JP2003313657A - 蒸着装置の制御方法及び蒸着装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 不要な蒸着粒子を、蒸着処理に悪影響を及ぼ
すことなく適切に除去する。 【解決手段】 蒸着粒子を発生する複数個ｎの蒸着源Ｓ
Ｌ１〜ＳＬｎを回転自在なステージ６に回転中心Ｑに対
して等角度α（３６０°／ｎ）で配設する。予備加熱用
ヒータＰＨＴと本加熱用ヒータＭＨＴとの成す角度βを
角度αに比例した角度であって、大きな離間距離の得ら
れる角度に設定する。蒸着源の個数ｎと、それより小さ
い自然数ｍに基づいて設定された値（ｍ−１）／ｎが１
以外の約数をもたない場合における自然数ｍと、ステー
ジ６が一回転する角度に基づいて得られる角度３６０°
×（ｍ−１）／ｎに従ってステージ６を回転させる。不
要な蒸着粒子を付着させて除去する防着板ＳＢを、本加
熱用ヒータＭＨＴ側では低く、予備加熱用ヒータＰＨＴ
側では高くなるように傾斜させて、本加熱中の蒸着源を
除く残余の蒸着源の上側を間隔をおいて覆う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば薄膜等を形
成するための蒸着方法及び蒸着装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】従来より、半導体製造技術の分野では、
薄膜トランジスタ等の能動素子や、絶縁薄膜、導電性薄
膜、磁性薄膜等を蒸着技術によって形成することが行わ
れている。

【０００３】図９（ａ）は、従来の真空蒸着装置（vacu
um evaporation sysytem）の要部構成を示した図であ
る。この真空蒸着装置は、図示しない真空容器内に、ス
テージＳＴＧが回転自在に設けられている。ステージＳ
ＴＧには、被蒸発材料Ｍ１，Ｍ２…Ｍ６を有した複数個
の蒸発源ＳＬ１，ＳＬ２…ＳＬ６が設けられ、更に予備
加熱用ヒータＰＨＴと本加熱用ヒータＭＨＴが蒸発源Ｓ
Ｌ１，ＳＬ２…ＳＬ６に対向させるべく設けられてい
る。

【０００４】更に真空容器内には、薄膜を形成すべき被
蒸着基板（図示省略）が配置され、真空中で被蒸発材料
Ｍ１，Ｍ２…Ｍ６より蒸発した蒸発粒子を被蒸着基板面
に入射させることによって薄膜を形成するようになって
いる。

【０００５】なお、蒸着処理に際してステージＳＴＧを
図中の矢印で示す方向へ回転させることにより、蒸発源
ＳＬ１，ＳＬ１２…ＳＬ６を予備加熱用ヒータＰＨＴで
先ず予備加熱してから、本加熱用ヒータＭＨＴで本加熱
し、本加熱の際に夫々の被蒸発材料Ｍ１，Ｍ２…Ｍ６よ
り蒸発する蒸発粒子を被蒸着基板面に入射させて、薄膜
形成を行っている。

【０００６】更に、既述した被蒸着基板とステージＳＴ
Ｇの間であって、ステージＳＴＧに近接した位置に、本
加熱用ヒータＭＨＴで本加熱される蒸発源（図では、Ｓ
Ｌ１）だけを開放にし、残余の蒸発源（図中では、ＳＬ
１２…ＳＬ６）を覆うための防着板ＳＢ１，ＳＢ２が傾
斜して設けられている。

【０００７】これらの防着板ＳＢ１，ＳＢ２は、ステー
ジＳＴＧの回転に伴って、本加熱用ヒータＭＨＴの位置
に到来した蒸発源のみを蒸発粒子の発生に寄与させ、残
余の蒸発源の影響を排除するために設けられている。そ
して、予備加熱用ヒータＰＨＴ側の防着板ＳＢ１は主と
して、予備加熱中の蒸発源から極微少ながら漏洩する蒸
発粒子をトラップして真空容器内に拡散するのを阻止す
るために設けられており、他方の防着板ＳＢ２は、本加
熱用ヒータＭＨＴで加熱された後、待機中となっている
蒸発源から極微少ながら漏洩する蒸発粒子をトラップし
て真空容器内に拡散するのを阻止するために設けられて
いる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
蒸着装置では、予備加熱用ヒータＰＨＴと本加熱用ヒー
タＭＨＴは、隣り合う関係に在る２つの蒸発源の配置間
隔に合わせて取り付けられている。つまり、予備加熱用
ヒータＰＨＴと本加熱用ヒータＭＨＴは互いに隣り合っ
て設けられている。

【０００９】このため、図８（ｂ）の工程図に示すよう
に、蒸発源ＳＬ１が本加熱されているときには、蒸発源
ＳＬ１の隣に位置する蒸発源ＳＬ２を予備加熱し、次に
ステージＳＴＧを回転させて蒸発源ＳＬ２を本加熱する
ときにはその隣に位置する蒸発源ＳＬ３を予備加熱し、
以下同様にして、ステージＳＴＧを回転させる毎に、互
いに隣り合う関係で設けられている蒸発源を予備加熱用
ヒータＰＨＴ側から本加熱用ヒータＭＨＴ側へと順繰り
に移動させている。

【００１０】そして、本加熱用ヒータＭＨＴで本加熱さ
れる蒸発源のみを蒸発粒子の発生に寄与させるべく、防
着板ＳＢ１，ＳＢ２が設けられている。

【００１１】ところが、上述したように予備加熱用ヒー
タＰＨＴと本加熱用ヒータＭＨＴは互いに隣り合って設
けられていることから、本加熱中の蒸発源と予備加熱中
の蒸発源との間隔が狭く、そのため防着板ＳＢ１は予備
加熱中の蒸発源に近接して設けられている。

【００１２】つまり、図９（ａ）を見れば解るが、防着
板ＳＢ１は予備加熱中の蒸発源ＳＬ２とその他待機中の
蒸発源ＳＬ３，ＳＬ４全体を覆うために、蒸発源ＳＬ２
と本加熱中の蒸発源ＳＬ１との間の狭い部分を境とし
て、小さな角度で傾けて設けられている。

【００１３】このように、複数の異なった位置に配置さ
れた複数個の蒸発源を全体的に覆う必要から防着板ＳＢ
１は小さな角度で傾けられており、別言すれば、小さな
角度で傾けざるを得ないため、防着板ＳＢ１は予備加熱
中の蒸発源に近接している。

【００１４】このため、予備加熱中のその蒸発源から漏
洩した蒸発粒子が、防着板ＳＢ１の特定部分ＯＢＪに局
所的に付着し、その付着物が剥離等して、予備加熱用ヒ
ータＰＨＴの位置に到来した蒸発源内に落下したり、蒸
発源の出口（蒸発粒子を出力するための出口）を塞いで
しまう等の問題があった。そして、より高品質の薄膜等
を再現性よく形成するため、改善の必要性が高まってい
た。

【００１５】また、主として予備加熱中の蒸発源を覆う
ための防着板ＳＢ１と、待機中の蒸発源を覆うための防
着板ＳＢ２とを、本加熱中の蒸発源を境にして２個設け
なければならないという問題があった。

