JP2021076638A - 光吸収性組成物、光吸収膜、及び光学フィルタ - Google Patents
光吸収性組成物、光吸収膜、及び光学フィルタ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021076638A JP2021076638A JP2019201273A JP2019201273A JP2021076638A JP 2021076638 A JP2021076638 A JP 2021076638A JP 2019201273 A JP2019201273 A JP 2019201273A JP 2019201273 A JP2019201273 A JP 2019201273A JP 2021076638 A JP2021076638 A JP 2021076638A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- wavelength
- transmittance
- group
- optical filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 129
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 149
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 63
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 43
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 43
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 38
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims abstract description 19
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims description 105
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 claims description 104
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 103
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 claims description 63
- -1 R 21 Chemical compound 0.000 claims description 37
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 32
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 28
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 claims description 26
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 23
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 23
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 21
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 12
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 7
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 4
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M phosphonate Chemical compound [O-]P(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 claims 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 42
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 abstract 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 abstract 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 151
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 100
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 68
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 60
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 58
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 52
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 47
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 31
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 31
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 30
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 30
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 29
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 28
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 28
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 21
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 15
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 12
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 11
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 9
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 7
- NWFNSTOSIVLCJA-UHFFFAOYSA-L copper;diacetate;hydrate Chemical compound O.[Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O NWFNSTOSIVLCJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 6
- FMRHJJZUHUTGKE-UHFFFAOYSA-N Ethylhexyl salicylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1O FMRHJJZUHUTGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 5
- 238000004807 desolvation Methods 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UOKRBSXOBUKDGE-UHFFFAOYSA-N butylphosphonic acid Chemical compound CCCCP(O)(O)=O UOKRBSXOBUKDGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 4
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 4
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDGIQCFWQNHSMV-UHFFFAOYSA-N (4-bromophenyl)phosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=C(Br)C=C1 XDGIQCFWQNHSMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RRJHFUHAKCSNRY-UHFFFAOYSA-L [Cu+2].[O-]P([O-])=O Chemical compound [Cu+2].[O-]P([O-])=O RRJHFUHAKCSNRY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-dihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- ZCILGMFPJBRCNO-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2H-benzotriazol-5-ol Chemical compound OC1=CC=C2NN=NC2=C1C1=CC=CC=C1 ZCILGMFPJBRCNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2h-triazin-5-one Chemical compound OC1=CN=NN=C1C1=CC=CC=C1 VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008360 acrylonitriles Chemical class 0.000 description 2
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 2
- 125000002521 alkyl halide group Chemical group 0.000 description 2
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 2
- 125000003286 aryl halide group Chemical group 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N bis(2-hydroxy-4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1O SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010668 complexation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005383 fluoride glass Substances 0.000 description 2
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000004895 liquid chromatography mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005365 phosphate glass Substances 0.000 description 2
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- JFSDFUSYPBGANG-UHFFFAOYSA-N (2-bromophenyl)phosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1Br JFSDFUSYPBGANG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRCGPZWJUXJKJF-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-4-octoxyphenyl)-(2-hydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O XRCGPZWJUXJKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPKPRLQRAHYQCQ-UHFFFAOYSA-N (2-iodophenyl)phosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1I LPKPRLQRAHYQCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOKLAVMEUFYRKV-UHFFFAOYSA-N (3-benzoyl-2,4-dihydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 KOKLAVMEUFYRKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJVJYPSXZCEIEQ-UHFFFAOYSA-N (4-chlorophenyl)-(4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 JJVJYPSXZCEIEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N (4-dodecoxy-2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMWSZDODENFLSV-UHFFFAOYSA-N (5-chloro-2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 OMWSZDODENFLSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Dihydroxy-4-methoxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGTYTUFKXYPTML-UHFFFAOYSA-N 2-benzoylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 FGTYTUFKXYPTML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAEFDDOAYBQRGK-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropylphosphonic acid Chemical compound CC(C)CP(O)(O)=O HAEFDDOAYBQRGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- WJACFUFYDDXRAM-UHFFFAOYSA-N [Cu].OP(O)=O Chemical compound [Cu].OP(O)=O WJACFUFYDDXRAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- OYWFWDQOWQBTHK-UHFFFAOYSA-N bromomethylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CBr OYWFWDQOWQBTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLEPCXYNAPUMDZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ylphosphonic acid Chemical compound CCC(C)P(O)(O)=O DLEPCXYNAPUMDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000006103 coloring component Substances 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000035418 detection of UV Effects 0.000 description 1
- ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)OCC ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSYLGGHSEIWGJV-UHFFFAOYSA-N diethyl(dimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(OC)OC VSYLGGHSEIWGJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- GATNOFPXSDHULC-UHFFFAOYSA-N ethylphosphonic acid Chemical compound CCP(O)(O)=O GATNOFPXSDHULC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004675 formic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N methylphosphonic acid Chemical compound CP(O)(O)=O YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCMHUQGSSVZPDG-UHFFFAOYSA-N phenoxybenzene;phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O.C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 RCMHUQGSSVZPDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,3,4,5-tetrahydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1O LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001443 photoexcitation Effects 0.000 description 1
- 230000002165 photosensitisation Effects 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- ATLPLEZDTSBZQG-UHFFFAOYSA-N propan-2-ylphosphonic acid Chemical compound CC(C)P(O)(O)=O ATLPLEZDTSBZQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSETWVJZUWGCKE-UHFFFAOYSA-N propylphosphonic acid Chemical compound CCCP(O)(O)=O NSETWVJZUWGCKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- OGDSVONAYZTTDA-UHFFFAOYSA-N tert-butylphosphonic acid Chemical compound CC(C)(C)P(O)(O)=O OGDSVONAYZTTDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006276 transfer reaction Methods 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
Abstract
Description
ホスホン酸と、
ヒドロキシ基及びカルボニル基を分子内に有する紫外線吸収剤と、
金属成分と、を含有している、
光吸収性組成物を提供する。
ホスホン酸と、
ヒドロキシ基及びカルボニル基を分子内に有する紫外線吸収剤と、
金属成分と、を含有している、
光吸収膜を提供する。
(I)波長300nm〜380nmにおける最大の透過率TM 300-380が1%以下である。
