JP2021132223A - 電解コンデンサ - Google Patents
電解コンデンサ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021132223A JP2021132223A JP2021081526A JP2021081526A JP2021132223A JP 2021132223 A JP2021132223 A JP 2021132223A JP 2021081526 A JP2021081526 A JP 2021081526A JP 2021081526 A JP2021081526 A JP 2021081526A JP 2021132223 A JP2021132223 A JP 2021132223A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrolytic capacitor
- hydrogen
- film
- hydrogen gas
- mol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Electric Double-Layer Capacitors Or The Like (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
【課題】本発明は、水素ガスが大量に発生した場合でも外装ケースが膨張又は破裂する恐れがなく、しかも静電容量が大きく、小型化又は高耐電圧化が可能な電解コンデンサを提供することを目的とする。【解決手段】本発明の電解コンデンサは、水素排出膜を備えており、前記水素排出膜は、水素ガスと窒素ガスを等モル含む混合ガスを接触させたときに、水素ガスを99モル%以上選択的に透過する水素ガス透過層を含み、前記水素ガス透過層は、Auを含むPd合金層であり、陽極の酸化皮膜の平均厚さとコンデンサの定格電圧との比(平均厚さ/定格電圧)が1.2〜2.9(nm/V)であることを特徴とする。【選択図】図1
Description
本発明は、水素排出膜を備えた電解コンデンサに関する。
近年、風力発電及び太陽光発電などのインバータ、蓄電池などの大型電源などの用途にアルミ電解コンデンサなどの電解コンデンサが使用されている。
例えば、アルミ電解コンデンサの陽極は、アルミニウム電極の表面に電気化学的に生成させた酸化アルミ皮膜を有している。アルミ電解コンデンサの使用時に、過度の応力、振動、及び衝撃などの機械的ストレス、あるいは逆電圧、過電圧、及び過電流などの電気的ストレスが陽極に掛かると、酸化アルミ皮膜に欠陥部が生じる。アルミ電解コンデンサは皮膜修復性に優れた電解液を用いており、電解液と陽極のアルミニウムとの反応により速やかに酸化アルミ皮膜が生成され、欠陥部が修復される。しかし、その際、陽極側で酸化が起こると共に陰極側で還元が起こり、水素ガスが発生する。酸化アルミ皮膜に欠陥部が大量に生じると、皮膜修復作用により水素ガスが大量に発生し、アルミ電解コンデンサの内部圧力の上昇によって外装ケースが膨張又は破裂する恐れがある。
そのため、一般の電解コンデンサには、特殊膜を備えた安全弁が設けられている。安全弁は、コンデンサ内部の水素ガスを外部に排出する機能に加え、コンデンサの内部圧力が急激に上昇した場合には自壊して内部圧力を低下させ、コンデンサ自体の破裂を防止する機能を有するものである。このような安全弁の構成部材である特殊膜としては、例えば、以下のものが提案されている。
特許文献1では、パラジュームに20wt%(19.8mol%)Agを含有させたパラジューム銀(Pd−Ag)の合金で構成された箔帯を備えた圧力調整膜が提案されている。
しかし、特許文献1の箔帯は、50〜60℃程度以下の環境下で脆化しやすく、圧力調整膜としての機能を長期間維持することができないという問題があり、実用化には至っていない。
上記問題を解決するために、特許文献2では、Pd−Ag合金を含む水素排出膜であって、Pd−Ag合金中のAgの含有量が20mol%以上である水素排出膜が提案されている。また、特許文献3では、Pd−Cu合金を含む水素排出膜であって、Pd−Cu合金中のCuの含有量が30mol%以上である水素排出膜が提案されている。
また、一般の電解コンデンサは、酸化皮膜に欠陥部が生じることを抑制するために、酸化皮膜の膜厚を厚くしている。しかし、酸化皮膜は電気化学的に形成するため、酸化皮膜の膜厚を厚くすることは、多くのエネルギーや製造時間が必要になるというデメリットがある。また、酸化皮膜の膜厚を大きくするとコンデンサの静電容量が低下するため、静電容量の低下を補うために酸化皮膜の表面積を大きくする必要があり、電解コンデンサの小型化が難しくなるという問題があった。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、水素ガスが大量に発生した場合でも外装ケースが膨張又は破裂する恐れがなく、しかも静電容量が大きく、小型化又は高耐電圧化が可能な電解コンデンサを提供することを目的とする。
本発明は、水素排出膜を備えている電解コンデンサであって、
前記水素排出膜は、水素ガスと窒素ガスを等モル含む混合ガスを接触させたときに、水素ガスを99モル%以上選択的に透過する水素ガス透過層を含み、
陽極の酸化皮膜の平均厚さとコンデンサの定格電圧との比(平均厚さ/定格電圧)が1.2〜2.9(nm/V)であることを特徴とする電解コンデンサ、に関する。
前記水素排出膜は、水素ガスと窒素ガスを等モル含む混合ガスを接触させたときに、水素ガスを99モル%以上選択的に透過する水素ガス透過層を含み、
陽極の酸化皮膜の平均厚さとコンデンサの定格電圧との比(平均厚さ/定格電圧)が1.2〜2.9(nm/V)であることを特徴とする電解コンデンサ、に関する。
本発明の電解コンデンサは、陽極の酸化皮膜の平均厚さとコンデンサの定格電圧との比(平均厚さ/定格電圧)が1.2〜2.9(nm/V)であり、従来の電解コンデンサに比べて前記比の値が小さい(つまり、従来の電解コンデンサに比べて酸化皮膜の平均厚さが薄い)。
本発明のように、陽極の酸化皮膜の平均厚さとコンデンサの定格電圧との比を小さくすると、機械的ストレス又は電気的ストレスによって酸化皮膜に欠陥部が生じやすくなり、皮膜修復作用により水素ガスが大量に発生し、電解コンデンサの内部圧力の上昇によって外装ケースが膨張又は破裂する可能性が高くなる。しかし、本発明の電解コンデンサは、水素ガスと窒素ガスを等モル含む混合ガスを接触させたときに、水素ガスを99モル%以上選択的に透過する水素ガス透過層を含む水素排出膜を備えているため、仮に電解コンデンサ内部に水素ガスが大量に発生したとしても水素ガスのみを速やかに外部に排出することができ、外装ケースが膨張又は破裂することを効果的に防止することができる。
