の光学材料用硬化性組成物の硬化物、熱硬化性の光学材料用硬化性組成物の硬化物等が挙げられる。ここで、活性エネルギー線は、紫外線、可視光線、赤外線、プラズマ等を指す。重合体層は、活性エネルギー線硬化性の光学材料用硬化性組成物の硬化物であることが好ましく、中でも、紫外線硬化性の光学材料用硬化性組成物の硬化物であることがより好ましい。

本開示における上述した性能を有する重合体層を形成するための樹脂組成物は特に限定されるものではない。すなわち、公知の重合性化合物を使用することによって、上述した重合体層を形成することができる。

このような重合体層を形成することができる樹脂組成物の具体例を以下に詳述するが、本開示の光学材料は、以下の樹脂組成物によって製造された樹脂層を有するものに限定されない。
なお、上述したように、本開示の光学材料の樹脂層は、アミド基を有する。このように重合体層中にアミド基を導入する場合、アミド基を有する成分を原料の少なくとも一部として使用することが好ましい。

本開示の重合体層を形成する際に使用することができる樹脂組成物としてより具体的には、例えば、（メタ）アクリルアミド基を２つ以上有する化合物を含有する光学材料用硬化性組成物を使用することが好ましい。このような化合物を含有する光学材料用硬化性組成物は、上述したヤング率、限界歪みを好適に得ることができることができる点で好ましい。更には、アミド基を有するものであることから、密着性を良好なものとすることができる点でも好ましい。

本開示の光学材料用硬化性組成物は、（メタ）アクリルアミド基を１つ有する化合物は、実質的に使用しないことが好ましい。（メタ）アクリルアミド基を２つ以上有する化合物は、アミド基が基材２との密着性を上げ、かつ２つ以上の重合性基が分子架橋によって樹脂組成物へ強度を付与するという性能を有するものである。これによって、上述した目的を達成する上で好ましいものである。一方、（メタ）アクリルアミド基を１つ有する化合物は、アミド基が基材２との密着性を上げる一方で１つの重合性基であることから分子架橋による強度付与ができないという性質を有するために、上述した性能を有する重合体層を形成する上では実質的に使用しないことが好ましい。

なお、ここで「実質的に含有しない」とは、上述した本開示の効果を妨げるような量では存在しないことを意味している。具体的には、上述した重合体層を形成するための樹脂組成物において、１重量％未満（固形分換算）の配合量であることを意味する。上記配合量は、０．５重量％未満であることが更に好ましく、０．１重量％以下であることが最も好ましい。

上記（メタ）アクリルアミド基を２つ以上有する化合物（以下、これを「化合物（Ａ）」と記すことがある）としては、特開２０１４－１１８４４２号公報に記載の各種多官能（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルアミド基を２つ以上有するシランカップリング剤（後述する化合物（Ｐ－２）等）等が挙げられる。化合物（Ａ）としては、親水性、硬化後の架橋密度の点から、化合物（Ａ１）、化合物（Ａ２）および化合物（Ａ３）からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。

Ｒ^１１は、水素原子またはメチル基である。Ｒ^１１としては、重合反応性が良好である点から、水素原子が好ましい。
Ｒ^１２は、単結合または炭素数１～３のアルキレン基である。Ｒ^１２としては、化合物（Ａ１）を入手しやすい点から、メチレン基が好ましい。
ｒは、１～６の整数である。ｒとしては、化合物（Ａ１）を入手しやすい点から、１が好ましい。
Ｒ^１３は、炭素数１～３のアルキレン基である。Ｒ^１３としては、化合物（Ａ１）を入手しやすい点から、メチレン基が好ましい。
Ｒ^１４は、水素原子またはメチル基である。Ｒ^１４としては、重合反応性が良好である点から、水素原子が好ましい。

Ｒ^１５は、水素原子またはメチル基である。Ｒ^１５としては、重合反応性が良好である点から、水素原子が好ましい。
Ｒ^１６は、単結合または炭素数１～３のアルキレン基である。Ｒ^１６としては、化合物（Ａ２）を入手しやすい点から、プロピレン基が好ましい。
ｓは、０～６の整数である。ｓとしては、化合物（Ａ２）を入手しやすい点から、３が好ましい。
Ｒ^１７は、炭素数１～３のアルキレン基である。Ｒ^１７としては、化合物（Ａ２）を入手しやすい点から、メチレン基が好ましい。
Ｒ^１８は、水素原子またはメチル基である。Ｒ^１８としては、重合反応性が良好である点から、水素原子が好ましい。

Ｒ^１９は、水素原子またはメチル基である。Ｒ^１９としては、重合反応性が良好である点から、水素原子が好ましい。
Ｒ^２０は、単結合または炭素数１～６のアルキレン基である。Ｒ^２０としては、化合物（Ａ３）を入手しやすい点から、エチレン基が好ましい。
Ｒ^２１は、水素原子またはメチル基である。Ｒ^２１としては、重合反応性が良好である点から、水素原子が好ましい。
ｔは、１～６の整数である。ｔとしては、化合物（Ａ３）を入手しやすい点から、１または２が好ましい。
Ｒ^２２は、水素原子またはメチル基である。Ｒ^２２としては、重合反応性が良好である点から、水素原子が好ましい。

化合物（Ａ１）の具体例としては、化合物（Ａ１－１）、化合物（Ａ１－２）等が挙げられる。

化合物（Ａ２）の具体例としては、化合物（Ａ２－１）、化合物（Ａ２－２）、化合物（Ａ２－３）、化合物（Ａ２－４）、化合物（Ａ２－５）、化合物（Ａ２－６）等が挙げられる。

化合物（Ａ３）の具体例としては、化合物（Ａ３－１）、化合物（Ａ３－２）等が挙げられる。

化合物（Ａ１－１）の市販品としては、富士フィルム社製のＦＡＭ－４０１が挙げられる。
化合物（Ａ２－１）の市販品としては、富士フィルム社製のＦＡＭ－２０１が挙げられる。
化合物（Ａ３－１）の市販品としては、富士フィルム社製のＦＡＭ－３０１が挙げられる。
化合物（Ａ３－２）の市販品としては、富士フィルム社製のＦＡＭ－４０２が挙げられる。
化合物（Ａ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

上述したように、本開示の光学材料用硬化性組成物は、単官能（メタ）アクリルアミド単量体を実質的に含有しないことが好ましい。含有しないことが好ましい単官能（メタ）アクリルアミド単量体としては、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド、Ｎ－アクリロイルモルホリン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアクリルアミド、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）アクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、Ｎ－ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド等が挙げられる。

光学材料用硬化性組成物中の上記成分Ａの含有率は、有効成分換算で１～４０重量％であることが好ましい。上記下限は、５重量％であることがより好ましく、１０重量％であることが最も好ましい。上記上限は、３５重量％であることがより好ましく、３０重量％であることが最も好ましい。

光学材料用硬化性組成物は、更に、多官能アクリレート（以下、これを「成分Ｂ」と記載することがある）を含有することが好ましい。
成分Ｂ（多官能アクリレート）は、アクリロイル基を少なくとも有し、かつ、アクリロイル基とアクリロイル基以外の重合性官能基とを１分子当たり合計で２個以上有するアクリレートを指す。アクリロイル基以外の重合性官能基は、メタクリロイル基、ビニル基、ビニルエーテル基、及び、アリル基からなる群より選択される少なくとも一種の官能基を指す。

