JP6026620B2 - 載置台、プラズマ処理装置及び載置台の製造方法 - Google Patents
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Description
(1)接着力:1〜10MPa程度(室温)、0.5〜5MPa程度(150℃)
(2)弾性率:100〜300MPa程度(室温)、0.1〜2MPa(150℃)
(3)熱伝導率:0.2W/m・K以上
(4)体積抵抗率:1e+13Ω・cm以上(室温)、1e+8Ω・cm以上(150℃)
Claims (16)
- プラズマに曝される表面及び該表面と対向する裏面を有し、第1貫通孔が形成された静電チャックと、
前記静電チャックの裏面に第1の接着剤によって接合され、前記第1貫通孔に連通され前記第1貫通孔の口径よりも大きい口径の第2貫通孔が形成されたベースと、
筒状のスリーブと、
を備え、
前記スリーブが、第2の接着剤によって、前記第1貫通孔と連通した状態で前記静電チャックの裏面に接合され、
前記第1貫通孔及び前記第2貫通孔は、伝熱ガスを供給する伝熱ガス供給部が接続された貫通孔である載置台。 - プラズマに曝される表面及び該表面と対向する裏面を有し、第1貫通孔が形成された静電チャックと、
前記静電チャックの裏面に第1の接着剤によって接合され、前記第1貫通孔に連通され前記第1貫通孔の口径よりも大きい口径の第2貫通孔が形成されたベースと、
筒状のスリーブと、
を備え、
前記スリーブが、第2の接着剤によって、前記第1貫通孔と連通した状態で前記静電チャックの裏面に接合され、
前記第1貫通孔及び前記第2貫通孔は、前記静電チャックに保持された被処理基体を持ち上げるリフトピンが挿入される貫通孔である載置台。 - 前記スリーブが、前記第1貫通孔の口径と同一の内径を有し、前記第1貫通孔と同軸となるように前記静電チャックの裏面に接合された請求項1又は2に記載の載置台。
- 前記第1の接着剤が、前記静電チャックと前記ベースとの接触部分のみに設けられる請求項1〜3の何れか一項に記載の載置台。
- 前記スリーブが、前記第2貫通孔よりも小さい外径を有する請求項1〜4の何れか一項に記載の載置台。
- 前記スリーブ及び前記第2貫通孔によって画成された空間領域に充填された封止剤をさらに備える請求項5に記載の載置台。
- 前記封止剤は、前記空間領域に流し込まれ、その後硬化することにより、前記空間領域に充填される請求項6に記載の載置台。
- 前記封止剤は、硬化前に20000cps以下の粘度を有し、硬化後に1MPa以下のヤング率を有する接着剤である、請求項7に記載の載置台。
- 前記スリーブが、前記静電チャックを構成する絶縁体と同一の絶縁体によって形成された請求項1〜8の何れか一項に記載の載置台。
- 前記スリーブが、セラミックにより形成された請求項9に記載の載置台。
- 前記第1の接着剤が、有機系接着剤である請求項1〜10の何れか一項に記載の載置台。
- 前記第2の接着剤が、無機系接着剤である請求項1〜11の何れか一項に記載の載置台。
- 前記第2の接着剤が、プラズマ又はラジカルに対して前記第1の接着剤よりも高い耐性を有する接着剤である請求項1〜12の何れか一項に記載の載置台。
- プラズマが生成される処理空間を画成する処理容器と、
前記処理空間内に処理ガスを供給するガス供給部と、
前記処理空間に設けられた第1の電極と、
前記処理容器内に収容され、基板を載置する載置台と、
を備え、
前記載置台は、
プラズマに曝される表面及び該表面と対向する裏面を有し、第1貫通孔が形成された静電チャックと、
前記静電チャックの裏面に第1の接着剤によって接合され、前記第1貫通孔に連通され前記第1貫通孔の口径よりも大きい口径の第2貫通孔が形成されたベースと、
筒状のスリーブと、
を有し、
前記ベースが、第2の電極を構成し、
前記スリーブが、第2の接着剤によって、前記第1貫通孔と連通した状態で前記静電チャックの裏面に接合され、
前記第1貫通孔及び前記第2貫通孔は、伝熱ガスを供給する伝熱ガス供給部が接続された貫通孔であるプラズマ処理装置。 - プラズマが生成される処理空間を画成する処理容器と、
前記処理空間内に処理ガスを供給するガス供給部と、
前記処理空間に設けられた第1の電極と、
前記処理容器内に収容され、基板を載置する載置台と、
を備え、
前記載置台は、
プラズマに曝される表面及び該表面と対向する裏面を有し、第1貫通孔が形成された静電チャックと、
前記静電チャックの裏面に第1の接着剤によって接合され、前記第1貫通孔に連通され前記第1貫通孔の口径よりも大きい口径の第2貫通孔が形成されたベースと、
筒状のスリーブと、
を有し、
前記ベースが、第2の電極を構成し、
前記スリーブが、第2の接着剤によって、前記第1貫通孔と連通した状態で前記静電チャックの裏面に接合され、
前記第1貫通孔及び前記第2貫通孔は、前記静電チャックに保持された被処理基体を持ち上げるリフトピンが挿入される貫通孔であるプラズマ処理装置。 - 表面及び該表面と対向する裏面を有し、第1貫通孔が形成された静電チャックと、
第2貫通孔が形成されたベースと、
筒状のスリーブと、
を備えた載置台の製造方法であって、
前記第2貫通孔は、前記第1貫通孔よりも大きい口径であり、
前記製造方法は、
前記第1貫通孔と前記第2貫通孔とを連通させた状態で、前記静電チャックの裏面に前記ベースを第1の接着剤によって接合するステップと、
前記第1貫通孔と前記スリーブとを連通させ、かつ、前記第2貫通孔の内壁に対して前記スリーブを離間させた状態で、前記静電チャックの裏面に前記スリーブを接合するステップと、
前記スリーブと前記第2貫通孔との間に画成された空間領域に流動性を有する封止剤を流し込み、硬化させるステップと、
を有する載置台の製造方法。
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