JP2021135398A - 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 - Google Patents

電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 電子写真感光体の下引き層において、うねりを抑制し細線再現性、表面性に優れた電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。【解決手段】 支持体の厚み、厚みのばらつき、ヤング率を規定した支持体と、特定のシラン化合物で表面処理され、疎水化度が特定の範囲にある酸化チタン粒子を含有する下引き層と、電荷発生層がこの順に積層されている電子写真感光体を提供する。【選択図】 なし

Description

本発明は、電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置に関する。
近年、有機電子写真感光体(以下、「電子写真感光体」と称する)に用いる支持体として、薄肉で精度を向上させた支持体が提案されてきている。コストダウンから薄肉化が進められているが、薄肉化すると支持体の厚みのばらつきや表面加工をしたときの表面特性のばらつきに影響が生じる。
特許文献1では、アルミニウム合金のヤング率を規定し、加工性に優れた支持体が提案されている。また、特許文献2では、アルミニウム合金の結晶粒の平均面積を規定し、支持体の円周精度と強度を両立させた薄肉の支持体が提案されている。特許文献3では、支持体の引き延ばし工程後の後加工技術として、センタレス加工をし、外周面の粗さを規定した支持体が提案されている。
特開2014−38138号公報 特開2016−143065号公報 特開2018−49060号公報
本発明者らが検討したところ、電子写真感光体の支持体上に下引き層を設ける場合において、金属酸化物粒子として酸化チタン粒子を用いた場合、支持体の特性と酸化チタンの特性の組み合わせによって膜性に影響が生じ、画質に改善の余地が生じることがあった。
具体的には、下引き層の表面粗さ(Rz)が大きくなり、細線再現性に改善の余地が生じることがあった。特に、薄肉化した支持体では、支持体の形状形成過程やその後の表面加工工程における制御が難しく、特定の表面処理をした酸化チタンを含む下引き層との組み合わせにより膜性に改善の余地が見受けられた。
本発明者らの鋭意検討の結果、酸化チタン粒子をアルキルシラン化合物で表面処理し、酸化チタン粒子の疎水化度を調整することで、下引き層のうねりを抑制し、細線再現性を改善できることがわかった。
本発明の目的は、電子写真感光体の特定の支持体と、下引き層の組み合わせにおいて、膜性の向上と細線再現性の改善に効果のある電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することにある。
よって本発明は、支持体、該支持体上に下引き層、電荷発生層がこの順に積層されている電子写真感光体において、該支持体の厚みが0.2mm以上、0.9mm以下であり、厚みばらつきが30μm以下であり、かつ、ヤング率が20GPa以上50GPa以下であり、該下引き層が、結着樹脂、および下記式(1)で示される化合物で表面処理された酸化チタン粒子を含有し、表面処理された酸化チタン粒子の疎水化度が10%以上60%以下である電子写真感光体を提供する。
Figure 2021135398
式(1)中のR1〜R3はそれぞれ独立に炭素数が4以下のアルコキシ基または、アルキル基を示す。ただし、R1〜R3の少なくとも2つは、前記炭素数が4以下のアルコキシ基である。R4は炭素数n(4≦n≦18)のアルキル基である。
本発明によれば、下引き層の膜性が良好で、細線再現性に優れた電子写真感光体を提供することができる。
本発明の電子写真感光体の層構成の1例を示す図である。 本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の1例を示す図である。 センタレス研磨機の1例を示す図である。 (a):モールドを示す上面図である。(b):凸部のB−B断面図である。(c):凸部のC−C断面図である。 電子写真感光体の周面に凹部を形成するための圧接形状転写加工装置の例を示す図である。 研磨シートを用いた研磨機の1例を示す図である。
本発明の電子写真感光体は、支持体、該支持体上の下引き層、および、該下引き層上の感光層を有し、
該支持体は、厚みが0.2以上0.9mm以下で、厚みのばらつきが0.3μm以下、ヤング率が20GPa以上50GPa以下であり、
該下引き層が結着樹脂、および、下記式(1)で示される化合物で表面処理された酸化チタン粒子を含有し、表面処理された酸化チタン粒子の疎水化度が10%以上、60%以下である。
Figure 2021135398
式(1)中のR1〜R3はそれぞれ独立に炭素数が4以下のアルコキシ基または、アルキル基を示す。ただし、R1〜R3の少なくとも2つは、前記炭素数が4以下のアルコキシ基である。R4は炭素数n(4≦n≦18)のアルキル基である。
本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置については後述する。
本発明者らは鋭意検討を行った結果、特定範囲の厚み且つ特定範囲の厚みのばらつきを有する、薄肉化された支持体の上に、アルキルシラン処理剤で表面処理された酸化チタン粒子を含有する下引き層を形成した。
その結果、下引き層のうねりの小さい、細線再現性に優れた電子写真感光体が形成できることがわかった。
特定範囲の厚みとは0.2以上0.9mm以下で、特定範囲の厚みのばらつきは0.3μm以下である。
下引き層のうねりは、下引き層の表面に凹凸を与える。この凹凸は、下引き層を形成する過程の中のひとつである乾燥工程において、塗料中の酸化チタン粒子が凝集することによって引き起こされる。下引き層の表面の凹凸が大きいと下引き層上に形成される電荷発生層の濃淡ムラが発生し、露光後の潜像電位にムラが生じ、結果として細線などの画像に影響を及ぼしてしまう。下引き層用塗料中の酸化チタンの分散性がよいと下引き層の乾燥工程における酸化チタン粒子の凝集が抑えられる。本発明では、酸化チタン粒子の分散性を向上させるために、酸化チタン粒子の表面をアルキルシラン処理している。