陽極の酸化皮膜の平均厚さとコンデンサの定格電圧との比が1.2(nm/V)未満の場合には、前記水素排出膜の水素排出能力を超える大量の水素ガスが短時間で電解コンデンサ内部に発生する恐れがあり、外装ケースが膨張又は破裂する危険性が大きくなったり、電解コンデンサの高耐電圧化が困難になる。一方、2.9(nm/V)を超えると電解コンデンサの静電容量を大きくすることが困難になったり、電解コンデンサの小型化が困難になる。
前記水素ガス透過層は、金属層であることが好ましく、Pd合金層であることがより好ましい。
前記Pd合金層の形成材料であるPd合金は、水素透過性、耐酸化性、及び水素吸蔵時の耐脆化に優れるという観点から、第11族元素を20〜65mol%含むことが好ましい。また、前記第11族元素は、Au、Ag、及びCuからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、特に化学耐性に優れるという観点から、Auであることが好ましい。
Pd−第11族元素合金を含むPd合金層は、膜表面で水素分子を水素原子に解離して水素原子を膜内に固溶し、固溶した水素原子を高圧側から低圧側に拡散させ、低圧側の膜表面で再び水素原子を水素分子に変換して排出する機能を有する。第11族元素の含有量が20mol%未満の場合には、Pd合金の強度が不十分になったり、前記機能が発現し難くなる傾向にあり、65mol%を超える場合には水素透過速度が低下する傾向にある。
前記金属層は、片面又は両面に支持体を有することが好ましい。支持体は、金属層が安全弁又は水素排出弁から脱落した場合に、電解コンデンサ内に落下することを防止するために設けられる。また、金属層が、電解コンデンサの内部圧力が所定値以上になった時に自壊する安全弁としての機能を有する場合において、金属層が薄膜である場合には、金属層の機械的強度が低いため、電解コンデンサの内部圧力が所定値になる前に自壊するおそれがあり、安全弁としての機能を果たせない。そのため、金属層が薄膜である場合には、機械的強度を向上させるために金属層の片面又は両面に支持体を積層することが好ましい。
電解コンデンサとしては、例えば、アルミ電解コンデンサ、タンタル電解コンデンサ、及びニオブ電解コンデンサなどが挙げられる。
本発明の電解コンデンサは、従来の電解コンデンサに比べて酸化皮膜の平均厚さが薄い。そのため、本発明の電解コンデンサは、従来の電解コンデンサに比べて同程度の大きさでありながら静電容量が大きいという利点がある。また、本発明の電解コンデンサは、従来の電解コンデンサに比べて同程度の静電容量を持ちながら小型化又は高耐電圧化できるという利点がある。また、本発明の電解コンデンサは、従来の電解コンデンサに比べて酸化皮膜の平均厚さが薄いため、従来に比べて少ないエネルギー及び製造時間で製造することができ、コスト面で優れている。
本発明の電解コンデンサは、長期間使用した場合でも水素排出性が低下しにくく、水素を安定的に排出することができる水素排出膜を備えている。また、前記水素排出膜は、電解コンデンサ内部で発生した水素ガスのみを速やかに外部に排出することができるだけでなく、外部から電解コンデンサ内部への不純物の侵入を防止することができる。また、前記水素排出膜は、電解コンデンサの内部圧力が急激に上昇した場合には自壊して内部圧力を低下させ、電解コンデンサ自体の破裂を防止する機能を有していてもよい。これら効果により、電解コンデンサの初期性能を長期間維持することができ、電解コンデンサの長寿命化を図ることができる。
以下、本発明の実施の形態について説明する。
本発明の電解コンデンサは、水素排出膜を備えており、前記水素排出膜は、水素ガスと窒素ガスを等モル含む混合ガスを接触させたときに、水素ガスを99モル%以上選択的に透過する水素ガス透過層を含む。また、本発明の電解コンデンサは、陽極の酸化皮膜の平均厚さとコンデンサの定格電圧との比(平均厚さ/定格電圧)が1.2〜2.9(nm/V)であることを特徴とする。
電解コンデンサとしては、アルミ電解コンデンサ、タンタル電解コンデンサ、及びニオブ電解コンデンサなどが挙げられるが、特にアルミ電解コンデンサであることが好ましい。水素排出膜及び陽極以外の構成部材は、従来のものを特に制限なく使用できる。また、本発明の電解コンデンサは、下記の水素排出膜及び陽極を用いる以外は従来の方法により製造することができる。以下、水素排出膜及び陽極について詳しく述べる。
前記水素排出膜は、水素ガスと窒素ガスを等モル含む混合ガスを接触させたときに、水素ガスを99モル%以上選択的に透過する水素ガス透過層を含む。好ましくは、水素ガスを99.9モル%以上選択的に透過する水素ガス透過層である。
また、前記水素排出膜は、圧力の平方根が76.81Pa1/2(0.059bar)における水素透過量が10ml/day以上(4.03×10−4mol/day以上:SATPに従い計算(温度25℃、気圧1barにおける1molの理想気体の体積は24.8L))であることが好ましい。また、前記水素排出膜は、50℃における水素透過係数が1×10−12(mol・m-1・sec-1・Pa-1/2)以上であることが好ましく、より好ましくは1×10−10(mol・m-1・sec-1・Pa-1/2)以上であり、さらに好ましくは1×10−9(mol・m-1・sec-1・Pa-1/2)以上である。
当該特性を有する層としては、例えば、Pd合金層などの金属層が挙げられる。
前記Pd合金層の材料であるPd合金を形成する他の金属は特に制限されないが、例えば、Nb、V、Ta、Ni、Fe、Al、Cu、Ru、Re、Rh、Au、Pt、Ag、Cr、Co、Sn、Zr、Y、Ce、Ti、Ir、及びMoなどが挙げられる。これら他の金属は1種用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらのうち、第11族元素を用いることが好ましく、より好ましくはAu、Ag、及びCuからなる群より選択される少なくとも1種である。特に、Pd−Au合金は、電解コンデンサ内部の電解液又は構成部材から発生するガス成分に対する耐腐食性が優れるため好ましい。Pd合金は、第11族元素を20〜65mol%含むことが好ましく、より好ましくは30〜65mol%であり、さらに好ましくは30〜60mol%である。また、Ag含有量が20mol%以上であるPd−Ag合金、Cu含有量が30mol%以上であるPd−Cu合金、又はAu含有量が20mol%以上であるPd−Au合金を含むPd合金層は、50〜60℃程度以下の低温域であっても水素によって脆化しにくいので好ましい。また、Pd合金は、本発明の効果を損なわない範囲でIB族及び/又はIIIA族の金属を含んでいてもよい。
