JP2021045242A - レーザ治療装置およびレーザ治療制御プログラム - Google Patents

Abstract

【課題】実行される治療の状況をユーザに適切に予測させることが可能なレーザ治療装置およびレーザ治療制御プログラムを提供する。【解決手段】レーザ治療装置は、治療レーザ光源、走査部、および制御部を備える。治療レーザ光源は、治療レーザ光を出射する。走査部は、治療レーザ光を走査し、患者眼の組織上で治療レーザ光が照射される位置を切り替える。制御部は、パターン設定ステップにおいて、治療レーザ光を照射する複数のスポットの配列パターン、および、複数のスポットの各々に対する治療レーザ光の照射順を設定する。制御部は、パターン設定ステップにおいて設定された、配列パターンに含まれる複数のスポットの各々に対する治療レーザ光の照射順を、治療レーザ光の照射前にユーザに呈示する。【選択図】図７

Description

本開示は、患者眼の組織（例えば、眼底または線維柱体等）に治療レーザ光を照射することで組織を治療するレーザ治療装置、および、レーザ治療装置において実行されるレーザ治療制御プログラムに関する。

走査部の駆動を制御することで、配列パターンに従って配列される複数のスポットの各々に治療レーザ光を照射するレーザ治療装置が知られている。また、治療レーザ光の照射前の照準時に、複数のスポットの各々にエイミング光を順次照射することで、複数のスポットの位置をユーザ（例えば、レーザ治療装置を操作する医師等）に把握させるレーザ治療装置も知られている。例えば、特許文献１に記載のレーザ治療装置は、複数のスポットを２つ以上のグループに分割し、エイミング光を照射するグループを所定時間毎に切り替える。これにより、照準位置の組織の状態をユーザが確認することを容易にしている。

特開２０１１−２２４３４５号公報

レーザ治療装置による治療中には、種々の状況が発生し得る。例えば、複数のスポットの各々に対する治療レーザ光の照射が、途中で中断されてしまう場合等もあり得る。従って、ユーザは、実行される治療の状況を、治療レーザ光が照射される前に予測できることが望ましい。

従来のレーザ治療装置では、ユーザは、治療レーザ光が照射される予定の複数のスポットの位置を、エイミング光によって把握できるのみであった。つまり、従来のレーザ治療装置では、ユーザは、複数のスポットの各々に対する治療レーザ光の照射順を、治療レーザ光の照射前にエイミング光によって把握することはできなかった。よって、実行される治療の状況を適切にユーザに予測させることは、従来の技術では困難だった。

本開示の典型的な目的は、実行される治療の状況をユーザに適切に予測させることが可能なレーザ治療装置およびレーザ治療制御プログラムを提供することである。

本開示における典型的な実施形態が提供するレーザ治療装置は、患者眼の組織に治療レーザ光を照射するレーザ治療装置であって、治療レーザ光を出射する治療レーザ光源と、治療レーザ光を走査し、患者眼の組織上で治療レーザ光が照射される位置を切り替える走査部と、制御部と、を備え、前記制御部は、治療レーザ光を照射する複数のスポットの配列パターン、および、前記配列パターンに含まれる前記複数のスポットの各々に対する治療レーザ光の照射順を設定するパターン設定ステップ前記パターン設定ステップにおいて設定された、前記配列パターンに含まれる前記複数のスポットの各々に対する治療レーザ光の照射順を、治療レーザ光の照射前にユーザに呈示する照射順呈示ステップと、を実行する。

本開示における典型的な実施形態が提供するレーザ治療制御プログラムは、患者眼の組織に治療レーザ光を照射するレーザ治療装置によって実行されるレーザ治療制御プログラムであって、前記レーザ治療装置は、治療レーザ光を出射する治療レーザ光源と、治療レーザ光を走査し、患者眼の組織上で治療レーザ光が照射される位置を切り替える走査部と、制御部と、を備え、前記レーザ治療制御プログラムが前記制御部によって実行されることで、治療レーザ光を照射する複数のスポットの配列パターン、および、前記配列パターンに含まれる前記複数のスポットの各々に対する治療レーザ光の照射順を設定するパターン設定ステップと、前記パターン設定ステップにおいて設定された、前記配列パターンに含まれる前記複数のスポットの各々に対する治療レーザ光の照射順を、治療レーザ光の照射前にユーザに呈示する照射順呈示ステップと、を前記レーザ治療装置に実行させる。