(II)波長400nmにおける透過率T400が20%以下である。
(III)波長400nm〜490nmにおいて透過率が50%となる波長であるUVカットオフ波長λUV CFは、405nm≦λUV CF≦480nmの条件を満たす。
(IV)波長480nm〜580nmにおける透過率の平均値TA 480-580が78%以上である。
(V)波長590nm〜700nmにおいて透過率が50%となる波長であるIRカットオフ波長λIR CFは、600nm≦λIR CF≦700nmの条件を満たす。
(VI)波長700nm〜750nmにおける透過率の平均値TA 700-750が10%以下である。
(VII)波長800nm〜950nmにおける最大の透過率TM 800-950が3%以下である。
(VIII)波長700nm〜1000nmにおける最大の透過率TM 700-1000が10%以下である。
(IX)波長700nm〜1100nmにおける最大の透過率TM 700-1100が15%以下である。
(X)波長700nm〜1200nmにおける最大の透過率TM 700-1200が20%以下である。
(α)波長300nm〜450nmにおいて、1%の透過率を示す最大波長と1%の透過率を示す最小波長との差λRUV 1%が90nm以上である。
(β)IRカットオフ波長λIR CFとUVカットオフ波長λUV CFとの差λR CFが180nm以上である。
(γ)波長700nm〜1200nmにおいて、1%の透過率を示す最大波長と1%の透過率を示す最小波長との差λRIR 1%が200nm以上である。
酢酸銅一水和物4.500gとテトラヒドロフラン(THF)240gとを混合して、3時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られたこの酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフA208N(第一工業製薬社製)を1.646gの分量で加えて30分間撹拌し、1−A液を得た。フェニルホスホン酸0.706gにTHF40gを加えて30分間撹拌し、1−B1液を得た。4‐ブロモフェニルホスホン酸4.230gにTHF40gを加えて30分間撹拌し、1−B2液を得た。次に、1−B1液と1−B2液とを混ぜて1分間撹拌し、メチルトリエトキシシラン(MTES)(信越化学工業社製、製品名:KBE−13)8.664gと、テトラエトキシシラン(TEOS)(キシダ化学社製 特級)2.830gとを、この混合液に加えて、さらに1分間撹拌し、1−B液を得た。1−A液を撹拌しながら1−A液に1−B液を加え、室温で1分間撹拌した。次に、この溶液にトルエン140gを加えた後、室温で1分間撹拌し、1−C液を得た。1−C液をフラスコに入れてオイルバス(東京理化器械社製、型式:OSB−2100)で加温しながら、ロータリーエバポレータ(東京理化器械社製、型式:N−1110SF)によって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、105℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の液を取り出し、1−D液を得た。このようにして、アリール系ホスホン酸と、銅成分と、リン酸エステルとを含む1−D液を得た。
紫外可視近赤外分光光度計(日本分光社製、製品名:V−670)を用いて、実施例1に係る光学フィルタの0°の入射角における透過スペクトルを測定した。実施例1に係る光学フィルタの透過スペクトルを図3に示す。また、図3から読み取った透過率に関する特性を表2、3、及び4に示す。これらの結果から、実施例1に係る光学フィルタの400nmの透過率は、5%以下であり、実施例1に係る光学フィルタは、紫外線を含む短波長領域の光に対して、望ましい吸収特性を有し、良好な光学特性を有することが確認された。参考に、透明ガラス基板として用いたD263 T ecoの透過スペクトルを図11に示す。
レーザー変位計(キーエンス社製、製品名:LK−H008)を用いて、光学フィルタの表面との距離を測定し、透明ガラス基板の厚みを差し引くことによって、光吸収膜の厚みを算出した。その結果を表2に示す。
実施例1に係る光吸収性組成物の調製に用いた1−U液の代わりに、Uvinul3049(BASF社製)0.04gと、トルエン99.96gとを混合して調製した紫外線吸収剤を含む2−U液を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例2に係る光吸収性組成物を調製し、かつ、光吸収膜を形成して実施例2に係る光学フィルタを作製した。実施例2に係る光学フィルタの0°の入射角における透過スペクトルを実施例1と同様に測定した。加えて、実施例2に係る光学フィルタにおける光吸収膜の厚みを実施例1と同様にして算出した。実施例2に係る光学フィルタの0°の入射角における透過スペクトルを図4に示す。図4の透過スペクトルから看取できる各パラメータ及び光吸収膜の膜厚について表2〜4に示す。これらの結果から、実施例2に係る光学フィルタの400nmの透過率は、5%以下であり、実施例2に係る光学フィルタは、紫外線を含む短波長領域の光に対して、望ましい吸収性能を有し、良好な光学特性を有することが確認された。
酢酸銅一水和物4.500gとテトラヒドロフラン(THF)240gとを混合して、3時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフA208Nを1.646gの分量で加えて30分間撹拌し、3−A液を得た。フェニルホスホン酸0.706gにTHF40gを加えて30分間撹拌し、3−B1液を得た。4‐ブロモフェニルホスホン酸4.230gにTHF40gを加えて30分間撹拌し、3−B2液を得た。次に、3−B1液と3−B2液とを混ぜて1分間撹拌し、メチルトリエトキシシラン(MTES)(信越化学工業社製、製品名:KBE−13)8.664gと、テトラエトキシシラン(TEOS)(キシダ化学社製 特級)2.830gとをこの混合液に加えて、さらに1分間撹拌し、3−B液を得た。3−A液を撹拌しながら3−A液に3−B液を加え、室温で1分間撹拌した。次に、この溶液にトルエン140gを加えた後、室温で1分間撹拌し、3−C液を得た。3−C液をフラスコに入れてオイルバス(東京理化器械社製、型式:OSB−2100)で加温しながら、ロータリーエバポレータ(東京理化器械社製、型式:N−1110SF)によって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、105℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の液を取り出し、3−D液を得た。このようにして、アリール系ホスホン酸と、銅成分と、リン酸エステルとを含む3−D液を得た。