Pd合金は、Pdを含む2成分の合金だけでなく、例えばPd−Au−Agの3成分の合金であってもよく、Pd−Au−Cuの3成分の合金であってもよい。さらに、Pd−Au−Ag−Cuの4成分の合金であってもよい。例えば、PdとAuと他の金属を含む多成分系合金の場合、Pd合金中のAuと他の金属との合計含有量は、55mol%以下であることが好ましく、より好ましくは50mol%以下であり、さらに好ましくは45mol%以下であり、特に好ましくは40mol%以下である。
Pd合金層は、例えば、圧延法、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、及びメッキ法などにより製造することができるが、膜厚の厚いPd合金層を製造する場合には、圧延法を用いることが好ましく、膜厚の薄いPd合金層を製造する場合には、スパッタリング法を用いることが好ましい。
圧延法は、熱間圧延であってもよく、冷間圧延のいずれの方法でもよい。圧延法は、一対又は複数対のロール(ローラー)を回転させ、ロール間に原料である金属を、圧力をかけながら通過させることにより膜状に加工する方法である。
圧延法により得られるPd合金層の膜厚は、5〜50μmであることが好ましく、より好ましくは10〜30μmである。膜厚が5μm未満の場合には、製造時にピンホール又はクラックが生じやすくなったり、水素を吸蔵すると変形しやすくなる。一方、膜厚が50μmを超えると、水素を透過させるのに時間を要するため水素透過性が低下したり、コスト面で劣るため好ましくない。
スパッタリング法は特に限定されず、平行平板型、枚葉型、通過型、DCスパッタ、及びRFスパッタなどのスパッタリング装置を用いて行うことができる。例えば、金属ターゲットを設置したスパッタリング装置に基板を取り付けた後、スパッタリング装置内を真空排気し、Arガス圧を所定値に調整し、金属ターゲットに所定のスパッタ電流を投入して、基板上にPd合金膜を形成する。その後、基板からPd合金膜を剥離してPd合金層を得る。なお、ターゲットとしては、製造するPd合金層に応じて、単一又は複数のターゲットを用いることができる。
基板としては、例えば、ガラス板、セラミックス板、シリコンウエハー、アルミニウム及びステンレスなどの金属板が挙げられる。
スパッタリング法により得られるPd合金層の膜厚は、0.01〜5μmであることが好ましく、より好ましくは0.05〜2μmである。膜厚が0.01μm未満の場合には、ピンホールが形成される可能性があるだけでなく、要求される機械的強度を得難い。また、基板から剥離する際に破損しやすく、剥離後の取り扱いも困難になる。一方、膜厚が5μmを超えると、Pd合金層を製造するのに時間を要し、コスト面で劣るため好ましくない。
Pd合金層の膜面積は、水素透過量と膜厚を考慮して適宜調整することができるが、安全弁の構成部材として用いる場合には、0.01〜100mm2程度である。なお、本発明において膜面積は、Pd合金層において実際に水素を排出する部分の面積であって、後述するリング状の接着剤を塗布した部分は含まない。
前記金属層は、片面又は両面にコート層を有することが好ましい。金属層の片面又は両面にコート層を設けることにより、金属層に存在するピンホール又はクラックを塞ぐことができる。それにより、電気化学素子内部の必要成分(電解液など)が外部に漏れることを抑制できる。
コート層の原料は特に制限されず、例えば、フッ素系化合物、ゴム系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ウレタン系ポリマー、及びポリエステル系ポリマーなどが挙げられる。これらのうち、水素排出膜の水素透過性を阻害しにくいという観点から、フッ素系化合物、ゴム系ポリマー、及びシリコーン系ポリマーからなる群より選択される少なくとも1種の化合物を用いることが好ましい。
フッ素系化合物としては、例えば、フルオロアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキル第四級アンモニウム塩、及びフルオロアルキルエチレンオキシド付加物などのフルオロアルキル基含有化合物;ペルフルオロアルキルカルボン酸塩、ペルフルオロアルキル第四級アンモニウム塩、及びペルフルオロアルキルエチレンオキシド付加物などのペルフルオロアルキル基含有化合物;テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロプロピレン共重合体、及びテトラフルオロエチレン/パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体などのフルオロカーボン基含有化合物;テトラフルオロエチレン重合体;フッ化ビニリデンとテトラフルオロエチレンの共重合体;フッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロピレンの共重合体;含フッ素(メタ)アクリル酸エステル;含フッ素(メタ)アクリル酸エステル重合体;含フッ素(メタ)アクリル酸アルキルエステル重合体;含フッ素(メタ)アクリル酸エステルと他モノマーの共重合体、などが挙げられる。
また、コート層の原料であるフッ素系化合物として、ハーベス社製の「デュラサーフ」シリーズ、ダイキン工業社製の「オプツール」シリーズ、及び信越化学工業社製の「KY−100」シリーズなどを使用してもよい。
ゴム系ポリマーとしては、例えば、天然ゴム、スチレンブタジエンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポリイソプレンゴム、ポリブタジエンゴム、エチレンプロピレンゴム、エチレン−プロピレン−ジエン三元重合体ゴム、クロロスルフォン化ポリエチレンゴム、及びエチレン−酢酸ビニル共重合体ゴムなどが挙げられる。
また、コート層の原料であるゴム系ポリマーとして、日東シンコー社製の「エレップコート」シリーズなどを使用してもよい。