本開示に係るレーザ治療装置およびレーザ治療制御プログラムによると、実行される治療の状況がユーザによって適切に予測される。

レーザ治療装置１の概略構成を示す図である。 走査部３０の斜視図である。 配列パターン６０および領域表示枠７０の一例を示す図である。 レーザ治療装置１が実行するメイン処理のフローチャートである。 レーザ治療装置１が実行するエイミング光照射制御処理のフローチャートである。 レーザ治療装置１が実行する第１照射順表現制御処理のフローチャートである。 第１照射制御処理が実行される場合にユーザが把握する、エイミング光の照射状態の推移の一例を説明するための説明図である。 レーザ治療装置１が実行する第２照射順表現制御処理のフローチャートである。 第２照射制御処理が実行される場合にユーザが把握する、エイミング光の照射状態の推移の一例を説明するための説明図である。 レーザ治療装置１が実行する第３照射順表現制御処理のフローチャートである。 第３照射制御処理が実行される場合にユーザが把握する、エイミング光の照射状態の推移の一例を説明するための説明図である。 第４照射制御処理が実行される場合にユーザが把握する、エイミング光の照射状態の推移の一例を説明するための説明図である。

＜概要＞
本開示で例示するレーザ治療装置は、治療レーザ光源、走査部、および制御部を備える。治療レーザ光源は治療レーザ光を出射する。走査部は、治療レーザ光およびエイミング光を走査し、患者眼の組織上で治療レーザ光が照射される位置を切り替える。制御部は、パターン設定ステップおよび照射順呈示ステップを実行する。パターン設定ステップでは、制御部は、治療レーザ光を照射する複数のスポットの配列パターン、および、配列パターンに含まれる複数のスポットの各々に対する治療レーザ光の照射順を設定する。照射順呈示ステップでは、制御部は、配列パターンに含まれる複数のスポットの各々に対する治療レーザ光の照射順を、治療レーザ光の照射前にユーザに呈示する。

本開示で例示するレーザ治療装置によると、複数のスポットの各々に対する治療レーザ光の照射順が、治療レーザ光の照射前にユーザに呈示される。よって、ユーザは、実行される治療の状況を、より適切に予測することができる。

レーザ治療装置は、治療レーザ光が照射される位置を示すエイミング光を出射するエイミング光源をさらに備えていてもよい。走査部は、治療レーザ光およびエイミング光を走査し、患者眼の組織上で治療レーザ光およびエイミング光が照射される位置を切り替えてもよい。制御部は、少なくとも走査部の駆動を制御することで、設定された配列パターンに含まれる複数のスポットの各々にエイミング光を順次照射するエイミング光照射ステップをさらに実行してもよい。制御部は、エイミング光照射ステップにおいて、エイミング光を用いて照射順をユーザに呈示してもよい。この場合、ユーザは、組織に照射されたエイミング光を見るだけで、治療レーザ光が照射される複数のスポットの位置に加えて、治療レーザ光の照射順も適切に把握することができる。

ただし、照射順呈示ステップは、エイミング光を用いる方法とは異なる方法で実行されてもよい。例えば、制御部は、各種表示装置に治療レーザ光の照射順（例えば、照射順を示す数字または矢印等）を表示させることで、照射順をユーザに呈示してもよい。この場合、表示装置の構成も適宜選択できる。例えば、表示装置は、ユーザの眼前に配置されるヘッドマウントディスプレイであってもよい。ヘッドマウントディスプレイが用いられる場合、ユーザは、顔の向きを変更せずに（つまり、患者眼の組織等を見るための顔の向きを維持したまま）、治療レーザ光の照射順を把握することができる。また、表示装置は、レーザ治療装置が備えるモニタ等であってもよい。

制御部は、エイミング光照射ステップ（照射順呈示ステップ）において、配列パターンに含まれる複数のスポットのうち、１つまたは複数の第１スポットと、第１スポット以外の第２スポットとの間で、エイミング光の照射方法または照射の有無を異ならせてもよい。制御部は、エイミング光の照射中に、複数のスポット中の第１スポットを、設定されている照射順に従って順次切り替えてもよい。

この場合、配列パターン中の第１スポットと第２スポットで、エイミング光の照射方法または照射の有無が異なる。従って、ユーザは、第１スポットと第２スポットをエイミング光によって判別することができる。さらに、配列パターン中の第１スポットが、設定されている照射順に従って順次切り替えられる。つまり、制御部は、第２スポットと異なる態様でユーザが視認可能な第１スポットを、ユーザが把握可能な速度で照射順に従って順次切り替える。従って、ユーザは、第１スポットが切り替えられる順番を把握することで、その後に照射される治療レーザ光の照射順を、エイミング光によって適切に把握することができる。よって、ユーザは、実行される治療の状況を、より適切に予測することができる。

