JP2020035954A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2020035954A5
JP2020035954A5 JP2018163103A JP2018163103A JP2020035954A5 JP 2020035954 A5 JP2020035954 A5 JP 2020035954A5 JP 2018163103 A JP2018163103 A JP 2018163103A JP 2018163103 A JP2018163103 A JP 2018163103A JP 2020035954 A5 JP2020035954 A5 JP 2020035954A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
wafer
mounting tables
vacuum container
arm
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018163103A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2020035954A (ja
JP7183635B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2018163103A priority Critical patent/JP7183635B2/ja
Priority claimed from JP2018163103A external-priority patent/JP7183635B2/ja
Priority to US16/548,652 priority patent/US10872798B2/en
Priority to KR1020190106633A priority patent/KR102244352B1/ko
Publication of JP2020035954A publication Critical patent/JP2020035954A/ja
Publication of JP2020035954A5 publication Critical patent/JP2020035954A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7183635B2 publication Critical patent/JP7183635B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2018163103A 2018-08-31 2018-08-31 基板搬送機構、基板処理装置及び基板搬送方法 Active JP7183635B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018163103A JP7183635B2 (ja) 2018-08-31 2018-08-31 基板搬送機構、基板処理装置及び基板搬送方法
US16/548,652 US10872798B2 (en) 2018-08-31 2019-08-22 Substrate transfer mechanism, substrate processing apparatus, and substrate transfer method
KR1020190106633A KR102244352B1 (ko) 2018-08-31 2019-08-29 기판 반송 기구, 기판 처리 장치 및 기판 반송 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018163103A JP7183635B2 (ja) 2018-08-31 2018-08-31 基板搬送機構、基板処理装置及び基板搬送方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2020035954A JP2020035954A (ja) 2020-03-05
JP2020035954A5 true JP2020035954A5 (https=) 2021-07-26
JP7183635B2 JP7183635B2 (ja) 2022-12-06

Family

ID=69639975

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018163103A Active JP7183635B2 (ja) 2018-08-31 2018-08-31 基板搬送機構、基板処理装置及び基板搬送方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10872798B2 (https=)
JP (1) JP7183635B2 (https=)
KR (1) KR102244352B1 (https=)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7225613B2 (ja) * 2018-09-03 2023-02-21 東京エレクトロン株式会社 基板搬送機構、基板処理装置及び基板搬送方法
JP7210960B2 (ja) * 2018-09-21 2023-01-24 東京エレクトロン株式会社 真空処理装置及び基板搬送方法
KR102833850B1 (ko) * 2020-03-24 2025-07-14 주식회사 원익아이피에스 이송로봇 및 이를 포함하는 기판처리시스템
US12283508B2 (en) * 2020-04-07 2025-04-22 Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha In-vacuum twin-arm robot
US11358809B1 (en) * 2021-03-01 2022-06-14 Applied Materials, Inc. Vacuum robot apparatus for variable pitch access
KR102585551B1 (ko) * 2021-09-16 2023-10-06 주식회사 나인벨 기판 교체시간이 단축된 반도체 기판 처리장치

