JP2021134405A - 真空蒸着装置 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (3)
- 真空チャンバ内に蒸着源とこの蒸着源に対向配置されて被処理基板を保持する保持ステージとを備える真空蒸着装置において、
保持ステージが、これに保持される被処理基板をその基板中心回りに回転駆動する第1の駆動手段を備え、
蒸着源が、蒸着物質を収容する一方向に長手の収容箱と保持ステージに対向する収容箱の上面に設けられて蒸着物質の加熱により気化または昇華した蒸着物質の放出を可能とする複数の放出開口とを備えて、この蒸着源の複数個が基板中心を中心とする仮想円周上に周方向に間隔を置いて配置され、
保持ステージと各蒸着源との間に位置する真空チャンバ内の空間に遮蔽ユニットを更に備え、遮蔽ユニットが、上下方向に重ねて配置される上下一対の板状の遮蔽部と、各遮蔽部を基板中心回りに夫々回転させる第2の駆動手段とを有し、
上方に位置する遮蔽部に第1通路が、下方に位置する遮蔽部に第2通路が夫々形成されて、各遮蔽部を基板中心回りに所定の回転角だけ夫々回転させたときの第1通路と第2通路とが上下方向で合致する位相で、少なくとも1個の蒸着源の各放出開口から放出される蒸着物質の通過を許容するように構成したことを特徴とする真空蒸着装置。 - 前記第1通路と前記第2通路とは、各遮蔽部を基板中心回りに所定の回転角だけ夫々回転させたときに上下方向で合致しない位相が存在するように構成したことを特徴とする請求項1記載の真空蒸着装置。
- 前記上下一対の板状の遮蔽部のうち少なくとも一方を冷却する冷却手段を更に備えることを特徴とする請求項1または請求項2記載の真空蒸着装置。
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