なお、第１スポットと第２スポットの各々に対してエイミング光の照射方法を変更する際の具体的な変更態様は、適宜選択できる。例えば、制御部は、第１スポットと第２スポットの一方にのみエイミング光を照射してもよい。この場合、ユーザは、より容易に第１スポットと第２スポットを判別できる。また、制御部は、エイミング光を各スポットに繰り返し走査する際の、各スポットでエイミング光を照射する照射時間を、第１スポットと第２スポットで異ならせてもよい。この場合、照射時間が長いスポットでは、照射時間が短いスポットに比べてエイミング光が明瞭に視認される。よって、ユーザは、第１スポットと第２スポットを適切に判別できる。また、制御部は、エイミング光の色、照射するエイミング光のスポットの大きさ、およびスポットの形状の少なくともいずれかを、第１スポットと第２スポットで異ならせてもよい。

制御部は、エイミング光照射ステップ（照射順呈示ステップ）において、配列パターンに含まれる複数のスポットのうち、Ｍ個（Ｍ≧１）の第１スポットを除くＮ個（Ｎ＞Ｍ）の第２スポットの各々に、ユーザが視認できる態様でエイミング光を繰り返し照射してもよい。制御部は、第１スポット（例えば、エイミング光を照射しない第１スポット）を、設定されている照射順に従って順次切り替えてもよい。この場合、ユーザは、エイミング光が繰り返し照射されるＮ個の第２スポットの位置を把握することで、配列パターンに含まれる複数のスポットの位置を容易に把握することができる。さらに、ユーザは、Ｍ個の第１スポットの切替順を把握することで、治療レーザ光の照射順を適切に把握することができる。よって、実行される治療の状況がより適切に把握される。

なお、制御部は、第１スポットにも、第２スポットに対する照射態様とは異なる態様でエイミング光を照射してもよい。例えば、制御部は、配列パターンに含まれる複数のスポットのうち、Ｍ個（Ｍ≧１）の第１スポットを除くＮ個（Ｎ＞Ｍ）の第２スポットの各々に対し、単位時間当たりのエイミング光の照射時間を第１スポットよりも長くして照射してもよい。単位時間当たりのエイミング光の照射時間が、第１スポットと第２スポットの間で変更されることで、ユーザによって視認されるエイミング光の色の濃さまたは明るさが、第１スポットと第２スポットで変化する。よって、この場合でも、ユーザは第１スポットと第２スポットを判別することが可能である。

なお、単位時間当たりのエイミング光の照射時間を変更する場合、制御部は、各スポットでエイミング光を停止させて照射する時間を、第１スポットと第２スポットで変更してもよい。また、制御部は、単位時間当たりにエイミング光を照射する回数を、第１スポットと第２スポットで変更することで、単位時間当たりにエイミング光の照射時間を変更してもよい。

制御部は、エイミング光照射ステップ（照射順呈示ステップ）において、配列パターンに含まれる複数のスポットのうち、ｎ個（ｎ≧２）の第２スポットを除くｍ個（１≦ｍ＜ｎ）の第１スポットに、エイミング光を繰り返し、または連続して照射してもよい。制御部は、第１スポット（例えば、エイミング光を照射する第１スポット）を、設定されている照射順に従って順次切り替えてもよい。この場合、ユーザは、第２スポットの数より少ないｍ個の第１スポットの切替順を把握することで、治療レーザ光の照射順をより適切に把握することができる。よって、実行される治療の状況がより適切に把握される。

なお、制御部は、第２スポットにも、第１スポットに対する照射態様とは異なる態様でエイミング光を照射してもよい。例えば、制御部は、配列パターンに含まれる複数のスポットのうち、ｎ個（ｎ≧２）の第２スポットを除くｍ個（１≦ｍ＜ｎ）の第１スポットに対し、単位時間当たりのエイミング光の照射時間を第２スポットよりも長くして照射してもよい。前述したように、単位時間当たりのエイミング光の照射時間が、第１スポットと第２スポットの間で変更されることで、ユーザは第１スポットと第２スポットを判別することが可能である。なお、単位時間当たりのエイミング光の照射時間を変更する方法には、前述した方法を採用してもよい。