Family Cites Families (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0825151B2 (ja) * 1988-09-16 1996-03-13 東京応化工業株式会社 ハンドリングユニット
JP2808826B2 (ja) * 1990-05-25 1998-10-08 松下電器産業株式会社 基板の移し換え装置
US6366830B2 (en) * 1995-07-10 2002-04-02 Newport Corporation Self-teaching robot arm position method to compensate for support structure component alignment offset
US6360144B1 (en) * 1995-07-10 2002-03-19 Newport Corporation Self-teaching robot arm position method
JPH11188671A (ja) * 1997-12-26 1999-07-13 Daihen Corp 2アーム方式の搬送用ロボット装置
US6155768A (en) * 1998-01-30 2000-12-05 Kensington Laboratories, Inc. Multiple link robot arm system implemented with offset end effectors to provide extended reach and enhanced throughput
JPH11300663A (ja) * 1998-04-24 1999-11-02 Mecs Corp 薄型基板搬送装置
US7891935B2 (en) * 2002-05-09 2011-02-22 Brooks Automation, Inc. Dual arm robot
US7578649B2 (en) * 2002-05-29 2009-08-25 Brooks Automation, Inc. Dual arm substrate transport apparatus
JP2004235538A (ja) * 2003-01-31 2004-08-19 Tokyo Electron Ltd 搬送装置,真空処理装置およびoリング
US9691651B2 (en) * 2005-01-28 2017-06-27 Brooks Automation, Inc. Substrate handling system for aligning and orienting substrates during a transfer operation
US8376685B2 (en) * 2004-06-09 2013-02-19 Brooks Automation, Inc. Dual scara arm
JP4680657B2 (ja) 2005-04-08 2011-05-11 株式会社アルバック 基板搬送システム
KR100935537B1 (ko) * 2006-11-01 2010-01-07 주식회사 아이피에스 웨이퍼이송로봇, 이를 이용한 웨이퍼가공시스템 및웨이퍼처리방법
US8950998B2 (en) * 2007-02-27 2015-02-10 Brooks Automation, Inc. Batch substrate handling
US8752449B2 (en) * 2007-05-08 2014-06-17 Brooks Automation, Inc. Substrate transport apparatus with multiple movable arms utilizing a mechanical switch mechanism
JP4784599B2 (ja) * 2007-12-28 2011-10-05 東京エレクトロン株式会社 真空処理装置及び真空処理方法並びに記憶媒体
TWI465599B (zh) 2008-12-29 2014-12-21 K C 科技股份有限公司 原子層沉積裝置
CN102326244B (zh) * 2009-01-11 2014-12-17 应用材料公司 用于在电子器件制造中传输基板的机械手系统、装置及方法
JP5395271B2 (ja) * 2010-08-17 2014-01-22 キヤノンアネルバ株式会社 基板搬送装置、電子デバイスの製造システムおよび電子デバイスの製造方法
JP5610952B2 (ja) * 2010-09-24 2014-10-22 日本電産サンキョー株式会社 産業用ロボット
KR20140087038A (ko) * 2011-12-15 2014-07-08 다즈모 가부시키가이샤 웨이퍼 반송장치
US8961099B2 (en) * 2012-01-13 2015-02-24 Novellus Systems, Inc. Dual arm vacuum robot with common drive pulley
CN104428884B (zh) * 2012-07-05 2017-10-24 应用材料公司 吊杆驱动装置、多臂机械手装置、电子器件处理系统及用于在电子器件制造系统中传送基板的方法
JP5990359B2 (ja) 2012-10-04 2016-09-14 平田機工株式会社 搬入出ロボット
US9190306B2 (en) * 2012-11-30 2015-11-17 Lam Research Corporation Dual arm vacuum robot
US10224232B2 (en) * 2013-01-18 2019-03-05 Persimmon Technologies Corporation Robot having two arms with unequal link lengths
US9149936B2 (en) * 2013-01-18 2015-10-06 Persimmon Technologies, Corp. Robot having arm with unequal link lengths
US9281222B2 (en) * 2013-03-15 2016-03-08 Applied Materials, Inc. Wafer handling systems and methods
US10427303B2 (en) * 2013-03-15 2019-10-01 Applied Materials, Inc. Substrate deposition systems, robot transfer apparatus, and methods for electronic device manufacturing