アルキルシラン処理剤としては、式(1)で示される化合物を挙げる。また、表面処理された酸化チタン粒子の疎水化度は、10%以上60%以下、好ましくは、20%以上45%以下がよい。この範囲は、後述する塗料中の酸化チタン粒子の分散性と、塗料と支持体との相性から決定している。疎水化度が低すぎると、塗料中の酸化チタン粒子の分散性が悪く、下引き層がうねる要因になる。疎水化度が高すぎると支持体と塗料の相性が悪くなり、塗料のハジキ(repellency)、言い換えると濡れ性に課題が発生してしまう。
以下詳細に説明する。はじめに本発明の電子写真感光体の層構成を説明し、各層の説明を続けてする。そのなかで下引き層の説明をする。
各層の説明の後、各層を有した電子写真感光体への表面加工について説明し、このような電子写真感光体を収容するプロセスカートリッジや電子写真装置について説明する。
[電子写真感光体]
本発明の実施形態に係る電子写真感光体は、図1に示すように、支持体上に下引き層を有し、さらに下引き層上に感光層をこの順に有する。図1中、101は支持体であり、102は下引き層であり、103は感光層である。これら層は積層されている。
電子写真感光体を製造する方法としては、後述する各層となる塗布液をそれぞれ調製し、順番に塗布して、乾燥させて得る方法が挙げられる。塗布方法としては、浸漬塗布、スプレー塗布、インクジェット塗布、ロール塗布、ダイ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布、ワイヤーバー塗布、リング塗布などが挙げられる。これらの中でも、効率性及び生産性の観点から、浸漬塗布が好ましい。
<支持体>
支持体は非導電性のものでもよいが導電性を有する導電性支持体であることが好ましい。また、支持体の形状は、円筒状、ベルト状、シート状などが挙げられる。なかでも、円筒状であることが好ましい。
また、支持体の表面に、陽極酸化などの電気化学的な処理や、ブラスト処理、切削処理、センタレス研削処理などを施してもよい。なかでもセンタレス研削処理を施すことが好ましい。
支持体の材質としては、金属が好ましい。
金属としては、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、金、ステンレスや、これらの合金などが挙げられる。中でも、アルミニウムを用いたアルミニウム製支持体であることが好ましい。
支持体は母材がガラス等の非導電性であって、下引き層が配置される側の面が導電膜を有したものでもよい。この場合、支持体は導電性支持体である。
支持体は、厚みが0.2mm以上0.9mm以下であるものを用いる。
支持体の厚みは、たとえば後述するように、円筒状支持体の場合、円周方向と母線方向のそれぞれにおいて等間隔の複数個所において測定される厚みの平均値である。この平均値が0.2mm以上0.9mm以下におさまる。
厚みのばらつきとは、上記の複数個所における厚みの値のうちの、最大値と最小値の差である。厚みのばらつきは30μm以内である。
支持体のヤング率は20GPa以上50GPa以下である。この範囲は加工時の厚み精度と強度が両立できる範囲である。
支持体外周面の算術平均粗さ(Ra)は0.03μm以上1.5μm以下が好ましく、粗さ曲線要素の平均長さ(Rsm)が400μm以下であることが望ましい。この場合支持体は、例えばセンタレス研削処理による加工処理されたものである。
<下引き層>
本発明の実施の形態に係る下引き層は、結着樹脂と酸化チタン粒子を含有している。酸化チタン粒子の一次粒子径(体積個数平均)は、1nm以上200nm以下であり、その中でも1nm以上10nm以下のものを用いる。酸化チタン粒子は、下記式(1)で示される化合物によって表面処理されたものである。そして表面処理された酸化チタン粒子の疎水化度は10%以上60%以下である。
酸化チタンは式(1)で示される化合物で疎水化処理される。
Figure 2021135398
式(1)中のR1〜R3はそれぞれ独立に炭素数が4以下のアルコキシ基またはアルキル基を示す。ただし、R1〜R3の少なくとも2つは、前記炭素数が4以下のアルコキシ基である。R4は炭素数n(4≦n≦18)のアルキル基である。
式(1)中のR1〜R3のアルコキシ基またはアルキル基を例示する。
Figure 2021135398
式(1)で示される化合物の具体的例としては、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ジイソブチルジメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ジメトキシメチルオクチルシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシランなどが挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。また、2種以上混合して使用してもよい。
式(1)で示される化合物(シランカップリング剤)のアルコキシ基が加水分解され、ОH基となり、このОH基が、酸化チタン粒子表面に存在するОH基と脱水反応する。これにより酸化チタン粒子が表面処理される。つまり酸化チタン粒子は表面に上記のように式(1)の一部の構造が付与される。すなわち酸化チタン粒子は疎水化処理される。
炭素数と疎水化度について、本発明者らは次のように考えている。炭素数が大きくなると表面処理された酸化チタン粒子の疎水性が上がり、溶媒との濡れ性がよくなり、塗料溶媒中の酸化チタンの分散性が向上する。下引き層のうねりは、膜乾燥時の酸化チタン粒子の凝集が引き起こすと考えられるため、塗料溶媒中の酸化チタン粒子の分散状態がよいほど、膜乾燥時の凝集が抑えられる。酸化チタンの分散に適した表面処理剤として、式(1)のR4のアルキル基の炭素数が4以上18以下のものを選択するとよい。
酸化チタン粒子を式(1)の化合物により表面処理する方法は、たとえば、乾式法や湿式法が挙げられる。
乾式法は、酸化チタン粒子をヘンシェルミキサーのような高速攪拌可能なミキサーの中で攪拌しながら、表面処理剤を含有するアルコール水溶液、有機溶媒溶液、または水溶液を添加し、均一に分散させた後に乾燥を行うものである。
湿式法は、酸化チタン粒子と表面処理剤とを溶剤中で攪拌、またはガラスビーズ等を用いてサンドミル等を用いて分散するものであり、分散後、ろ過、または減圧留去により溶剤除去が行われる。溶剤の除去後は、さらに100℃以上で焼き付けを行うことが好ましい。
酸化チタン粒子は、酸化チタン粒子の疎水化度が所望の範囲になるように調整される。本発明では、酸化チタン粒子の疎水化度が10%以上、60%以下、好ましくは、20%以上45%以下に調整するとよい。10%未満の疎水化度では、表面の疎水化が足りず、酸化チタン粒子の分散状態が悪く膜乾燥時の凝集が起きてしまう。疎水化度を60%より高くすると、下引き層用塗料の撥水性が高くなりすぎるので、下引き層と支持体との相性が悪く、支持体の一部が薄膜化する、または支持体の一部が露出するハジキという現象が起こりやすくなる。特に、支持体の外表面の研削処理が軽微で、外周面の表面Raが小さい支持体の場合起こりやすくなる。