光学材料用硬化性組成物中の成分Ｂの含有率は、有効成分換算で、７５～９８重量％であり、好ましくは８０～９７．５重量％、より好ましくは８５～９５重量％である。光学材料用硬化性組成物中の成分Ｂの含有率が有効成分換算で７５重量％未満である場合、重合体層の硬度が高くなり過ぎてしまうため、耐擦性が低下する。光学材料用硬化性組成物中の成分Ｂの含有率が有効成分換算で９８重量％よりも高い場合、重合体層の架橋密度が低くなり過ぎてしまうため、耐擦性が低下する。光学材料用硬化性組成物が成分Ｂを複数種類含有する場合、複数の成分Ｂの含有率の合計が有効成分換算で上記範囲内であればよい。

成分Ｂの官能基数は、２以上であり、好ましくは４以上、より好ましくは６以上である。成分Ｂの官能基数が多過ぎると、分子量が多くなるために成分Ａとの相溶性が低下し、光学材料用硬化性組成物及び光学材料の透明性が低下することがある。また、光学材料用硬化性組成物の硬化収縮等によって密着性も低下することがある。このような観点から、成分Ｂの官能基数の好ましい上限値は１０である。ここで、成分Ｂの官能基数は、アクリロイル基とアクリロイル基以外の重合性官能基との１分子当たりの合計数（アクリロイル基は１個以上）を指す。

成分Ｂとしては、例えば、ウレタンアクリレート、エトキシ化ポリグリセリンポリアクリレート、アルコキシ化ジペンタエリスリトールポリアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化（６）トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、アクリル酸２－（２－ビニロキシエトキシ）エチル、ポリエチレングリコール（３００）ジアクリレート、ポリエチレングリコール（４００）ジアクリレート、ポリプロピレングリコール（４００）ジアクリレート、ポリプロピレングリコール（７００）ジアクリレート等が挙げられる。

ウレタンアクリレートの公知例としては、新中村化学工業社製の「Ｕ－１０ＨＡ」（官能基数：１０、エチレンオキサイド基の個数：０個（有さない））、日本化薬社製の「ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標） ＵＸ－５０００」（官能基数：６、エチレンオキサイド基の個数：０個（有さない））等が挙げられる。エトキシ化ポリグリセリンポリアクリレートの公知例としては、新中村化学工業社製の「ＮＫエコノマー（登録商標）Ａ－ＰＧ５０２７Ｅ」（官能基数：９、エチレンオキサイド基の個数：１分子当たり２７個）等が挙げられる。アルコキシ化ジペンタエリスリトールポリアクリレートの公知例としては、日本化薬社製の「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ－６０」（官能基数：６、エチレンオキサイド基の個数：０個（有さない））、「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＥＡ－１２」（官能基数：６、エチレンオキサイド基の個数：１分子当たり１２個）等が挙げられる。エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレートの公知例としては、新中村化学工業社製の「ＮＫエステルＡＴＭ－３５Ｅ」（官能基数：４、エチレンオキサイド基の個数：１分子当たり３５個）等が挙げられる。プロポキシ化ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレートの公知例としては、新中村化学工業社製の「ＮＫエステルＡＴＭ－４ＰＬ」（官能基数：４、エチレンオキサイド基の個数：０個（有さない））等が挙げられる。トリメチロールプロパントリアクリレートの公知例としては、アルケマ社製の「ＳＲ３５１ＮＳ」（官能基数：３、エチレンオキサイド基の個数：０個（有さない））等が挙げられる。エトキシ化（６）トリメチロールプロパントリアクリレートの公知例としては、アルケマ社製の「ＳＲ４９９ＮＳ」（官能基数：３、エチレンオキサイド基の個数：１分子当たり６個）等が挙げられる。エトキシ化グリセリントリアクリレートの公知例としては、新中村化学工業社製の「ＮＫエステルＡ－ＧＬＹ－３Ｅ」（官能基数：３、エチレンオキサイド基の個数：１分子当たり３個）等が挙げられる。アクリル酸２－（２－ビニロキシエトキシ）エチルの公知例としては、日本触媒社製の「ＶＥＥＡ」（官能基数：２、エチレンオキサイド基の個数：１分子当たり２個）等が挙げられる。ポリエチレングリコール（３００）ジアクリレートの公知例としては、第一工業製薬社製の「ニューフロンティア（登録商標）ＰＥ－３００」（官能基数：２、エチレンオキサイド基の個数：１分子当たり６個）等が挙げられる。ポリエチレングリコール（４００）ジアクリレートの公知例としては、アルケマ社製の「ＳＲ３４４」（官能基数：２、エチレンオキサイド基の個数：１分子当たり９個）等が挙げられる。ポリプロピレングリコール（４００）ジアクリレートの公知例としては、新中村化学工業社製の「ＮＫエステルＡＰＧ－４００」（官能基数：２、エチレンオキサイド基の個数：０個（有さない））等が挙げられる。ポリプロピレングリコール（７００）ジアクリレートの公知例としては、新中村化学工業社製の「ＮＫエステルＡＰＧ－７００」（官能基数：２、エチレンオキサイド基の個数：０個（有さない））等が挙げられる。ここで、アクリル酸２－（２－ビニロキシエトキシ）エチルは、重合性官能基としてビニルエーテル基及びアクリロイル基を有する異種重合性モノマーである（官能基数：２）。

光学材料用硬化性組成物中の上記成分Ｂの含有率は、有効成分換算で６０～９９重量％であることが好ましい。上記下限は、７０重量％であることがより好ましく、８０重量％であることが最も好ましい。上記上限は、９５重量％であることがより好ましく、９０重量％であることが最も好ましい。

成分Ｂは、エチレンオキサイド基を１分子当たり２～１０個有する２官能アクリレート（以下、単に、２官能アクリレートとも言う。）を含み、光学材料用硬化性組成物は、有効成分換算で、上記２官能アクリレートを３０～９０重量％含有するものであってもよい。上記２官能アクリレートは、ガラス転移温度が低く、より適度な弾性を重合体層に付与できるため、耐擦性が高まる。また、上記２官能アクリレートは、粘度が低いために成分Ａとの相溶性が高く、相溶化剤としても機能できる。更に、上記２官能アクリレートによれば、エチレンオキサイド基の高い極性によって基材２との相互作用が高まり、その結果、密着性が高まる点で好ましい。以上により、光学材料用硬化性組成物中の上記２官能アクリレートの含有率を、有効成分換算で上記範囲内とすることで、耐擦性及び密着性がより高まる。

上記２官能アクリレートにおいて、１分子当たりのエチレンオキサイド基の個数は、好ましくは２～１０個、より好ましくは２～９個である。

光学材料用硬化性組成物中の上記２官能アクリレートの含有率は、有効成分換算で、好ましくは３０～９０重量％、より好ましくは３５～８５重量％、更に好ましくは３９～８１重量％である。

更に、本開示の光学材料は、防汚剤を使用したものであってもよい。本明細書では、以下、これを「成分Ｃ」と記載することがある。当該防汚剤は、上記重合体層中に含まれるものであってもよいし、重合体層とは別に防汚剤層を形成するものであってもよい。上記重合体層が防汚剤を含有するものとする場合は、重合体層の形成に使用するための光学材料用硬化性組成物として防汚剤を含有するものを使用すればよい。

