JP2021150335A - 窒化物半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ダングリングボンドに起因する電気特性の低下を抑制することができる窒化物半導体装置を提供する。
【解決手段】窒化物半導体装置は、窒化ガリウム系半導体層と、窒化ガリウム系半導体層の第1面上に設けられ、酸素と、酸素以外の他の元素とを含む絶縁膜と、を備える。窒化ガリウム系半導体層と絶縁膜とが接する界面は、ガリウムのダングリングボンドを終端する終端元素を含む。終端元素は、閉殻構造に電子が1つ不足した価電子状態を有し、かつ水素よりもガリウムと強く結合する原子又は分子である。窒化ガリウム系半導体層と絶縁膜とが接する界面において、ガリウムと酸素との結合量は、ガリウムと他の元素との結合量よりも多い。
【選択図】図3
【解決手段】窒化物半導体装置は、窒化ガリウム系半導体層と、窒化ガリウム系半導体層の第1面上に設けられ、酸素と、酸素以外の他の元素とを含む絶縁膜と、を備える。窒化ガリウム系半導体層と絶縁膜とが接する界面は、ガリウムのダングリングボンドを終端する終端元素を含む。終端元素は、閉殻構造に電子が1つ不足した価電子状態を有し、かつ水素よりもガリウムと強く結合する原子又は分子である。窒化ガリウム系半導体層と絶縁膜とが接する界面において、ガリウムと酸素との結合量は、ガリウムと他の元素との結合量よりも多い。
【選択図】図3
Description
本発明は、窒化物半導体装置に関する。
MOS(Metal Oxide Semiconductor)構造を有する窒化物半導体装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。また、窒化物半導体層の表面近傍のダングリングボンドを水素で終端し、表面近傍に起因する電極間リークを抑制することが知られている(例えば、特許文献2参照)。
ゲート絶縁膜としてシリコン酸化膜(SiO2膜)を窒化ガリウム層(GaN層)上に成膜する場合、SiO2膜は熱酸化ではなく化学気相成長(CVD:Chemical Vapor Deposition)法で成膜される。CVD法で成膜される絶縁膜は緻密性が低く、絶縁耐圧を上げるために成膜後のSiO2膜を高温でアニールする必要がある。このとき、GaN層とSiO2膜との界面付近のガリウム(Ga)原子が水素(H)原子で終端されていると、H原子は熱によりGa原子から脱離し、Ga原子にダングリングボンドが生じる可能性がある。
GaN層とSiO2膜との界面付近にGa原子のダングリングボンドが生じると、空間的に局在した界面準位がバンドギャップ内に形成され、キャリアのトラップ源となる。これにより、キャリアの移動度が低下して、デバイスの電気特性が低下する可能性がある。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、ダングリングボンドに起因する電気特性の低下を抑制することができる窒化物半導体装置を提供することを目的とする。
GaN層とSiO2膜との界面付近にGa原子のダングリングボンドが生じると、空間的に局在した界面準位がバンドギャップ内に形成され、キャリアのトラップ源となる。これにより、キャリアの移動度が低下して、デバイスの電気特性が低下する可能性がある。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、ダングリングボンドに起因する電気特性の低下を抑制することができる窒化物半導体装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明の一態様に係る窒化物半導体装置は、窒化ガリウム系半導体層と、窒化ガリウム系半導体層の第1面上に設けられ、酸素と、酸素以外の他の元素とを含む絶縁膜と、を備える。窒化ガリウム系半導体層と絶縁膜とが接する界面は、ガリウムのダングリングボンドを終端する終端元素を含む。終端元素は、閉殻構造に電子が1つ不足した価電子状態を有し、かつ水素よりもガリウムと強く結合する原子又は分子である。窒化ガリウム系半導体層と絶縁膜とが接する界面において、ガリウムと酸素との結合量は、ガリウムと他の元素との結合量よりも多い。
本発明によれば、ダングリングボンドに起因する電気特性の低下を抑制することができる窒化物半導体装置を提供することができる。
本発明者は、GaN/SiO2界面のダングリングボンドを、閉殻に電子が1つ不足した原子(F、Cl)又は分子(OH、CN)で終端すると、H原子で終端した場合に比べGa原子と強い結合を有することを見出した。また、GaN/SiO2の界面結合について、Ga−Oとなる場合にはギャップ内に準位(以下、ギャップ内準位という)が形成されず、Ga−Siとなる場合は価電子帯上端付近にギャップ内準位が形成されることを見出した。界面結合について、Ga−O結合を主たる結合とすることで、ギャップ内準位の形成を抑制することができ、良好な伝導を行うことができることを見出した。本発明は、このような知見に基づいてなされたものである。
以下に本発明の実施形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。但し、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、各装置や各部材の厚みの比率等は現実のものとは異なることに留意すべきである。したがって、具体的な厚みや寸法は以下の説明を参酌して判定すべきものである。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。