粒子の疎水化度を測定する方法は、メタノール疎水化度法を用いる。純水20mLの中に、表面処理後の酸化チタン粒子を200mg投入し、撹拌子で2分間撹拌する。その分散液に、メタノールを少量ずつ滴下した後、再度撹拌し、それを酸化チタン粒子が全部沈降するまで繰返し、メタノール滴下量を調べる。メタノール疎水化度は下記式で求められる。
メタノール疎水化度(%)=(メタノール滴下量)/(メタノール滴下量+蒸留水量)
下引き層中の酸化チタン粒子の含有量は、酸化チタン粒子の質量(P)と結着樹脂の質量(B)の質量比P/Bが0.5/1.0以上、4.0/1.0以下である。この範囲は、酸化チタン粒子の分散性、塗膜状態を良好に形成できる限界およびシリンダへの密着性の観点から導き出している。
結着樹脂として、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、アルキッド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリエチレンオキシド樹脂、ポリプロピレンオキシド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミド酸樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、セルロース樹脂などを挙げることができる。
これらの中でも、ポリウレタン樹脂を用いる。
結着樹脂は、重合性官能基を有するモノマーを含有する組成物を重合させることで得ることができる。組成物を有する塗液に加熱や電子線照射を施すことでモノマーが重合する。
モノマーが有する重合性官能基として、イソシアネート基、ブロックイソシアネート基、メチロール基、アルキル化メチロール基、エポキシ基、金属アルコキシド基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、カルボン酸無水物基、炭素−炭素二重結合基などが挙げられる。これらの中でもブロックイソシアネート基が好ましい。
また、本発明の下引き層は、電気特性を高める目的で、電子輸送物質、上述の酸化チタン以外の金属酸化物、金属、導電性高分子などを更に含有してもよい。
電子輸送物質としては、キノン化合物、イミド化合物、ベンズイミダゾール化合物、シクロペンタジエニリデン化合物、フルオレノン化合物、キサントン化合物、ベンゾフェノン化合物、アリザリン化合物、シアノビニル化合物、ハロゲン化アリール化合物、シロール化合物、含ホウ素化合物などが挙げられる。電子輸送物質は、重合性官能基を有してもよいが、上述の重合性官能基を有するモノマーと区別されたものであり、上述の重合性官能基を有するモノマーと共重合させてもよい。
下引き層の平均膜厚は、0.1μm以上40μm以下であることが好ましく、10μm以上30μm以下であることがより好ましい。
下引き層は、上述の各材料及び溶剤を含有する下引き層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥及び/又は硬化させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
<感光層>
本発明の電子写真感光体は、下引き層の上に、感光層を有する。
電子写真感光体の感光層は、主に、(1)積層型感光層と、(2)単層型感光層とに分類される。(1)積層型感光層は、電荷発生物質を含有する電荷発生層と、電荷輸送物質を含有する電荷輸送層と、を有する。(2)単層型感光層は、電荷発生物質と電荷輸送物質を共に含有する感光層を有する。
(1)積層型感光層
積層型感光層は、電荷発生層と、電荷輸送層と、を有する。
(1−1)電荷発生層
電荷発生層は、電荷発生物質と、樹脂と、を含有することが好ましい。
電荷発生物質としては、アゾ顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、フタロシアニン顔料などが挙げられる。これらの中でも、アゾ顔料、フタロシアニン顔料が好ましい。フタロシアニン顔料の中でも、オキシチタニウムフタロシアニン顔料、クロロガリウムフタロシアニン顔料、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料が好ましい。
電荷発生層中の電荷発生物質の含有量は、電荷発生層の全質量に対して、40質量%以上85質量%以下であることが好ましく、60質量%以上80質量%以下であることがより好ましい。
樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂が好ましい。
また、電荷発生層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの添加剤を更に含有してもよい。具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、などが挙げられる。
電荷発生層の平均膜厚は、0.1μm以上1μm以下であることが好ましく、0.15μm以上0.4μm以下であることがより好ましい。
電荷発生層は、上述の各材料及び溶剤を含有する電荷発生層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
(1−2)電荷輸送層
電荷輸送層は、電荷輸送物質と、樹脂と、を含有することが好ましい。
電荷輸送物質としては、例えば、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、エナミン化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物や、これらの物質から誘導される基を有する樹脂などが挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン化合物、ベンジジン化合物が好ましい。
電荷輸送層中の電荷輸送物質の含有量は、電荷輸送層の全質量に対して、25質量%以上70質量%以下であることが好ましく、30質量%以上55質量%以下であることがより好ましい。
樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂が好ましい。ポリエステル樹脂としては、特にポリアリレート樹脂が好ましい。