シリコーン系ポリマーとしては、例えば、ポリジメチルシロキサン、アルキル変性ポリジメチルシロキサン、カルボキシル変性ポリジメチルシロキサン、アミノ変性ポリジメチルシロキサン、エポキシ変性ポリジメチルシロキサン、フッ素変性ポリジメチルシロキサン、及び(メタ)アクリレート変性ポリジメチルシロキサンなどが挙げられる。
コート層は、例えば、金属層上にコート層原料組成物を塗布し、硬化させることにより形成することができる。
塗布方法は特に制限されず、例えば、ロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ダイコート法、インクジェット法、及びグラビアコート法などが挙げられる。
溶剤は、コート層の原料に応じて適宜選択すればよい。コート層の原料としてフッ素系化合物を用いる場合、例えば、フッ素系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、及び炭化水素系溶剤などの溶剤を単独又は混合して使用することができる。これらのうち、引火性がなく、速やかに揮発するフッ素系溶剤を単独又は他の溶剤と混合して使用することが好ましい。
フッ素系溶剤としては、例えば、ハイドロフルオロエーテル、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロアルカン、ハイドロフルオロポリエーテル、ハイドロフルオロカーボン、パーフルオロシクロエーテル、パーフルオロシクロアルカン、ハイドロフルオロシクロアルカン、キシレンヘキサフルオライド、ハイドロフルオロクロロカーボン、及びパーフルオロカーボンなどが挙げられる。
コート層の厚さは特に制限されないが、0.1〜40μmであることが好ましく、より好ましくは0.2〜10μmであり、さらに好ましくは0.3〜5μmである。
前記金属層の片面又は両面に支持体を設けてもよい。特に、スパッタリング法により得られるPd合金層は、膜厚が薄いため、機械的強度を向上させるためにPd合金層の片面又は両面に支持体を積層することが好ましい。
図1及び2は、水素排出膜1の構造を示す概略断面図である。図1(a)又は(b)に示すように、Pd合金層2の片面又は両面にリング状の接着剤3を用いて支持体4を積層してもよく、図2(a)又は(b)に示すように、治具5を用いてPd合金層2の片面又は両面に支持体4を積層してもよい。
支持体4は、水素透過性であり、Pd合金層2を支持しうるものであれば特に限定されず、無孔質体であってもよく、多孔質体であってもよい。また、支持体4は、織布、不織布であってもよい。支持体4の形成材料としては、例えば、ポリエチレン及びポリプロピレンなどのポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートなどのポリエステル、ポリスルホン及びポリエーテルスルホンなどのポリアリールエーテルスルホン、ポリテトラフルオロエチレン及びポリフッ化ビニリデンなどのフッ素樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリイミドなどが挙げられる。これらのうち、化学的及び熱的に安定であるポリスルホン又はポリテトラフルオロエチレンが好ましく用いられる。
支持体4は、平均孔径100μm以下の多孔質体であることが好ましい。平均孔径が100μmを超えると、多孔質体の表面平滑性が低下するため、スパッタリング法等でPd合金層を製造する場合に、多孔質体上に膜厚の均一なPd合金層を形成し難くなったり、Pd合金層にピンホール又はクラックが生じやすくなる。
支持体4の厚さは特に限定されないが、通常5〜1000μm程度、好ましくは10〜300μmである。
Pd合金層2をスパッタリング法で製造する場合、基板として支持体4を用いると、支持体4上にPd合金層2を直接形成することができ、接着剤3又は治具5を用いることなく水素排出膜1を製造できるため、水素排出膜1の物性及び製造効率の観点から好ましい。その場合、支持体4としては、平均孔径100μm以下の多孔質体を用いることが好ましく、より好ましくは平均孔径5μm以下の多孔質体であり、特に限外ろ過膜(UF膜)を用いることが好ましい。
前記水素排出膜の形状は、略円形状であってもよく、三角形、四角形、五角形等の多角形であってもよい。後述する用途に応じた任意の形状にすることができる。
前記水素排出膜は、電解コンデンサの安全弁の構成部材として有用である。また、水素排出膜は、安全弁とは別に水素排出弁として電解コンデンサに設けることも可能である。
前記水素排出膜は、低温で脆化しないため、例えば150℃以下の温度、さらには110℃以下の温度で使用できるという利点がある。すなわち、高温(例えば400〜500℃)で使用されない電解コンデンサの安全弁又は水素排出弁として好適に用いられる。
本発明の電解コンデンサに用いられる陽極は、酸化皮膜の平均厚さとコンデンサの定格電圧との比(平均厚さ/定格電圧)が1.2〜2.9(nm/V)であり、好ましくは1.3〜2.4(nm/V)であり、より好ましくは1.4〜2.0(nm/V)である。
例えば、一般的な定格電圧400(V)のアルミ電解コンデンサの場合、酸化アルミ皮膜の平均厚さは1200nm程度であり、平均厚さ/定格電圧は3(nm/V)程度である。したがって、定格電圧が同じである場合、本発明の電解コンデンサに用いられる陽極の酸化皮膜の平均厚さは、従来の酸化皮膜の平均厚さのわずか40〜95%であり、非常に薄い。従来の電解コンデンサの陽極として、このような非常に薄い酸化皮膜を有する陽極を用いた場合、機械的ストレス又は電気的ストレスによって酸化皮膜に多くの欠陥部が生じ、皮膜修復作用により水素ガスが大量に発生し、電解コンデンサの内部圧力の上昇によって外装ケースが膨張又は破裂する。しかし、本発明においては、電解コンデンサに前記水素排出膜を設けているため、このような非常に薄い酸化皮膜を有する陽極を用いた場合であっても外装ケースが膨張又は破裂することはない。
酸化皮膜の平均厚さは、化成工程(酸化皮膜形成工程)において、化成電圧を任意に調整することにより目的の厚さに調整することができる。
以下に実施例をあげて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例によりなんら限定されるものではない。
製造例1
〔圧延法によるPd−Au合金層(Au含有量30mol%)の作製〕