【００１６】また、防着板ＳＢ１は、予備加熱中の蒸発
源を覆うことを主眼に配置すると、他の蒸発源の一部を
覆うことができなくなる等の問題もあった。

【００１７】本発明はこうした従来の課題に鑑みてなさ
れたものであり、防着板に付着する蒸発粒子の剥離等に
よる落下防止等の他、高品質の薄膜等を再現性よく形成
する蒸着装置の制御方法及び蒸着装置を提供することを
目的とする。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本発明の蒸着装置の制御
方法と蒸着装置は、蒸着材料を有する５個以上の蒸着源
が備えられ回転自在な回転手段と、上記蒸着源を予備加
熱する第１の加熱手段と、上記蒸着源を本加熱する第２
の加熱手段と、上記本加熱する第２の加熱手段の位置に
到来する蒸着源を除き残余の蒸着源を覆う防着部材とを
備え、上記第１の加熱手段と第２の加熱手段が上記回転
手段に備えられた５個以上の蒸着源の移動軌跡上に対応
した所定位置に配設し、上記蒸着源の個数ｎと、上記個
数ｎより小さい自然数ｍに基づいて設定された値（ｍ−
１）／ｎが１以外の約数をもたない場合における上記自
然数ｍと、上記回転手段が一回転する角度３６０°に基
づいて決められた角度３６０°×（ｍ−１）／ｎに従っ
て上記回転手段を回転させることを特徴とする。

【００１９】また、上記第１の加熱手段と第２の加熱手
段との成す角度は、上記値（ｍ−１）／ｎが１以外の約
数をもたない場合における上記自然数ｍと上記個数ｎ及
び上記回転手段が一回転する角度３６０°に基づいて決
められた角度３６０°×（ｍ−１）／ｎに設定されてい
ることを特徴とする。

【００２０】また、上記自然数ｍは、上記値（ｍ−１）
／ｎが１以外の約数をもたない場合であって且つ１／２
の値に最も近い値となる場合における自然数であること
を特徴とする。

【００２１】また、上記防着部材は、上記蒸着源に対し
て、上記本加熱する第２の加熱手段側ほど近接し、上記
予備加熱する第１の加熱手段側ほど離して設けられた平
板形状の部材であることを特徴とする。

【００２２】本発明の蒸着装置の制御方法と蒸着装置に
よると、回転手段に設けられた複数個の蒸着源がその回
転手段の回転に伴って回転し、各蒸着源が第１の加熱手
段で予備加熱されてから、第２の加熱手段で本加熱され
ることにより、本加熱の際に各蒸着源に備えられた蒸着
材料よりいわゆる蒸着粒子が発生して蒸着が行われる。

【００２３】特に、５個（ｎ＝５）以上の蒸着源を回転
手段に設け、蒸着源の個数ｎより小さい自然数ｍに基づ
いて設定された値（ｍ−１）／ｎが１以外の約数をもた
ない場合における自然数ｍを選択し、その選択した自然
数ｍと個数ｎ及び回転手段が一回転する角度３６０°に
基づいて得られる角度３６０°×（ｍ−１）／ｎに従っ
て回転手段を回転させると、各蒸着源が第１の加熱手段
で予備加熱されてから第２の加熱手段で本加熱され、そ
の予備加熱と本加熱を全ての蒸着源に対して均等に付与
することが可能となり、高品質の薄膜を再現性よく形成
すべく蒸着粒子の発生を適切に制御することができる。

【００２４】また、第１の加熱手段と第２の加熱手段と
の成す角度を、選択した自然数ｍと個数ｎ及び回転手段
が一回転する角度３６０°に基づいて得られる角度３６
０°×（ｍ−１）／ｎに設定すると、蒸着源から漏洩等
した不要な蒸発粒子を防着部材に分散して付着させ、不
要な蒸発物が剥離する等の問題を未然に防止する。

【００２５】また、自然数ｍを値（ｍ−１）／ｎが１以
外の約数をもたない場合であって且つ１／２の値に最も
近い値となる場合における自然数とすると、蒸着源から
漏洩等した不要な蒸発粒子を防着部材に分散して付着さ
せ、不要な蒸発粒子が付着して剥離する等の問題を未然
に防止する。

【００２６】更に、本発明によると、予備加熱を行う第
１の加熱手段と、本加熱を行う第２の加熱手段の距離が
大きくなることから、予備加熱中の蒸着源と本加熱中の
蒸着源とを仕切るための防着部材を、容易に位置決めし
て設けることができる。

【００２７】また、本発明によると、平板形状の防着部
材を、蒸着源に対して、本備加熱する第２の加熱手段側
ほど近接させ、予備加熱する第１の加熱手段側ほど離し
て設ける（いわゆる、傾斜させて設ける）と、本加熱さ
れた蒸着源から蒸発した材料の剥離落下等を防ぎ、かつ
予備加熱を行う第１の加熱手段と、本加熱を行う第２の
加熱手段の距離を大きくとれることから、予備加熱中の
蒸着源と防着部材との間隔を無理なく大きくすることが
できる。このため、予備加熱中の蒸着源から漏洩等した
不要な蒸発粒子を防着部材に分散して付着させ、不要な
蒸発粒子が剥離する等の問題を未然に防止する。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。尚、好適な実施形態として、複数
の蒸発源を公転させて薄膜形成を行う公転型の真空蒸着
装置について説明する。図１は、本実施形態の蒸着装置
１の基本構成を一部破断して示した斜視図である。

【００２９】同図において、この蒸着装置１は密閉され
た真空容器（以下「真空チャンバ」という）２と、真空
チャンバ２内を真空排気する真空排気系３とを備えて構
成されている。

【００３０】更に真空チャンバ２内には、回転自在な基
板ホルダ４及びシャッター５と、蒸着材料（以下「蒸発
材料」という）を備えた複数個ｎの蒸着源（以下「蒸発
源」という）ＳＬ１〜ＳＬｎが設けられた回転自在な回
転手段としてのステージ６とが相対向して配設されてい
る。

【００３１】更に、図１には示されていないが、ステー
ジ６の底面側の真空チャンバ２内には、蒸発源ＳＬ１〜
ＳＬｎを予備加熱するための予備加熱用ヒータＰＨＴと
本加熱を行うための本加熱用ヒータＭＨＴが設けられる
とともに、ステージ６の回転角度を検出する角度検出セ
ンサが設けられている。

【００３２】そして、図示しない制御回路が角度検出セ
ンサの検出出力に基づいてステージ６を所定方向へ所定
の角度θずつ回転させることで、予備加熱用ヒータＰＨ
Ｔと本加熱用ヒータＭＨＴに対する蒸発源ＳＬ１〜ＳＬ
ｎの位置関係を変化させるようになっている。