また、以下の説明では、X軸方向、Y軸方向及びZ軸方向の文言を用いて、方向を説明する場合がある。例えば、X軸方向又はY軸方向は、GaN層12の表面12aに平行な方向である。X軸方向、Y軸方向、又は、X軸方向及びY軸方向の両方を水平方向と呼んでもよい。Z軸方向は、表面12aの法線方向である。Z軸方向は、GaN層12の厚さ方向でもある。X軸方向、Y軸方向及びZ軸方向は、互いに直交する。
また、以下の説明では、Z軸の矢印方向を「上」と称し、Z軸の矢印の反対方向を「下」と称する場合がある。「上」及び「下」は、必ずしも地面に対する鉛直方向を意味しない。つまり、「上」及び「下」の方向は、重力方向に限定されない。「上」及び「下」は、領域、層、膜及び基板等における相対的な位置関係を特定する便宜的な表現に過ぎず、本発明の技術的思想を限定するものではない。例えば、紙面を180度回転すれば「上」が「下」に、「下」が「上」になることは勿論である。
また、以下の説明で、n又はpは、それぞれ電子又は正孔が多数キャリアであることを意味する。また、pやnに付す+や−は、+及び−が付記されていない半導体領域に比して、それぞれ相対的に不純物濃度が高い又は低い半導体領域であることを意味する。但し、同じpとpとが付された半導体領域であっても、それぞれの半導体領域の不純物濃度が厳密に同じであることを意味するものではない。
<構造>
図1は、本発明の実施形態に係るMOS(Metal Oxide Semiconductor)トランジスタ100の構成例を示す断面図である。本発明の実施形態に係る窒化物半導体装置は、例えばパワー半導体デバイスであり、図1に示す窒化ガリウム系半導体基板1と、窒化ガリウム系半導体基板1に設けられたn型のMOSトランジスタ100と、を備える。図1は、MOSトランジスタ100の単位構造を示している。単位構造は、Y軸方向に延在し、かつ、X軸方向に繰り返し設けられている。複数の単位構造が設けられた領域を活性領域と称する。図示しないが、活性領域の周囲には、活性領域における電界集中を防ぐ機能を有するエッジ終端構造が設けられている。エッジ終端構造は、ガードリング構造、フィールドプレート構造及びJTE(Junction Termination ExtenSiOn)構造の1つ以上を含んでよい。
図1は、本発明の実施形態に係るMOS(Metal Oxide Semiconductor)トランジスタ100の構成例を示す断面図である。本発明の実施形態に係る窒化物半導体装置は、例えばパワー半導体デバイスであり、図1に示す窒化ガリウム系半導体基板1と、窒化ガリウム系半導体基板1に設けられたn型のMOSトランジスタ100と、を備える。図1は、MOSトランジスタ100の単位構造を示している。単位構造は、Y軸方向に延在し、かつ、X軸方向に繰り返し設けられている。複数の単位構造が設けられた領域を活性領域と称する。図示しないが、活性領域の周囲には、活性領域における電界集中を防ぐ機能を有するエッジ終端構造が設けられている。エッジ終端構造は、ガードリング構造、フィールドプレート構造及びJTE(Junction Termination ExtenSiOn)構造の1つ以上を含んでよい。
図1に示すように、MOSトランジスタ100は、窒化ガリウム系半導体基板1上に設けられたゲート絶縁膜5(本発明の「絶縁膜」の一例)と、ゲート絶縁膜5上に設けられたゲート電極6と、窒化ガリウム系半導体基板1に設けられたソース電極7及びドレイン電極8と、を有する。
窒化ガリウム系半導体基板1は、例えば、GaN基板11と、GaN基板11上に設けられたGaN層12(本発明の「窒化ガリウム系半導体層」の一例)とを有する。図1に示すように、GaN層12の表面12a(本発明の「第1面」の一例)は、窒化ガリウム系半導体基板1の表面1aでもある。GaN層12の表面12aの反対側に位置する裏面12b(本発明の「第2面」の一例)は、GaN基板11と接触している。GaN基板11の裏面11bは、窒化ガリウム系半導体基板1の裏面1bでもある。
窒化ガリウム系半導体基板1は、例えば、GaN基板11と、GaN基板11上に設けられたGaN層12(本発明の「窒化ガリウム系半導体層」の一例)とを有する。図1に示すように、GaN層12の表面12a(本発明の「第1面」の一例)は、窒化ガリウム系半導体基板1の表面1aでもある。GaN層12の表面12aの反対側に位置する裏面12b(本発明の「第2面」の一例)は、GaN基板11と接触している。GaN基板11の裏面11bは、窒化ガリウム系半導体基板1の裏面1bでもある。
GaN基板11は、GaN単結晶基板である。GaN基板11の導電型は、例えばn+型である。GaN基板11に含まれるn型ドーパントは、Si(シリコン)、O(酸素)及びGe(ゲルマニウム)のうちの1種類以上の元素であり、一例を挙げるとOである。GaN基板11におけるOの不純物濃度は2×1018/cm3以上である。
なお、GaN基板11は、転位密度が1E+7/cm2未満の低転位自立基板であってもよい。GaN基板11が低転位自立基板であることにより、GaN基板11上に形成されるGaN層12の転位密度も低くなる。また、低転位自立基板をGaN基板11に用いることで、GaN基板11に大面積のパワーデバイスが形成される場合でも、パワーデバイスにおけるリーク電流を少なくすることができる。これにより、製造装置は、パワーデバイスを高い良品率で製造することができる。また、熱処理において、イオン注入された不純物が転位に沿って深く拡散することを防止することができる。なお、E+は、指数表記である。例えば、1E+7は、1×107を意味する。
なお、GaN基板11は、転位密度が1E+7/cm2未満の低転位自立基板であってもよい。GaN基板11が低転位自立基板であることにより、GaN基板11上に形成されるGaN層12の転位密度も低くなる。また、低転位自立基板をGaN基板11に用いることで、GaN基板11に大面積のパワーデバイスが形成される場合でも、パワーデバイスにおけるリーク電流を少なくすることができる。これにより、製造装置は、パワーデバイスを高い良品率で製造することができる。また、熱処理において、イオン注入された不純物が転位に沿って深く拡散することを防止することができる。なお、E+は、指数表記である。例えば、1E+7は、1×107を意味する。