US10424498B2 (en) * 2013-09-09 2019-09-24 Persimmon Technologies Corporation Substrate transport vacuum platform
CN106463438B (zh) * 2014-01-28 2019-09-10 布鲁克斯自动化公司 基板运输设备
KR101866625B1 (ko) * 2014-09-03 2018-06-11 가부시키가이샤 알박 반송 장치 및 진공 장치
WO2016056119A1 (ja) * 2014-10-10 2016-04-14 川崎重工業株式会社 基板搬送ロボットおよびその運転方法
KR102417929B1 (ko) * 2015-08-07 2022-07-06 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US20170125269A1 (en) * 2015-10-29 2017-05-04 Aixtron Se Transfer module for a multi-module apparatus
TWI707754B (zh) * 2016-06-28 2020-10-21 美商應用材料股份有限公司 包括間隔上臂與交錯腕部的雙機器人以及包括該者之方法
JP6403722B2 (ja) * 2016-07-21 2018-10-10 株式会社Kokusai Electric 基板処理装置、半導体装置の製造方法、プログラム
JP2018032797A (ja) * 2016-08-25 2018-03-01 ローツェ株式会社 搬送装置
US10580682B2 (en) * 2017-02-15 2020-03-03 Persimmon Technologies, Corp. Material-handling robot with multiple end-effectors
CN108933097B (zh) * 2017-05-23 2023-06-23 东京毅力科创株式会社 真空输送组件和基片处理装置
JP6951923B2 (ja) * 2017-09-27 2021-10-20 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体
CN109994358B (zh) * 2017-12-29 2021-04-27 中微半导体设备(上海)股份有限公司 一种等离子处理系统和等离子处理系统的运行方法
JP6653722B2 (ja) * 2018-03-14 2020-02-26 株式会社Kokusai Electric 基板処理装置
JP7090469B2 (ja) * 2018-05-15 2022-06-24 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
US10943805B2 (en) * 2018-05-18 2021-03-09 Applied Materials, Inc. Multi-blade robot apparatus, electronic device manufacturing apparatus, and methods adapted to transport multiple substrates in electronic device manufacturing
JP7014055B2 (ja) * 2018-06-15 2022-02-01 東京エレクトロン株式会社 真空処理装置、真空処理システム、及び真空処理方法
JP7177332B2 (ja) * 2018-07-03 2022-11-24 シンフォニアテクノロジー株式会社 搬送装置
JP7225613B2 (ja) * 2018-09-03 2023-02-21 東京エレクトロン株式会社 基板搬送機構、基板処理装置及び基板搬送方法
US11192239B2 (en) * 2018-10-05 2021-12-07 Brooks Automation, Inc. Substrate processing apparatus
CN112219269B (zh) * 2018-11-19 2024-08-20 玛特森技术公司 用于加工工件的系统和方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2020035954A5 (https=)
JP2016213456A5 (https=)
JP6815745B2 (ja) 背面ガス供給管を備えた基板ペデスタルモジュールおよびその製造方法
TWI697956B (zh) 氣體導入機構及處理裝置
US10475641B2 (en) Substrate processing apparatus
CN101533797B (zh) 载置台构造以及热处理装置
TWI673387B (zh) 減少晶圓邊緣處之背側沉積
KR102125512B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
TWI614837B (zh) 具有受控制的封閉間隙之基板支撐件
KR20220000950A (ko) 반도체 챔버에서의 웨이퍼 회전
JP7103372B2 (ja) 処理装置
TWI505392B (zh) 基板處理模組以及包含該基板處理模組的基板處理裝置
JP4222086B2 (ja) 熱処理装置
JP4645696B2 (ja) 被処理体の支持機構及びロードロック室
TWI880949B (zh) 蒸氣輸送方法與設備
TW202243106A (zh) 基板處理設備、及基板處理方法
TWI597779B (zh) 用於背側鈍化的設備及方法
CN207159349U (zh) 一种加热装置及化学气相沉积设备
CN116313725A (zh) 一种等离子体刻蚀机用抽气环结构、调节装置及调节方法
JP2019517736A5 (https=)
JP2018148099A (ja) 基板処理装置
KR20130020431A (ko) 기판 처리 장치
WO2020241461A1 (ja) ステージ構造体、基板処理装置及びステージ構造体の制御方法
CN104637857A (zh) 工件加工装置
CN119800327B (zh) 一种化学气相沉积cvd反应腔及cvd设备