電荷輸送物質と樹脂との含有量比(質量比)は、4:10〜20:10が好ましく、5:10〜12:10がより好ましい。
また、電荷輸送層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、レベリング剤、滑り性付与剤、耐摩耗性向上剤などの添加剤を含有してもよい。具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、シロキサン変性樹脂、シリコーンオイル、フッ素樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、シリカ粒子、アルミナ粒子、窒化ホウ素粒子などが挙げられる。
電荷輸送層の平均膜厚は、5μm以上50μm以下であることが好ましく、8μm以上40μm以下であることがより好ましく、10μm以上30μm以下であることが特に好ましい。
電荷輸送層は、上述の各材料及び溶剤を含有する電荷輸送層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。これらの溶剤の中でも、エーテル系溶剤または芳香族炭化水素系溶剤が好ましい。
(2)単層型感光層
単層型感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質、樹脂及び溶剤を含有する感光層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥させることで形成することができる。電荷発生物質、電荷輸送物質、樹脂としては、上記「(1)積層型感光層」における「(1−2)電荷輸送層」と同様でポリカーボネート樹脂が好ましい。
<保護層>
本発明において、感光層の上に、保護層を設けてもよい。保護層を設けることで、耐久性を向上することができる。
保護層は、導電性粒子及び/又は電荷輸送物質と、樹脂とを含有することが好ましい。
導電性粒子としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物の粒子が挙げられる。
電荷輸送物質としては、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、エナミン化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物や、これらの物質から誘導される基を有する樹脂などが挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン化合物、ベンジジン化合物が好ましい。
樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。中でも、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂が好ましい。
また、保護層は、重合性官能基を有するモノマーを含有する組成物を重合することで硬化膜として形成してもよい。その際の反応としては、熱重合反応、光重合反応、放射線重合反応などが挙げられる。重合性官能基を有するモノマーが有する重合性官能基としては、アクリル基、メタクリル基などが挙げられる。重合性官能基を有するモノマーとして、電荷輸送能を有する材料を用いてもよい。
保護層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、レベリング剤、滑り性付与剤、耐摩耗性向上剤、などの添加剤を含有してもよい。具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、シロキサン変性樹脂、シリコーンオイル、フッ素樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、シリカ粒子、アルミナ粒子、窒化ホウ素粒子などが挙げられる。
保護層の平均膜厚は、0.5μm以上10μm以下であることが好ましく、1μm以上7μm以下であることが好ましい。
保護層は、上述の各材料及び溶剤を含有する保護層用塗布液を調製し、この塗膜を形成し、乾燥及び/又は硬化させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、スルホキシド系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。
<電子写真感光体の表面加工>
本発明の電子写真感光体は、該電子写真感光体に接触させるクリーニング手段の挙動をより安定化させる目的で、クリーニング手段が当接する電子写真感光体の表面に凹部または凸部を設けたり、該表面を研磨により粗さを付与することができる。クリーニング手段とは、本実施形態においてクリーニングブレードのことである。
凹部を形成する場合は、凹部に対応した凸部を有するモールドを電子写真感光体の表面に圧接し、形状転写を行うことにより、電子写真感光体の表面に凹部を形成することができる。
凸部を形成する場合は、凸部に対応した凹部を有するモールドを電子写真感光体の表面に圧接し、形状転写を行うことにより、電子写真感光体の表面に凸部を形成することができる。
電子写真感光体の表面層を研磨し粗さを付与する場合は、電子写真感光体に研磨具を当接させ、いずれか一方あるいは両方を相対的に移動させて電子写真感光体の表面を研磨することにより、粗さを付与することができる。研磨具としては、基材上に研磨砥粒が結着樹脂中に分散された層を設けてなる研磨部材などが挙げられる。
[プロセスカートリッジ、電子写真装置]
本発明のプロセスカートリッジは、これまで述べてきた電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段及びクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在である。
また、本発明の電子写真装置は、これまで述べてきた電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有する。
図2に、電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジ11を有する電子写真装置の概略構成の一例を示す。
1は円筒状の電子写真感光体であり、軸2を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。電子写真感光体1の表面は、帯電手段3により、正又は負の所定電位に帯電される。
