JP2021128956A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2021128956A5
JP2021128956A5 JP2020020840A JP2020020840A JP2021128956A5 JP 2021128956 A5 JP2021128956 A5 JP 2021128956A5 JP 2020020840 A JP2020020840 A JP 2020020840A JP 2020020840 A JP2020020840 A JP 2020020840A JP 2021128956 A5 JP2021128956 A5 JP 2021128956A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sleeve member
mounting portion
hole
adhesive layer
mounting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020020840A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7458195B2 (ja
JP2021128956A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2020020840A priority Critical patent/JP7458195B2/ja
Priority claimed from JP2020020840A external-priority patent/JP7458195B2/ja
Priority to CN202110143492.XA priority patent/CN113257653B/zh
Priority to KR1020210015297A priority patent/KR20210102075A/ko
Priority to US17/166,132 priority patent/US12300471B2/en
Publication of JP2021128956A publication Critical patent/JP2021128956A/ja
Publication of JP2021128956A5 publication Critical patent/JP2021128956A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7458195B2 publication Critical patent/JP7458195B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2020020840A 2020-02-10 2020-02-10 載置台、プラズマ処理装置及びクリーニング処理方法 Active JP7458195B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020020840A JP7458195B2 (ja) 2020-02-10 2020-02-10 載置台、プラズマ処理装置及びクリーニング処理方法
CN202110143492.XA CN113257653B (zh) 2020-02-10 2021-02-02 载置台、等离子体处理装置以及清洁处理方法
KR1020210015297A KR20210102075A (ko) 2020-02-10 2021-02-03 거치대, 플라즈마 처리 장치 및 클리닝 처리 방법
US17/166,132 US12300471B2 (en) 2020-02-10 2021-02-03 Stage, plasma processing apparatus, and cleaning method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020020840A JP7458195B2 (ja) 2020-02-10 2020-02-10 載置台、プラズマ処理装置及びクリーニング処理方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2021128956A JP2021128956A (ja) 2021-09-02
JP2021128956A5 true JP2021128956A5 (https=) 2022-12-08
JP7458195B2 JP7458195B2 (ja) 2024-03-29

Family

ID=77177070

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020020840A Active JP7458195B2 (ja) 2020-02-10 2020-02-10 載置台、プラズマ処理装置及びクリーニング処理方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US12300471B2 (https=)
JP (1) JP7458195B2 (https=)
KR (1) KR20210102075A (https=)
CN (1) CN113257653B (https=)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101971312B1 (ko) * 2011-11-23 2019-04-22 램 리써치 코포레이션 다중 존 가스 주입 상부 전극 시스템
JP7647781B2 (ja) * 2023-02-22 2025-03-18 Toto株式会社 静電チャック及びその製造方法
JP7409536B1 (ja) 2023-02-22 2024-01-09 Toto株式会社 静電チャック及びその製造方法
JP7480876B1 (ja) 2023-02-22 2024-05-10 Toto株式会社 静電チャック及びその製造方法
JP7409535B1 (ja) 2023-02-22 2024-01-09 Toto株式会社 静電チャック及びその製造方法
JP7647782B2 (ja) * 2023-02-22 2025-03-18 Toto株式会社 静電チャック及びその製造方法
JP7647783B2 (ja) * 2023-02-22 2025-03-18 Toto株式会社 静電チャック及びその製造方法
CN121925993A (zh) * 2023-09-27 2026-04-24 日本碍子株式会社 半导体制造装置用部件

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6108189A (en) * 1996-04-26 2000-08-22 Applied Materials, Inc. Electrostatic chuck having improved gas conduits
US6581275B2 (en) * 2001-01-22 2003-06-24 Applied Materials Inc. Fabricating an electrostatic chuck having plasma resistant gas conduits
JP4493863B2 (ja) 2001-01-25 2010-06-30 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置およびそのクリーニング方法および静電チャックの除電方法
JP4421874B2 (ja) * 2003-10-31 2010-02-24 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP4557814B2 (ja) 2005-06-09 2010-10-06 パナソニック株式会社 プラズマ処理装置
US20070283891A1 (en) * 2006-03-29 2007-12-13 Nobuyuki Okayama Table for supporting substrate, and vacuum-processing equipment
JP2010182763A (ja) * 2009-02-04 2010-08-19 Hitachi High-Technologies Corp プラズマ処理装置
US20100326602A1 (en) * 2009-06-30 2010-12-30 Intevac, Inc. Electrostatic chuck
US9685356B2 (en) * 2012-12-11 2017-06-20 Applied Materials, Inc. Substrate support assembly having metal bonded protective layer
JP6017328B2 (ja) * 2013-01-22 2016-10-26 東京エレクトロン株式会社 載置台及びプラズマ処理装置
US20150332942A1 (en) 2014-05-16 2015-11-19 Eng Sheng Peh Pedestal fluid-based thermal control
JP6658509B2 (ja) * 2015-02-18 2020-03-04 住友大阪セメント株式会社 静電チャック装置及び半導体製造装置
JP2016225439A (ja) * 2015-05-29 2016-12-28 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置及び基板剥離検知方法
JP6026620B2 (ja) 2015-10-22 2016-11-16 東京エレクトロン株式会社 載置台、プラズマ処理装置及び載置台の製造方法
JP6688715B2 (ja) * 2016-09-29 2020-04-28 東京エレクトロン株式会社 載置台及びプラズマ処理装置
US10688750B2 (en) * 2017-10-03 2020-06-23 Applied Materials, Inc. Bonding structure of E chuck to aluminum base configuration
US11456161B2 (en) * 2018-06-04 2022-09-27 Applied Materials, Inc. Substrate support pedestal
WO2020004478A1 (ja) 2018-06-29 2020-01-02 北陸成型工業株式会社 静電チャック
CN111668150B (zh) * 2019-03-05 2024-06-28 Toto株式会社 静电吸盘及处理装置
US20200411355A1 (en) * 2019-06-28 2020-12-31 Applied Materials, Inc. Apparatus for reduction or prevention of arcing in a substrate support

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2021128956A5 (https=)
JP6948458B2 (ja) 静電チャックヒータ
KR102769839B1 (ko) 진공 척 및 상기 진공 척을 포함하는 기판 처리 장치
TWI728977B (zh) 具有沉積表面特徵之基板支撐組件
JP5956379B2 (ja) 半導体製造装置用部材
JP5512052B2 (ja) 非接触吸着盤
JP2016213456A5 (https=)
TWI419227B (zh) 電漿處理裝置
JP2017166065A5 (https=)
KR102264575B1 (ko) 기판 보유 지지 기구 및 성막 장치
JPWO2006043531A1 (ja) 基板支持・搬送用トレイ
TW201428886A (zh) 具有抗電漿保護層之基板支撐組件
JP2009531858A5 (https=)
JP2006186306A (ja) ガス拡散プレートおよびその製造方法
JP2021511136A5 (https=)
JP2017084523A5 (https=)
WO2009031566A1 (ja) 静電チャック装置におけるガス供給構造の製造方法及び静電チャック装置ガス供給構造並びに静電チャック装置
JP6670625B2 (ja) プラズマ処理装置及びシャワーヘッド
TW200915505A (en) Packaging carrier with high heat-dissipation and method for manufacturing the same
TWI650829B (zh) 晶圓承載盤及其支撐結構
JP5479180B2 (ja) 載置台
JP2020035954A5 (https=)
US20090277388A1 (en) Heater with detachable shaft
CN109478525A (zh) 基板载体
KR101141154B1 (ko) 기판 가열 유닛, 이를 포함하는 기판 처리 장치, 그리고 이를 이용한 기판 처리 방법