JP2021057506A - 配線基板 - Google Patents
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Abstract
Description
前記第1基材の前記第1面側に位置する配線を含む導電体と、を備える、配線基板である。
前記第1基材の前記第1面側に位置する配線を含む導電体と、を備え、
前記基材は、前記第1面の法線方向に沿って見た場合に、前記導電体が位置している内側領域と、前記内側領域よりも前記基材の外縁側に位置する外側領域と、を含み、
前記基材の前記外側領域の厚みは、前記基材の前記内側領域の厚みよりも小さい、配線基板である。
前記基材の前記外側領域に位置する前記第1基材の厚みは、前記内側領域に位置する前記第1基材の厚みよりも小さくてもよい。
前記第1基材の前記第1面側に位置する配線を含む導電体と、を備え、
前記基材は、前記第1面の法線方向に沿って見た場合に、前記導電体が位置している内側領域と、前記内側領域よりも前記基材の外縁側に位置する外側領域と、を含み、
前記基材の前記外側領域における前記切り込み又は前記孔の密度は、前記基材の前記内側領域における前記切り込み又は前記孔の密度よりも高い、配線基板である。
前記外側領域に位置する前記第1基材に前記孔が形成されていてもよい。
前記外側領域に位置する前記第2基材に前記孔が形成されていてもよい。
前記外側領域に位置する前記積層基材に前記孔が形成されていてもよい。
前記第1基材の前記第1面側に位置する配線を含む導電体と、
前記基材に重なる補強層と、を備え、
前記基材は、前記第1面の法線方向に沿って見た場合に、前記導電体が位置している内側領域と、前記内側領域よりも前記基材の外縁側に位置する外側領域と、を含み、
前記基材の前記外側領域に重なる前記補強層の密度は、前記基材の前記内側領域に重なる前記補強層の密度よりも低い、配線基板である。
前記第1基材の前記第1面側に位置する配線を含む導電体と、
前記基材に重なる複数の補強層と、を備え、
前記複数の補強層は、第1補強層と、前記第1補強層よりも前記基材の外縁側に位置し、前記第1補強層よりも小さい面積を有する第2補強層と、を含む、配線基板である。
前記第1基材の前記第1面側に位置する配線を含む導電体と、
前記基材に重なり、複数の開口が形成されている補強層と、を備え、
前記複数の開口は、第1開口と、前記第1開口よりも前記基材の外縁から離れて位置し、前記第1開口よりも小さい面積を有する第2開口と、を含む、配線基板である。
図1乃至図10を参照して、本開示の第1の実施の形態について説明する。
まず、本実施の形態に係る配線基板10について説明する。図1は、配線基板10を示す平面図である。図2Aは、図1の配線基板10のII−II線に沿った断面図である。
基材20は、少なくとも1つの方向において少なくとも部分的に伸縮性を有するよう構成された部材である。図1に示す例において、基材20は、基材20の面の法線方向に沿って見た場合に、第1方向D1に延びる一対の辺と、第1方向D1に直交する第2方向D2に延びる一対の辺とを含む四角形状を有する。以下の説明において、基材20の面の法線方向に沿って配線基板10又は配線基板10の構成要素を見ることを、「平面視」と表現することもある。また、基材20の面の法線方向に沿って配線基板10又は配線基板10の構成要素を見た場合に2つの構成要素が重なることを、「重なる」と表現することもある。
導電体50は、第1基材21の第1面211側に位置し、導電性を有する部材又は部品である。導電体50は、第1基材21の第1面211側に位置する配線52を少なくとも含む。導電体50は、第1基材21の第1面211側に位置する電子部品51を含んでいてもよい。
配線52に用いられ得る、それ自体は伸縮性を有さない材料としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、白金、クロム等の金属や、これらの金属を含む合金が挙げられる。配線52の材料自体が伸縮性を有さない場合、配線52としては、金属膜を用いることができる。
配線52に用いられる材料自体が伸縮性を有する場合、材料の伸縮性は、例えば、第1基材21の伸縮性と同様である。配線52に用いられ得る、それ自体が伸縮性を有する材料としては、例えば、導電性粒子およびエラストマーを含有する導電性組成物が挙げられる。導電性粒子としては、配線に使用できるものであればよく、例えば、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、カーボン等の粒子が挙げられる。中でも、銀粒子が好ましく用いられる。
例えば、配線52の材料が伸縮性を有さない場合、配線52の厚みは、25nm以上100μm以下の範囲内とすることができ、50nm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、100nm以上5μm以下の範囲内であることがより好ましい。