GaN層12は、GaN基板11上に設けられている。GaN層12は、n−型のGaN単結晶層であり、GaN基板11上にエピタキシャル成長法で形成された層である。GaN層12に含まれるn型ドーパント(n型不純物)は、Si(シリコン)、O(酸素)及びGe(ゲルマニウム)のうちの1種類以上の元素であり、一例を挙げるとOである。
GaN層12の表面12a側には、p−型のウェル領域13と、n+型のソース領域14と、p+型のコンタクト領域16と、が設けられている。GaN層12において、ウェル領域13とソース領域14とコンタクト領域16とが設けられていない領域は、ドリフト領域と呼んでもよい。ドリフト領域は、GaN基板11とウェル領域13との間の電流経路として機能する。
GaN層12の表面12a側には、p−型のウェル領域13と、n+型のソース領域14と、p+型のコンタクト領域16と、が設けられている。GaN層12において、ウェル領域13とソース領域14とコンタクト領域16とが設けられていない領域は、ドリフト領域と呼んでもよい。ドリフト領域は、GaN基板11とウェル領域13との間の電流経路として機能する。
ウェル領域13は、GaN層12の表面12a側からp型ドーパント(p型不純物)がイオン注入され、熱処理によりp型ドーパントが活性化されて形成される。p型ドーパントは、例えばマグネシウム(Mg)である。ウェル領域13は、GaN層12の表面12aに面している。また、ウェル領域13は、水平方向において、ソース領域14と隣接する第1側面と、ゲート絶縁膜5直下のドリフト領域と接する第2側面とを有する。ウェル領域13において、第1側面と第2側面との間に位置し、かつゲート絶縁膜5との接触界面及びその近傍に、MOSトランジスタ100のチャネルが形成される。以下、ウェル領域13においてチャネルが形成される領域を、チャネル領域CR(本開示の「電気伝導領域」の一例)という。
例えば、チャネル領域CRは、ゲート絶縁膜5と接する表面12aから裏面12b側へ20nm以内の範囲に位置する。チャネル領域CRにおけるp型ドーパント(例えば、Mg)の濃度は、チャネル領域CRに含まれるn型ドーパントよりも多く、一例を挙げると、1E+16/cm3以上である。
ソース領域14は、GaN層12の表面12a側からn型ドーパントがイオン注入され、熱処理によりn型ドーパントが活性化されて形成される。n型ドーパントは、例えばSi、O及びGeのうちの1種類以上の元素である。ソース領域14は、GaN層12の表面12aに面しており、ウェル領域13の内側に位置する。ソース領域14の側部と底部は、ウェル領域13に接している。X軸方向、Y軸方向及びZ軸方向において、ソース領域14とウェル領域13は互いに接している。
ソース領域14は、GaN層12の表面12a側からn型ドーパントがイオン注入され、熱処理によりn型ドーパントが活性化されて形成される。n型ドーパントは、例えばSi、O及びGeのうちの1種類以上の元素である。ソース領域14は、GaN層12の表面12aに面しており、ウェル領域13の内側に位置する。ソース領域14の側部と底部は、ウェル領域13に接している。X軸方向、Y軸方向及びZ軸方向において、ソース領域14とウェル領域13は互いに接している。
p+型のコンタクト領域16は、GaN層12の表面12a側からp型ドーパントがイオン注入され、熱処理によりp型ドーパントが活性化されて形成される。p型ドーパントは、例えばMgである。コンタクト領域16は、GaN層12の表面12aに面しており、ウェル領域13の内側に位置する。コンタクト領域16の少なくとも底部は、ウェル領域13に接している。Z軸方向において、コンタクト領域16とウェル領域13は互いに接している。
ゲート絶縁膜5は、ウェル領域13上に設けられている。ゲート絶縁膜5は、例えば、アモルファス構造のシリコン酸化膜(SiO2膜)であり、厚さは50nm以上100nm以下である。ゲート電極6は、ゲート絶縁膜5上に設けられている。ゲート電極6は、平坦なゲート絶縁膜5上に設けられたプレーナ型の電極である。ゲート電極6は、例えば不純物をドープしたポリシリコンで形成されている。
ソース電極7は、n+型のソース領域14上からp+型のコンタクト領域16上にかけて連続して設けられており、ソース領域14及びコンタクト領域16とそれぞれ電気的に接続している。図示しないが、ソース電極7は、層間絶縁膜を介してゲート電極6を覆うように設けられてもよい。ソース電極7は、例えばAl又はAl−Siの合金からなる。
ソース電極7は、n+型のソース領域14上からp+型のコンタクト領域16上にかけて連続して設けられており、ソース領域14及びコンタクト領域16とそれぞれ電気的に接続している。図示しないが、ソース電極7は、層間絶縁膜を介してゲート電極6を覆うように設けられてもよい。ソース電極7は、例えばAl又はAl−Siの合金からなる。
ドレイン電極8は、GaN基板11の裏面11b側に設けられており、GaN基板11と電気的に接続している。ドレイン電極8は、例えばAl又はAl−Siの合金からなる。
GaN層12の表面12aの結晶面は、(0001)面、(1−100)面、(11−20)面若しくは(1−102)面、又は、これら各面のいずれか1つと等価な面となっている。一例を挙げると、(1−100)面と等価な面として、(10−10)面、(01−10)面、(0−110)面、(−1100)面、(−1010)面が挙げられる。これにより、GaN層12の表面12aは、窒素(N)原子よりもガリウム(Ga)原子の方が最表層により多く現れている面となっている。例えば、GaN層12の表面12aが(0001)面、すなわち、C面の場合、最表層に現れる原子はほぼ100%、Ga原子である。
