JP7396928B2 - 真空蒸着装置 - Google Patents
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Claims (2)
- 真空チャンバ内に蒸着源とこの蒸着源に対向配置されて被処理基板を保持する保持ステージとを備える真空蒸着装置において、
保持ステージが、これに保持される被処理基板をその基板中心回りに回転駆動する第1の駆動手段を備え、
蒸着源が、蒸着物質を収容する一方向に長手の収容箱と保持ステージに対向する収容箱の上面に設けられて蒸着物質の加熱により気化または昇華した蒸着物質の放出を可能とする複数の放出開口とを備え、真空チャンバの内底面に周方向に間隔を置いて複数枚の隔絶板が放射状に設けられると共に、互いに隣接した各隔絶板で囲繞される空間に蒸着源の複数個が基板中心を中心とする仮想円周上に配置され、
保持ステージと各蒸着源との間に位置する真空チャンバ内の空間に遮蔽ユニットを更に備え、遮蔽ユニットが、上下方向に重ねて配置される上下一対の板状の遮蔽部と、各遮蔽部を基板中心回りに夫々回転させる第2の駆動手段とを有し、上方に位置する上遮蔽部の外周縁部に、その全周に亘ってその下方に向けて所定高さで突出する突条が設けられ、突条の内側に位置させて下方に位置する下遮蔽部が上下に微小な隙間を存して重ねて配置され、第2の駆動手段が、真空チャンバの内底面に立設した支柱の支持板上に設置されると共に、筒状の防着板で囲繞され、
上遮蔽部に第1通路が、下遮蔽部に第2通路が夫々形成されて、各遮蔽部を基板中心回りに所定の回転角だけ夫々回転させたときの第1通路と第2通路とが上下方向で合致する位相で、少なくとも1個の蒸着源の各放出開口から放出される蒸着物質の通過を許容するように構成され、
前記上遮蔽部を冷却する冷却手段を更に備え、冷却手段が真空チャンバ内で径方向に進退自在に配置される冷却ヘッドを有して、上遮蔽部の静止状態で冷却ヘッドが上遮蔽部に当接して伝熱により上遮蔽部を冷却するように構成したことを特徴とする真空蒸着装置。 - 前記第1通路と前記第2通路とは、各遮蔽部を基板中心回りに所定の回転角だけ夫々回転させたときに上下方向で合致しない位相が存在するように構成したことを特徴とする請求項1記載の真空蒸着装置。
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