また、配線52の材料が伸縮性を有する場合、配線52の厚みは、5μm以上60μm以下の範囲内とすることができ、10μm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、20μm以上40μm以下の範囲内であることがより好ましい。
次に、配線基板10の製造方法の一例について説明する。
図11Aは、第1の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。配線基板10は、第1基材21又は第2基材22に重なる積層基材24を備えていてもよい。図11Aに示す例において、積層基材24は、第1基材21及び第2基材22に重なるように第2面212側に位置している。図示はしないが、積層基材24は、第1基材21には重なるが第2基材22には重なっていなくてもよい。また、積層基材24は、第1基材21と導電体50との間に位置していてもよい。
図11Bは、第2の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。配線基板10の基材20は、基材20の内側領域R1において電子部品51、配線52などの導電体50を覆うカバー材25を備えていてもよい。図11Bに示す例において、カバー材25は、内側領域R1及び外側領域R2の両方に跨るように広がっている。
上述の実施の形態においては、内側領域R1を画定する包絡線Eを構成する4本の包絡線E11、E12、E21、E22と基材20の外縁との間の各領域に、第1基材21の弾性係数よりも小さい弾性係数を有する第2基材22が存在する例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、4本の包絡線E11、E12、E21、E22と基材20の外縁との間の各領域の少なくとも1つに、第1基材21の弾性係数よりも小さい弾性係数を有する第2基材22が存在していればよい。好ましくは、第1方向D1において対向する一対の第2包絡線E21,E22と基材20の外縁との間、又は、第2方向D2において対向する一対の第1包絡線E11,E12と基材20の外縁との間に第2基材22が存在している。図12Aは、第1方向D1において対向する一対の第2包絡線E21,E22と基材20の外縁との間に第2基材22が存在している例を示す平面図である。図12Aに示す例によれば、第1方向D1において配線基板10に張力を加えた場合、内側領域R1に比べて、第2基材22を含む外側領域R2が大きく伸びることができる。このため、配線基板10を人体などの対象物に装着する時、外側領域R2が第1方向D1に伸びて対象物に密着することができるので、対象物に対して配線基板10を装着し易い。図12Bに示すように、4本の包絡線E11、E12、E21、E22と基材20の外縁との間の各領域のうちの1つにのみ、第2基材22が存在していてもよい。
次に、図13Aを参照して、本開示の第2の実施の形態について説明する。第2の実施の形態において、上述の第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。また、第1の実施の形態において得られる作用効果が本実施の形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
図13Bは、第1の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。第1基材21が内側領域R1及び外側領域R2の両方に位置する場合、図13Bに示すように、外側領域R2に位置する第1基材21は、少なくとも部分的に、基材20の外縁側に向かうにつれて厚みが減少する領域を含んでいてもよい。これにより、基材20の外側領域R2が内側領域R1よりも伸び易くなる。
図14Aは、第2の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。図14Aに示す例において、基材20は、第1基材21の第2面212の法線方向に沿って見た場合に第1基材21に重なるよう第1基材21の第2面212側に位置する積層基材24を備えている。積層基材24は、第1基材21の端部215よりも外側まで広がっている。この場合、基材20のうち第1基材21の端部215よりも内側に位置する領域は、第1基材21及び積層基材24を含む。一方、基材20のうち第1基材21の端部215よりも外側に位置する領域は、積層基材24を含むが第1基材21を含まない。このため、基材20のうち第1基材21の端部215よりも外側に位置する領域の厚みは、基材20のうち第1基材21の端部215よりも内側に位置する領域の厚みよりも小さくなる。これにより、基材20において、導電体50が位置する内側領域R1と、内側領域R1よりも外側に位置し、内側領域R1の厚みt1よりも小さい厚みt2を有する外側領域R2と、を実現することができる。