GaN層12の表面12aの結晶面は、(0001)面、(1−100)面、(11−20)面若しくは(1−102)面、又は、これら各面のいずれか1つと等価な面となっている。一例を挙げると、(1−100)面と等価な面として、(10−10)面、(01−10)面、(0−110)面、(−1100)面、(−1010)面が挙げられる。これにより、GaN層12の表面12aは、窒素(N)原子よりもガリウム(Ga)原子の方が最表層により多く現れている面となっている。例えば、GaN層12の表面12aが(0001)面、すなわち、C面の場合、最表層に現れる原子はほぼ100%、Ga原子である。
図2は、ウェル領域13とゲート絶縁膜5とが接する界面21を含む部位20における、原子の結合状態を示すモデル図である。図3は、界面21付近の原子の結合状態を拡大して示すモデル図である。図2及び図3において、GaN層12(図1参照)の表面は(0001)面であり、GaN層12に形成されたウェル領域13の最表層にはGa原子が並んでいる。Ga原子の多くは、ゲート絶縁膜5を構成するSiO2膜を構成するO原子と結合している。
MOSトランジスタ100では、界面21において、Ga原子とO原子との結合量は、Ga原子とSi原子との結合量よりも多い。これは、ゲート絶縁膜5がアモルファス構造のSiO2膜で構成されており、1分子における原子数比はSi原子よりもO原子の方が多いことによる。
また、界面21において、Ga原子の一部は、例えばフッ素(F)原子(本発明の「終端元素」の一例)と結合している。Ga原子のダングリングボンドは、F原子で終端されている。例えば、界面21からウェル領域13側へ10nm以内の範囲を第1の範囲とし、界面21からゲート絶縁膜5側へ10nm以内の範囲を第2の範囲とすると、第1の範囲及び第2の範囲の少なくとも一方は、F原子が1E+11/cm2以上存在する領域を有する。この領域に存在するF原子によって、Ga原子のダングリングボンドは終端されている。
また、界面21において、Ga原子の一部は、例えばフッ素(F)原子(本発明の「終端元素」の一例)と結合している。Ga原子のダングリングボンドは、F原子で終端されている。例えば、界面21からウェル領域13側へ10nm以内の範囲を第1の範囲とし、界面21からゲート絶縁膜5側へ10nm以内の範囲を第2の範囲とすると、第1の範囲及び第2の範囲の少なくとも一方は、F原子が1E+11/cm2以上存在する領域を有する。この領域に存在するF原子によって、Ga原子のダングリングボンドは終端されている。
図4は、界面21におけるバンドギャップを示す図である。図4の縦軸はエネルギー(eV)を示し、図4の横軸は波数空間中の対称点を示す。図2及び図3に示したように、ウェル領域13とゲート絶縁膜5とが接する界面21では、Ga原子のダングリングボンドは、F原子で終端されている。これにより、図4に示すように、価電子帯と伝導帯との間(すなわち、ギャップ内)に、ダングリングボンドに起因するギャップ内準位が形成されることを抑制することができる。
また、下記の表1に示すように、Ga−F間の結合は、Ga−H間の結合よりも結合エネルギーが大きく、結合が強固である。表1では、Ga−O結合界面での結合エネルギーとの差を示しているが、−の数値が大きいほど結合エネルギーは大きい。Ga−F間の結合は、Ga−H間の結合よりも強固で安定しているため、ゲート絶縁膜5を成膜した後に熱処理を行う場合でも、Ga原子からF原子は脱離しにくい。これにより、熱処理後も、上記の界面21に、ダングリングボンドによるギャップ内準位が形成されることを抑制することができる。
また、上述したように、上記の界面21において、Ga原子とO原子との結合量は、Ga原子とSi原子との結合量よりも多い。図示しないが、Ga−Si結合界面では、価電子帯近くにギャップ内準位が形成される。価電子帯近くにギャップ内準位が存在すると、ギャップ内準位にキャリアがトラップされて、キャリアが減少したり、キャリアの移動度が低下したりする可能性がある。これに対して、Ga−O結合界面では、ギャップ内準位は形成されない。MOSトランジスタ100では、上記の界面21付近にチャネル領域が存在するが、界面21付近でのギャップ内準位の形成が抑制されるため、チャネル領域におけるキャリア(例えば、電子)の移動度低下を抑制することができる。
本発明の実施形態では、界面21において、Ga原子とO原子との結合量は、Ga原子と他の元素(ゲート絶縁膜5を構成するO原子以外の元素;一例として、Si原子)との結合量よりも10倍以上多いことが好ましい。これにより、界面21付近でのギャップ内準位の形成をさらに抑制することができる。
<製造方法>
次に、MOSトランジスタ100の製造方法を説明する。図5は、本発明の実施形態に係るMOSトランジスタ100の製造方法であって、Ga原子のダングリングボンドをフッ素(F)原子で終端する工程と、その前後の工程とを示すフローチャートである。図6Aは、GaN層12の洗浄工程(ステップST1)を模式的に示す図である。図6Bは、ダングリングボンドの終端工程(ステップST2)を模式的に示す図である。図6Cは、ゲート絶縁膜5の形成工程(ステップST3)と熱処理工程(ステップST4)とを模式的に示す図である。なお、MOSトランジスタ100は、洗浄装置、プラズマ処理装置、成膜装置、熱処理装置、露光装置、エッチング装置など、各種の装置によって製造される。以下、これらの装置を製造装置と総称する。