尚、図においては、ローラー型帯電部材によるローラー帯電方式を示しているが、コロナ帯電方式、近接帯電方式、注入帯電方式などの帯電方式を採用してもよい。ローラー帯電方式の場合、ローラー型帯電部材に印加する電圧を直流電圧のみにしたDC帯電方式と、直流電圧に交流電圧を重畳したAC/DC帯電方式があるが、装置コスト削減、装置小型化などの観点からはDC帯電方式が好ましい。
帯電された電子写真感光体1の表面には、露光手段(不図示)から露光光4が照射され、目的の画像情報に対応した静電潜像が形成される。
電子写真感光体1の表面に形成された静電潜像は、現像手段5内に収容されたトナーで現像され、電子写真感光体1の表面にはトナー像が形成される。電子写真感光体1の表面に形成されたトナー像は、転写手段6により、転写材7に転写される。
トナー像が転写された転写材7は、定着手段8へ搬送され、トナー像の定着処理を受け、電子写真装置の外へプリントアウトされる。電子写真装置は、転写後の電子写真感光体1の表面に残ったトナーなどの付着物を除去するための、クリーニング手段9を有していてもよい。また、クリーニング手段を別途設けず、上記付着物を現像手段などで除去する、所謂、クリーナーレスシステムを用いてもよい。
電子写真装置は、電子写真感光体1の表面を、前露光手段(不図示)からの前露光光10により除電処理する除電機構を有していてもよい。また、本発明のプロセスカートリッジを電子写真装置本体に着脱するために、レールなどの案内手段12を設けてもよい。
本発明の電子写真感光体は、レーザービームプリンター、LEDプリンター、複写機、ファクシミリ、及び、これらの複合機などに用いることができる。
(実施例)
以下、実施例及び比較例を用いて本発明を更に詳細に説明する。本発明は、その要旨を超えない限り、下記の実施例によって何ら限定されるものではない。尚、以下の実施例の記載において、「部」とあるのは特に断りのない限り質量基準である。
[酸化チタン粒子の生成]
酸化チタン粒子T−A(商品名:TKP101、テイカ株式会社製)、100部をトルエン500部と攪拌混合し、R4の炭素数4のジイソブチルジメトキシシラン1.25部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、表面処理された酸化チタン粒子T−4Aを得た。
酸化チタン粒子T−A(商品名:TKP101、テイカ株式会社製)、100部をトルエン500部と攪拌混合し、R4の炭素数6のヘキシルトリメトキシシラン1.25部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、表面処理された酸化チタン粒子T−6Aを得た。
酸化チタン粒子T−A(商品名:TKP101、テイカ株式会社製)、100部をトルエン500部と攪拌混合し、R4の炭素数8のオクチルトリメトキシシラン1.25部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、表面処理された酸化チタン粒子T−8Aを得た。
酸化チタン粒子T−A(商品名:TKP101、テイカ株式会社製)、100部をトルエン500部と攪拌混合し、R4の炭素数10のデシルトリメトキシシラン1.5部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、表面処理された酸化チタン粒子T−10Aを得た。
酸化チタン粒子T−A(商品名:TKP101、テイカ株式会社製)、100部をトルエン500部と攪拌混合し、R4の炭素数12のドデシルトリメトキシシラン1.5部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、表面処理された酸化チタン粒子T−12Aを得た。
酸化チタン粒子T−A(商品名:TKP101、テイカ株式会社製)、100部をトルエン500部と攪拌混合し、R4の炭素数18のオクタデシルトリメトキシシラン1.75部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、表面処理された酸化チタン粒子T−18Aを得た。
酸化チタン粒子T−B(商品名:AMT−600、テイカ株式会社製)、100部をトルエン500部と攪拌混合し、R4の炭素数8のジメトキシメチルオクチルシラン1.0部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、表面処理された酸化チタン粒子T−8Bを得た。
酸化チタン粒子T−C(商品名:SA−50、チタン工業株式会社製)、100部をトルエン500部と攪拌混合し、R4の炭素数6のヘキシルトリエトキシシラン0.75部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、表面処理された酸化チタン粒子T−6Cを得た。
Figure 2021135398
(実施例1)
支持体(導電性支持体)として、長さ357.5mm、外径30mm、厚さ0.6mm、厚みのばらつき20μmのアルミニウム製の素管を用意した。アルミニウム素管の厚さ、厚みのばらつき、ヤング率は以下の方法で測定した。
[支持体表面評価]
支持体の厚みは次のように測定された値である。
感光体から、支持体の外周面上に形成された層(感光層等)をカッター等により除去、又は溶剤等により溶解して除去する。
外周面上に形成された層を除去した支持体を測定対象とし、マイクロメータによって測定した値である。測定位置は、長手距離均等分割で5点、円周方向90°ずらしの4点の計20点を測定した。
さらに、上記20点の測定値の最大値と最小値の差を算出した値を厚みのばらつきとした。
支持体のヤング率は、次のように測定された値である。
感光体から、支持体の外周面上に形成された層(感光層等)をカッター等により除去、又は溶剤等により溶解して除去する。
外周面上に形成された層を除去した支持体から測定試料(支持体の厚み×10mm×10mm)を切り出す。そして押し込み試験機(商品名:MODEL−1605N、製造元 アイコーエンジニアリング社製)により1mm/minの速度で測定試料の10mm×10mmの面を押し込み、そのときの荷重(N)と変位量(mm)の関係により求める。
横軸に試料の変位量(mm)、縦軸にそのときの荷重(N)を取り、その傾きをヤング率(GPa)として求めた。
用意したアルミニウム素管を、図3に示すようなセンタレス研磨機を用いて、以下に示す研削条件で表面の研削加工を行った。図3の301は研磨砥石、302は支持体、303は調整砥石、304は支持台を表す。
[研削条件]
・研削砥石:SiC #500