実施例3に係る光吸収性組成物の調製に用いた3−U液の代わりに、Uvinul3050(BASF社製)1.67gと、トルエン98.33gとを混合して調製された紫外線吸収剤を含む4−U液を用いた以外は、実施例3と同様にして、実施例4に係る光吸収性組成物を調製し、かつ、光吸収膜を形成して実施例4に係る光学フィルタを作製した。実施例4に係る光学フィルタの0°の入射角における透過スペクトルを実施例1と同様に測定した。加えて、実施例4に係る光学フィルタにおける光吸収膜の厚みを実施例1と同様にして算出した。実施例4に係る光学フィルタの0°の入射角における透過スペクトルを図6に示す。図6の透過スペクトルから看取できる各パラメータ及び光吸収膜の膜厚について表2〜4に示す。これらの結果から、実施例4に係る光学フィルタの400nmの透過率は、5%以下であり、実施例4に係る光学フィルタは、紫外線を含む短波長領域の光に対して、望ましい吸収性能を有し、良好な光学特性を有することが確認された。
紫外線吸収剤であるUvinul3049(BASF社製)0.250gと、トルエン12.25gとを混合して30分間の撹拌を行い、紫外線吸収剤を溶解させた。その後、その溶液にシリコーン樹脂(信越化学工業社製、製品名:KR−300)を25.000g加え、30分間の撹拌を行い、比較例1に係る紫外線吸収性組成物を得た。
比較例1に係る紫外線吸収性組成物の調製に用いた紫外線吸収剤の代わりに、Uvinul3050(BASF社製)を用いた以外は、比較例1と同様にして、比較例2に係る紫外線吸収性組成物を調製し、かつ、光吸収膜を形成して比較例2に係る紫外線吸収フィルタを作製した。比較例2に係る紫外線吸収フィルタの0°の入射角における透過スペクトルを実施例1と同様に測定した。加えて、比較例2に係る紫外線吸収フィルタにおける光吸収膜の厚みを実施例1と同様にして算出した。比較例2に係る紫外線吸収フィルタの0°の入射角における透過スペクトルを図8に示す。図8の透過スペクトルから看取できる各パラメータ及び光吸収膜の膜厚について表2〜4に示す。
酢酸銅一水和物4.500gとテトラヒドロフラン(THF)240gとを混合して、3時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフA208N(第一工業製薬社製)を1.646gの分量で加えて30分間撹拌し、13−A液を得た。フェニルホスホン酸0.706gにTHF40gを加えて30分間撹拌し、13−B1液を得た。4‐ブロモフェニルホスホン酸4.230gにTHF40gを加えて30分間撹拌し、13−B2液を得た。13−B1液と13−B2液とを混ぜて1分間撹拌し、メチルトリエトキシシラン(MTES)(信越化学工業社製、製品名:KBE−13)8.664gと、テトラエトキシシラン(TEOS)(キシダ化学社製 特級)2.830gとをこの混合液に加えて、さらに1分間撹拌し、13−B液を得た。13−A液を撹拌しながら13−A液に13−B液を加え、室温で1分間撹拌した。次に、この溶液にトルエン140gを加えた後、室温で1分間撹拌し、13−C液を得た。この13−C液をフラスコに入れてオイルバス(東京理化器械社製、型式:OSB−2100)で加温しながら、ロータリーエバポレータ(東京理化器械社製、型式:N−1110SF)によって、脱溶媒処理を行った。オイルバスの設定温度は、105℃に調整した。その後、フラスコの中から脱溶媒処理後の液を取り出し、13−D液を得た。このようにして、アリール系ホスホン酸と、銅成分と、リン酸エステルと、アルコキシシラン又はその加水分解物とを含む13−D液を得た。
76mm×76mm×0.21mmの寸法を有するホウケイ酸ガラスでできた透明ガラス基板(SCHOTT社製、製品名:D263 T eco)の一方の主面の中心部の40mm×40mmの範囲にディスペンサを用いて比較例1に係る紫外線吸収性組成物を塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜をオーブンに入れて45℃で2時間、85℃で1時間の熱処理行い、溶媒を揮発させて塗膜を硬化させ、光吸収膜を形成した。次に、透明ガラス基板の他方の主面に、比較例3に係る光吸収性組成物を同様に塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を室温で十分に乾燥させた後、オーブンに入れて45℃で2時間、85℃で30分間の熱処理行い、溶媒を揮発させて塗膜を硬化させた。その後、温度85℃及び相対湿度85%の環境下で透明ガラス基板を2時間程度置いてアルコキシシランの加水分解反応を促進させた。このようにして、透明ガラス基板の両面に比較例4に係る光吸収膜を形成し、比較例4に係る光学フィルタを得た。
光吸収膜に含まれる紫外線吸収剤について以下の要領でエタノール溶出試験を行った。
まず、光学フィルタから光吸収膜を容易に取り外せるように、光吸収膜が形成される透明ガラス基板の主面をフッ素化合物によって予め表面処理してフッ素処理基板を作製した。表面防汚コーティング剤(ダイキン工業社製、製品名:オプツールDSX、有効成分の濃度:20質量%)0.1gと、ハイドロフルオロエーテル含有液(3M社製、製品名:ノベック7100)19.9gとを混合し、5分間撹拌して、フッ素処理剤(有効成分の濃度:0.1質量%)を調製した。このフッ素処理剤を、76mm×76mm×0.21mmのホウケイ酸ガラス(SCHOTT社製、製品名:D263 T eco)からなる透明ガラス基板の主面に塗布して塗膜を形成し、室温で24時間放置してフッ素処理剤の塗膜を乾燥させた。その後、ノベック7100を含んだ無塵布でガラス表面を軽く拭いて余分なフッ素処理剤等を取り除き、フッ素処理基板を得た。
実施例5に係る光吸収膜の断片から紫外線吸収剤が溶出したエタノール溶液について、その透過スペクトルを測定した。紫外線吸収剤が溶出したエタノール溶液を、光路長が1mmである石英セル(日本分光社製:型番J/1/Q/1)に充填し、紫外可視近赤外分光光度計(日本分光社製、製品名:V−670)を用いて、その透過スペクトルを測定した。その透過スペクトルを図14に示す。波長300〜450nmにおいて、透過率の最小値を透過率の最大値で割った値は0.895であった。透過率の最小値は、波長348nm付近における透過率の極小値に相当していた。
すべてのホスホン酸と酢酸銅一水和物との添加を省略した以外は、実施例5と同様の条件及び方法によって、比較例5に係る光吸収性組成物を得た。加えて、実施例5と同様にしてフッ素処理基板を作製した。比較例5に係る光吸収性組成物の全量を、ディスペンサを用いてフッ素処理基板の一方の主面に塗布し、得られた塗膜を室温で十分に乾燥させた後、オーブンに入れて45℃で2時間、85℃で30分間の熱処理行い、溶媒を揮発させて塗膜を硬化させた。さらに、温度85℃及び相対湿度85%の環境下で透明ガラス基板を2時間程度置いてアルコキシシランの加水分解反応を促進させた。このようにして、比較例5に係る光吸収膜を形成し、比較例5に係る光学フィルタを得た。
比較例5に係る光吸収膜の断片から紫外線吸収剤が溶出したエタノール溶液について、その透過スペクトルを測定した。紫外線吸収剤が溶出したエタノール溶液を、光路長が1mmである石英セル(日本分光社製:型番J/1/Q/1)に充填し、紫外可視近赤外分光光度計(日本分光社製、製品名:V−670)を用いて、その透過スペクトルを測定した。その透過スペクトルを図17に示す。波長300〜450nmにおいて、透過率の最小値を透過率の最大値で割った値trは0.550であった。図16に示す検量線及びその検量線を表す上記の式によれば、比較例5に係る光吸収膜をエタノールに浸して紫外線吸収剤をエタノール中に溶出させた場合、紫外線吸収剤の濃度が質量基準で0.0496%であるように紫外線吸収剤を溶解させたエタノール溶液と同等の光透過特性を備えることが分かった。