次に、MOSトランジスタ100の製造方法を説明する。図5は、本発明の実施形態に係るMOSトランジスタ100の製造方法であって、Ga原子のダングリングボンドをフッ素(F)原子で終端する工程と、その前後の工程とを示すフローチャートである。図6Aは、GaN層12の洗浄工程(ステップST1)を模式的に示す図である。図6Bは、ダングリングボンドの終端工程(ステップST2)を模式的に示す図である。図6Cは、ゲート絶縁膜5の形成工程(ステップST3)と熱処理工程(ステップST4)とを模式的に示す図である。なお、MOSトランジスタ100は、洗浄装置、プラズマ処理装置、成膜装置、熱処理装置、露光装置、エッチング装置など、各種の装置によって製造される。以下、これらの装置を製造装置と総称する。
図5に示す洗浄工程(ステップST1)において、GaN層12には、例えば、p−型のウェル領域13(図1参照)が形成されている。製造装置は、GaN層12の表面12aを洗浄する。洗浄方法は、ウェット洗浄でもよいしドライ洗浄でもよい。ウェット洗浄では、GaN層12を有する窒化ガリウム系半導体基板1を薬液に浸漬する、又は、GaN層12の表面12aに薬液を噴霧することによって、GaN層12の表面12aから有機物等を除去する。ドライ洗浄では、GaN層12の表面12aをチャンバ内でプラズマ雰囲気に晒すことによって有機物等を除去する。
ドライ洗浄について、より具体的に説明する。製造装置は、GaN層12を有する窒化ガリウム系半導体基板1を、プラズマ発生装置のチャンバ内に搬入し、チャンバ内に酸素ガス(O2ガス)を導入することで、酸素プラズマを生成する。これにより、GaN層12の表面12aに付着した有機物や、表面12aに露出しているGa原子に自然付着したO原子及びOH基等を除去することができる。
また、製造装置は、チャンバ内に窒素ガス(N2ガス)を導入することで、窒素プラズマを生成してもよい。窒素プラズマにより、表面12aに付着した有機物や、Ga原子に自然付着したO原子等を除去してもよい。
また、製造装置は、チャンバ内に窒素ガス(N2ガス)を導入することで、窒素プラズマを生成してもよい。窒素プラズマにより、表面12aに付着した有機物や、Ga原子に自然付着したO原子等を除去してもよい。
本発明の実施形態において、ステップST1では、O2プラズマ、N2プラズマのいずれか一方のみを行ってもよいし、その両方をチャンバ内で大気開放せずに連続して行うようにしてもよい。
次に、製造装置は、GaN層12の表面12aに四フッ化炭素(CF4)プラズマを照射して、GaN層12の表面12aに露出しているGa原子のダングリングボンドをF原子で終端する(ステップST2)。ステップST2のCF4プラズマを用いた終端工程は、ステップST1の洗浄工程を行ったチャンバ内で行ってもよいし、別のチャンバ内で行ってもよいが、工程間でGaN層12の表面12aを大気に晒さないことが好ましい。これにより、GaN層12の表面12aに有機物等が再付着することを防ぐことができる。
次に、製造装置は、GaN層12の表面12aに四フッ化炭素(CF4)プラズマを照射して、GaN層12の表面12aに露出しているGa原子のダングリングボンドをF原子で終端する(ステップST2)。ステップST2のCF4プラズマを用いた終端工程は、ステップST1の洗浄工程を行ったチャンバ内で行ってもよいし、別のチャンバ内で行ってもよいが、工程間でGaN層12の表面12aを大気に晒さないことが好ましい。これにより、GaN層12の表面12aに有機物等が再付着することを防ぐことができる。
次に、製造装置は、GaN層12の表面12a上にSiO2膜を成膜する(ステップST3)。SiO2膜は、ゲート絶縁膜5(図1参照)である。SiO2膜の成膜は、例えばモノシラン(SiH4)ガス及び酸素(O2)ガスを用いたCVD法で行われる。SiO2膜の成膜工程は、ステップST2の終端工程を行ったチャンバ内で行ってもよいし、別のチャンバ内で行ってもよいが、工程間でGaN層12の表面12aを大気に晒さないことが好ましい。これにより、GaN層12の表面12aに有機物等が再付着することを防ぐことができる。
なお、ステップST3では、CVD法として、プラズマCVD法や、減圧CVD法など、各種の気相成長法を用いることができる。また、原料ガスは、モノシラン(SiH4)ガス及び酸素(O2)ガスに限定されず、例えば、TEOS(オルトケイ酸テトラエチル)等であってもよい。また、CVD法ではなく、ALD(Atomic Layer Deposition)法でSiO2膜を成膜してもよい。
次に、製造装置は、ステップST3で形成したSiO2膜に熱処理を施す(ステップST4)。気相成長で成膜されたSiO2膜は、熱酸化で形成されるSiO2膜と比べて、緻密性が低く、絶縁耐圧が低い傾向がある。このため、ステップST4では、熱処理を行うことによって、SiO2膜の緻密性を高め、絶縁耐圧を向上させる。例えば、熱処理の温度は800℃である。熱処理は、アルゴン(Ar)などの不活性ガス雰囲気中で、大気から遮断された状態で行われる。
ステップST2で、Ga原子のダングリングボンドはF原子で終端されている。表1に示したように、Ga−F間の結合は、Ga−H間の結合よりも結合エネルギーが大きく、結合が強固である。このため、ステップST4で熱処理を行っても、Ga−F間の結合の多くは、Ga原子からF原子が離脱せずにそのまま維持される。
ステップST4の熱処理工程は、ステップST3の成膜工程を行ったチャンバ内で行ってもよいし、別のチャンバ内で行ってもよいが、工程間でSiO2膜の表面を大気に晒さないことが好ましい。これにより、SiO2膜の表面に有機物等が付着することを防ぐことができる。
ステップST4の熱処理工程は、ステップST3の成膜工程を行ったチャンバ内で行ってもよいし、別のチャンバ内で行ってもよいが、工程間でSiO2膜の表面を大気に晒さないことが好ましい。これにより、SiO2膜の表面に有機物等が付着することを防ぐことができる。