・研削回転数:1000rpm
・粗研削量:0.16mm
・粗研削送り速度:1.1m/min
・研削方式:スルーフィード方式
作製した支持体を(株)小坂製作所製の表面粗さ測定器(型式:SE700)で表面粗さ測定を行った。カットオフ値は0.8mm、測定長さは4mmで、データ間隔は、1.6μmの条件で測定を行った。測定した支持体の粗さ曲線からJIS B 0601:2001より求められる算術平均粗さ(Ra)、粗さ曲線要素の平均長さ(Rsm)を求めた。その結果、Raは1.0μm、Rsmは400μmであった。
次に、ポリオール樹脂としてブチラール樹脂(商品名:BM−1、積水化学工業(株)製)15部、ブロック化イソシアネート(商品名:スミジュール3175、住化バイエルンウレタン(株)製)15部をメチルエチルケトン300部と1−ブタノール300部の混合液に溶解した。
この溶液に、酸化チタンT−6Aを120部と、添加剤として2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン(東京化成工業(株)製)1.2部を加え、これを直径0.8mmのガラスビーズを用いたサンドミル装置で23±3℃雰囲気下で4時間分散した。
分散後、シリコーンオイル(商品名:SH28PA、東レ・ダウコーニング(株)製)0.01部を分散液に加えて攪拌し、下引き層用塗布液を得た。
得られた下引き層用塗布液を上記支持体上に浸漬塗布し、これを30分間165℃で乾燥させることによって、膜厚が15μmの下引き層を形成した。
次に、CuKα特性X線回折におけるブラッグ角2θ±0.2°の7.4°および28.2°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質)20部、下記式(A)で示されるカリックスアレーン化合物0.2部、ポリビニルブチラール樹脂(商品名:エスレックBX−1、積水化学工業(株)製)10部、および、シクロヘキサノン600部を、直径1mmガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、4時間分散処理した後、酢酸エチル600部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。
この電荷発生層用塗布液を前記下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を15分間80℃で乾燥させることによって、膜厚0.19μmの電荷発生層を形成した。
Figure 2021135398
次に、
下記式(B)で示される化合物(電荷輸送物質)60部、
下記式(C)で示される化合物(電荷輸送物質)30部、
下記式で示される化合物10部(D)、
ポリカーボネート樹脂(商品名:ユーピロンZ400、三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、ビスフェノールZ型のポリカーボネート)100部、
下記式(E)で示されるポリカーボネート(粘度平均分子量Mv:20000)0.02部を、
o−キシレン600部およびジメトキシメタン200部の混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。
この電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を30分間100℃で乾燥させることによって、膜厚18μmの電荷輸送層を形成した。
Figure 2021135398
次に、
下記式(F1)で示される繰り返し構造単位および下記式(F2)で示される繰り返し構造単位を有する樹脂(重量平均分子量:130,000、共重合比(F1)/(F2)=1/1(モル比))1.65部を、
1,1,2,2,3,3,4−ヘプタフルオロシクロペンタン(商品名:ゼオローラH、日本ゼオン(株)社製)40部及び1−プロパノール55部の混合溶剤に溶解した。
その後、四フッ化エチレン樹脂粉体(商品名:ルブロンL−2、ダイキン工業(株)製)30部を加えた液を、高圧分散機(商品名:マイクロフルイダイザーM−110EH、米Microfluidics(株)製)に通し、分散液を得た。
その後、
下記式(G)で示される正孔輸送性化合物52.0部、
下記式(H)で示される化合物(アロニックスM−315、
東亞合成(株)製)16.0部、
下記式(I)で示される化合物(シグマ−アルドリッチ製)2.0部、
シロキサン変性アクリル化合物0.75部(BYK−3550、ビックケミー・ジャパン(株)製)、
1,1,2,2,3,3,4−ヘプタフルオロシクロペンタン35部及び1−プロパノール15部を前記分散液に加え、
ポリフロンフィルター(商品名:PF−040、アドバンテック東洋(株)製)で濾過を行い、保護層用塗料を調製した。
この保護層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を5分間40℃で乾燥させた。乾燥後、窒素雰囲気下にて、加速電圧70KV、吸収線量15kGyの条件で1.6秒間電子線を塗膜に照射した。その後、窒素雰囲気下にて、塗膜の温度が135℃になる条件で15秒間加熱処理を行った。なお、電子線の照射から15秒間の加熱処理までの酸素濃度は15ppmであった。
次に、大気中において、塗膜が105℃になる条件で1時間加熱処理を行い、膜厚5μmである保護層を形成した。このようにして、電子写真感光体を製造した。
Figure 2021135398
[モールド圧接形状転写による凹部の形成]
次に、圧接形状転写加工装置に型部材(モールド)を設置し、作製した凹部形成前の電子写真感光体に対して表面加工を行った。
具体的には、概ね図5に示す構成の圧接形状転写加工装置に、図4に示すモールドを設置し、作製した凹部形成前の電子写真感光体に対して表面加工を行った。501は被処理体(加工を行う前の電子写真感光体)、502はモールド型、503は加圧部材、504は支持部材である。図4は、実施例および比較例で用いたモールドを示す図である。
図4(a)はモールドの概略を示す上面図、図4(b)はモールドの凸部の電子写真感光体の軸方向の概略断面図(図4(a)のS−S‘断面における断面図)である。図4(c)はモールドの凸部の電子写真感光体の周方向の断面図(図4(a)のT−T’断面の断面図)である。
図4に示されるモールドは複数の凸形状を有している。
凸形状の最大幅(モールド上の凸部を上から見たときの電子写真感光体の軸方向の最大幅のこと)Xは50μmである。そして凸形状の最大長さ(モールド上の凸部を上から見たときの電子写真感光体の周方向の最大長さのこと)Yは75μmであり、面積率は56%、高さHは4μmである。