インゴット中のAu含有量が30mol%となるようにPd及びAu原料をそれぞれ秤量し、水冷銅坩堝を備えたアーク溶解炉に投入し、大気圧のArガス雰囲気中でアーク溶解した。得られたボタンインゴットをロール径100mmの2段圧延機を用いて厚さ5mmになるまで冷間圧延して板材を得た。その後、ガラス管の中に圧延した板材を入れ、ガラス管の両端を封止した。ガラス管内部を室温で5×10−4Paまで減圧し、その後700℃まで昇温して24時間放置し、その後室温まで冷却した。この熱処理により、合金中のPd及びAuの偏析を解消した。次に、ロール径100mmの2段圧延機を用いて板材を厚さ100μmになるまで冷間圧延し、さらにロール径20mmの2段圧延機を用いて板材を厚さ20μmになるまで冷間圧延した。その後、ガラス管の中に圧延した板材を入れ、ガラス管の両端を封止した。ガラス管内部を室温で5×10−4Paまで減圧し、その後500℃まで昇温して1時間放置し、その後室温まで冷却した。この熱処理により、圧延によって生じたPd−Au合金内部のひずみを除去して厚さ20μm、Au含有量30mol%のPd−Au合金層を作製した。その後、前記Pd−Au合金層上にコート層原料組成物(ハーベス社製、デュラサーフDS−3302TH)をディップコート法で塗布し、乾燥させて厚さ0.3μmのコート層を形成して水素排出膜を作製した。
〔圧延法によるPd−Au合金層(Au含有量30mol%)の作製〕
インゴット中のAu含有量が30mol%となるようにPd及びAu原料をそれぞれ秤量し、水冷銅坩堝を備えたアーク溶解炉に投入し、大気圧のArガス雰囲気中でアーク溶解した。得られたボタンインゴットをロール径100mmの2段圧延機を用いて厚さ5mmになるまで冷間圧延して板材を得た。その後、ガラス管の中に圧延した板材を入れ、ガラス管の両端を封止した。ガラス管内部を室温で5×10−4Paまで減圧し、その後700℃まで昇温して24時間放置し、その後室温まで冷却した。この熱処理により、合金中のPd及びAuの偏析を解消した。次に、ロール径100mmの2段圧延機を用いて板材を厚さ100μmになるまで冷間圧延し、さらにロール径20mmの2段圧延機を用いて板材を厚さ20μmになるまで冷間圧延した。その後、ガラス管の中に圧延した板材を入れ、ガラス管の両端を封止した。ガラス管内部を室温で5×10−4Paまで減圧し、その後500℃まで昇温して1時間放置し、その後室温まで冷却した。この熱処理により、圧延によって生じたPd−Au合金内部のひずみを除去して厚さ20μm、Au含有量30mol%のPd−Au合金層を作製した。その後、前記Pd−Au合金層上にコート層原料組成物(ハーベス社製、デュラサーフDS−3302TH)をディップコート法で塗布し、乾燥させて厚さ0.3μmのコート層を形成して水素排出膜を作製した。
製造例2
〔スパッタリング法によるPd−Au合金層(Au含有量50mol%)の作製〕
Au含有量が50mol%であるPd−Au合金ターゲットを装着したRFマグネトロンスパッタリング装置(サンユー電子社製)に、支持体であるポリスルホン多孔質シート(日東電工社製、孔径0.001〜0.02μm)を取り付けた。その後、スパッタリング装置内を1×10−5Pa以下に真空排気し、Arガス圧1.0Paにおいて、Pd−Au合金ターゲットに4.8Aのスパッタ電流を投入して、ポリスルホン多孔質シート上に厚さ100nmのPd−Au合金層(Au含有量50mol%)を形成した。その後、前記Pd−Au合金層上にコート層原料組成物(ハーベス社製、デュラサーフDS−3302TH)をディップコート法で塗布し、乾燥させて厚さ0.3μmのコート層を形成して水素排出膜を作製した。
〔スパッタリング法によるPd−Au合金層(Au含有量50mol%)の作製〕
Au含有量が50mol%であるPd−Au合金ターゲットを装着したRFマグネトロンスパッタリング装置(サンユー電子社製)に、支持体であるポリスルホン多孔質シート(日東電工社製、孔径0.001〜0.02μm)を取り付けた。その後、スパッタリング装置内を1×10−5Pa以下に真空排気し、Arガス圧1.0Paにおいて、Pd−Au合金ターゲットに4.8Aのスパッタ電流を投入して、ポリスルホン多孔質シート上に厚さ100nmのPd−Au合金層(Au含有量50mol%)を形成した。その後、前記Pd−Au合金層上にコート層原料組成物(ハーベス社製、デュラサーフDS−3302TH)をディップコート法で塗布し、乾燥させて厚さ0.3μmのコート層を形成して水素排出膜を作製した。
実施例1
〔アルミ電解コンデンサの作製〕
厚さ90μmの定格200〜450V用中高圧用化成箔(日本蓄電器工業社製)を、電極引き出しのための突出部を設けた正方形(45×45mm)にスリットしたものを陽極とし、厚さ30μmの陰極箔(日本蓄電器工業社製)を、電極引き出しのための突出部を設けた正方形(45×45mm)にスリットしたものを陰極とし、厚さ70μmのヘンプ紙(ニッポン高度紙工業社製)を電極箔より一回り大きな正方形(50×50mm)にスリットして電解紙とした。そして、陽極と陰極を各電極の方形部が揃うように重ね合せ、陽極と陰極の間に電解紙を挟んでコンデンサ素子を形成した。この際、電極の短絡を防止するため、各電極の突出部は重ならないように配置した。素子を収納する外装ケースには、厚さが40μmのナイロン樹脂フィルムと、厚さが約50μmのアルミ箔と、厚さが30μmの熱融着性のポリプロピレン樹脂フィルムが、この順に積層されて形成されたアルミラミネートフィルム(大日本印刷社製)を方形(65×130mm)にスリットしたものを2枚使用した。ここで、一方のアルミラミネートフィルムの中央部にφ10の開口部を設け、製造例1で作製したφ20の水素排出膜を、前記開口部を覆うようにポリプロピレン樹脂フィルム面から接着剤で貼り付けた。これら2枚のアルミラミネートフィルムを各フィルムのポリプロピレン樹脂面同士が合わさるように重ね合せて、3辺を幅10mmでヒートシール(200℃)して外装ケースを作製した。次に、ヒートシールをしていない残りの一辺から前記コンデンサ素子を外装ケース内に入れた後、セバシン酸アンモニウムを主溶質とするエチレングリコール系電解液を注液した。そして、電解液注液後、ヒートシールをしていない残りの1辺も10mm幅で熱融着し、アルミ電解コンデンサを得た。
〔アルミ電解コンデンサの作製〕