次に、製造装置は、熱処理が施されたSiO2膜上にゲート電極膜を成膜する(ステップST5)。ゲート電極膜は、例えば不純物をドープしたポリシリコンであり、その成膜はCVD法で行われる。ゲート電極膜の成膜工程は、ステップST4の熱処理工程を行ったチャンバ内で行ってもよいし、別のチャンバ内で行ってもよいが、工程間でSiO2膜の表面を大気に晒さないことが好ましい。これにより、SiO2膜の表面に有機物等が付着することを防ぐことができる。
その後、製造装置は、ゲート電極膜をパターニングすることによって、ゲート電極6(図1参照)を形成する。続いて、製造装置は、ゲート電極6や図示しないレジストパターンをマスクに用いて、GaN層12の表面12a側にn型ドーパントやp型ドーパントをイオン注入して、n+型のソース領域14やp+型のコンタクト領域16を形成する。以上の工程を経て、図1に示したMOSトランジスタ100が完成する。
その後、製造装置は、ゲート電極膜をパターニングすることによって、ゲート電極6(図1参照)を形成する。続いて、製造装置は、ゲート電極6や図示しないレジストパターンをマスクに用いて、GaN層12の表面12a側にn型ドーパントやp型ドーパントをイオン注入して、n+型のソース領域14やp+型のコンタクト領域16を形成する。以上の工程を経て、図1に示したMOSトランジスタ100が完成する。
Ga原子のダングリングボンドをF原子で終端するメリットとして、Ga−F結合界面にギャップ内準位が形成されないこと、及び、F原子はGa原子との結合が単原子のなかで最も強いこと、が挙げられる。また、上記のメリットとして、GaN層12の表面をCF4プラズマに晒すだけでGa原子のダングリングボンドを終端できるため、工程が簡単であることも挙げられる。
ゲート絶縁膜5にSiO2膜を用いることのメリットとして、SiO2膜はバンドギャップが大きく、GaNとのバンドオフセットも大きいため、n型p型問わずに良好な絶縁性を確保できること、が挙げられる。
ゲート絶縁膜5にSiO2膜を用いることのメリットとして、SiO2膜はバンドギャップが大きく、GaNとのバンドオフセットも大きいため、n型p型問わずに良好な絶縁性を確保できること、が挙げられる。
<実施形態の効果>
以上説明したように、本発明の実施形態に係る窒化物半導体装置は、GaN層12と、GaN層12の表面12a上に設けられ、O原子と、O原子以外の他の元素(例えば、Si原子)とを含むゲート絶縁膜5と、を備える。GaN層12とゲート絶縁膜5とが接する界面21は、Ga原子のダングリングボンドを終端するF原子を含む。F原子は、閉殻構造に電子が1つ不足した価電子状態を有し、かつH原子よりもGa原子と強く結合する。GaN層12とゲート絶縁膜5との界面21において、Ga原子とO原子との結合量は、Ga原子と他の元素(例えば、Si)との結合量よりも多い。
以上説明したように、本発明の実施形態に係る窒化物半導体装置は、GaN層12と、GaN層12の表面12a上に設けられ、O原子と、O原子以外の他の元素(例えば、Si原子)とを含むゲート絶縁膜5と、を備える。GaN層12とゲート絶縁膜5とが接する界面21は、Ga原子のダングリングボンドを終端するF原子を含む。F原子は、閉殻構造に電子が1つ不足した価電子状態を有し、かつH原子よりもGa原子と強く結合する。GaN層12とゲート絶縁膜5との界面21において、Ga原子とO原子との結合量は、Ga原子と他の元素(例えば、Si)との結合量よりも多い。
このような構成であれば、Ga原子のダングリングボンドはF原子と強く結合するため、Ga原子の終端後に熱処理(アニール)が加えられる場合でも、Ga原子から終端元素が脱離することを抑制することができ、Ga原子の終端を良好に維持することができる。これにより、ダングリングボンドにキャリアがトラップされることを抑制することができるため、例えば、キャリアの移動度の低下を抑制することができ、良好な伝導が可能になる。これにより、ダングリングボンドに起因する電気特性の低下を抑制することができる。
また、GaN層12とゲート絶縁膜5との界面の結合は、Ga原子と酸素(O)原子との結合(Ga−O結合)が主となる。これにより、上記界面において、価電子帯上端の界面準位を低減することができ、ギャップ内準位の形成を抑制することができる。これにより、ギャップ内準位にキャリアがトラップされることが抑制されるため、電気特性の低下をさらに抑制することができる。
<変形例>
上記の実施形態では、Ga原子のダングリングボンドをF原子で終端することを説明した。しかしながら、本発明の実施形態において、Ga原子のダングリングボンドを終端する終端元素は、F原子に限定されない。Ga原子のダングリングボンドを終端する終端元素は、例えば、F原子、塩素(Cl)原子、水酸基(OH基)、シアノ基(CN基)のいずれか1種類以上を含んでよい。
上記の実施形態では、Ga原子のダングリングボンドをF原子で終端することを説明した。しかしながら、本発明の実施形態において、Ga原子のダングリングボンドを終端する終端元素は、F原子に限定されない。Ga原子のダングリングボンドを終端する終端元素は、例えば、F原子、塩素(Cl)原子、水酸基(OH基)、シアノ基(CN基)のいずれか1種類以上を含んでよい。
(変形例1)
図7は、本発明の実施形態に係るMOSトランジスタ100の製造方法(変形例1)であって、Ga原子のダングリングボンドをOH基で終端する工程と、その前後の工程とを示すフローチャートである。図7において、図5に示したフローチャートとの違いは、ステップST2をステップST2Aに置き換えた点にある。図7において、ステップST2A以外の工程は、図7に示した各工程と同じである。