図14Bに示すように、基材20は、基材20の内側領域R1において電子部品51、配線52などの導電体50を覆うカバー材25を備えていてもよい。図14Bに示す例において、基材20のうち第1基材21の端部215よりも内側に位置する領域は、第1基材21、積層基材24及びカバー材25を含む。一方、基材20のうち第1基材21の端部215よりも外側に位置する領域は、積層基材24を含むが第1基材21及びカバー材25を含まない。このため、基材20のうち第1基材21の端部215よりも外側に位置する領域の厚みは、基材20のうち第1基材21の端部215よりも内側に位置する領域の厚みよりも小さくなる。これにより、基材20において、導電体50が位置する内側領域R1と、内側領域R1よりも外側に位置し、内側領域R1の厚みt1よりも小さい厚みt2を有する外側領域R2と、を実現することができる。
図14A及び図14Bにおいては、積層基材24が第1基材21の第2面212側に位置する例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図14Cに示すように、積層基材24が第1基材21の第1面211側に位置していてもよい。また、図14Cに示すように、第1基材21の第1面211と積層基材24との間にカバー材25が設けられていてもよい。図14Cに示す例において、基材20のうち第1基材21の端部215よりも内側に位置する領域は、第1基材21、積層基材24及びカバー材25を含む。
図15Aは、第5の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。図15Aに示す例において、基材20は、第1基材21の第2面212の法線方向に沿って見た場合に第1基材21に重なるよう第1基材21の第2面212側に位置する積層基材24を備えている。積層基材24は、第1基材21の端部215よりも内側に位置する端部245を含んでいる。この場合、基材20のうち積層基材24の端部245よりも内側に位置する領域は、第1基材21及び積層基材24を含む。一方、基材20のうち積層基材24の端部245よりも外側に位置する領域は、第1基材21を含むが積層基材24を含まない。このため、基材20のうち積層基材24の端部245よりも外側に位置する領域の厚みは、基材20のうち積層基材24の端部245よりも内側に位置する領域の厚みよりも小さくなる。これにより、基材20において、導電体50が位置する内側領域R1と、内側領域R1よりも外側に位置し、内側領域R1の厚みt1よりも小さい厚みt2を有する外側領域R2と、を実現することができる。図15Bに示すように、第1基材21の端部215よりも内側に位置する端部245を含む積層基材24は、第1基材21の第1面211側に位置していてもよい。この場合、第1基材21の第1面211と積層基材24との間にカバー材25が設けられていてもよい。
図15Cは、第6の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。図15Cに示すように、カバー材25のうち外側領域R2に位置する部分は、平面視における基材20の中心から基材20の外縁側へ向かうにつれて厚みが減少する領域を含んでいてもよい。この場合、基材20の内側領域R1が積層基材24を備えていなくても、基材20の外側領域R2の厚みt2を、基材20の内側領域R1の厚みt1よりも小さくすることができる。図示はしないが、図15Cに示す配線基板10が積層基材24を更に備えていてもよい。
次に、図16乃至図18を参照して、本開示の第3の実施の形態について説明する。第3の実施の形態において、上述の第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。また、第1の実施の形態において得られる作用効果が本実施の形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
図19Aは、第1の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。図19Aに示すように、切り込み26は、基材20の外縁に達しないように外側領域R2に形成されていてもよい。また、切り込み26は、外側領域R2だけでなく内側領域R1にも形成されていてもよい。
図19Bは、第1の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。図19Bに示すように、平面視における基材20の外縁は、湾曲した複数の辺を含んでいてもよい。また、隣り合う2つの辺の連結部分において基材20に切り込み26が形成されていてもよい。