【００３３】すなわち、詳細については後述するが、蒸
発源ＳＬ１〜ＳＬｎはステージ６の回転中心Ｑに対する
仮想な移動軌跡上に沿って等しい角度α（３６０°／
ｎ）で配置されており、予備加熱用ヒータＰＨＴと本加
熱用ヒータＭＨＴは、ステージ６の回転中心Ｑに対して
上記の角度αに比例した所定角度βをもって真空チャン
バ２内に固定されている。

【００３４】そして、蒸着処理に際して、既述した制御
回路がステージ６を上記の角度αに比例した所定角度θ
ずつ所定方向へ回転させることにより、蒸発源ＳＬ１〜
ＳＬｎを公転させる。

【００３５】したがって、ステージ６が所定角度θずつ
回転すると、角度βで固定されている予備加熱用ヒータ
ＰＨＴと本加熱用ヒータＭＨＴに対して、角度α毎に設
けられている各蒸発源ＳＬ１〜ＳＬｎの位置が偏倚し、
各蒸発源ＳＬ１〜ＳＬｎと予備加熱用ヒータＰＨＴ及び
本加熱用ヒータＭＨＴとの対向関係が変化する。

【００３６】これにより、予備加熱用ヒータＰＨＴで予
備加熱される蒸発源と本加熱用ヒータＭＨＴで本加熱さ
れる蒸発源とがステージ６の回転に伴って順次に代わっ
ていき、本加熱用ヒータＭＨＴで本加熱された蒸発源か
ら蒸発材料を蒸発させる。

【００３７】尚、ステージ６を所定の角度θ回転させる
度に、本加熱用ヒータＭＨＴによって蒸発源を一定時間
又は所定レートまで加熱し、その一定時間が経過すると
再びステージ６を所定の角度θ回転させて、以下同様に
一定時間の加熱とステージ６の回転を繰り返すようにな
っている。

【００３８】基板ホルダ４とシャッター５は、真空チャ
ンバ２の天板部７に密閉して取り付けられた２軸構成の
回転軸８に連結されている。既述の制御回路が回転軸８
を回転駆動することにより、基板ホルダ４とシャッター
５を夫々独立に回転させる。

【００３９】基板ホルダ４は、図中に点線の円で示され
ているように、薄膜を形成すべき例えば絶縁基板や半導
体基板等（以下「被蒸着基板」という）を複数装着する
ことが可能となっている。更に被蒸着基板を適切な温度
に維持することで薄膜の膜質や密着性の向上等を図るた
めの加熱機構（図示省略）が備えられている。

【００４０】シャッター５には、基板ホルダ４に装着さ
れる被蒸着基板の大きさに合わせられた孔９が穿設され
ている。尚、本実施形態では、孔９が１個だけ形成され
ている。

【００４１】そして、蒸着処理の際に、既述した制御回
路が基板ホルダ４とシャッター５を適宜に回転させ、蒸
発源ＳＬ１〜ＳＬｎのうち本加熱用ヒータＭＨＴで加熱
された蒸発源から生じる蒸発粒子をシャッター５の孔９
を介して被蒸着基板に順次に入射させることにより、複
数の被蒸着基板に均質な薄膜を形成する。

【００４２】更に真空チャンバ２内には、シャッター５
とステージ６との間であって、ステージ６に近接した位
置に、本加熱用ヒータＭＨＴで本加熱される蒸発源だけ
を開放にし、残余の蒸発源の上側を覆う防着部材として
の防着板ＳＢが設けられている。

【００４３】防着板ＳＢは、平板形状の板部材で形成さ
れており、本加熱用ヒータＭＨＴで本加熱される蒸発源
（図１ではＳＬ１で示している）と、その蒸発源（ＳＬ
１）の両側に位置することとなる蒸発源（図１ではＳＬ
２，ＳＬ７で示している）との間を境にして、他の蒸発
源側へ所定の仰角を持って傾けて配置されている。これ
により、本加熱用ヒータＭＨＴで本加熱される蒸発源だ
けを開放にし、残余の蒸発源全体の上側を１枚の防着板
ＳＢで覆っている。

【００４４】但し、防着板は不用な蒸発を防止できれば
よいので少なくとも、符号ＳＬ４，ＳＬ５の位置に来る
蒸発源を覆えばよい。また、本加熱以外の蒸発源すべて
を覆えればなお良い。

【００４５】かかる構成とすることにより、防着板ＳＢ
は、本加熱用ヒータＭＨＴの位置に到来した蒸発源のみ
を蒸発粒子の発生に寄与させ、残余の蒸発源の影響を排
除することが可能となっている。

【００４６】次に、かかる構成を有する蒸着装置１にお
いて、ステージ６に設けられた蒸発源ＳＬ１〜ＳＬｎ
と、予備加熱用ヒータＰＨＴ、本加熱用ヒータＭＨＴ、
防着板ＳＢの位置関係、並びにステージ６の回転制御方
法について、図２を参照して詳述する。

【００４７】まず、防着板ＳＢは、既述したように本加
熱用ヒータＭＨＴの位置に到来する蒸発源だけ開放に
し、残余の蒸発源の上側を全体的に覆うように設けられ
ている。そして、防着板ＳＢの本加熱用ヒータＭＨＴ側
の部分がステージ６に近接し、防着板ＳＢの上記残余の
蒸発源側の部分ほどステージ６から離れるように、所定
の仰角で傾けられている。

【００４８】次に、図１には、典型例として７個の蒸発
源ＳＬ１〜ＳＬｎ（ＳＬ７）が回転自在なステージ６に
設けられている場合を示しているが、本発明の蒸着装置
は、少なくとも５個（ｎ＝５）以上の蒸発源ＳＬ１〜Ｓ
Ｌｎを設けることで、発明の目的を達成することが可能
となっている。

【００４９】そして、次に述べる条件に従って蒸発源Ｓ
Ｌ１〜ＳＬｎと予備加熱用ヒータＰＨＴ及び本加熱用ヒ
ータＭＨＴを配置し、更にステージ６を所定方向へ回転
させることで蒸着処理を行う。

【００５０】図２（ａ）（ｂ）に模式的に示すように、
既述したステージ６の回転中心Ｑに対する蒸発源ＳＬ１
〜ＳＬｎの角度αは、ステージ６が一回転する角度（す
なわち３６０°）をｎ等分することによって決められて
いる。すなわち、α＝３６０°／ｎとなっている。

【００５１】次に、予備加熱用ヒータＰＨＴと本加熱用
ヒータＭＨＴとの成す角度βは、例えば本加熱用ヒータ
ＭＨＴの位置を基準として設定されている。

【００５２】すなわち、図２（ａ）に示すようにステー
ジ６を反時計回り方向へ回転させて蒸着を行う場合に
は、本加熱用ヒータＭＨＴの位置を基準とした時計回り
方向における角度βを設定し、図２（ｂ）に示すように
ステージ６を時計回り方向へ回転させて蒸着を行う場合
には、本加熱用ヒータＭＨＴの位置を基準とした反時計
回り方向における角度βを設定することとしている。

【００５３】そして、図２（ａ）（ｂ）に示す夫々の場
合において、予備加熱用ヒータＰＨＴと本加熱用ヒータ
ＭＨＴとの成す角度βを、既述した蒸発源ＳＬ１〜ＳＬ
ｎの角度αに対して整数倍に比例した角度とする。