図7は、本発明の実施形態に係るMOSトランジスタ100の製造方法(変形例1)であって、Ga原子のダングリングボンドをOH基で終端する工程と、その前後の工程とを示すフローチャートである。図7において、図5に示したフローチャートとの違いは、ステップST2をステップST2Aに置き換えた点にある。図7において、ステップST2A以外の工程は、図7に示した各工程と同じである。
図7のステップST2Aでは、製造装置は、GaN層12を有する窒化ガリウム系半導体基板1をフッ酸(HF)水溶液に浸漬して、GaN層12の表面12aに露出しているGa原子のダングリングボンドをOH基で終端する。表1に示したように、Ga−OH間の結合は、Ga−H間の結合よりも結合エネルギーが大きく、結合が強固である。このため、ステップST4で熱処理を行っても、Ga−OH間の結合の多くは、Ga原子からOH基が離脱せずにそのまま維持される。
Ga原子のダングリングボンドをOH基で終端するメリットとして、Ga−OH結合界面にギャップ内準位が形成されないこと、及び、Ga−OH間の結合はGa−H間の結合よりも強いこと(表1参照)が挙げられる。また、上記のメリットとして、HF水溶液に窒化ガリウム系半導体基板1を浸漬するだけで、Ga原子のダングリングボンドを終端できるため、工程が簡単であることも挙げられる。
(変形例2)
図8は、本発明の実施形態に係るMOSトランジスタ100の製造方法(変形例2)であって、Ga原子のダングリングボンドをCl原子で終端する工程と、その前後の工程とを示すフローチャートである。図8において、図5に示したフローチャートとの違いは、ステップST2をステップST2Bに置き換えた点にある。図8において、ステップST2B以外の工程は、図8に示した各工程と同じである。
図8は、本発明の実施形態に係るMOSトランジスタ100の製造方法(変形例2)であって、Ga原子のダングリングボンドをCl原子で終端する工程と、その前後の工程とを示すフローチャートである。図8において、図5に示したフローチャートとの違いは、ステップST2をステップST2Bに置き換えた点にある。図8において、ステップST2B以外の工程は、図8に示した各工程と同じである。
図8のステップST2Bでは、製造装置は、GaN層12の表面12aに塩素(Cl2+)プラズマを照射して、GaN層12の表面12aに露出しているGa原子のダングリングボンドをCl原子で終端する。表1に示したように、Ga−Cl間の結合は、Ga−H間の結合よりも結合エネルギーが大きく、結合が強固である。このため、ステップST4で熱処理を行っても、Ga−Cl間の結合の多くは、Ga原子からCl原子が離脱せずにそのまま維持される。
Ga原子のダングリングボンドをCl原子で終端するメリットとして、Ga−Cl結合界面にギャップ内準位が形成されないこと、及び、Ga−Cl間の結合はGa−H間の結合よりも強いこと(表1参照)が挙げられる。また、上記のメリットとして、GaN層12の表面をCl2+プラズマに晒すだけでGa原子のダングリングボンドを終端できるため、工程が簡単であることも挙げられる。
(変形例3)
図9は、本発明の実施形態に係るMOSトランジスタ100の製造方法(変形例3)であって、Ga原子のダングリングボンドをCN基で終端する工程と、その前後の工程とを示すフローチャートである。図9において、図5に示したフローチャートとの違いは、ステップST2をステップST2Cに置き換えた点にある。図9において、ステップST2C以外の工程は、図9に示した各工程と同じである。
(変形例3)
図9は、本発明の実施形態に係るMOSトランジスタ100の製造方法(変形例3)であって、Ga原子のダングリングボンドをCN基で終端する工程と、その前後の工程とを示すフローチャートである。図9において、図5に示したフローチャートとの違いは、ステップST2をステップST2Cに置き換えた点にある。図9において、ステップST2C以外の工程は、図9に示した各工程と同じである。
図9のステップST2Cでは、製造装置は、GaN層12を有する窒化ガリウム系半導体基板1をクラウンエーテルシアン溶液に浸漬して、GaN層12の表面12aに露出しているGa原子のダングリングボンドをCN基で終端する。表1に示したように、Ga−CN間の結合は、Ga−H間の結合よりも結合エネルギーが大きく、結合が強固である。このため、ステップST4で熱処理を行っても、Ga−CN間の結合の多くは、Ga原子からCN基が離脱せずにそのまま維持される。
Ga原子のダングリングボンドをCN基で終端するメリットとして、Ga−CN結合界面にギャップ内準位が形成されないこと、及び、Ga−CN間の結合はGa−H間の結合よりも強いこと(表1参照)が挙げられる。また、上記のメリットとして、クラウンエーテルシアン溶液に窒化ガリウム系半導体基板1を浸漬するだけで、Ga原子のダングリングボンドを終端できるため、工程が簡単であることも挙げられる。
<その他の実施形態>
上記のように、本発明は実施形態及び変形例によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面は本発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、変形例が明らかとなろう。
例えば、MOSトランジスタ100に用いられるp型ドーパントは、マグネシウム(Mg)に限定されない。p型ドーパントは、ベリリウム(Be)、亜鉛(Zn)又はカドミウム(Cd)であってもよい。例えば、チャネル領域CRは、p型ドーパントとして、Mg、Be、Zn、Cdのいずれか1種類以上を1E+16/cm3以上の濃度で含んでもよい。
上記のように、本発明は実施形態及び変形例によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面は本発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、変形例が明らかとなろう。