エイミング光が照射される小スポットが、第１スポットの領域内にＸ個、第２スポットの領域内にＹ個（Ｙ≠Ｘ）設定されていてもよい。制御部は、エイミング光照射ステップ（照射順呈示ステップ）において、第１スポットおよび第２スポットの各々の領域内の複数の小スポットに、エイミング光を繰り返し照射してもよい。制御部は、第１スポットを照射順に従って順次切り替えてもよい。スポットの領域内に設定する小スポットの数を変更することで、１つまたは複数の小スポットによって表現されるスポットの大きさが変化する。従って、レーザ治療装置は、第１スポットと第２スポットの各々に設定する小スポットの数を異ならせることで、第１スポットと第２スポットをユーザに適切に判別させることができる。さらに、レーザ治療装置は、第１スポットを照射順に従って切り替えることで、照射順を適切にユーザに把握させることができる。

この場合、第１スポットの数と第２スポットの数は、いずれが多くても良いし、同じ数でも良い。また、第１スポット内の小スポットの数と、第２スポット内の小スポットの数は、いずれが多くてもよい。

制御部は、エイミング光照射ステップ（照射順呈示ステップ）において、複数のスポット中の第１スポットの数を、設定されている照射順に従って順次増加させてもよい。（つまり、複数のスポット中の第２スポットの数を、設定されている照射順に従って順次減少させてもよい）この場合、ユーザは、増加していく第１スポットの順番を把握することで、治療レーザ光の照射順を適切に把握することができる。よって、実行される治療の状況がより適切に把握される。

なお、エイミング光を用いて照射順をユーザに呈示する具体的な方法は、適宜変更できる。例えば、制御部は、エイミング光を被検眼の組織上で走査し、照射順を示す矢印および数字等の少なくともいずれかを組織上に呈示してもよい。この場合でも、ユーザは、エイミング光によって、スポットの位置と照射順を共に適切に把握することができる。

第１スポットを治療レーザ光の照射順に従って次の順に切り替える時間間隔は、走査部によってエイミング光の照射位置を次の位置に切り替える時間間隔よりも長くてもよい。この場合、ユーザは、複数のスポットの位置を把握しつつ、第１スポットが切り替えられる順番を適切に把握することができる。

制御部は、エイミング光照射ステップにおいて、第１スポットおよび第２スポットの少なくともいずれかに加えて、設定された配列パターンを含む枠部の少なくとも一部にエイミング光を繰り返し照射させてもよい。この場合、ユーザは、配列パターンに含まれる複数のスポットの位置と、各々のスポットに対する治療レーザ光の照射順に加えて、複数のスポットを含む配列パターンの領域をより容易に把握することができる。

制御部は、エイミング光照射ステップにおいて、照射順表現制御と一律照射制御を選択的に実行してもよい。照射順表現制御では、第１スポットが照射順に従って順次切り替えられる。従って、ユーザは、治療レーザ光の照射順をエイミング光によって把握することができる。一律照射制御では、配列パターンに含まれる複数のスポットの全てにエイミング光が（一律で）繰り返し照射される。従って、ユーザは、全てのスポットの位置を容易に把握できる。照射順表現制御と一律照射制御が選択的に実行されることで、ユーザは、より適切に患者眼の組織を治療することができる。

制御部は、光凝固治療制御と低侵襲治療制御を選択的に実行してもよい。光凝固治療制御では、組織に凝固斑を生じさせるエネルギーで、治療レーザ光が複数のスポットの各々に照射される。低侵襲治療制御では、光凝固治療制御におけるエネルギーよりも低いエネルギーで、治療レーザ光が複数のスポットの各々に照射される。制御部は、光凝固治療制御を実行する場合と低侵襲治療制御を実行する場合で、照射順表現制御と一律照射制御を切り替えてもよい。この場合、ユーザは、エイミング光の照射態様を把握することで、光凝固治療制御と低侵襲治療制御のいずれが実行されるかを把握することができる。よって、ユーザが意図しない治療が実行される可能性が低下する。

なお、光凝固治療制御が実行される場合のエイミング光の照射態様と、低侵襲治療制御が実行される場合のエイミング光の照射態様の各々は、予め定められていてもよい。低侵襲治療制御が実行される場合には、光凝固治療制御が実行される場合に比べて、治療レーザ光の照射痕（凝固斑）が組織に残らない（または残り難い）。つまり、低侵襲治療制御では、治療の跡をユーザが目視で認識できない（または認識し難い）態様で治療が行われる。従って、複数のスポットの各々に対する低侵襲治療用のレーザ光の照射が途中で中断されてしまった場合等には、ユーザは、治療レーザ光が既に照射された部位と未だ照射されていない部位を区別し難い。よって、レーザ治療装置は、低侵襲治療制御を実行する場合にエイミング光の照射順表現制御を実行し、且つ、光凝固治療制御を実行する場合にエイミング光の一律照射制御を実行してもよい。この場合、ユーザは、低侵襲治療用のレーザ光の照射が途中で中断されてしまった場合等でも、治療レーザ光の照射順を把握することで、治療レーザ光が既に照射された部位と未だ照射されていない部位を区別し易い。