【００５４】更にその比例した角度βは、複数個の蒸発
源の位置関係等によって制限される種々の条件の下で、
予備加熱用ヒータＰＨＴと本加熱用ヒータＭＨＴとの間
隔を最も大きくし得るときの角度に決めている。

【００５５】このように角度βを決めることにより、ス
テージ６が回転した場合に、蒸発源ＳＬ１〜ＳＬｎが必
ず予備加熱用ヒータＰＨＴで予備加熱された後に引き続
き本加熱用ヒータＭＨＴで本加熱されるようにしてい
る。この時、予備加熱位置で所定レートに達している方
が好ましい。

【００５６】尚、既述した蒸発源ＳＬ１〜ＳＬｎの角度
αに対して整数倍に比例した角度βのうち、１８０°以
下の最も大きな角度を上記の角度βとして選択すること
が望ましく、この好適な角度βに決めることで、予備加
熱用ヒータＰＨＴと本加熱用ヒータＭＨＴとの離間距離
を最大にすることが可能である。

【００５７】また、詳細については後述するが、本実施
形態では、予備加熱用ヒータＰＨＴと本加熱用ヒータＭ
ＨＴとの離間距離を最大にするための角度βは、ステー
ジ６を１ステップ当たりに回転させるための角度θと同
じ角度にすることとしており、このステージ６を回転さ
せる角度θと角度βとを等しくすることで、結果的に予
備加熱用ヒータＰＨＴと本加熱用ヒータＭＨＴとの離間
距離を最大にすることを可能にしている。

【００５８】次に、ステージ６を所定方向へ順次に回転
させる際の角度θを次のようにして決めている。

【００５９】まず、蒸発源ＳＬ１〜ＳＬｎの個数ｎより
小さい自然数ｍを想定し、所定の条件式（ｍ−１）／ｎ
のうち、１以外の約数をもたない値（ｍ−１）／ｎが得
られる場合における自然数ｍを選択する。

【００６０】ここで、かかる条件に基づいて自然数ｍを
選択することとすると、１以外の約数をもたない値（ｍ
−１）／ｎが２個以上存在することとなるため、値（ｍ
−１）／ｎが１／２の値に最も近い値となるときの２つ
の自然数ｍを求める。

【００６１】つまり、かかる条件に基づいて自然数ｍを
求めると、値（ｍ−１）／ｎは、１／２の値を基準とし
て或る値Δだけ大きな値（１／２＋Δ）と、或る値−Δ
だけ小さな値（１／２−Δ）となることから、２つの自
然数ｍが求まることになる。

【００６２】そこで、選択した２つの自然数ｍのうち、
図２（ａ）に示したようにステージ６を反時計回り方向
へ回転させて蒸着を行う際には、値（ｍ−１）／ｎが値
（１／２−Δ）となる場合の自然数ｍを選択し、図２
（ｂ）に示したようにステージ６を時計回り方向へ回転
させて蒸着を行う際には、値（ｍ−１）／ｎが値（１／
２＋Δ）となる場合の自然数ｍを選択する。

【００６３】こうしてステージ６の回転方向に応じた一
つの自然数ｍを選択した後、その選択した自然数ｍと蒸
発源ＳＬ１〜ＳＬｎの個数ｎ及びステージ６の一回転当
たりの角度（３６０°）に基づいて、次式(1)で表され
る角度θをステージ６の１ステップ当たりに回転させる
べき角度θとして決定する。

【００６４】 θ＝３６０°×（ｍ−１）／ｎ …(1) このようにステージ６の１ステップ当たりの回転角度θ
を決定すると、図２（ａ）に示したようにステージ６を
反時計回り方向へ回転させる際には、本加熱用ヒータＭ
ＨＴで加熱された蒸発源が反時計回り方向へ角度θだけ
公転するのに伴って、予備加熱用ヒータＰＨＴで予備加
熱されていた蒸発源が本加熱用ヒータＭＨＴ側へ公転す
ることとなる。

【００６５】このため、夫々の蒸発源ＳＬ１〜ＳＬｎを
先ず予備加熱した後に本加熱を行うことが可能となると
ともに、ステージ６が角度θずつ順次に反時計回り方向
に回転するのに伴って、蒸発源ＳＬ１〜ＳＬｎを予備加
熱用ヒータＰＨＴと本加熱用ヒータＭＨＴに対して均等
に移動させることが可能となる。

【００６６】また、図２（ｂ）に示したようにステージ
６を時計回り方向へ回転させる際にも、本加熱用ヒータ
ＭＨＴで加熱された蒸発源が時計回り方向へ角度θだけ
公転するのに伴って、予備加熱用ヒータＰＨＴで予備加
熱されていた蒸発源が本加熱用ヒータＭＨＴ側へ公転す
ることとなる。

【００６７】このため、図２（ｂ）の場合にも、夫々の
蒸発源ＳＬ１〜ＳＬｎを先ず予備加熱した後に本加熱を
行うことが可能となるとともに、ステージ６が角度θず
つ順次に時計回り方向に回転するのに伴って、蒸発源Ｓ
Ｌ１〜ＳＬｎを予備加熱用ヒータＰＨＴと本加熱用ヒー
タＭＨＴに対して均等に移動させることが可能となる。

【００６８】このように、既述した条件に従って、予備
加熱用ヒータＰＨＴと本加熱用ヒータＭＨＴとの成す角
度βを決定するとともに、ステージ６の１ステップ当た
りに回転させるべき角度θを決定すると、蒸発源ＳＬ１
〜ＳＬｎを予備加熱用ヒータＰＨＴと本加熱用ヒータＭ
ＨＴに対して均等に移動させて均等に加熱することが可
能となるため、蒸発材料からの蒸発粒子の発生量を均一
にすることができて、被蒸着基板に高品質の薄膜を再現
性よく形成することが可能となる。

【００６９】尚、上記ヒータＰＨＴ，ＭＨＴに対して蒸
発源ＳＬ１〜ＳＬｎを回転させるのではなく、逆に上記
ヒータＰＨＴ，ＭＨＴを蒸発源ＳＬ１〜ＳＬｎに対して
回転させても良い。

【００７０】また、蒸発源ＳＬ１〜ＳＬｎの夫々に対応
した複数個ｎの加熱用ヒータを回転ステージ６に備えて
おき、回転ステージ６の回転と共に蒸発源ＳＬ１〜ＳＬ
ｎと複数個ｎの加熱用ヒータも同時に回転させ、その回
転に際して、既述したシーケンスに従って蒸発源ＳＬ１
〜ＳＬｎが予備加熱と本加熱及び待機の状態となるよう
に、複数個ｎの各加熱用ヒータをオン（加熱）／オフ
（非加熱）制御してもよい。