例えば、MOSトランジスタ100に用いられるp型ドーパントは、マグネシウム(Mg)に限定されない。p型ドーパントは、ベリリウム(Be)、亜鉛(Zn)又はカドミウム(Cd)であってもよい。例えば、チャネル領域CRは、p型ドーパントとして、Mg、Be、Zn、Cdのいずれか1種類以上を1E+16/cm3以上の濃度で含んでもよい。
また、ゲート絶縁膜5は、SiO2膜に限定されない。ゲート絶縁膜5は、例えば酸化アルミニウム(Al2O3)膜であってもよい。ゲート絶縁膜5は、ボロン(B)、アルミニウム(Al)、シリコン(Si)、ガリウム(Ga)、スカンジウム(Sc)、チタン(Ti)、イットリウム(Y)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、タンタル(Ta)、タングステン(W)、のいずれか1種類以上を含む酸化物又は酸窒化物であってもよい。
また、図1において、ゲート絶縁膜5直下のドリフト領域には、n型のJFET領域が設けられていてもよい。JFET領域は、他のドリフト領域よりもn型ドーパントの濃度が高く、電気抵抗が低い領域である。JFET領域が設けられることによって、MOSトランジスタ100のオン抵抗の低減が図られていてもよい。
また、上記の実施形態では、本発明の「窒化ガリウム系半導体層」としてGaN層12を例示したが、「窒化ガリウム系半導体層」はGaN層に限定されない。例えば、「窒化ガリウム系半導体層」は、バルクのGaN基板であってもよい。また、「窒化ガリウム系半導体層」はGaNを主成分とし、アルミニウム(Al)元素及びインジウム(In)元素の いずれか1種類以上の元素をさらに含んでもよい。
また、上記の実施形態では、本発明の「窒化ガリウム系半導体層」としてGaN層12を例示したが、「窒化ガリウム系半導体層」はGaN層に限定されない。例えば、「窒化ガリウム系半導体層」は、バルクのGaN基板であってもよい。また、「窒化ガリウム系半導体層」はGaNを主成分とし、アルミニウム(Al)元素及びインジウム(In)元素の いずれか1種類以上の元素をさらに含んでもよい。
このように、本発明はここでは記載していない様々な実施形態等を含むことは勿論である。上記した実施形態及び変形例の要旨を逸脱しない範囲で、構成要素の種々の省略、置換及び変更のうち少なくとも1つを行うことができる。また、本明細書に記載された効果はあくまでも例示であって限定されるものでは無く、また他の効果があってもよい。本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。
1 窒化ガリウム系半導体基板
1a、12a 表面
1b、11b、12b 裏面
5 ゲート絶縁膜
6 ゲート電極
7 ソース電極
8 ドレイン電極
11 GaN基板
12 GaN層
13 ウェル領域
14 ソース領域
16 コンタクト領域
20 部位
21 界面
100 MOSトランジスタ
1a、12a 表面
1b、11b、12b 裏面
5 ゲート絶縁膜
6 ゲート電極
7 ソース電極
8 ドレイン電極
11 GaN基板
12 GaN層
13 ウェル領域
14 ソース領域
16 コンタクト領域
20 部位
21 界面
100 MOSトランジスタ
Claims (8)
- 窒化ガリウム系半導体層と、
前記窒化ガリウム系半導体層の第1面上に設けられ、酸素と、酸素以外の他の元素とを含む絶縁膜と、を備え、
前記窒化ガリウム系半導体層と前記絶縁膜とが接する界面は、ガリウムのダングリングボンドを終端する終端元素を含み、
前記終端元素は、閉殻構造に電子が1つ不足した価電子状態を有し、かつ水素よりもガリウムと強く結合する原子又は分子であり、
前記界面において、ガリウムと酸素との結合量は、ガリウムと前記他の元素との結合量よりも多い、窒化物半導体装置。 - 前記終端元素は、フッ素、塩素、水酸基、シアノ基、のいずれか1種類以上を含む、請求項1に記載の窒化物半導体装置。
- 前記窒化ガリウム系半導体層は、
前記絶縁膜と接する前記第1面から、前記第1面の反対側に位置する第2面側へ20nm以内の範囲に電気伝導領域を有し、
前記電気伝導領域に含まれるp型ドーパントは、前記電気伝導領域に含まれるn型ドーパントよりも多い、請求項1又は2に記載の窒化物半導体装置。 - 前記電気伝導領域は、前記p型ドーパントとして、
マグネシウム、ベリリウム、亜鉛、カドミウム、のいずれか1種類以上を1E+16/cm3以上の濃度で含む、請求項3に記載の窒化物半導体装置。 - 前記第1面の結晶面は、(0001)面、(1−100)面、(11−20)面又は(1−102)面である、請求項1から4のいずれか1項に記載の窒化物半導体装置。
- 前記界面において、ガリウムと酸素との結合量は、ガリウムと前記他の元素との結合量よりも10倍以上多い、請求項1から5のいずれか1項に記載の窒化物半導体装置。
- 前記界面から前記窒化ガリウム系半導体層側へ10nm以内の範囲を第1の範囲とし、前記界面から前記絶縁膜側へ10nm以内の範囲を第2の範囲とすると、
前記第1の範囲及び前記第2の範囲の少なくとも一方は、前記終端元素が1E+11/cm2以上存在する領域を有する、請求項1から6のいずれか1項に記載の窒化物半導体装置。 - 前記絶縁膜は、ボロン、アルミニウム、シリコン、ガリウム、スカンジウム、チタン、イットリウム、ジルコニウム、ハフニウム、タンタル、タングステン、のいずれか1種類以上を含む酸化物又は酸窒化物である、請求項1から7のいずれか1項に記載の窒化物半導体装置。
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