JP2021073663A5

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Publication number: JP2021073663A5
Application number: JP2021015691A
Authority: JP
Filing date: 2021-02-03
Publication date: 2021-07-29
Anticipated expiration: 2036-07-07

Claims

無線周波数(RF)制御システムのためのコントローラであって、前記RF制御システムは、RF信号を出力するように構成された電力増幅器を有するRF生成器を含み、前記RF生成器は、マッチングネットワークへの出力信号を生成するように構成され、前記マッチングネットワークは、負荷へのRF出力信号を生成するように構成され、前記マッチングネットワークは、パルスRF信号のパルスエッジを変動させるように構成されたインピーダンス調整要素を含み、前記コントローラは、前記マッチングネットワークへパルスエッジ制御信号を通信するように構成され、前記マッチングネットワークは、前記パルスエッジ制御信号に従って、前記インピーダンス調整要素を制御する、コントローラ。
前記パルスエッジの立ち上がりまたは立ち下がりに従って変動する信号を受信するように構成されたエッジコントローラをさらに備え、前記エッジコントローラは、前記受信した信号に従って、前記パルスエッジの前記立ち上がりまたは前記立ち下がりを各々調節する信号を生成するように構成された、請求項1に記載のコントローラ。
前記パルスエッジ制御信号は、前記RF生成器と前記マッチングネットワークとの間のインピーダンスを変動させる、請求項2に記載のコントローラ。
前記パルスエッジの遷移に従って変動する信号を受信するように構成されたエッジコントローラをさらに備え、前記エッジコントローラは、前記受信した信号に従って、前記パルスエッジのインクリメント変化のレベルまたは持続時間を制御する信号を生成するようにさらに構成された、請求項2に記載のコントローラ。
前記パルスエッジの立ち上がりまたは立ち下がりに従って変動する信号を受信するように構成されたエッジコントローラをさらに備え、前記エッジコントローラは、前記受信した信号に従って、前記パルスエッジの前記立ち上がり、前記パルスエッジの前記立ち下がり、または、前記パルスエッジのインクリメント変化のレベルまたは持続時間のうちの少なくとも1つを制御する信号を生成するようにさらに構成された、請求項1に記載のコントローラ。
前記パルスエッジ制御信号は、パルスコントローラへ通信され、前記パルスコントローラは、前記インピーダンス調整要素を変動させるように前記マッチングネットワークへ指示するコマンドを生成するように構成された、請求項1に記載のコントローラ。
前記パルスエッジ制御信号は、前記RF生成器と前記マッチングネットワークとの間のインピーダンスを変動させる、請求項1に記載のコントローラ。
前記コントローラは、
前記RF出力信号のサンプルを、受信バッファに記憶し、
前記記憶されたサンプルを、あらかじめ定義された伝達関数に従って、再構築バッファ内のあらかじめ選択されたビンへ伝達し、
前記再構築バッファにおける前記記憶されたサンプルに従って、前記RF出力信号を再構築する、請求項1に記載のRF制御システム。
前記再構築バッファにおける選択されたビンが、1つよりも多くのサンプルを記憶しているのであれば、前記コントローラは、前記選択されたビンにおける前記サンプルの平均を決定するように構成された、請求項8に記載のRF制御システム。
前記コントローラは、
第1のビンのセットに従って、前記RF出力信号の立ち上がり時間、
第2のビンのセットに従って、前記RF出力信号のうちの前記少なくとも1つのRF出力信号の立ち下がり時間、および、
第3のビンのセットに従って、前記RF出力信号の振幅のうちの少なくとも1つを判定するように構成された、請求項9に記載のRF制御システム。
前記コントローラはさらに、
前記パルスRF信号を生成するように構成されたパルスモジュールと、
前記パルスモジュールと通信し、比制御信号を生成するように構成された比制御モジュールと、
前記パルスエッジ制御信号の特性を判定するように構成されたエッジ制御信号とを備える、請求項1に記載のRF制御システム。
無線周波数(RF)システムを制御するための方法であって、マッチングネットワークへのRF信号の生成を制御し、前記マッチングネットワークへパルスエッジ制御信号を通信するステップを備え、前記マッチングネットワークは、パルスRF信号のパルスエッジを変動させるために、前記パルスエッジ制御信号に従って、インピーダンス調整要素を制御する、方法。