【００７１】また、加熱用ヒーターは、蒸発源の底部を
加熱しても、蒸発源の側面全体を加熱してもよく、蒸発
材料から蒸発粒子を蒸発させる得るヒーターであればよ
い。

【００７２】更に、本加熱用ヒータＭＨＴと予備加熱用
ヒータＰＨＴとの成す角度βを大きくし、それによっ
て、蒸発源ＳＬ１〜ＳＬｎの回動軌跡上における、本加
熱用ヒータＭＨＴから最も遠い位置に予備加熱用ヒータ
ＰＨＴを配置することができる。一方、防着板ＳＢは、
所定の仰角を持って予備加熱用ヒータＰＨＴ側へ傾いて
いる。

【００７３】したがって、図８に模式的に示すように、
予備加熱用ヒータＰＨＴで予備加熱される蒸発源と、そ
れに対向する防着板ＳＢの部分ＯＢＪとの間隔が大きく
なる。

【００７４】このため、極少量ではあるが予備加熱中の
蒸発源から不可避的に漏洩する蒸発粒子が防着板ＳＢの
部分ＯＢＪに付着しても、従来技術のような局所的に付
着することがなく、部分ＯＢＪに拡散して付着すること
になる。

【００７５】この結果、蒸発粒子の付着量が増加して
も、局所部分で増加するのではなく、広く且つ薄く付着
することになるため、蒸発材料が剥離等するといった問
題を未然に防止することができる。

【００７６】更に、１個の防着板ＳＢを設けるのみで、
本加熱される蒸発源を除く残余の全蒸発源を覆うことが
できることから、部品点数の削減等が可能である。

【００７７】更に又、本加熱された蒸発源が蒸着処理を
完了して待機位置へ回転移動されると、その待機位置に
移動した蒸発源と防着板ＳＢとの間隔も大きくなる。こ
のため、本加熱による残熱を有しているその蒸発源から
不可避的に漏洩する蒸発粒子が防着板ＳＢに付着して
も、上述の部分ＯＢＪの場合と同様に、広く且つ薄く付
着することになるため、蒸発材料が剥離等するといった
問題を未然に防止することができる。

【００７８】すなわち、図２（ａ）を参照して述べる
と、本加熱されて蒸着に寄与した蒸発源ＳＬ１が蒸着処
理を完了すると、ステージ６が角度θで回転することに
よって、蒸発源ＳＬ５の居た位置へ移動する。

【００７９】この移動位置は、本加熱用ヒータＭＨＴの
直ぐ右隣では無く、遠い位置である。このため、移動後
の蒸発源ＳＬ１に対向する防着板ＳＢの部分とその蒸発
源ＳＬ１との間隔は大きくなり、たとえその部分に漏洩
した蒸発粒子が付着しても、拡散して付着するので、蒸
発材料が剥離等するといった問題を未然に防止すること
ができるのである。

【００８０】更に、具体的には次の実施例の説明でより
明瞭となるが、本加熱されて蒸着に寄与した蒸発源が上
述の待避位置へ移動し、その後、予備加熱用ヒータＰＨ
Ｔの位置へ戻ってくるまでに、複数の待避位置を経由し
てその予備加熱用ヒータＰＨＴの位置に到来する。この
複数の待避位置は、ステージ６の回転中心Ｑを中心とし
て可能な限り遠い位置にあるため、蒸着に寄与した後の
蒸発源は、防着板ＳＢに対して分散して移動する。つま
り、蒸着に寄与した後の蒸発源は、防着板ＳＢに対し
て、“あっちに行ったりりこっちに来たり”というよう
に移動する。このため、その蒸発源から不可避的に蒸着
粒子が生じて防着板ＳＢに付着しても、防着板ＳＢのほ
ぼ全体範囲に分散して付着するため、蒸発材料が剥離等
するといった問題を未然に防止することができる。

【００８１】別言すれば、待機中の蒸発源から不可避的
に蒸着粒子が生じた場合でも、防着板ＳＢで確実にその
蒸着粒子をトラップすることが可能である。尚、この防
着板ＳＢを冷却することで、トラップの効果を高めるこ
とが可能である。

【００８２】更に又、本加熱用ヒータＭＨＴと予備加熱
用ヒータＰＨＴの間隔が大きくなるので、覆うべきでな
い蒸発源の位置（本加熱用ヒータＭＨＴの位置）と、残
りの覆うべき蒸発源の位置との境界部分が広くなること
から、防着板ＳＢを容易に位置決めして設けることがで
きる。

【００８３】次に、より具体的な実施例を、図３乃至図
６を参照して説明する。図３は、ステージ６に５個（ｎ
＝５）の蒸発源ＳＬ１〜ＳＬ５を設け、更にステージ６
を反時計回り方向に回転させて蒸着処理を行う場合の実
施例を示している。

【００８４】かかる場合には、既述した角度αは７２°
（＝３６０°／５）に設定され、更に、本加熱用ヒータ
ＭＨＴと予備加熱用ヒータＰＨＴとの成す角度βが、角
度αに比例し且つ１８０°以下の最も大きな角度、すな
わち１４４°に設定されている。

【００８５】更に、既述した条件式（ｍ−１）／ｎのう
ち、１以外の約数をもたない値（ｍ−１）／ｎであって
且つ１／２に最も近い値となるのは、自然数ｍが「３」
のときと「４」のときである。

【００８６】このうち自然数ｍが「４」となる場合はス
テージ６を時計回り方向へ回転させるときの条件に該当
するので選択しないこととし、この実施例では、自然数
ｍを「３」とすることによって、上記式(1)の関係か
ら、ステージ６の１ステップ当たりに回転させるべき角
度θを１４４°としている。

【００８７】以上の条件に基づいて蒸着処理を行うと、
図３（ａ）に示すように、蒸発源ＳＬ１が本加熱用ヒー
タＭＨＴで加熱されるときには、蒸発源ＳＬ３が予備加
熱用ヒータＰＨＴで予備加熱され、次にステージ６が角
度θで反時計回り方向に回転すると、予備加熱されてい
た蒸発源ＳＬ３が本加熱用ヒータＭＨＴの位置に移動し
て本加熱されるとともに、蒸発源ＳＬ５が予備加熱用ヒ
ータＰＨＴの位置に移動して予備加熱される。そして以
下同様に、ステージ６が角度θずつ回転する毎に、本加
熱用ヒータＭＨＴと予備加熱用ヒータＰＨＴに対する蒸
発源ＳＬ１〜ＳＬ５の対応位置が変化していく。

【００８８】尚、図３（ａ）に示す各蒸発源ＳＬ１〜Ｓ
Ｌ５の間に示されている複数の矢印は、ステージ６が角
度θずつ回転するのに応じて、本加熱される蒸発源と予
備加熱される蒸発源との対応関係を示しており、矢印の
先に位置する蒸発源が予備加熱、矢印の基に位置する蒸
発源が本加熱されることを示している。

【００８９】つまり、図３（ａ）の状態でステージ６が
角度θ（１４４°）回転すると、蒸発源ＳＬ３と蒸発源
ＳＬ５との間の矢印で示される状態に移行する。つま
り、図３（ｂ）に示すように、蒸発源ＳＬ３が本加熱用
ヒータＭＨＴの位置、蒸発源ＳＬ５が予備加熱用ヒータ
ＰＨＴの位置へ移動する。