なお、面積率とは、モールドを上から見たときに表面全体に占める凸部の面積の比率である。加工時には、電子写真感光体の表面の温度が120℃になるように電子写真感光体およびモールドの温度を制御した。そして、7.0MPaの圧力で電子写真感光体と加圧部材をモールドに押し付けながら、電子写真感光体を周方向に回転させて、電子写真感光体の表面層(周面)の全面に凹部を形成した。
以上のようにして、実施例1の画像評価用の電子写真感光体を作製した。
[画像評価]
評価用の電子写真装置として、キヤノン(株)製の複写機imageRUNNER ADVANCE C3330の改造機を使用した。帯電手段としては、直流電圧をローラー型の接触帯電部材(帯電ローラー)に印加する方式を用いて、評価を行った。
評価装置は、温度25℃湿度50%RHの環境下に設置した。
画像評価用ドラムをドラムカートリッジに設置し、細線再現性評価用の1ドットライン(600dpi)画像を出力し、拡大観察しラインの再現性を確認した。
細線の太さにムラが少ない場合は(◎)、細線の太さにムラが見受けられる場合は(〇)、細線が途切れている箇所が見受けられる場合は(△)、細線の途切れが非常に多い場合は(×)として評価結果を示した。
[表面性ハジキ評価]
支持体上の下引き層のハジキは、以下の方法で評価した。
感光体から、下引き層に形成された層(感光層等)をカッター等により除去、又は溶剤等により溶解して除去し、下引き層をむき出しにする。下引き層表面を、レーザー顕微鏡(VK−100、キーエンス(株)製)を用いて倍率20倍で観察し、下引き層上に、支持体の露出部や凹部がないか確認した。
下引き層の露出が認められ、そのレベルが悪い方から、×、△、〇、◎で評価をつけた。
顕微鏡による感光層拡大画面(300μm×400μm)において、下引き層の露出面積が画面全体の10%以上の場合は(×)、5%以上10%未満の場合は(△)、1%以上5%未満の場合は(〇)、1%未満の場合は(◎)として評価結果を示した。
(実施例2〜6)
下引き層用塗布液に用いた酸化チタン粒子T−6Aを、粒子T−4A、T−8A、T−10A、T−12A、T−18Aにそれぞれ変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例2〜6の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表2に示す。
(実施例7)
酸化チタン粒子T−6Aの表面処理量を調整し、疎水化度を10%に調整した以外は、実施例1と同様にして、実施例7の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表2に示す。
(実施例8)
厚みが0.2mm、厚みのばらつきが20μm、ヤング率20GPaのアルミニウム素管を、送り速度1.3m/minでセンタレス研削を行い、センタレス研削加工後のRaを0.03mm、Rsmを400μmにしたものを支持体とした。それ以外は実施例1と同様にして、実施例8の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表2に示す。
(実施例9)
厚みが0.9mm、厚みのばらつきが30μm、ヤング率50GPaのアルミニウム素管を、送り速度0.9m/minでセンタレス研削を行い、センタレス研削加工後のRaを1.5mm、Rsmを250μmにしたものを支持体とした。それ以外は実施例1と同様にして、実施例9の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表2に示す。
(実施例10、11)
下引き層用塗布液に用いた酸化チタン粒子T−6Aを、粒子T−8B、T−6Cにそれぞれ変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例10、11の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表2に示す。
(実施例12、13)
下引き層の膜厚15μmを、それぞれ10μm、30μmに変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例12、13の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表2に示す。
(実施例14)
実施例1において、電子写真感光体表面層の表面加工を、以下に記載する研磨装置を用いた加工に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例17の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表2に示す。
表面研磨前の電子写真感光体の表面を研磨した。研磨は図6の研磨装置を用い、以下の条件で行った。601は研磨シート、602a〜602dはガイドローラー、603はバックアップローラー、604は被処理体(研磨を行う前の電子写真感光体)、605は巻き取り手段、そして606は中空の軸である。
研磨シートの送りスピード;400mm/min
電子写真感光体の回転数;450rpm
電子写真感光体のバックアップローラーへの押し込み;3.5mm
研磨シートと電子写真感光体の回転方向;ウィズ
バックアップローラー;外径100mm、アスカーC硬度25
研磨装置に装着する研磨シートAは、理研コランダム株式会社製のGC3000とGC2000に用いられている研磨砥粒を混合して作成した。
GC3000(研磨シート表面粗さRa0.83μm)
GC2000(研磨シート表面粗さRa1.45μm)
研磨シートA(研磨シート表面粗さRa1.12μm)
研磨シートAを用いた研磨の時間は20秒間とした。
(実施例15)
実施例1において、表面層(保護層)の形成において、以下に記載した方法で調整した表面層用塗布液(保護層用塗布液)を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例20の電子写真感光体とシートサンプルを作製し、評価を行った。結果を表2に示す。
下記式(L)で示される化合物95部、
下記式(M)で示される化合物であるビニルエステル化合物5部(東京化成工業(株)製)、
シロキサン変性アクリル化合物3.5部(商品名:BYK−3550、ビックケミー・ジャパン(株)製)、
下記式(N)で示されるウレア化合物5部、
1−プロパノール200部、