10 光吸収膜
20 透明誘電体基板
Claims (20)
- ホスホン酸と、
ヒドロキシ基及びカルボニル基を分子内に有する紫外線吸収剤と、
金属成分と、を含有している、
光吸収性組成物。 - 前記ヒドロキシ基と前記カルボニル基とは、1〜6個の原子を隔てて配置されている、請求項1に記載の光吸収性組成物。
- 当該光吸収性組成物を硬化させて得られる光吸収膜の、0度の入射角度での透過スペクトルにおいて、波長400nmにおける透過率T400、波長550nmにおける透過率T550、及び波長800nmにおける透過率T800は、8≦T550/T400及び8≦T550/T800の条件を満たす、請求項1又は2に記載の光吸収性組成物。
- 前記紫外線吸収剤は、下記式(A2)で表されるベンゾフェノン系化合物を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の光吸収性組成物。
- 前記金属成分は、銅成分を含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載の光吸収性組成物。
- リン酸エステルをさらに含有している、請求項1〜7のいずれか1項に記載の光吸収性組成物。
- ホスホン酸と、
ヒドロキシ基及びカルボニル基を分子内に有する紫外線吸収剤と、
金属成分と、を含有している、
光吸収膜。 - 前記ヒドロキシ基と前記カルボニル基とは、1〜6個の原子を隔てて配置されている、請求項9に記載の光吸収膜。
- 0度の入射角度での透過スペクトルにおいて、波長400nmにおける透過率T400、波長550nmにおける透過率T550、及び波長800nmにおける透過率T800は、8≦T550/T400及び8≦T550/T800の条件を満たす、請求項9又は10に記載の光吸収膜。
- 前記紫外線吸収剤は、下記式(A2)で表されるベンゾフェノン系化合物を含む、請求項9〜12のいずれか1項に記載の光吸収膜。
- 前記金属成分は、銅成分を含む、請求項9〜14のいずれか1項に記載の光吸収膜。
- リン酸エステルをさらに含有している、請求項9〜15のいずれか1項に記載の光吸収膜。
- 請求項9〜16のいずれか1項に記載の光吸収膜を備えた、光学フィルタ。
- 0度の入射角度での透過スペクトルにおいて、波長400nmにおける透過率T400、波長550nmにおける透過率T550、及び波長800nmにおける透過率T800は、8≦T550/T400及び8≦T550/T800の条件を満たす、請求項17に記載の光学フィルタ。
- 前記透過スペクトルにおいて、下記(I)、(II)、(III)、(IV)、(V)、(VI)、(VII)、(VIII)、(IX)、及び(X)の条件をさらに満たす、請求項18に記載の光学フィルタ。
(I)波長300nm〜380nmにおける最大の透過率が1%以下である。
(II)波長400nmにおける透過率が20%以下である。
(III)波長400nm〜490nmにおいて透過率が50%となる波長であるUVカットオフ波長λUV CFは、405nm≦λUV CF≦480nmの条件を満たす。
(IV)波長480nm〜580nmにおける透過率の平均値が78%以上である。
(V)波長590nm〜700nmにおいて透過率が50%となる波長であるIRカットオフ波長λIR CFは、600nm≦λIR CF≦700nmの条件を満たす。
(VI)波長700nm〜750nmにおける透過率の平均値が10%以下である。
(VII)波長800nm〜950nmにおける最大の透過率が3%以下である。
(VIII)波長700nm〜1000nmにおける最大の透過率が10%以下である。
(IX)波長700nm〜1100nmにおける最大の透過率が15%以下である。
(X)波長700nm〜1200nmにおける最大の透過率が20%以下である。 - 前記透過スペクトルにおいて、下記(α)、(β)、及び(γ)の条件をさらに満たす、請求項19に記載の光学フィルタ。
(α)波長300nm〜450nmにおいて、1%の透過率を示す最大波長と1%の透過率を示す最小波長との差が90nm以上である。
(β)IRカットオフ波長λIR CFとUVカットオフ波長λUV CFとの差が180nm以上である。
(γ)波長700nm〜1200nmにおいて、1%の透過率を示す最大波長と1%の透過率を示す最小波長との差が200nm以上である。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019201273A JP7344091B2 (ja) | 2019-11-06 | 2019-11-06 | 光吸収性組成物、光吸収膜、及び光学フィルタ |
JP2023142225A JP2023160906A (ja) | 2019-11-06 | 2023-09-01 | 光吸収性組成物及び光学フィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019201273A JP7344091B2 (ja) | 2019-11-06 | 2019-11-06 | 光吸収性組成物、光吸収膜、及び光学フィルタ |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023142225A Division JP2023160906A (ja) | 2019-11-06 | 2023-09-01 | 光吸収性組成物及び光学フィルタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021076638A true JP2021076638A (ja) | 2021-05-20 |
JP7344091B2 JP7344091B2 (ja) | 2023-09-13 |
Family
ID=75899287
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019201273A Active JP7344091B2 (ja) | 2019-11-06 | 2019-11-06 | 光吸収性組成物、光吸収膜、及び光学フィルタ |
JP2023142225A Pending JP2023160906A (ja) | 2019-11-06 | 2023-09-01 | 光吸収性組成物及び光学フィルタ |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023142225A Pending JP2023160906A (ja) | 2019-11-06 | 2023-09-01 | 光吸収性組成物及び光学フィルタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7344091B2 (ja) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009123016A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 株式会社クレハ | ホスホン酸銅化合物、並びにこれを含む赤外吸収材料及び積層体 |