【００９０】更にステージ６が角度θ回転すると、図３
（ａ）中の蒸発源ＳＬ５と蒸発源ＳＬ２との間の矢印で
示される状態に移行する。つまり、図３（ｃ）に示すよ
うに、蒸発源ＳＬ５が本加熱用ヒータＭＨＴの位置、蒸
発源ＳＬ２が予備加熱用ヒータＰＨＴの位置へ移動す
る。

【００９１】そして、以下同様に、ステージ６が角度θ
ずつ回転するのに伴って、図３（ｄ）、図３（ｅ）の状
態に変化し、更に図３（ｅ）の状態から図３（ａ）の状
態に戻ると、既述した図３（ａ）〜（ｅ）の状態が順次
に繰り返される。

【００９２】こうしてステージ６が角度θずつ回転する
のに応じて、各蒸発源ＳＬ１〜ＳＬ５と本加熱用ヒータ
ＭＨＴ及び予備加熱用ヒータＰＨＴとの位置関係が変化
していくと、各蒸発源は予備加熱された後に引き続いて
本加熱されることとなり、更に予備加熱と本加熱が全て
の蒸発源において均等に成されることとなり、各蒸発源
に備えられている蒸発材料から常に適切な量の蒸発粒子
が蒸発することとなる。このため、被蒸着基板に対して
高品質の薄膜を再現性よく形成することができる。

【００９３】更に本加熱用ヒータＭＨＴと予備加熱用ヒ
ータＰＨＴは離れた位置に設けられていることから、図
８を参照して既述したように、不要な蒸発粒子を防着板
ＳＢによって適切にトラップすることができるととも
に、付着した蒸発粒子が剥離する等の問題を未然に防止
することができる。

【００９４】次に、図４は、ステージ６に７個（ｎ＝
７）の蒸発源ＳＬ１〜ＳＬ７を設け、更にステージ６を
反時計回り方向に回転させて蒸着処理を行う場合の実施
例を示している。

【００９５】かかる場合には、既述した角度αは約５
１．４３°（＝３６０°／７）に設定され、更に、本加
熱用ヒータＭＨＴと予備加熱用ヒータＰＨＴとの成す角
度βが、角度αに比例し且つ１８０°以下の最も大きな
角度、すなわち約１５４．２９°に設定されている。

【００９６】更に、既述した条件式（ｍ−１）／ｎのう
ち、１以外の約数をもたない値（ｍ−１）／ｎであって
且つ１／２に最も近い値となるのは、自然数ｍが「４」
のときと「５」のときである。

【００９７】このうち自然数ｍが「５」となる場合はス
テージ６を時計回り方向へ回転させるときの条件に該当
するので選択しないこととし、この実施例では、自然数
ｍを「４」とすることによって、上記式(1)の関係か
ら、ステージ６の１ステップ当たりに回転させるべき角
度θを約１５４．２９°としている。

【００９８】以上の条件に基づいて蒸着処理を行うと、
図３（ａ）と同様の手法で表現されている図４（ａ）の
ように、ステージ６が角度θ（約１５４．２９°）ずつ
回転する毎に、同図（ａ）中の矢印で表される関係に従
って各蒸発源が本加熱用ヒータＭＨＴと予備加熱用ヒー
タＰＨＴの位置に移動する。

【００９９】つまり、図４（ｂ）の工程表で表されるよ
うに、ステージ６が角度θずつ回転するのに応じて、各
蒸発源ＳＬ１〜ＳＬ７に対する予備加熱と本加熱の処理
が順次に代わっていく。

【０１００】かかる実施例においても、ステージ６が角
度θずつ回転するのに応じて、各蒸発源ＳＬ１〜ＳＬ７
と本加熱用ヒータＭＨＴ及び予備加熱用ヒータＰＨＴと
の位置関係が変化していくと、各蒸発源は予備加熱され
た後に引き続いて本加熱されることとなり、更に予備加
熱と本加熱が全ての蒸発源において均等に成されること
となり、各蒸発源に備えられている蒸発材料から常に適
切な量の蒸発粒子が蒸発することとなる。このため、被
蒸着基板に対して高品質の薄膜を再現性よく形成するこ
とができる。

【０１０１】更にこの実施例においても、本加熱用ヒー
タＭＨＴと予備加熱用ヒータＰＨＴは離れた位置に設け
られていることから、図８を参照して既述したように、
不要な蒸発粒子を防着板ＳＢによって適切にトラップす
ることができるとともに、付着した蒸発粒子の剥離等を
未然に防止することができる。

【０１０２】次に、図５は、ステージ６に８個（ｎ＝
８）の蒸発源ＳＬ１〜ＳＬ８を設け、更にステージ６を
反時計回り方向に回転させて蒸着処理を行う場合の実施
例を示している。

【０１０３】かかる場合には、既述した角度αは４５°
（＝３６０°／８）に設定され、更に、本加熱用ヒータ
ＭＨＴと予備加熱用ヒータＰＨＴとの成す角度βが、角
度αに比例し且つ１８０°以下の最も大きな角度、すな
わち１３５°に設定されている。

【０１０４】更に、既述した条件式（ｍ−１）／ｎのう
ち、１以外の約数をもたない値（ｍ−１）／ｎであって
且つ１／２に最も近い値となるのは、自然数ｍが「４」
のときと「６」のときであり、このうち自然数ｍが
「６」となる場合はステージ６を時計回り方向へ回転さ
せるときの条件に該当するので選択しないこととし、こ
の実施例では、自然数ｍを「４」とすることによって、
上記式(1)の関係から、ステージ６の１ステップ当たり
に回転させるべき角度θを１３５°としている。

【０１０５】尚、図５（ａ）は、既述した図３（ａ）及
び図４（ａ）と同様の手法によって、本加熱用ヒータＭ
ＨＴと予備加熱用ヒータＰＨＴに対する各蒸発源ＳＬ１
〜ＳＬ８の対応関係を示したものであり、更に図５
（ｂ）は、図５（ａ）の状態変化を工程表として示した
ものである。

【０１０６】これらの図５（ａ）（ｂ）から明らかなよ
うに、かかる実施例においても、ステージ６が角度θず
つ回転するのに応じて、各蒸発源は予備加熱された後に
引き続いて本加熱されることとなり、更に予備加熱と本
加熱が全ての蒸発源において均等に成されることとな
り、各蒸発源に備えられている蒸発材料から常に適切な
量の蒸発粒子が蒸発することとなり、このため被蒸着基
板に対して高品質の薄膜を再現性よく形成することがで
きる。

【０１０７】更に、本加熱用ヒータＭＨＴと予備加熱用
ヒータＰＨＴは離れた位置に設けられていることから、
図８を参照して既述したように、不要な蒸発粒子を防着
板ＳＢによって適切にトラップすることができるととも
に、付着した蒸発粒子の剥離等を未然に防止することが
できる。