1,1,2,2,3,3,4−ヘプタフルオロシクロペンタン(商品名:ゼオローラH、日本ゼオン(株)製)100部、
を混合し、撹拌した。
その後ポリフロンフィルター(商品名:PF−020、アドバンテック東洋(株)製)でこの溶液を濾過することによって、表面層用塗布液(保護層用塗布液)を調製した。
Figure 2021135398
この表面層用塗布液を電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を10分間50℃で乾燥させた。その後、窒素雰囲気下にて、加速電圧70kV、ビーム電流5.0mAの条件で支持体(被照射体)を200rpmの速度で回転させながら、1.6秒間電子線を塗膜に照射した。なお、このときの電子線の吸収線量を測定したところ、15kGyであった。
その後、窒素雰囲気下にて、塗膜の温度が25℃から117℃になるまで30秒かけて昇温させ、塗膜の加熱を行った。電子線照射から、その後の加熱処理までの酸素濃度は15ppm以下であった。次に、大気中において、塗膜の温度が25℃になるまで自然冷却し、塗膜の温度が105℃になる条件で30分間加熱処理を行い、膜厚5μmの保護層(表面層)を形成した。
(実施例16)
実施例1において、下引き層の添加剤2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン(東京化成工業(株)製)をアリザリンに変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例16の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表2に示す。
(比較例1)
支持体を平均厚みが0.7mm、厚みのばらつきが30μm、ヤング率が50GPaのものに変更し、下引き層用塗布液に用いた酸化チタン粒子T−6Aを、表面処理なしのT−A、疎水化度0%に変更した。T−Aは商品名:TKP101、テイカ株式会社製である。
それ以外は、実施例1と同様にして、比較例1の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表2に示す。
(比較例2)
支持体を平均厚みが0.7mm、厚みのばらつきが30μm、ヤング率が50GPaのものに変更し、下引き層用塗布液に用いた酸化チタン粒子T−6Aを以下の方法で精製した粒子に変更した。
それ以外は、実施例1と同様にして、比較例2の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表2に示す。
酸化チタン粒子T−A(商品名:TKP101、テイカ株式会社製)、100部をトルエン500部と攪拌混合し、R4の炭素数8のオクチルトリメトキシシラン2.5部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、疎水化度が70%の表面処理された酸化チタン粒子を得た。
(比較例3)
平均厚みが1.2mm、厚みのばらつきが40μm、ヤング率が90GPaのアルミニウム素管を、送り速度0.9m/minでセンタレス研削を行い、研削加工後の外周面のRaを0.06μm、Rsmを250μmにしたものを支持体とした。
それ以外は、実施例6と同様にして、比較例3の電子写真感光体を作製し、評価を行った。結果を表2に示す。
Figure 2021135398
表2に示すように、本発明は特定構造のアルキルシランで疎水化処理された酸化チタンを含有する下引き層と、膜厚精度と表面性を制御した支持体とを組み合わせた電子写真感光体を提供した。この電子写真感光体やそれを有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置は、下引き層の膜硬化時のうねりを改善し、細線再現性に優れ、かつ、支持体との相性がよくハジキの発生を抑制できる。
101 支持体
102 下引き層
103 感光層

Claims (8)

  1. 支持体、該支持体上に下引き層、電荷発生層がこの順に積層されている電子写真感光体において、
    該支持体の厚みが0.2mm以上、0.9mm以下であり、厚みばらつきが30μm以下であり、かつ、ヤング率が20GPa以上50GPa以下であり、
    該下引き層が、結着樹脂、および下記式(1)で示される化合物で表面処理された酸化チタン粒子を含有し、表面処理された酸化チタン粒子の疎水化度が10%以上60%以下である電子写真感光体。
    Figure 2021135398

    式(1)中のR1〜R3はそれぞれ独立に炭素数が4以下のアルコキシ基または、アルキル基を示す。ただし、R1〜R3の少なくとも2つは、前記炭素数が4以下のアルコキシ基である。R4は炭素数n(4≦n≦18)のアルキル基である。
  2. 前記支持体の外周面における算術平均粗さ(Ra)が0.03μm以上1.5μm以下であり、粗さ曲線要素の平均長さRsmが400μm以下である請求項1に記載の電子写真感光体。
  3. 前記表面処理された酸化チタン粒子の疎水化度が20%以上45%以下である請求項1または2に記載の電子写真感光体。
  4. 前記酸化チタン粒子の一次粒子径が1nm以上10nm以下である請求項1〜3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
  5. 前記下引き層の厚みが10μm以上30μm以下である請求項1〜4のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
  6. 請求項1から5のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選ばれた少なくとも1つの手段を一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
  7. 請求項1から5のいずれか1項に記載の電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段、および転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。
  8. 前記帯電手段として、前記電子写真感光体に当接するように配置された帯電ローラー、および直流電圧のみを印加することにより前記電子写真感光体を帯電する帯電手段、
    を有することを特徴とする請求項7に記載の電子写真装置。
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