厚さ90μmの定格200〜450V用中高圧用化成箔(日本蓄電器工業社製)を、電極引き出しのための突出部を設けた正方形(45×45mm)にスリットしたものを陽極とし、厚さ30μmの陰極箔(日本蓄電器工業社製)を、電極引き出しのための突出部を設けた正方形(45×45mm)にスリットしたものを陰極とし、厚さ70μmのヘンプ紙(ニッポン高度紙工業社製)を電極箔より一回り大きな正方形(50×50mm)にスリットして電解紙とした。そして、陽極と陰極を各電極の方形部が揃うように重ね合せ、陽極と陰極の間に電解紙を挟んでコンデンサ素子を形成した。この際、電極の短絡を防止するため、各電極の突出部は重ならないように配置した。素子を収納する外装ケースには、厚さが40μmのナイロン樹脂フィルムと、厚さが約50μmのアルミ箔と、厚さが30μmの熱融着性のポリプロピレン樹脂フィルムが、この順に積層されて形成されたアルミラミネートフィルム(大日本印刷社製)を方形(65×130mm)にスリットしたものを2枚使用した。ここで、一方のアルミラミネートフィルムの中央部にφ10の開口部を設け、製造例1で作製したφ20の水素排出膜を、前記開口部を覆うようにポリプロピレン樹脂フィルム面から接着剤で貼り付けた。これら2枚のアルミラミネートフィルムを各フィルムのポリプロピレン樹脂面同士が合わさるように重ね合せて、3辺を幅10mmでヒートシール(200℃)して外装ケースを作製した。次に、ヒートシールをしていない残りの一辺から前記コンデンサ素子を外装ケース内に入れた後、セバシン酸アンモニウムを主溶質とするエチレングリコール系電解液を注液した。そして、電解液注液後、ヒートシールをしていない残りの1辺も10mm幅で熱融着し、アルミ電解コンデンサを得た。
実施例2
〔アルミ電解コンデンサの作製〕
実施例1において、製造例1で作製したφ20の水素排出膜の代わりに、製造例2で作製したφ20の水素排出膜を用いた以外は実施例1と同様の方法でアルミ電解コンデンサを得た。
〔アルミ電解コンデンサの作製〕
実施例1において、製造例1で作製したφ20の水素排出膜の代わりに、製造例2で作製したφ20の水素排出膜を用いた以外は実施例1と同様の方法でアルミ電解コンデンサを得た。
実施例3
〔アルミ電解コンデンサの作製〕
実施例1において、陽極及び陰極の大きさを39×39mmに変更した以外は実施例1と同様の方法でアルミ電解コンデンサを得た。
〔アルミ電解コンデンサの作製〕
実施例1において、陽極及び陰極の大きさを39×39mmに変更した以外は実施例1と同様の方法でアルミ電解コンデンサを得た。
実施例4
〔アルミ電解コンデンサの作製〕
実施例3において、製造例1で作製したφ20の水素排出膜の代わりに、製造例2で作製したφ20の水素排出膜を用いた以外は実施例3と同様の方法でアルミ電解コンデンサを得た。
〔アルミ電解コンデンサの作製〕
実施例3において、製造例1で作製したφ20の水素排出膜の代わりに、製造例2で作製したφ20の水素排出膜を用いた以外は実施例3と同様の方法でアルミ電解コンデンサを得た。
比較例1
〔アルミ電解コンデンサの作製〕
実施例1において、アルミラミネートフィルムの中央部にφ10の開口部を設けず、製造例1で作製したφ20の水素排出膜を用いなかった以外は実施例1と同様の方法でアルミ電解コンデンサを得た。
〔アルミ電解コンデンサの作製〕
実施例1において、アルミラミネートフィルムの中央部にφ10の開口部を設けず、製造例1で作製したφ20の水素排出膜を用いなかった以外は実施例1と同様の方法でアルミ電解コンデンサを得た。
比較例2
〔アルミ電解コンデンサの作製〕
実施例3において、アルミラミネートフィルムの中央部にφ10の開口部を設けず、製造例1で作製したφ20の水素排出膜を用いなかった以外は実施例3と同様の方法でアルミ電解コンデンサを得た。
〔アルミ電解コンデンサの作製〕
実施例3において、アルミラミネートフィルムの中央部にφ10の開口部を設けず、製造例1で作製したφ20の水素排出膜を用いなかった以外は実施例3と同様の方法でアルミ電解コンデンサを得た。
〔測定及び評価方法〕
(水素透過性の評価)
作製した水素排出膜をスウェージロック社製のVCRコネクターに取り付け、片側にSUSチューブを取り付け、密封された空間(63.5ml)を作製した。チューブ内を真空ポンプで減圧後、水素ガスの圧力が0.15MPaになるように調整し、105℃の環境下での圧力変化をモニターした。圧力変化により水素排出膜を透過した水素モル数(体積)がわかるため、これを1日当たりの透過量に換算して水素透過量を算出した。例えば、2時間で圧力が0.15MPaから0.05MPaに変化した場合(変化量0.10MPa)、水素排出膜を透過した水素体積は63.5mlになる。よって、1日当たりの水素透過量は63.5×24/2=762ml/dayとなる。水素排出膜の水素透過量は、10ml/day以上であることが好ましく、100ml/day以上であることがより好ましい。製造例1の水素排出膜の水素透過量は600ml/dayであり、製造例2の水素排出膜の水素透過量は250ml/dayであった。
(水素透過性の評価)
作製した水素排出膜をスウェージロック社製のVCRコネクターに取り付け、片側にSUSチューブを取り付け、密封された空間(63.5ml)を作製した。チューブ内を真空ポンプで減圧後、水素ガスの圧力が0.15MPaになるように調整し、105℃の環境下での圧力変化をモニターした。圧力変化により水素排出膜を透過した水素モル数(体積)がわかるため、これを1日当たりの透過量に換算して水素透過量を算出した。例えば、2時間で圧力が0.15MPaから0.05MPaに変化した場合(変化量0.10MPa)、水素排出膜を透過した水素体積は63.5mlになる。よって、1日当たりの水素透過量は63.5×24/2=762ml/dayとなる。水素排出膜の水素透過量は、10ml/day以上であることが好ましく、100ml/day以上であることがより好ましい。製造例1の水素排出膜の水素透過量は600ml/dayであり、製造例2の水素排出膜の水素透過量は250ml/dayであった。
(水素ガスの選択透過性の評価)
作製した水素排出膜をスウェージロック社製のVCRコネクターに取り付け、片側にSUSチューブを取り付け、密封された空間(63.5ml)を作製した。チューブ内を真空ポンプで減圧後、窒素ガスの圧力が150kPaになるように調整し、105℃の環境下での圧力変化をモニターした。圧力変化により水素排出膜を透過した窒素モル数(体積)がわかるため、これを1日当たりの透過量に換算して窒素透過量を算出した。例えば、2時間で圧力が150kPaから149kPaに変化した場合(変化量1kPa)、水素排出膜を透過した窒素体積は0.635mlになる。よって、1日当たりの窒素透過量は0.635×24/2=7.62ml/dayとなる。水素ガスの選択透過性は(水素透過量―窒素透過量)÷水素透過量×100で表され、上記の場合では、(762−7.62)÷762×100=99%となる。製造例1の水素排出膜の窒素透過量は0ml/dayであり、製造例2の水素排出膜の窒素透過量は0ml/dayであった。したがって、製造例1の水素排出膜の水素ガスの選択透過性は100%であり、製造例2の水素排出膜の水素ガスの選択透過性は100%である。