【０１０８】ちなみに、８個の蒸発源ＳＬ１〜ＳＬ８を
設けて蒸着を行う場合、仮に既述した条件式（ｍ−１）
／ｎのうち、約数を有する値（ｍ−１）／ｎとなる場合
の自然数ｍを選択したとすると、図５（ａ）（ｂ）で示
したような効果は得られない。

【０１０９】例えば、上記の１以上の約数を有する場合
の自然数ｍとして「３」が存在するが、この値「３」に
基づいてステージ６の回転角度θを決定することとする
と、角度θは９０°になる。

【０１１０】そして、ステージ６を９０°の角度θずつ
回転させることとすると、図６（ａ）に示すように、８
個の蒸発源ＳＬ１〜ＳＬ８のうち、その半分の４個の蒸
発源しか本加熱用ヒータＭＨＴの位置に移動させること
ができなくなり、残余の４個の蒸発源は本加熱すること
ができなくなる。

【０１１１】更に、各蒸発源を先ず予備加熱した後に引
き続き本加熱することとすると、予備加熱用ヒータＰＨ
Ｔの位置は本加熱用ヒータＭＨＴの位置に対して９０°
の位置に決められることとなるから、予備加熱を行うこ
とが可能な蒸発源の数は、８個中、僅か４個に限定され
てしまう。

【０１１２】したがって、図６（ｂ）の工程表にて示さ
れるように、予備加熱と本加熱を施すことが可能な蒸発
源の数は僅か４個となり、それらの組み合わせも僅か４
通りとなってしまうことから、蒸発源を有効に活用する
ことができなくなる等の問題を招来することになる。

【０１１３】ただ、この場合には、残余の蒸発源のいず
れかを予備加熱位置に移動させてやることで残余の蒸発
源を引き続き連続的に使用するようにすることも可能で
ある。

【０１１４】このように、上記実施例を含む本実施形態
の蒸着装置１によれば、既述した所定の条件に従って、
５個以上の蒸発源を所定の角度αでステージ６に配置す
るとともに、予備加熱用ヒータＰＨＴと本加熱用ヒータ
ＭＨＴとを所定の角度βで固定し、そして角度θ毎にス
テージ６を所定の方向へ回転させつつ蒸着を行うので、
被蒸着基板に対して高品質の薄膜を再現性よく形成する
ことができる。

【０１１５】尚、６個の蒸発源を備える場合と、９個以
上の蒸発源を備える場合の実施例については説明してい
ないが、既述した条件を満足させて蒸着処理を行えば、
既述した蒸発源を５個、７個、８個にした場合の実施例
と同様の効果を普遍的に得ることができる。

【０１１６】また、以上に説明した実施形態は、ステー
ジ６の回転角度θを角度検出センサで検出しつつそのス
テージ６の回転を制御して適切な蒸着状態が得られるよ
うにした、いわゆる角度制御によるものであるが、本発
明は狭義の角度制御に限定されるものではなく、角度制
御に相当する制御方法は本発明に含まれるものである。

【０１１７】つまり、既述した実施形態は、図７のフロ
ーチャートで示されるように、蒸着処理を開始すると、
ステップＳ１００において、ステージ６を既述した所定
条件を満足する角度θで回転させることで、本加熱と予
備加熱を施す蒸発源を設定し、次に、ステップＳ１０２
においてシャッター５の孔９の位置を調節して、本加熱
された蒸発源からの蒸発粒子を被蒸着基板に入射させて
薄膜を形成し、更にステップＳ１０４において蒸着処理
の完了を確認するまで、ステップＳ１００〜Ｓ１０４の
処理を繰り返すようになっている。

【０１１８】しかし、本発明はかかる角度制御に限定さ
れるものではなく、一例として予備加熱用ヒータＰＨＴ
と本加熱用ヒータＭＨＴに対する複数個の蒸発源の移動
順序を制御するいわゆる順番制御によって、ステージ６
の回転を制御するようにしてもよい。

【０１１９】この順序制御を行う場合には、既述した条
件に従って複数個ｎの蒸発源ＳＬ１〜ＳＬｎの夫々の角
度αを設定し、更に予備加熱用ヒータＰＨＴと本加熱用
ヒータＭＨＴとの成す角度βも角度αに比例した所定の
角度に設定する。更に、夫々の蒸発源ＳＬ１〜ＳＬｎを
本加熱用ヒータＭＨＴと予備加熱ヒータＰＨＴの位置に
移動させる順番を予め制御回路に登録しておき、本加熱
用ヒータＭＨＴと予備加熱ヒータＰＨＴの位置に移動し
た蒸発源を検出する位置検出センサを真空チャンバ２内
に設けておく。

【０１２０】すなわち、例えば図４（ｂ）、図５（ｂ）
の工程表にて示した予備加熱すべき蒸発源と本加熱すべ
き蒸発源との対向関係と、それらの対応関係の変化に関
するデータを予め制御回路に登録しておく。

【０１２１】そして、図７に示したステップＳ１００に
おいて角度制御を行う代わりに、制御回路が位置検出セ
ンサの検出出力に基づいて、予め登録しておいた順番に
従って本加熱用ヒータＭＨＴと予備加熱ヒータＰＨＴの
位置に各蒸発源ＳＬ１〜ＳＬｎが移動したことを確認し
つつステージ６を回転させる。

【０１２２】このように予め登録しておいた順番に従っ
て各蒸発源ＳＬ１〜ＳＬｎを本加熱用ヒータＭＨＴと予
備加熱ヒータＰＨ側へ移動させるべく公転させるように
しても、既述した角度制御を行うのと等価な機能を発揮
させることができる。

【０１２３】また、以上に説明した実施例を含む実施形
態によれば、各蒸発源に同じ種類の蒸発材料を備えてお
くことで、複数の被蒸着基板に対して同じ性質の薄膜を
再現性よく形成することができる。また、各蒸発源に種
類の異なった蒸発材料を備えておくことで、複数の被蒸
着基板に対して異なった性質の薄膜を積層させる、いわ
ゆる多層膜形成を行うことが可能である。

【０１２４】なお、本実施形態の説明では、防着部材と
して、平板の防着板ＳＢを使用する場合を述べたが、変
形などの加工を適宜加えることは可能である。

【０１２５】また、防着板ＳＢを傾斜して設ける場合を
述べたが、かかる場合に限定されるものではない。例え
ば、平板の一側を断面Ｌ字形に曲げ加工を施し、その曲
げ加工を施した辺を境とする一方の面を壁にし、他方の
面を天井にして、本加熱用ヒータＭＨＴの位置（蒸発源
が到来する位置）をその壁の外になるようにして、ステ
ージ６上方のほぼ全範囲を天井で覆うようにしてもよ
い。例えば、上述した天井を、本加熱用ヒータＭＨＴの
位置を除いて、全蒸発源に対しほぼ平行となるように配
置して覆うようにしてもい。

【０１２６】

【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
複数の蒸着源を第１の加熱手段で予備加熱してから第２
の加熱手段で本加熱すべく、複数の蒸着源を回転手段で
回転させ、その際、複数の蒸着源の位置と第１，第２の
加熱手段の位置との関係に基づいた特特殊な角度で回転
手段を回転させることとしたので、各蒸着源に対する予
備加熱と本加熱の付与を均一化させることができ、高品
質の薄膜等を再現性よく形成することができる。

【０１２７】更に、蒸着源より漏洩等する不要な蒸着粒
子を防着部材に付着させてトラップすることができ、そ
の際、上記の特特殊な角度で回転手段を回転させること
としたので、不要な蒸着粒子の防着部材への付着を分散
あるいは拡散させることができる。このため、不要な蒸
着粒子が防着部材に局所的に付着して剥離等が起こると
いった問題を未然に防止することができる。

【０１２８】更に又、防着部材を平板形状の部材で形成
し、複数の蒸着源に対して傾けて設けた場合であって
も、本加熱を行う第２の加熱手段側には近く、予備加熱
を行う第１の加熱手段側には離れるように（遠くなるよ
うに）防着部材を傾けることにより、予備加熱中の蒸着
源より漏洩等する不要な蒸着粒子を防着部材に対し分散
あるいは拡散させて付着させることができ、不要な蒸着
粒子が局所的に付着して剥離等が起こるといった問題を
未然に防止することができる。

【０１２９】また、本発明は、第１の加熱手段と第２の
加熱手段との離間距離を大きくすることが可能となり、
且つ、各蒸着源に対する予備加熱と本加熱の付与を均一
化させることができる点に優れた特徴と有している。そ
のため、第１の加熱手段の位置に到来することとなる蒸
着源と第２の加熱手段の位置に到来することとなる蒸着
源とを仕切って、予備加熱中の蒸着源より漏洩等する不
要な蒸着粒子を防着部材に付着させて取り除くようにす
る際、その防着部材を容易に位置決めして設けることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施形態の蒸着装置の基本構成を示す斜視図
である。

【図２】本加熱用ヒータと予備加熱用ヒータとステージ
に設けられた蒸発源の位置関係及びステージの回転角度
の関係を示した図である。

【図３】５個の蒸発源を備えた蒸着装置の実施例を示し
た図である。

【図４】７個の蒸発源を備えた蒸着装置の実施例を示し
た図である。

【図５】８個の蒸発源を備えた蒸着装置の実施例を示し
た図である。

【図６】所定の条件を満足させることなく８個の蒸発源
を備えて蒸着処理を行った場合に生じる問題点を説明す
るための図である。

【図７】本実施形態の蒸着装置において行われる蒸着処
理の工程を示すフローチャートである。

【図８】本実施形態の蒸着装置の効果を説明するための
模式図である。

【図９】従来の蒸着装置における問題点を説明するため
の図である。

【符号の説明】

１…蒸着装置 ２…真空チャンバ ３…真空排気系 ４…基板ホルダ ５…シャッター ６…ステージ ９…孔 ＳＢ…防着板 ＳＬ１〜ＳＬｎ…蒸発源 ＰＨＴ…予備加熱用ヒータ ＭＨＴ…本加熱用ヒータ α…各蒸発源の角度 β…予備加熱用ヒータと本加熱用ヒータとの成す角度 θ…１ステップ当たりにステージを回転させる角度

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 蒸着材料を有する５個以上の蒸着源が備
   えられ回転自在な回転手段と、前記蒸着源を予備加熱す
   る第１の加熱手段と、前記蒸着源を本加熱する第２の加
   熱手段と、前記本加熱する第２の加熱手段の位置に到来
   する蒸着源を除き、残余の蒸着源を覆う防着部材とを具
   備する蒸着装置の制御方法において、 前記第１の加熱手段と第２の加熱手段を前記回転手段に
   備えられた５個以上の蒸着源の移動軌跡上に対応した所
   定位置に配設し、 前記蒸着源の個数をｎ、前記個数ｎより小さい自然数ｍ
   に基づいて設定された値（ｍ−１）／ｎが１以外の約数
   をもたない場合における前記自然数ｍを選択し、前記選
   択した自然数ｍと前記個数ｎ及び前記回転手段が一回転
   する角度３６０°に基づいて得られる角度３６０°×
   （ｍ−１）／ｎに従って前記回転手段を回転させること
   を特徴とする蒸着装置の制御方法。
2. 【請求項２】 前記第１の加熱手段と第２の加熱手段と
   の成す角度を、前記選択した自然数ｍと前記個数ｎ及び
   前記回転手段が一回転する角度３６０°に基づいて得ら
   れる角度３６０°×（ｍ−１）／ｎに設定することを特
   徴とする請求項１に記載の蒸着装置の制御方法。
3. 【請求項３】 前記自然数ｍは、前記値（ｍ−１）／ｎ
   が１以外の約数をもたない場合であって且つ１／２の値
   に最も近い値となる場合における自然数であることを特
   徴とする請求項１に記載の蒸着装置の制御方法。
4. 【請求項４】 前記防着部材は、前記蒸着源に対して、
   前記本加熱する第２の加熱手段側ほど近接し、前記予備
   加熱する第１の加熱手段側ほど離して設けられた平板形
   状の部材であることを特徴とする請求項１に記載の蒸着
   装置の制御方法。
5. 【請求項５】 蒸着材料を有する５個以上の蒸着源が備
   えられ回転自在な回転手段と、 前記蒸着源を予備加熱する第１の加熱手段と、 前記蒸着源を本加熱する第２の加熱手段と、 前記本加熱する第２の加熱手段の位置に到来する蒸着源
   を除き、残余の蒸着源を覆う防着部材と、を具備する蒸
   着装置において、 前記第１の加熱手段と第２の加熱手段が前記回転手段に
   備えられた５個以上の蒸着源の移動軌跡上に対応した所
   定位置に配設され、 前記蒸着源の個数ｎと、前記個数ｎより小さい自然数ｍ
   に基づいて設定された値（ｍ−１）／ｎが１以外の約数
   をもたない場合における前記自然数ｍと、前記回転手段
   が一回転する角度３６０°に基づいて決められた角度３
   ６０°×（ｍ−１）／ｎに従って前記回転手段を回転さ
   せる制御手段と、を具備することを特徴とする蒸着装
   置。
6. 【請求項６】 前記第１の加熱手段と第２の加熱手段と
   の成す角度は、前記値（ｍ−１）／ｎが１以外の約数を
   もたない場合における前記自然数ｍと前記個数ｎ及び前
   記回転手段が一回転する角度３６０°に基づいて決めら
   れた角度３６０°×（ｍ−１）／ｎに設定されているこ
   とを特徴とする請求項５に記載の蒸着装置。
7. 【請求項７】 前記自然数ｍは、前記値（ｍ−１）／ｎ
   が１以外の約数をもたない場合であって且つ１／２の値
   に最も近い値となる場合における自然数であることを特
   徴とする請求項５に記載の蒸着装置。
8. 【請求項８】 前記防着部材は、前記蒸着源に対して、
   前記本加熱する第２の加熱手段側ほど近接し、前記予備
   加熱する第１の加熱手段側ほど離して設けられた平板形
   状の部材であることを特徴とする請求項５に記載の蒸着
   装置。