図20は、第3の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。図20に示すように、基材20には孔27が形成されていてもよい。基材20の外側領域R2における孔27の密度は、基材20の内側領域R1における孔27の密度よりも高い。図20に示す例において、孔27は、外側領域R2内に形成されており、内側領域R1には形成されていない。この場合、基材20の外側領域R2が内側領域R1よりも変形し易くなる。従って、上述の第1の実施の形態の場合と同様に、配線基板10を人体などの対象物に装着する時、外側領域R2が変形して対象物に密着することができるので、対象物に対して配線基板10を装着し易い。また、配線52や電子部品51などの導電体50が配置されている内側領域R1は、外側領域R2に比べて変形しにくい。このため、変形に起因して導電体50が破損することを抑制することができる。これにより、配線基板10の電気特性の信頼性を確保することができる。
次に、図24及び図25を参照して、本開示の第4の実施の形態について説明する。第4の実施の形態において、上述の第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。また、第1の実施の形態において得られる作用効果が本実施の形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
補強層28に用いられる伸縮性を有する材料としては、例えば、エラストマーを挙げることができる。エラストマーとしては、一般的な熱可塑性エラストマーおよび熱硬化性エラストマーを用いることができ、具体的には、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、アミド系エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ポリブタジエン、ポリイソブチレン、ポリスチレンブタジエン、ポリクロロプレン等が挙げられる。補強層28を構成する材料がこれらの樹脂である場合、補強層28は、透明性を有していてもよい。また、補強層28は、遮光性、例えば紫外線を遮蔽する特性を有していてもよい。例えば、補強層28は黒色であってもよい。また補強層28の色と基板の色とが同一であってもよい。補強層28にデザイン性を持たせて加飾の役割を持っていてもよい。
図26は、第1の変形例に係る配線基板10を示す断面図である。図26に示すように、基材20は、第1基材21と、第1基材21の端部215よりも外側に位置し、第1基材21の弾性係数よりも小さい弾性係数を有する第2基材22と、内側領域R1において第1基材21に重なる補強層28と、外側領域R2において第2基材22に重なる補強層28と、を備えていてもよい。
図27は、第2の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。図27に示すように、配線基板10は、内側領域R1及び外側領域R2に跨るように第1方向D1に延びる複数の補強層28と、内側領域R1及び外側領域R2に跨るように第2方向D2に延びる複数の補強層28と、を備えていてもよい。
図28は、第3の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。図28に示すように、配線基板10は、第1方向D1に延びる補強層28と、第2方向D2に延びる補強層28と、第1方向D1及び第2方向D2に交差する方向に延びる1つ又は複数の補強層28と、を備えていてもよい。各補強層28は、内側領域R1及び外側領域R2に跨るように延びていてもよい。
図29は、第4の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。図30は、図29の配線基板10のXXX−XXX線に沿った断面図である。図29及び図30に示す例において、第1基材21及び補強層28は、内側領域R1及び外側領域R2の両方に位置している。この場合、補強層28のうち基材20の外側領域R2に重なる補強層28は開口29を含んでいてもよい。外側領域R2に重なる補強層28に開口29を形成することにより、基材20の外側領域R2に重なる補強層28の密度を、基材20の内側領域R1に重なる補強層28の密度よりも低くすることができる。これにより、基材20の外側領域R2が内側領域R1よりも伸び易くなる。
次に、図31及び図32を参照して、本開示の第5の実施の形態について説明する。第5の実施の形態において、上述の第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。また、第1の実施の形態において得られる作用効果が本実施の形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
次に、図33及び図34を参照して、本開示の第6の実施の形態について説明する。第6の実施の形態において、上述の第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。また、第1の実施の形態において得られる作用効果が本実施の形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
次に、図35及び図36を参照して、本開示の第7の実施の形態について説明する。第7の実施の形態において、上述の第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。また、第1の実施の形態において得られる作用効果が本実施の形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
図37は、第1の変形例に係る配線基板10を示す平面図である。図38は、図37の配線基板10のXXXVIII−XXXVIII線に沿った断面図である。図37及び図38に示すように、配線基板10は、第1基材21と、第1基材21の端部215よりも外側に位置する第2基材22と、を含む基材20と、第1基材21の第1面211側に位置する導電体50と、第2基材22に重なる補強層28と、を備えていてもよい。この場合、第2基材22のうち補強層28と重なる領域の剛性は、第2基材22のうち補強層28と重ならない領域の剛性よりも高くなる。従って、本変形例においては、第2基材22のうち補強層28と重なる領域が、外側領域R2よりも伸びにくい外縁領域R3を構成している。これにより、配線基板10に張力を加えた場合に、基材20の外縁が過剰に変形することを抑制することができる。このため、配線基板10を対象物に装着する作業の安定性を向上させることができる。
11 山部
12 谷部
13 蛇腹形状部
16 山部
17 谷部
18 蛇腹形状部
20 基材
21 第1基材
211 第1面
212 第2面
215 端部
22 第2基材
221 第1面
222 第2面
225 端部
23 第3基材
24 積層基材
26 切り込み
27 孔
28 補強層
281 第1補強層
282 第2補強層
283 第3補強層
29 開口
291 第1開口
292 第2開口
293 第3開口
50 導電体
51 電子部品
52 配線
55 山部
56 谷部
57 蛇腹形状部
Claims (27)
- 第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する第1基材と、前記第1基材の端部よりも外側に位置し、前記第1基材の弾性係数よりも小さい弾性係数を有する第2基材と、を備える基材と、
前記第1基材の前記第1面側に位置する配線を含む導電体と、を備える、配線基板。 - 前記基材は、前記第2面の法線方向に沿って見た場合に少なくとも前記第1基材に重なっている積層基材を備える、請求項1に記載の配線基板。
- 前記積層基材は、前記第2面の法線方向に沿って見た場合に前記第1基材及び前記第2基材に重なっている、請求項2に記載の配線基板。
- 第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する第1基材を少なくとも備える基材と、
前記第1基材の前記第1面側に位置する配線を含む導電体と、を備え、
前記基材は、前記第1面の法線方向に沿って見た場合に、前記導電体が位置している内側領域と、前記内側領域よりも前記基材の外縁側に位置する外側領域と、を含み、
前記基材の前記外側領域の厚みは、前記基材の前記内側領域の厚みよりも小さい、配線基板。 - 前記第1基材は、前記内側領域及び前記外側領域の両方に位置しており、
前記基材の前記外側領域に位置する前記第1基材の厚みは、前記内側領域に位置する前記第1基材の厚みよりも小さい、請求項4に記載の配線基板。 - 前記外側領域に位置する前記第1基材は、少なくとも部分的に、前記基材の外縁側に向かうにつれて厚みが減少する領域を含んでいる、請求項5に記載の配線基板。
- 前記基材は、前記第2面の法線方向に沿って見た場合に前記第1基材に重なるよう前記第1基材の前記第2面側に位置し、前記第1基材の端部よりも外側まで広がる積層基材を備える、請求項4に記載の配線基板。
- 前記基材は、前記第2面の法線方向に沿って見た場合に前記第1基材に重なるよう前記第1基材の前記第2面側に位置し、且つ前記第1基材の端部よりも内側に位置する端部を含む積層基材を備える、請求項4に記載の配線基板。
- 第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する第1基材を少なくとも備え、切り込み又は孔が形成されている基材と、
前記第1基材の前記第1面側に位置する配線を含む導電体と、を備え、
前記基材は、前記第1面の法線方向に沿って見た場合に、前記導電体が位置している内側領域と、前記内側領域よりも前記基材の外縁側に位置する外側領域と、を含み、
前記基材の前記外側領域における前記切り込み又は前記孔の密度は、前記基材の前記内側領域における前記切り込み又は前記孔の密度よりも高い、配線基板。 - 前記基材の外縁に前記切り込みが形成されている、請求項9に記載の配線基板。
- 前記基材に前記孔が形成されている、請求項9に記載の配線基板。
- 前記第1基材は、前記内側領域及び前記外側領域の両方に位置しており、
前記外側領域に位置する前記第1基材に前記孔が形成されている、請求項11に記載の配線基板。 - 前記基材は、前記第1基材の端部よりも外側に位置し、前記第1基材の弾性係数よりも小さい弾性係数を有する第2基材を備え、
前記外側領域に位置する前記第2基材に前記孔が形成されている、請求項11に記載の配線基板。 - 前記基材は、前記第1基材の前記第2面側に位置する積層基材を備え、
前記外側領域に位置する前記積層基材に前記孔が形成されている、請求項11に記載の配線基板。 - 第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する第1基材を少なくとも備える基材と、
前記第1基材の前記第1面側に位置する配線を含む導電体と、
前記基材に重なる補強層と、を備え、
前記基材は、前記第1面の法線方向に沿って見た場合に、前記導電体が位置している内側領域と、前記内側領域よりも前記基材の外縁側に位置する外側領域と、を含み、
前記基材の前記外側領域に重なる前記補強層の密度は、前記基材の前記内側領域に重なる前記補強層の密度よりも低い、配線基板。 - 前記基材の前記外側領域に重なる前記補強層は開口を含む、請求項15に記載の配線基板。
- 第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する第1基材を少なくとも備える基材と、
前記第1基材の前記第1面側に位置する配線を含む導電体と、
前記基材に重なる複数の補強層と、を備え、
前記複数の補強層は、第1補強層と、前記第1補強層よりも前記基材の外縁側に位置し、前記第1補強層よりも小さい面積を有する第2補強層と、を含む、配線基板。 - 前記複数の補強層は、前記第2補強層よりも前記基材の外縁側に位置し、前記第2補強層よりも小さい面積を有する第3補強層を含む、請求項17に記載の配線基板。
- 第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を含み、伸縮性を有する第1基材を少なくとも備える基材と、
前記第1基材の前記第1面側に位置する配線を含む導電体と、
前記基材に重なり、複数の開口が形成されている補強層と、を備え、
前記複数の開口は、第1開口と、前記第1開口よりも前記基材の外縁から離れて位置し、前記第1開口よりも小さい面積を有する第2開口と、を含む、配線基板。 - 前記複数の開口は、前記第2開口よりも前記基材の外縁から離れて位置し、前記第2開口よりも小さい面積を有する第3開口を含む、請求項19に記載の配線基板。
- 前記補強層は、前記第1基材の弾性係数よりも大きい弾性係数を有する、請求項15乃至20のいずれか一項に記載の配線基板。
- 前記配線は、前記配線が延びる方向に並ぶ複数の山部を含む、請求項1乃至21のいずれか一項に記載の配線基板。
- 前記第1基材の前記第2面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記山部に重なる部分に現れる山部の振幅が、前記第1基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記山部に重なる部分に現れる山部の振幅よりも小さい、請求項22に記載の配線基板。
- 前記第1基材の前記第2面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記山部に重なる部分に現れる山部の周期が、前記第1基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記山部に重なる部分に現れる山部の周期よりも大きい、請求項22又は23に記載の配線基板。
- 前記第1基材の前記第2面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の前記山部に重なる部分に現れる山部の位置が、前記第1基材の前記第1面側における前記配線基板の表面のうち前記配線の山部に重なる部分に現れる谷部の位置からずれている、請求項22乃至24のいずれか一項に記載の配線基板。
- 前記第1基材は、熱可塑性エラストマー、シリコーンゴム、ウレタンゲル又はシリコンゲルを含む、請求項1乃至25のいずれか一項に記載の配線基板。
- 前記導電体は、前記配線に電気的に接続されている電子部品を含む、請求項1乃至26のいずれか一項に記載の配線基板。
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