作製した水素排出膜をスウェージロック社製のVCRコネクターに取り付け、片側にSUSチューブを取り付け、密封された空間(63.5ml)を作製した。チューブ内を真空ポンプで減圧後、窒素ガスの圧力が150kPaになるように調整し、105℃の環境下での圧力変化をモニターした。圧力変化により水素排出膜を透過した窒素モル数(体積)がわかるため、これを1日当たりの透過量に換算して窒素透過量を算出した。例えば、2時間で圧力が150kPaから149kPaに変化した場合(変化量1kPa)、水素排出膜を透過した窒素体積は0.635mlになる。よって、1日当たりの窒素透過量は0.635×24/2=7.62ml/dayとなる。水素ガスの選択透過性は(水素透過量―窒素透過量)÷水素透過量×100で表され、上記の場合では、(762−7.62)÷762×100=99%となる。製造例1の水素排出膜の窒素透過量は0ml/dayであり、製造例2の水素排出膜の窒素透過量は0ml/dayであった。したがって、製造例1の水素排出膜の水素ガスの選択透過性は100%であり、製造例2の水素排出膜の水素ガスの選択透過性は100%である。
(静電容量及びtanδの測定、外観変化の評価)
実施例1〜4、比較例1及び2で得られたアルミ電解コンデンサに105℃環境下において、菊水電子工業株式会社製の充放電システムコントローラPFX2511Sを用いて、200〜600Vの直流電圧を10時間連続印可した。その後、キーサイトテクノロジー社製のLCRメータE4980Aを用いて20℃における静電容量(120Hz)、tanδ(120Hz)を測定すると共に、外観変化を観察して下記基準で評価した。結果を表1及び2に示す。
〇:初期と比べて変化無し。
×:初期に比べて膨れている。
実施例1〜4、比較例1及び2で得られたアルミ電解コンデンサに105℃環境下において、菊水電子工業株式会社製の充放電システムコントローラPFX2511Sを用いて、200〜600Vの直流電圧を10時間連続印可した。その後、キーサイトテクノロジー社製のLCRメータE4980Aを用いて20℃における静電容量(120Hz)、tanδ(120Hz)を測定すると共に、外観変化を観察して下記基準で評価した。結果を表1及び2に示す。
〇:初期と比べて変化無し。
×:初期に比べて膨れている。
実施例1及び2のアルミ電解コンデンサは、酸化皮膜平均厚さ/定格電圧の値を小さくしても外装ケースに変化はなかった。その理由として、実施例1及び2のアルミ電解コンデンサは、特殊な水素排出膜を備えており、この水素排出膜によってコンデンサ内部に発生した水素ガスが速やかに外部に排出され、コンデンサの内部圧力の上昇が効果的に抑制されたためと考えられる。一方、比較例1及び2のアルミ電解コンデンサは、酸化皮膜平均厚さ/定格電圧の値を2.8以下にすると、外装ケースが膨張した。その理由として、比較例1及び2のアルミ電解コンデンサは、特殊な水素排出膜を備えていないため、コンデンサ内部に発生した水素ガスを速やかに外部に排出することができず、コンデンサの内部圧力が大きく上昇したためと考えられる。また、実施例1及び2の定格電圧200Vの陽極箔で作製したアルミ電解コンデンサは、200Vを超える電圧を印加した場合において、定格電圧250Vの陽極箔で作製したアルミ電解コンデンサよりも高い静電容量を有していることから、特殊な水素排出膜を用いることで、外観変化を伴うことなくアルミ電解コンデンサの高耐電圧化及び高静電容量化が可能であることがわかる。
実施例1及び2と同様に、実施例3及び4のアルミ電解コンデンサにおいても、酸化皮膜平均厚さ/定格電圧の値を小さくしても外装ケースに変化はなかった。その理由として、実施例3及び4のアルミ電解コンデンサは、特殊な水素排出膜を備えており、この水素排出膜によってコンデンサ内部に発生した水素ガスが速やかに外部に排出され、コンデンサの内部圧力の上昇が効果的に抑制されたためと考えられる。また、実施例3及び4の定格電圧200Vの陽極箔で作製したアルミ電解コンデンサは、200Vを超える電圧を印加した場合において、実施例1及び2の定格電圧250Vの陽極箔で作製したコンデンサと同等の静電容量を有していることから、特殊な水素排出膜を用いることで、外観変化を伴うことなくアルミ電解コンデンサの小型化が可能であることがわかる。
本発明の電解コンデンサは、各種の電源などに好適に用いられる。
1:水素排出膜
2:Pd合金層
3:接着剤
4:支持体
5:治具
2:Pd合金層
3:接着剤
4:支持体
5:治具
Claims (4)
- 水素排出膜を備えている電解コンデンサであって、
前記水素排出膜は、水素ガスと窒素ガスを等モル含む混合ガスを接触させたときに、水素ガスを99モル%以上選択的に透過する水素ガス透過層を含み、
前記水素ガス透過層は、Auを含むPd合金層であり、
陽極の酸化皮膜の平均厚さとコンデンサの定格電圧との比(平均厚さ/定格電圧)が1.2〜2.9(nm/V)であることを特徴とする電解コンデンサ。 - 前記Pd合金層は、Auを20〜65mol%含む請求項1記載の電解コンデンサ。
- 前記Pd合金層は、片面又は両面に支持体を有する請求項1又は2に記載の電解コンデンサ。
- 前記電解コンデンサが、アルミ電解コンデンサである請求項1〜3のいずれかに記載の電解コンデンサ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016107677 | 2016-05-30 | ||
JP2016107677 | 2016-05-30 | ||
JP2017078155A JP7020792B2 (ja) | 2016-05-30 | 2017-04-11 | 電解コンデンサ |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017078155A Division JP7020792B2 (ja) | 2016-05-30 | 2017-04-11 | 電解コンデンサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021132223A true JP2021132223A (ja) | 2021-09-09 |
Family
ID=60575861
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017078155A Active JP7020792B2 (ja) | 2016-05-30 | 2017-04-11 | 電解コンデンサ |
JP2021081526A Pending JP2021132223A (ja) | 2016-05-30 | 2021-05-13 | 電解コンデンサ |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017078155A Active JP7020792B2 (ja) | 2016-05-30 | 2017-04-11 | 電解コンデンサ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7020792B2 (ja) |
TW (1) | TW201812811A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7020792B2 (ja) * | 2016-05-30 | 2022-02-16 | 日東電工株式会社 | 電解コンデンサ |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007038095A (ja) * | 2005-08-02 | 2007-02-15 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 水素分離膜及びその製造方法 |
JP2011512664A (ja) * | 2008-02-14 | 2011-04-21 | バッツキャップ | 超コンデンサの過圧を防ぐための装置 |
WO2014098038A1 (ja) * | 2012-12-17 | 2014-06-26 | 日東電工株式会社 | 水素排出膜 |
JP2016082126A (ja) * | 2014-10-20 | 2016-05-16 | Necトーキン株式会社 | 固体電解コンデンサ |
JP2017216433A (ja) * | 2016-05-30 | 2017-12-07 | 日東電工株式会社 | 電解コンデンサ |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016002513A (ja) * | 2014-06-16 | 2016-01-12 | 日東電工株式会社 | 水素排出膜 |
-
2017
- 2017-04-11 JP JP2017078155A patent/JP7020792B2/ja active Active
- 2017-05-25 TW TW106117327A patent/TW201812811A/zh unknown
-
2021
- 2021-05-13 JP JP2021081526A patent/JP2021132223A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007038095A (ja) * | 2005-08-02 | 2007-02-15 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 水素分離膜及びその製造方法 |
JP2011512664A (ja) * | 2008-02-14 | 2011-04-21 | バッツキャップ | 超コンデンサの過圧を防ぐための装置 |
WO2014098038A1 (ja) * | 2012-12-17 | 2014-06-26 | 日東電工株式会社 | 水素排出膜 |
JP2016082126A (ja) * | 2014-10-20 | 2016-05-16 | Necトーキン株式会社 | 固体電解コンデンサ |
JP2017216433A (ja) * | 2016-05-30 | 2017-12-07 | 日東電工株式会社 | 電解コンデンサ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017216433A (ja) | 2017-12-07 |
TW201812811A (zh) | 2018-04-01 |
JP7020792B2 (ja) | 2022-02-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2014098038A1 (ja) | 水素排出膜 | |
WO2015019906A1 (ja) | 水素排出膜 | |
JP2021100756A (ja) | 水素排出膜 | |
JP2021132223A (ja) | 電解コンデンサ | |
JP7080548B2 (ja) | 水素排出部品 | |
WO2017208723A1 (ja) | 電解コンデンサ | |
JP6688245B2 (ja) | 水素排出方法 | |
WO2015194472A1 (ja) | 水素排出膜 | |
JP6180487B2 (ja) | 電気化学素子 | |
WO2017098930A1 (ja) | 水素排出膜 | |
WO2016143658A1 (ja) | 水素排出膜 | |
TW201724621A (zh) | 氫排出膜 | |
WO2015194471A1 (ja) | 水素排出膜 | |
TW201727968A (zh) | 氫排出膜形成用支持體及氫排出積層膜 | |
WO2017104570A1 (ja) | 水素排出膜形成用支持体及び水素排出積層膜 | |
WO2018051882A1 (ja) | 水素排出部品 | |
TWI612714B (zh) | 氫排出膜形成用支持體及氫排出積層膜 | |
WO2017104569A1 (ja) | 水素排出膜形成用支持体及び水素排出積層膜 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210611 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220420 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20221013 |