US20100059691A1 (en) * | 2006-05-13 | 2010-03-11 | David Malcolm Lewis | Security Inks Containing Infrared Absorbing Metal Compounds |
JP2011099038A (ja) * | 2009-11-05 | 2011-05-19 | Kureha Corp | 近赤外線吸収剤及びその製造方法、並びに光学材料 |
KR20150010157A (ko) * | 2013-07-18 | 2015-01-28 | 이태훈 | 열선 차폐 필름용 조성물, 이를 이용하여 제조된 열선 차폐 필름 및 열선 차폐 필름의 제조 방법 |
WO2015107939A1 (ja) * | 2014-01-15 | 2015-07-23 | 株式会社クレハ | 近赤外線硬化型組成物およびその用途 |
JP2019028433A (ja) * | 2018-01-24 | 2019-02-21 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ |
WO2019138976A1 (ja) * | 2018-01-09 | 2019-07-18 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
JP2019144578A (ja) * | 2017-12-07 | 2019-08-29 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
-
2019
- 2019-11-06 JP JP2019201273A patent/JP7344091B2/ja active Active
-
2023
- 2023-09-01 JP JP2023142225A patent/JP2023160906A/ja active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100059691A1 (en) * | 2006-05-13 | 2010-03-11 | David Malcolm Lewis | Security Inks Containing Infrared Absorbing Metal Compounds |
WO2009123016A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 株式会社クレハ | ホスホン酸銅化合物、並びにこれを含む赤外吸収材料及び積層体 |
JP2011099038A (ja) * | 2009-11-05 | 2011-05-19 | Kureha Corp | 近赤外線吸収剤及びその製造方法、並びに光学材料 |
KR20150010157A (ko) * | 2013-07-18 | 2015-01-28 | 이태훈 | 열선 차폐 필름용 조성물, 이를 이용하여 제조된 열선 차폐 필름 및 열선 차폐 필름의 제조 방법 |
WO2015107939A1 (ja) * | 2014-01-15 | 2015-07-23 | 株式会社クレハ | 近赤外線硬化型組成物およびその用途 |
JP2019144578A (ja) * | 2017-12-07 | 2019-08-29 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
WO2019138976A1 (ja) * | 2018-01-09 | 2019-07-18 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
JP2019028433A (ja) * | 2018-01-24 | 2019-02-21 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7344091B2 (ja) | 2023-09-13 |
JP2023160906A (ja) | 2023-11-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI719392B (zh) | 截斷紅外線之濾光器之製造方法 | |
TWI736709B (zh) | 光吸收性組成物及濾光器 | |
TWI706029B (zh) | 紅外線吸收層用組成物、截斷紅外線之濾光器及攝像裝置 | |
TW201910822A (zh) | 濾光器 | |
TW201840680A (zh) | 紫外線及紅外線吸收性組成物和紫外線及紅外線吸收濾光器 | |
JP2024023502A (ja) | 光吸収性組成物、光吸収膜、及び光学フィルタ | |
TWI791823B (zh) | 濾光器及濾光器用組成物 | |
KR102465624B1 (ko) | 광흡수성 조성물 및 광학 필터 | |
TWI787402B (zh) | 濾光器及濾光器之製造方法 | |
JP2023086790A (ja) | 光吸収性組成物、光吸収膜、光学フィルタ、及び光学フィルタを製造する方法 | |
JP7344091B2 (ja) | 光吸収性組成物、光吸収膜、及び光学フィルタ | |
WO2020213726A1 (ja) | 光吸収性組成物及び光学フィルタ | |
TWI851726B (zh) | 光吸收性組成物、光吸收膜、及濾光器 | |
WO2023162864A1 (ja) | 光学フィルタ、光吸収性組成物、光学フィルタを製造する方法、センシング装置、及びセンシング方法 | |
WO2024048254A1 (ja) | 光吸収性組成物、光吸収体、光学フィルタ、環境光センサ、撮像装置、光吸収性組成物の製造方法、及び光吸収体の製造方法 | |
JP2019197212A (ja) | 光学フィルタ及び光学フィルタの製造方法 | |
TW202232147A (zh) | 濾光器、光學裝置、及光吸收性組成物 | |
JP2021124569A (ja) | 光吸収性組成物、光吸収膜、及び光学フィルタ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220519 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230317 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230502 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230623 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230808 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230901 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7344091 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |