JP2021053879A - ノズル部材の製造方法、液体吐出ヘッドの製造方法、液体を吐出する装置の製造方法 - Google Patents
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少なくとも、シリコン層、エッチング選択比が前記シリコン層よりも大きい中間層、及び、シリコン層の順に積層された基材に対し、
一方の前記シリコン層にノズルを構成する第1穴部を形成する工程と、
前記中間層に前記第1穴部に通じる第2穴部を形成する工程と、
他方の前記シリコン層に前記第1穴部よりも径の大きい第3穴部を形成する工程と、を順次行う
構成とした。
基材100として、厚さ10μmの第1シリコン層101、高選択比層(酸化シリコン層)102、厚さ40μmの第2シリコン層103が順次積層されたSOI基板を使用した。
実施例と同じ基材100を使用し、第1シリコン層101に直径20μmの第1穴部105を形成した後、第2シリコン層103に直径85μmの流路液室となる第3穴部108を形成した。その後、高選択比層102に第3穴部108と同じ大きさの第2穴部106を形成して貫通した。
基材100として、厚さ10μmの第1シリコン層101、高選択比層(酸化シリコン層)102、厚さ50μmの第2シリコン層103が順次積層されたSOI基板を使用した。
10 ノズル部材
11 ノズル
20 流路板
21 圧力室
30 振動板部材
40 圧電アクチュエータ
50 共通流路部材
51 共通供給流路
100 基材
101 第1シリコン層
102 高選択比層(中間層)
103 第2シリコン層
105 第1穴部
106 第2穴部
107 第3穴部
403 キャリッジ
440 液体吐出ユニット
500 印刷装置(液体を吐出する装置)
Claims (5)
- 少なくとも、第1シリコン層、エッチング選択比がシリコン層よりも大きい中間層、及び、第2シリコン層の順に積層された基材に対し、
前記第1シリコン層にノズルを構成する第1穴部を形成する工程と、
前記中間層に前記第1穴部に通じる第2穴部を形成する工程と、
前記第2シリコン層に前記第1穴部よりも径の大きい第3穴部を形成する工程と、を順次行う
ことを特徴とするノズル部材の製造方法。 - 前記中間層がシリコン酸化膜である
ことを特徴とする請求項1に記載のノズル部材の製造方法。 - 前記ノズルの穴形状が円形である
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のノズル部材の製造方法。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載のノズル部材の製造方法でノズル部材を製造する工程を含む
ことを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。 - 請求項4に記載の液体吐出ヘッドの製造方法で液体吐出ヘッドを製造する工程を含む
ことを特徴とする液体を吐出する装置の製造方法。
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JP2019178207A JP2021053879A (ja) | 2019-09-30 | 2019-09-30 | ノズル部材の製造方法、液体吐出ヘッドの製造方法、液体を吐出する装置の製造方法 |
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