上記防汚剤としては、フッ素型防汚剤を使用することが好ましい。より好ましくは、パーフルオロポリエーテル基を有するフッ素系防汚剤、及び、パーフルオロアルキル基を有するフッ素系防汚剤からなる群より選択される少なくとも一の防汚剤を含むことが好ましい。
パーフルオロポリエーテル基を有するフッ素系防汚剤は、フッ素系防汚剤中のフッ素含有モノマーが動きやすく、重合体層の表面（基材層とは反対側の表面）の滑り性が高まりやすいため、耐擦性が高まりやすい。
パーフルオロアルキル基を有するフッ素系防汚剤によれば、分子量が少ないために、重合体層の表面（基材層とは反対側の表面）に配向（移行）しやすく、配合量が少なくても、所望の防汚性及び耐擦性が得られやすい。これらのフッ素系防汚剤を使用すると、フッ素系防汚剤以外の種類の防汚剤（例えば、シリコン系防汚剤、リン酸エステル系防汚剤等）と比較して、防汚性及び耐擦性がより高まる。

防汚剤は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基及び硬化性部位（例えば、アクリレート基）を有する化合物を含むことがより好ましい。具体的には、防汚剤は、成分（Ｃ－１）ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートと成分（Ｃ－２）活性水素を有する化合物との反応物である炭素－炭素二重結合含有化合物（パーフルオロポリエーテル系化合物）を含むことが好ましい。

成分（Ｃ－１）は、ジイソシアネートを三量体化することにより得ることができるポリイソシアネートである。ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートは、これらが重合した重合体として存在していてもよい。

成分（Ｃ－１）のジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートは、好ましくは、イソシアヌレート型ポリイソシアネートであり得る。イソシアヌレート型ポリイソシアネートは、これらが重合した重合体として存在していてもよい。すなわち、イソシアヌレート型ポリイソシアネートは、イソシアヌレート環を１つのみ有する単環式化合物であってもよく、この単環式化合物が重合して得られる多環式化合物であってもよく、これらの混合物であってもよい。イソシアヌレート型ポリイソシアネートのうち公知のものとしては、例えば、住友バイエルウレタン社製の「スミジュール（登録商標）Ｎ３３００」が挙げられる。

成分（Ｃ－１）ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートを得るために用いられるジイソシアネートとしては、特に限定されないが、イソシアネート基が脂肪族基に結合したジイソシアネート、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート；イソシアネート基が芳香族基に結合したジイソシアネート、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートが挙げられる。

成分（Ｃ－１）ジイソシアネートの三量体であるポリイソシアネートとしては、特に限定されるものではないが、例えば、下記式（Ｃ－１－１）、（Ｃ－１－２）、（Ｃ－１－３）、又は、（Ｃ－１－４）で表される構造を有する化合物が挙げられる。

上述したように、これらのポリイソシアネートは重合体として存在していてもよく、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型ポリイソシアネートである場合、下記式（Ｃ－１－５）で表される構造を有する重合体として存在していてもよい。

成分（Ｃ－２）は、成分（Ｃ－２－１）活性水素を有するパーフルオロポリエーテルと、成分（Ｃ－２－２）炭素－炭素二重結合を含有する基及び活性水素を有するモノマーとを含むものとすることができる。

成分（Ｃ－２－１）は、下記式（Ｃ－２－１ｉ）及び（Ｃ－２－１ｉｉ）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物であることが好ましい。成分（Ｃ－２）によれば、光学材料の防汚性及び耐擦性（滑り性）が高まる。
Ｒｆ－ＰＦＰＥ^１－Ｚ－Ｘ （Ｃ－２－１ｉ）
Ｘ－Ｚ－ＰＦＰＥ^２－Ｚ－Ｘ （Ｃ－２－１ｉｉ）

上記式（Ｃ－２－１ｉ）及び（Ｃ－２－１ｉｉ）中、Ｒｆは、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６の（例えば、直鎖状又は分枝鎖状の）アルキル基であり、好ましくは、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～３の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基である。Ｒｆは、直鎖状であることが好ましい。また、１つ以上のフッ素原子により置換されていてもよいアルキル基は、好ましくは、末端炭素原子がＣＦ_２Ｈ－であり、かつ、他のすべての炭素原子がフッ素原子により全置換されているフルオロアルキル基又はパーフルオロアルキル基であり、より好ましくはパーフルオロアルキル基であり、具体的には、－ＣＦ_３、－ＣＦ_２ＣＦ_３、又は、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式（Ｃ－２－１ｉ）及び（Ｃ－２－１ｉｉ）中、ＰＦＰＥ^１は、下記式（Ｃ－２－１ａ）、（Ｃ－２－１ｂ）、又は、（Ｃ－２－１ｃ）で表される基である。
－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ－ （Ｃ－２－１ａ）
（上記式（Ｃ－２－１ａ）中、ｂは、１～２００の整数であり、好ましくは５～２００の整数であり、より好ましくは１０～２００の整数である。）
－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ－（ＯＣＦ_２）_ｄ－ （Ｃ－２－１ｂ）
（上記式（Ｃ－２－１ｂ）中、ａ及びｂは、各々独立して、０～３０の整数である。ｃ及びｄは、各々独立して、１～２００の整数であり、好ましくは５～２００の整数、より好ましくは１０～２００の整数である。ａ、ｂ、ｃ、又は、ｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、上記式（Ｃ－２－１ｂ）中において任意である。）
－（ＯＣ_２Ｆ_４－Ｒ^５）_ｉ－ （Ｃ－２－１ｃ）
（上記式（Ｃ－２－１ｃ）中、Ｒ^５は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、又は、ＯＣ_４Ｆ_８である。ｉは、２～１００の整数であり、好ましくは２～５０の整数である。）

一態様において、上記式（Ｃ－２－１ｉ）及び（Ｃ－２－１ｉｉ）中、ＰＦＰＥ^１は、上記式（Ｃ－２－１ａ）又は（Ｃ－２－１ｃ）で表される基であってもよく、好ましくは、上記式（Ｃ－２－１ａ）で表される基である。このようなＰＦＰＥ^１を含有することにより、光学材料の防汚性がより高まる。

上記式（Ｃ－２－１ｉ）及び（Ｃ－２－１ｉｉ）中、ＰＦＰＥ^２は、下記式（Ｃ－２－１ｄ）又は（Ｃ－２－１ｅ）で表される基であり、好ましくは、下記式（Ｃ－２－１ｄ）で表される基である。
－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ－ （Ｃ－２－１ｄ）
（上記式（Ｃ－２－１ｄ）中、ｂは、１～２００の整数であり、好ましくは５～２００の整数であり、より好ましくは１０～２００の整数である。）
－（ＯＣ_２Ｆ_４－Ｒ^５）_ｉ－ （Ｃ－２－１ｅ）
（上記式（Ｃ－２－１ｅ）中、Ｒ^５は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、又は、ＯＣ_４Ｆ_８である。ｉは、２～１００の整数であり、好ましくは２～５０の整数である。）

上記式（Ｃ－２－１ｉ）及び（Ｃ－２－１ｉｉ）中、Ｚは、各々独立して、二価の有機基である。Ｚは、好ましくはＲ^１である。Ｒ^１は、各々独立して、下記式（Ｄ１１）で表される基である。
－（Ｙ）_ｆ－（ＣＲ^３ _２）_ｊ－ （Ｄ１１）

上記式（Ｄ１１）中、Ｙは、二価の極性基である。二価の極性基としては、特に限定されないが、例えば、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＳ－、－ＳＣＯ－、－Ｏ－等が挙げられ、好ましくは、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ－、又は、－Ｏ－である。