前記パルスエッジの立ち上がりまたは立ち下がりに従って変動する信号を受信し、前記受信した信号に従って、前記パルスエッジの前記立ち上がりまたは立ち下がり各々を調節するステップをさらに備える、請求項12に記載の方法。
前記パルスエッジ制御信号は、RF生成器と前記マッチングネットワークとの間のインピーダンスを変動させる、請求項13に記載の方法。
前記パルスエッジの遷移に従って変動する信号を受信し、前記受信した信号に従って、前記パルスエッジにおけるインクリメント変化のレベルまたは持続時間を調節するステップをさらに備える、請求項13に記載の方法。
前記パルスエッジの立ち上がりまたは立ち下がりに従って変動する信号を受信し、前記受信した信号に従って、前記パルスエッジの前記立ち上がり、前記パルスエッジの前記立ち下がり、または、前記パルスエッジのインクリメント変化のレベルまたは持続時間のうちの少なくとも1つを調節するステップをさらに備える、請求項12に記載の方法。
前記パルスエッジ制御信号は、パルスコントローラへ通信され、前記パルスコントローラは、前記インピーダンス調整要素を変動させるように前記マッチングネットワークへ指示するコマンドを生成する、請求項12に記載の方法。
前記パルスエッジ制御信号は、RF生成器と前記マッチングネットワークと間のインピーダンスを変動させるか、または、前記マッチングネットワークによって出力される電力を変動させる、請求項12に記載の方法。
前記複数のRF信号のうちの少なくとも1つのRF信号のサンプルを、受信バッファに記憶するステップと、
あらかじめ定義された伝達関数に従って、再構築バッファ内のあらかじめ選択されたビンへ伝達するステップと、
前記再構築バッファにおける前記記憶されたサンプルに従って、前記RF信号を再構築するステップとをさらに備える、請求項12に記載の方法。
前記再構築バッファにおける選択されたビンが、1つよりも多くのサンプルを記憶しているのであれば、前記選択されたビンにおける前記サンプルの平均を決定する、請求項19に記載の方法。
第1のビンのセットに従って、前記RF信号の立ち上がり時間、
第2のビンのセットに従って、前記RF信号の立ち下がり時間、および、
第3のビンのセットに従って、前記RF信号の振幅のうちの少なくとも1つを判定するステップ、をさらに備える請求項20に記載の方法。
無線周波数(RF)制御システムを制御するための方法であって、マッチングネットワークへ比制御信号を通信するステップを備え、前記マッチングネットワークは、比制御信号に従って比調整要素を制御し、前記マッチングネットワークは、RF信号を受信し、1つまたは複数のプラズマチャンバの複数の電極のそれぞれへの複数のRF出力信号を生成し、前記マッチングネットワークは、前記比制御信号に従って、第1の前記複数のRF出力信号と、第2の前記複数のRF出力信号との電力の比を変動させ、
前記マッチングネットワークへ調整制御信号を通信することによって、RF生成器の出力におけるインピーダンスを変動させるステップをさらに備え、前記マッチングネットワークは、前記調整制御信号に従って、マッチ調整要素を制御し、
動作のためのパルスモードでRF生成器を動作させるステップと、
前記パルスモードの動作を制御するパルス波形のサンプルを、受信バッファに記憶するステップと、
前記記憶されたサンプルを、あらかじめ定義された伝達関数に従って、再構築バッファ内のあらかじめ選択されたビンへ伝達するステップと、
前記再構築バッファに記憶されたサンプルを使用して、前記パルス波形を再構築するステップとをさらに備える、方法。
各々のRF出力信号の特性を示す特性信号をRF生成器へ通信するステップをさらに備える、請求項２２に記載の方法。
前記特性信号を受信し、前記特性信号に従って、前記比制御信号を生成するステップをさらに備える、請求項２３に記載の方法。
前記再構築バッファにおける選択されたビンが、1つよりも多くのサンプルを記憶しているのであれば、前記選択されたビンにおける前記サンプルの平均を決定する、請求項２２に記載の方法。
前記再構築バッファの第1のデータシーケンスに従って、前記複数のRF出力信号のうちの前記少なくとも1つのRF出力信号の立ち上がり時間、
前記再構築バッファの第2のデータシーケンスに従って、前記複数のRF出力信号のうちの前記少なくとも1つのRF出力信号の立ち下がり時間、および、
前記再構築バッファの第3のデータシーケンスに従って、前記複数のRF出力信号のうちの前記少なくとも1つのRF出力信号の振幅のうちの少なくとも1つを判定するステップ、をさらに備える請求項２５に記載の方法。