上記式（Ｄ１１）中、Ｒ^３は、各出現において、各々独立して、水素原子又はフッ素原子である。

上記式（Ｄ１１）中、ｆは、０～５０の整数であり、好ましくは０～２０の整数（例えば、１～２０の整数）である。ｊは、０～１００の整数であり、好ましくは０～４０の整数（例えば、１～４０の整数）である。ｆ及びｊの和は、１以上である。ｆ及びｊを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、上記式（Ｄ１１）中において任意である。

上記式（Ｄ１１）で表されるＲ^１は、好ましくは、各々独立して、下記式（Ｄ１２）で表される基である。
－（Ｙ）_ｆ－（ＣＦ_２）_ｇ－（ＣＨ_２）_ｈ－ （Ｄ１２）

上記式（Ｄ１２）中、Ｙ及びｆは、上記式（Ｄ１１）中のＹ及びｆと互いに同意義である。ｇ及びｈは、各々独立して、０～５０の整数であり、好ましくは０～２０の整数（例えば、１～２０の整数）である。ｆ、ｇ、及び、ｈの和は、１以上であり、好ましくは１～１０である。ｆ、ｇ、及び、ｈは、０～２の整数であることがより好ましく、ｆ＝０又は１、ｇ＝２、ｈ＝０又は１であることが更に好ましい。また、ｆ、ｇ、及び、ｈを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、上記式（Ｄ１２）中において任意である。

上記式（Ｃ－２－１ｉ）及び（Ｃ－２－１ｉｉ）中、Ｘは、活性水素含有基である。Ｘは、好ましくは、各々独立して、－ＯＨ基、－Ｃ（＝Ｏ）Ｈ基、－ＳＨ基、－ＳＯ_３Ｈ基、－ＳＯ_２Ｈ基、－ＳＯＨ基、－ＮＨ_２基、－ＮＨ－基、又は、－ＳｉＨ基であり、より好ましくは、－ＯＨ基、又は、－ＮＨ_２基であり、更に好ましくは、－ＯＨ基である。

成分（Ｃ－２）は、好ましくは、下記式（Ｃ－２－１ｉ’）及び（Ｃ－２－１ｉｉ’）のうちの一方で表される少なくとも１種の化合物であり、より好ましくは、下記式（Ｃ－２－１ｉ’）で表される少なくとも１種の化合物である。成分（Ｃ－２）が下記式（Ｃ－２－１ｉ’）で表される少なくとも１種の化合物である場合、ＰＦＰＥ^１は、好ましくは、上記式（Ｃ－２－１ａ）で表される基である。下記式（Ｃ－２－１ｉ’）で表される化合物によれば、光学材料の耐擦性がより高まる。
Ｒｆ－ＰＦＰＥ^１－Ｒ^１－ＣＨ_２ＯＨ （Ｃ－２－１ｉ’）
ＨＯＣＨ_２－Ｒ^１－ＰＦＰＥ^２－Ｒ^１－ＣＨ_２ＯＨ （Ｃ－２－１ｉｉ’）

上記式（Ｃ－２－１ｉ’）及び（Ｃ－２－１ｉｉ’）中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ^１、及び、ＰＦＰＥ^２は、上記式（Ｃ－２－１ｉ）及び（Ｃ－２－１ｉｉ）中のＲｆ、ＰＦＰＥ^１、及び、ＰＦＰＥ^２と互いに同意義である。上記式式（Ｃ－２－１ｉ’）及び（Ｃ－２－１ｉｉ’）中、Ｒ^１は、上記式（Ｄ１１）で表されるＲ^１と同意義である。

成分（Ｃ－２－１）活性水素を有するパーフルオロポリエーテルは、パーフルオロポリエーテル基に加えて、１つの分子末端に１つの活性水素含有基（例えば、水酸基）を有する、又は、２つの分子末端の各々に１つの活性水素含有基水酸基を有する化合物である。パーフルオロポリエーテル基を有する化合物によれば、光学材料の防汚性（例えば、撥水性、撥油性、指紋拭き取り性等）が高まる。

成分（Ｃ－２－１）活性水素を有するパーフルオロポリエーテルの数平均分子量は、特に限定されないが、好ましくは５００～１２０００であり、より好ましくは１０００～１００００であり、更に好ましくは１５００～８０００である。

成分（Ｃ－２－２）炭素－炭素二重結合を含有する基及び活性水素を有するモノマーは、その分子末端に少なくとも１つ（好ましくは１つ）の活性水素含有基（好ましくは水酸基）を有する。

成分（Ｃ－２－２）炭素－炭素二重結合を含有する基及び活性水素を有するモノマーは、好ましくは、炭素－炭素二重結合を含有する基として、下記式（Ｄ１３）で表される基を有する。
－ＯＣ（Ｏ）－ＣＲ_２＝ＣＨ_２ （Ｄ１３）

上記式（Ｄ１３）中、Ｒ^２は、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基であり、好ましくは水素原子又は炭素数１～３のアルキル基であり、より好ましくは水素原子又はメチル基である。ここで、Ｒ^２が水素原子又はメチル基である基、すなわち、－ＯＣ（Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ_２、又は、－ＯＣ（Ｏ）－ＣＣＨ_３＝ＣＨ_２は、総称して「（メタ）アクリレート基」とも称される。

成分（Ｃ－２－２）としては、特に限定されるものではないが、例えば、下記の化合物：
ＨＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２）_ｉＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２ （Ｄ１４）
（上記式（Ｄ１４）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。ｉは、２～１０の整数である。）、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート；
ＣＨ_３ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２ （Ｄ１５）
（上記式（Ｄ１５）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。）、例えば、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；
ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２ （Ｄ１６）
（上記式（Ｄ１６）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。）、例えば、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート；
Ｃ_６Ｈ_５ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２ （Ｄ１７）
（上記式（Ｄ１７）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。）、例えば、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート；
ＨＯＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２）_３ （Ｄ１８）
（上記式（Ｄ１８）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。）、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート；
Ｃ（ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２）_３ＣＨ_２ＯＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２）_２ＣＨ_２ＯＨ （Ｄ１９）
（上記式（Ｄ１９）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。）、例えば、ジペンタエリスリトールポリアクリレート；
ＨＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣ_６Ｈ_５ＯＣＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２ （Ｄ２０）
（上記式（Ｄ２０）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。）、例えば、２－アクリロイロキシエチル－２－ヒドロキシエチルフタル酸；
Ｈ（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｎＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２ （Ｄ２１）
（上記式（Ｄ２１）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。ｎは、１～３０の整数である。）、例えば、ポリ（エチレングリコール）アクリレート；
Ｈ（ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２）_ｎＯＣＯ（Ｒ）Ｃ＝ＣＨ_２ （Ｄ２２）
（上記式（Ｄ２２）中、Ｒは、水素原子、塩素原子、フッ素原子、又は、フッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルキル基である。ｎは、１～３０の整数である。）、例えば、ポリ（プロピレングリコール）アクリレート；
アリルアルコール；
ＨＯ（ＣＨ_２）_ｋＣＨ＝ＣＨ_２ （Ｄ２３）
（上記式（Ｄ２３）中、ｋは２～２０の整数である。）；
（ＣＨ_３）_３ＳｉＣＨ（ＯＨ）ＣＨ＝ＣＨ_２；及び、
スチリルフェノール
が挙げられる。

一態様において、成分（Ｃ－２）は、成分（Ｃ－２－１）及び成分（Ｃ－２－２）からなっていてもよい。

防汚剤に含まれる炭素－炭素二重結合含有化合物は、一分子のトリイソシアネートに、異なる種類の成分（Ｃ－２－１）由来の基を有していてもよい。また、一分子のトリイソシアネートに、異なる種類の（例えば、異なる数の炭素－炭素二重結合を有する）成分（Ｃ－２－２）由来の基を有していてもよい。

防汚剤は、１種以上の炭素－炭素二重結合含有化合物を含んでいてもよい。例えば、防汚剤は、成分（Ｃ－１）と、成分（Ｃ－２－１）としての化合物Ｃ－２－１及び成分（Ｃ－２－２）としての化合物Ｃ－２－２とを反応させた化合物、並びに、成分（Ｃ－１）と、成分（Ｃ－２－１）としての化合物（Ｃ－２－１ｉ’）及び成分（Ｃ－２－２）としての化合物（Ｃ－２－１ｉｉ’）とを反応させた化合物の混合物であってもよい。これらの化合物は同時に合成されてもよく、別個に合成され、その後混合してもよい。

防汚剤のうち公知のものとしては、例えば、ダイキン工業社製の「オプツール（登録商標）ＤＡＣ」及び「オプツールＤＡＣ－ＨＰ」、信越化学工業社製の「ＫＹ－１２０３」及び「ＫＮＳ５３００」、ＤＩＣ社製の「メガファック（登録商標）ＲＳ－７５」、「メガファックＲＳ－７２－Ｋ」、「メガファックＲＳ－７６－Ｅ」、「メガファックＲＳ－７６－ＮＳ」、「メガファックＲＳ－９０」、「ディフェンサ（登録商標）ＴＦ３０２８」、「ディフェンサＴＦ３００１」、及び、「ディフェンサＴＦ３０００」、新中村化学工業社製の「ＳＵＡ１９００Ｌ１０」及び「ＳＵＡ１９００Ｌ６」、ソルベイ社製の「フルオロリンク（登録商標）Ｐ５６」、「フルオロリンクＰ５４」、「フルオロリンクＦ１０」、「フルオロリンクＡ１０Ｐ」、「フルオロリンクＡＤ１７００」、「フルオロリンクＭＤ７００」、及び、「フルオロリンクＥ１０Ｈ」等が挙げられる。

上記光学材料用硬化性組成物中の防汚剤の有効成分の含有率は、好ましくは０．１～１０重量％であり、より好ましくは０．５～５重量％である。上記光学材料用硬化性組成物中の防汚剤の有効成分の含有率が０．１重量％未満である場合、重合体層の表面（基材２とは反対側の表面）における防汚剤の有効成分の量が少なくなり過ぎてしまい、防汚性が不充分となり、更に、耐擦性が低下する懸念がある。樹脂中の防汚剤の有効成分の含有率が１０重量％よりも高い場合、重合体層の表面（基材２とは反対側の表面）における防汚剤の有効成分の量が多くなり過ぎてしまうため、重合体層（凸部）の弾性が不足し、重合体層の表面（基材２とは反対側の表面）を擦ると、倒れた凸部が起き上がりにくくなる（復元しにくくなる）。その結果、耐擦性が低下する懸念がある。

上記光学材料用硬化性組成物は、更に、上述した防汚剤と相溶する相溶化剤を含んでいてもよい。相溶化剤によれば、上記光学材料用硬化性組成物中において、防汚剤が多量に含有される場合であっても、白濁の発生を防止することができる。

相溶化剤としては、例えば、Ｎ－アクリロイルモルホリン（例えば、ＫＪケミカルズ社製の「ＡＣＭＯ（登録商標）」）、Ｎ，Ｎ－ジエチルアクリルアミド（例えば、ＫＪケミカルズ社製の「ＤＥＡＡ（登録商標）」）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド（例えば、ＫＪケミカルズ社製の「ＤＭＡＡ（登録商標）」）、テトラヒドロフルフリルアクリレート（例えば、大阪有機化学工業社製の「ビスコート＃１５０」）、環状トリメチロールプロパンホルマールアクリレート（例えば、大阪有機化学工業社製の「ビスコート＃２００」）、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート（例えば、日本化成社製の「４ＨＢＡ」）、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、ステアリルアクリレート、ラウリルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、１，３－ブタンジオールジアクリレート、１，４－ブタンジオールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、ペンタアエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グリシジルアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレート、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ－ビニルピロリドン、ジメチルアミノエチル（メタ）クリレートシリコン系のアクリレート、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，４，４，５，５－オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ｎ－ペンチル（メタ）アクリレート、３－メチルブチル（メタ）アクリレート、ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチル－ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、５－ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６－ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３－クロロ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、（１，１－ジメチル－３－オキソブチル）（メタ）アクリルレート、２－アセトアセトキシエチル（メタ）アクリレート、２－メトキシエチル（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３－クロロ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、１，９－ノナンジオールジアクリレート、１，１０－デカンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等が挙げられる。相溶化剤としては、アミド基、エーテル基、水酸基等の極性基を有する単官能モノマーが好ましい。樹脂３において、相溶化剤は、防汚剤に含まれていてもよく、防汚剤以外の成分に含まれていてもよく、両者に含まれていてもよい。

上記光学材料用硬化性組成物中の相溶化剤の含有率は、好ましくは１０～４０重量％であり、より好ましくは２０～３０重量％である。樹脂３中の相溶化剤の含有率が１０重量％未満である場合、防汚剤の相溶化剤への溶解性が低下する懸念がある。樹脂３中の相溶化剤の含有率が４０重量％よりも高い場合、重合体層６が軟らかく、弾性が低くなる懸念がある。その結果、光学材料の耐擦性が低下する懸念がある。

光学材料用硬化性組成物は、更に、重合開始剤を含有していてもよい。これにより、光学材料用硬化性組成物の硬化性が高まる。

重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤、熱重合開始剤等が挙げられ、中でも、光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤は、活性エネルギー線に対して活性であり、モノマーを重合する重合反応を開始させるために添加されるものである。

光重合開始剤としては、例えば、ラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合開始剤等が挙げられる。このような光重合開始剤としては、例えば、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルトリクロロアセトフェノン、２，２’－ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン等のアセトフェノン類；ベンゾフェノン、４，４’－ビスジメチルアミノベンゾフェノン、２－クロロチオキサントン、２－メチルチオキサントン、２－エチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン等のケトン類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類；ベンジルジメチルケタール、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のベンジルケタール類；２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド類；１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン等のアルキルフェノン類、等が挙げられる。

２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－フォスフィンオキサイドの公知例としては、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製の「ＬＵＣＩＲＩＮ（登録商標） ＴＰＯ」、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ＴＰＯ」等が挙げられる。ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイドの公知例としては、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９」等が挙げられる。１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトンの公知例としては、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４」等が挙げられる。

光学材料用硬化性組成物は、更に、溶剤（有効成分以外の成分）を含有していてもよい。
溶剤としては、例えば、アルコール（炭素数１～１０：例えば、メタノール、エタノール、ｎ－又はｉ－プロパノール、ｎ－、ｓｅｃ－、又は、ｔ－ブタノール、ベンジルアルコール、オクタノール等）、ケトン（炭素数３～８：例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ジブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エステル又はエーテルエステル（炭素数４～１０：例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等）、γ－ブチロラクトン、エチレングリコールモノメチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルアセテート、エーテル（炭素数４～１０：例えば、ＥＧモノメチルエーテル（メチルセロソロブ）、ＥＧモノエチルエーテル（エチルセロソロブ）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソロブ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、芳香族炭化水素（炭素数６～１０：例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、アミド（炭素数３～１０：例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等）、ハロゲン化炭化水素（炭素数１～２：例えば、メチレンジクロライド、エチレンジクロライド等）、石油系溶剤（例えば、石油エーテル、石油ナフサ等）等が挙げられる。

基材層の材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボナート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等の樹脂が挙げられる。基材層は、上記材料に加えて、可塑剤等の添加剤を適宜含んでいてもよい。基材層の表面（重合体層側の表面）には易接着処理（例えば、プライマー処理）が施されていてもよく、例えば、易接着処理が施されたトリアセチルセルロースフィルムを用いることができる。また、基材層の表面（重合体層側の表面）にはケン化処理が施されていてもよく、例えば、ケン化処理が施されたトリアセチルセルロースフィルムを用いることができる。光学材料が液晶表示装置等の偏光板を備える表示装置に取り付けられるものである場合、基材層は、偏光板の一部を構成するものであってもよい。

基材層の厚みは、透明性及び加工性を確保する観点から、好ましくは５０～１００μｍであることが好ましい。

本開示の光学材料は、例えば、以下の製造方法によって製造される。図２は、実施形態の光学材料の製造方法例を説明するための断面模式図である。

（工程１）
図２（ａ）に示すように、光学材料用硬化性組成物５を基材層の表面上に塗布する。

光学材料用硬化性組成物５の塗布方法としては、例えば、スプレー方式、グラビア方式、スロットダイ方式、バーコート方式等で塗布する方法が挙げられる。光学材料用硬化性組成物５の塗布方法としては、膜厚を均一にし、生産性を向上する観点から、グラビア方式又はスロットダイ方式で塗布する方法が好ましい。

光学材料用硬化性組成物５は、上述した各成分を含有するものである。ここで、光学材料用硬化性組成物５が溶剤（有効成分以外の成分）を更に含有する場合、光学材料用硬化性組成物５の塗布後に、溶剤を除去する加熱処理（乾燥処理）を行ってもよい。加熱処理は、溶剤の沸点以上の温度で行われることが好ましい。

（工程２）
図２（ｂ）に示すように、光学材料用硬化性組成物５を間に挟んだ状態で、基材層を金型６に押し当てる。その結果、凹凸構造が光学材料用硬化性組成物５の表面（基材層とは反対側の表面）に形成される。

（工程３）
凹凸構造を表面に有する光学材料用硬化性組成物５を硬化させる。その結果、図２（ｃ）に示すように、重合体層が形成される。

光学材料用硬化性組成物５の硬化方法としては、例えば、活性エネルギー線の照射、加熱等による方法が挙げられる。光学材料用硬化性組成物５の硬化は、活性エネルギー線の照射によって行われることが好ましく、中でも、紫外線の照射によって行われることがより好ましい。活性エネルギー線の照射は、光学材料用硬化性組成物５の基材層側から行ってもよく、光学材料用硬化性組成物５の金型６側から行ってもよい。また、光学材料用硬化性組成物５に対する活性エネルギー線の照射回数は、１回のみであってもよいし、複数回であってもよい。光学材料用硬化性組成物５の硬化（上記工程３）は、光学材料用硬化性組成物５への凹凸構造の形成（上記工程２）と同じタイミングで行ってもよい。

（工程４）
図２（ｄ）に示すように、金型６を重合体層から剥離する。その結果、光学材料が完成する。

図２に示した製造方法例において、例えば、基材層をロール状にすれば、上記工程１～４を連続的かつ効率的に行うことができる。

上記工程１、２について、本製造方法例では、光学材料用硬化性組成物５を基材層の表面上に塗布した後、光学材料用硬化性組成物５を間に挟んだ状態で、基材層を金型６に押し当てる工程を示したが、光学材料用硬化性組成物５を金型６の表面上に塗布した後、光学材料用硬化性組成物５を間に挟んだ状態で、基材層を金型６に押し当てる工程であってもよい。また、上記工程１～４のような一連の工程を、「金型の転写」とも呼ぶ。

また、防汚剤層を重合体層とは別に設ける場合は、上記工程１を行った後で、防汚剤を含有する組成物を塗布・乾燥する工程を設けてもよい。

金型６としては、例えば、下記の方法で作製されるものを用いることができる。まず、金型６の材料となるアルミニウムを、支持基材の表面上にスパッタリング法によって成膜する。次に、成膜されたアルミニウムの層に対して、陽極酸化及びエッチングを交互に繰り返すことによって、モスアイ構造の雌型（金型６）を作製することができる。この際、陽極酸化を行う時間、及び、エッチングを行う時間を調整することによって、金型６の凹凸構造を変化させることができる。

支持基材の材料としては、例えば、ガラス；ステンレス、ニッケル等の金属；ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、環状オレフィン系高分子（代表的には、ノルボルネン系樹脂等である、日本ゼオン社製の「ゼオノア（登録商標）」、ＪＳＲ社製の「アートン（登録商標）」）等のポリオレフィン系樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース等の樹脂、等が挙げられる。また、支持基材の表面上にアルミニウムを成膜したものの代わりに、アルミニウム製の基材を用いてもよい。

金型６の形状としては、例えば、平板状、ロール状等が挙げられる。

金型６の表面は、離型処理が施されていることが好ましい。これにより、金型６を重合体層から容易に剥離することができる。また、金型６の表面自由エネルギーが低くなるため、上記工程２において、基材層を金型６に押し当てる際に、成分Ｂ中の有効成分を光学材料用硬化性組成物５の表面（基材層とは反対側の表面）に均一に配向させることができる。

金型６の離型処理に用いられる材料（離型処理剤）としては、例えば、フッ素系材料、シリコン系材料、リン酸エステル系材料等が挙げられる。フッ素系材料の公知例としては、ダイキン工業社製の「オプツールＤＳＸ」、「オプツールＡＥＳ４」等が挙げられる。

上記光学材料の製造方法においても、上述した光学材料と同様の、厚み、凸部のピッチ、凸部の高さ、凸部のアスペクト比を有するものとすることが好ましい。

以下、本開示を実施例に基づいて具体的に説明するが、本開示はこれらの例によって限定されるものではない。以下の実施例においては特に言及しない場合は、「部」「％」はそれぞれ「重量部」「重量％」を表す。

＜限界歪みとヤング率＞
限界歪みの評価は、次のようにして行った。硬化樹脂を、ダンベル状７号形（ＪＩＳ Ｋ６２５１－５）の試験片として、ＪＩＳ Ｋ７１６１法にしたがい２５℃で引張速度６０ｍｍ／分で引張試験した際に、硬化樹脂の割れが生じる硬化樹脂破断点伸びを測定した。限界歪みは、（硬化樹脂の割れが生じたときの硬化樹脂の長さ－硬化樹脂の元の長さ）／硬化樹脂の元の長さ×１００から算出した。
硬化樹脂をダンベル状７号形（ＪＩＳ Ｋ６２１５－５）の試験片とし、オートグラフ（島津製作所社製、ＡＧＳ－１００ＮＸ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１６１法にしたがい２５℃で試験片を６０mm／分の引張速度で引張り試験を行い、１Ｎ－５Ｎ荷重中のヤング率を測定した。

＜密着性＞
密着性は、下記の方法によって評価された。まず、各例のフィルムの表面（基材側の重合体層の表面とは反対側の表面）に対して、カッターナイフで、碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを１ｍｍ間隔で入れて、１００個の正方形状の升目（１ｍｍ角）を刻んだ。そして、日東電工社製のポリエステル粘着テープ「Ｎｏ．３１Ｂ」を升目部分に圧着した後、粘着テープを升目部分の表面に対して９０°の方向に、１００ｍｍ／ｓの速度で剥がした。その後、基材上の重合体層の剥離状態を目視観察し、全ての升目で基材上の重合体層が剥がれずに残った場合を「○」とし、一つの升目でも剥がれた場合を「×」とした。

＜耐擦性＞
耐擦性は、下記の方法によって評価された。試験機として株式会社トリニティーラボ製「トライボマスターＴＬ２０１Ｔｓ」を用い、ステージ上にフィルムを水平状態で固定した。日本スチールウール社製のスチールウール（製品名：＃００００）を摩擦子として用い、荷重を２００ｇ／ｃｍ２、ストローク幅を６０ｍｍ、速度を６０ｍｍ／ｓ、擦る回数を１０往復として、フィルムの表面を擦過した。その後、フィルム表面の擦過状態を目視観察した。
○：擦過前と比べて全く変化が無かった。
△：わずかに白化して見えた。
×：明らかに白化して見えた。
ここで、評価結果が○又は△である場合を、許容可能なレベル（耐擦性が優れている）と判断した。

＜凹凸残存率＞
凹凸の残存率は、同一試料中の擦過面および非擦過面の走査型電子顕微鏡画像の比較により算出した。擦過面とは擦過した領域の内、擦過始点を０％、擦過終点を１００％とした場合に３０~７０％の領域から任意に選択した箇所とし、非擦過面とは同一試料中で擦過していない領域から任意に選択した箇所とした。具体的には、６０°傾斜台を用いて５０，０００倍率で走査型電子顕微鏡観察した傾斜画像に対して、一辺が２．０μｍ、もう一辺が１．５μｍの長方形となる枠線をその重心が傾斜画像の重心と重なるよう画像上に描き、描いた枠線内に存在する凸部の数を数えた。この際に、画像に見る先端断面の直径が５０ｎｍ以上である凸部、例えば円錐台状である凸部は、擦過によって破損した凸部として、数える凸部の対象から除いた。また、描いた枠線に重なる凸部は、画像に見る凸部の５０％以上の面積が枠線内に存在するものを数える凸部の対象とした。同一試料中で任意の擦過面および任意の非擦過面からそれぞれ３箇所の走査型電子顕微鏡画像について、凸部の数を数え、擦過面の凸部数の平均値を非擦過面の凸部数の平均値で割り、その百分率を凹凸の残存率とした。凹凸の残存率は８０％以上であることが好ましい。

光学フィルムを製造するために用いた材料は以下の通りである。
（基材２）
富士フイルム社製の「フジタック（登録商標）ＴＤ－６０」を用いた。その厚みは６０μｍであった。
（硬化性組成物５）
表１～３に示す硬化性組成物を用いた。表１～３には、硬化性組成物の配合比率を示した。
硬化性組成物の内、防汚剤Ａは、下記の方法で作製されたものであり、パーフルオロポリエーテル系化合物を含むものであった。
まず、反応器において、住友バイエルウレタン社製の「スミジュールＮ３３００」（ヘキサメチレンジイソシアナートの環状三量体、ＮＣＯ基の含有率：２１．９％）５７ｇを、日本ゼオン社製の「ゼオローラ（登録商標）Ｈ」１０００ｇに溶解させ、和光純薬工業社製のジブチルスズジラウレート（一級試薬）０．１ｇを添加した。その後、室温で撹拌しながら、「ＣＦ_３ＣＦ_２Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_１１－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ」２４４ｇを日本ゼオン社製の「ゼオローラＨ」３００ｇに溶解させた溶液を滴下し、室温で終夜撹拌し続けた。その後、加温し、ヒドロキシエチルアクリレート２４．４ｇを滴下して撹拌した。反応の終点は、ＩＲによってＮＣＯの吸収が完全に消失した時点とした。その結果、防汚剤Ａが得られた。防汚剤Ａ中の有効成分の含有率は、２０重量％であった。

なお、表１～３中のＦＡＭ－２０１、ＦＡＭ－３０１、ＦＡＭ－４０１、ＦＡＭ－４０２は、すべて富士フイルム社の商品名であり、それぞれ、上述したようなものである。
ウレタンオリゴマーＵ－１０ＨＡ及びウレタンオリゴマーＵＡ－１２２Ｐは、新中村化学社の商品名である。

（金型６）
下記の方法で作製したものを用いた。まず、金型６の材料となるアルミニウムを、１０ｃｍ角のガラス基板上にスパッタリング法によって成膜した。成膜されたアルミニウムの層の厚みは、１．０μｍであった。次に、成膜されたアルミニウムの層に対して、陽極酸化及びエッチング（陽極酸化の直後）を交互に繰り返すことによって、多数の微小な穴（隣り合う穴（凹部）の底点間の距離が可視光の波長以下）が設けられた陽極酸化層を形成した。具体的には、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、及び、陽極酸化を順に行う（陽極酸化：５回、エッチング：４回）ことによって、凹凸構造を有する金型６を作製した。このように陽極酸化及びエッチングを交互に繰り返すことによれば、形成される微小な穴（凹部）は、金型の内部に向かって細くなる形状（テーパー形状）となる。陽極酸化は、シュウ酸（濃度：０．６重量％）を用いて、液温５°Ｃ、印加電圧８０Ｖの条件下で行った。１回の陽極酸化を行う時間は、２０秒とした。エッチングは、リン酸（濃度：１ｍｏｌ／ｌ）を用いて、液温３０℃の条件下で行った。１回のエッチングを行う時間は、２５分とした。金型４を走査型電子顕微鏡で観察したところ、隣接する凹部間のピッチ（底点間の距離）は約１８０ｎｍ、凹部の深さは約１８０ｎｍであった。なお、各凹部の形状は、円錐型であった。 金型６の表面には、離形剤加工を施した。離型剤はダイキン工業社製の「オプツールＤＳＸ」 を使用した。

（実施例１）
実施例１の光学フィルムを、以下の製造方法によって作製した。
（ａ）硬化性組成物５の塗布、および金型の離形剤加工（プロセス（１））
硬化性組成物５を基材２の表面上に、バーコーターで塗布した。硬化性組成物５は、表１に示した。硬化性組成物５の厚みは７μｍであった。
一方、金型６を準備した。金型６の表面には、離型剤加工が施されていた。具体的には、まず、離型剤をフロロテクノロジー社製の「Ｓ－１３５」で希釈した希釈液を作製した。希釈液中の離型剤の濃度は０．１％であった。次に、金型６の表面に対して、Ｏ２アッシングを２００Ｗで２０分間行った。そして、離型剤の希釈液を３分間浸漬させることによって、金型６の表面に塗布した。その後、離型剤が表面に塗布された金型６に対して、１００°Ｃで１時間アニールを行い、その後、フロロテクノロジー社製の「Ｓ－１３５」で３分間リンスした。

（ｂ）凹凸構造の形成（プロセス（２））
硬化性組成物５を間に挟んだ状態で基材２を金型６に押し当てた。その結果、金型６の凹凸構造に硬化性組成物５が充填された。

（ｃ）硬化性組成物５の硬化（プロセス（３））
金型６の凹凸構造に充填された部分を含む硬化性組成物５に、ＨＥＲＡＥＵＳ社製のＵＶランプ「ＬＩＧＨＴ ＨＡＮＭＡＲ６Ｊ６Ｐ３」を用いて、基材２側から紫外線（照射量：１，２００ｍＪ／ｃｍ２）を照射して硬化させ、重合体層３を形成した。重合体層３の厚みは、７μｍであった。

（ｄ）金型の剥離
金型６を重合体層３から剥離した。その結果、実施例１の光学フィルムが完成した。このフィルムの表面仕様は、下記の通りであった。表面仕様の評価は、日立ハイテクノロジーズ社製の走査型電子顕微鏡「Ｓ－４７００」を用いて行われた。なお、評価時には、メイワフォーシス社製のオスミウムコーター「Ｎｅｏｃ－ＳＴ」を用いて、重合体層３の基材２とは反対側の表面上に和光純薬工業社製の酸化オスミウムＶＩＩＩ（厚み：５ｎｍ）が塗布されていた。
凸部の形状：釣鐘状
隣接する凸部間のピッチ：約１８０ｎｍ
凸部の高さ：約１８０ｎｍ
凸部のアスペクト比：１．０

得られた光学フィルムの限界歪み、ヤング率、密着性、耐擦傷性、凹凸残存率を測定した。結果を表１に示す。なお、実施例１のフィルムは、ＩＲ測定によって１６８０－１５１５ｃｍ^－１付近にアミド基に由来する吸収が存在することが確認できた。

（実施例２～８、及び、比較例１～５）
表１に示すような組成に変更したこと以外、実施例１と同様にして、各例の光学フィルムを作製した。得られた光学フィルムの限界歪み、ヤング率、密着性、耐擦傷性、凹凸残存率、を測定した。結果を表１に示す。
なお、実施例２～４比較例１～４のフィルムは、ＩＲ測定によって１６８０－１５１５ｃｍ^－１付近にアミド基に由来する吸収が存在することが確認できた。
比較例５のフィルムは、ＩＲ測定によって１６８０－１５１５ｃｍ^－１付近のアミド基に由来する吸収は存在せず、アミド基を有さないことが確認できた。

上記実施例によって得られた各光学フィルムの限界歪み、ヤング率、密着性、耐擦傷性、凹凸残存率を、横軸に限界歪み、縦軸にヤング率を示した図３中に示した。この図中で実線で示した範囲が本開示の範囲を示す範囲である。実施例の光学フィルムはいずれもこの範囲中にプロットが存在しており、比較例の光学フィルムはいずれもこの範囲外にプロットが存在している。なお、比較例５は、上記範囲内に包含されているが、アミド基を有さないものである。

また、強度に加えて密着性においても優れた性能を有することが確認できた。なお、比較例５によって得られた光学用フィルムは、物理的性能は優れるものであるものの、密着性が劣るものとなった。これは、重合体層がアミド基を有さないためであると推測される。

本開示の光学材料は、光学素子、光学フィルム（反射防止部材、指紋付着抑止部材、等）、
等において好適に使用することができ、それらはテレビ、車載ディスプレイ、デジタルサイネージ、掲示板、ショールーム、スタジアム、レストラン、ショーケース、ショーウインドウ、美術館、インテリア加飾、エクステリア加飾等に用いることができる。

Claims (12)

1. 表面に微細な凹凸を有する重合体層を形成するために使用される光学材料用硬化性組成物であって、
   微細な凹凸は、前記重合体層の表面に存在する複数の凸部のピッチが２０ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であり、
   ２以上のアクリルアミド基を有する化合物を含有し、１のアクリルアミド基を有する化合物を実質的に含有しないことを特徴とする光学材料用硬化性組成物。
2. 下記条件で硬化させた硬化物が、
   ヤング率： １６０～４３２Ｎ／ｍｍ^２
   限界歪み： １０％以上
   を満たすものである請求項１記載の光学材料用硬化性組成物。
   （硬化条件）
   ＪＩＳ Ｋ ６２１５－５の７号形ダンベルを作製する金型に硬化性組成物を充填し、高圧水銀ランプを用いて、３６５ｎｍの波長を含む紫外線（照射量：１，２００ｍＪ／ｃｍ^２）を照射して硬化。
3. 請求項１又は２記載の光学材料用硬化性組成物を、基材層の表面上に塗布する工程（１）、
   基材層を金型に押しあてて、光学材料用硬化性組成物の表面に凹凸構造を形成する工程（２）、
   凹凸構造を表面に有する光学材料用硬化性組成物を硬化させる工程（３）及び
   金型を重合体層から剥離する工程（４）
   を有することを特徴とする光学材料の製造方法。
4. 前記重合体層の厚みは、１μｍ以上、２０μｍ以下であることを特徴とする請求項３記載の光学材料の製造方法。
5. 前記重合体層の表面に存在する複数の凸部のピッチは、２０ｎｍ以上、４００ｎｍ以下である請求項３又は４に記載の光学材料の製造方法。
6. 前記重合体層の表面に存在する複数の凸部の高さは、各々、５０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下である請求項３～５のいずれかに記載の光学材料の製造方法。
7. 前記重合体層の表面に存在する複数の凸部のアスペクト比は、各々、０．１３以上、２５以下である請求項３～６のいずれかに記載の光学材料の製造方法。
8. 基材層及び重合体層を有する光学材料であって、
   重合体層は、表面に微細な凹凸を有し、アミド基を有し、表面に微細な凹凸を有し、請求項１又は２に記載された光学材料用硬化性組成物を使用して形成されたものであり、
   微細な凹凸は、前記重合体層の表面に存在する複数の凸部のピッチが２０ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であり、
   以下の性質を満たす樹脂層であることを特徴とする光学材料。
   ヤング率： １６０～４３２Ｎ／ｍｍ^２
   限界歪み： １０％以上
9. 基材層及び重合体層を有する光学材料であって、重合体層は、表面に微細な凹凸を有し、微細な凹凸を有する表面を下記条件下でスチールウールを擦過した後の凹凸の残存率が８０％以上であり、
   請求項１又は２に記載された光学材料用硬化性組成物を使用して形成されたものであり、
   微細な凹凸は、前記重合体層の表面に存在する複数の凸部のピッチが２０ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であることを特徴とする光学材料。
   （擦過条件）
   試験機として株式会社トリニティーラボ製「トライボマスターＴＬ２０１Ｔｓ」を用い、ステージ上にフィルムを水平状態で固定した。日本スチールウール社製のスチールウール（製品名：＃００００）を摩擦子として用い、荷重を２００ｇ／ｃｍ^２、ストローク幅を６０ｍｍ、速度を６０ｍｍ／ｓ、擦る回数を１０往復として、フィルムの表面を擦過した。
10. 前記重合体層の厚みは、１μｍ以上、２０μｍ以下である請求項８又は９記載の光学材料。
11. 前記重合体層の表面に存在する複数の凸部の高さは、各々、５０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下である請求項８～１０のいずれかに記載の光学材料。
12. 前記重合体層の表面に存在する複数の凸部のアスペクト比は、各々、０．１３以上、２５以下である請求項８～１１のいずれかに記載の光学材料。

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