ただし、照射順表現制御と一律照射制御を切り替える方法を変更することも可能である。例えば、制御部は、光凝固治療制御を実行する場合にエイミング光の照射順表現制御を実行し、且つ、低侵襲治療制御を実行する場合にエイミング光の一律照射制御を実行してもよい。また、制御部は、ユーザによって入力される指示に応じて、照射順表現制御と一律照射制御を切り替えてもよい。この場合、ユーザは、所望の態様でエイミング光をレーザ治療装置に照射させることができる。また、制御部は、光凝固治療制御を実行する場合のエイミング光の照射態様と、低侵襲治療制御を実行する場合のエイミング光の照射態様を、ユーザによって入力される指示に応じて設定してもよい。また、制御部は、実行する治療制御に関わらず、エイミング光の照射順表現制御を実行してもよい。

制御部は、エイミング光照射ステップにおいて、第１スポットを最初の照射順から最後の照射順まで順に切り替える一連のサイクルが終了した後、次のサイクルを開始させるまでの間に、配列パターンに含まれる複数のスポットの全てにエイミング光を繰り返し照射させる制御（一律照射制御）、および、複数のスポットの全てに対するエイミング光の照射を停止させる制御（一律非照射制御）の少なくともいずれかを実行してもよい。第１スポットを次の順に切り替える時間間隔と同等の時間間隔で、一連のサイクルの終了後に次のサイクルを開始させると、ユーザは、照射順が最初のスポットと最後のスポットを把握することが困難となる。これに対し、制御部は、一連のサイクルが終了した後、次のサイクルを開始させるまでの間に、サイクル中の制御とは異なる制御（例えば、一律照射制御または一律非照射制御）を実行することで、照射順が最初のスポットと最後のスポットを適切にユーザに把握させることができる。

なお、２つのサイクルの間に一律照射制御および一律非照射制御の少なくともいずれか（以下、単に「一律制御」という）を実行する時間の長さは、ユーザが一律制御を把握することが可能な長さであればよい。例えば、制御部は、サイクル中に第１スポットを次の順に切り替える時間間隔以上の長さで、サイクル間の一律制御を実行してもよい。

＜実施形態＞
以下、本発明の典型的な実施形態の１つについて、図面を参照して説明する。まず、図１を参照して、本実施形態のレーザ治療装置１の概略構成について説明する。本実施形態のレーザ治療装置１は、光源ユニット１０、照射光学系２０、観察光学系３８、照明光学系３９、制御ユニット４０、および操作部５０を備える。

（光源ユニット）
光源ユニット１０は、治療レーザ光源１１、エイミング光源１２、ビームスプリッタ１３、集光レンズ１４、第１シャッタ１５、および第２シャッタ１６を備える。

治療レーザ光源１１は、患者眼Ｅの組織を治療するための治療レーザ光を出射する。エイミング光源１２は、治療スポットの位置（つまり、治療レーザ光が照射される位置）を示すエイミング光を出射する。本実施形態では、可視のレーザ光を出射する光源が、エイミング光源１２として用いられる。術者は、治療する部位にエイミング光の照準を合わせた状態で、治療レーザ光の照射指示をレーザ治療装置１に入力することで、患者眼Ｅの所望の部位に治療レーザ光を照射させる。

ビームスプリッタ１３は、治療レーザ光とエイミング光を合波する。本実施形態のビームスプリッタ１３は、治療レーザ光の大部分を反射し、且つエイミング光の一部を透過することで、治療レーザ光とエイミング光を合波する。集光レンズ１４は、ビームスプリッタ１３から入射するレーザ光を集光し、光ファイバ１９の入射端面に入射させる。なお、レーザ治療装置１は、治療レーザ光とエイミング光を合波せずに、別々の光路から患者眼Ｅに照射してもよい。

第１シャッタ１５および第２シャッタ１６は、異常時に光路を遮断することで、患者および術者等に対する安全性を高める。第１シャッタ１５は、治療レーザ光源１１とビームスプリッタ１３の間の光路に設けられている。第２シャッタ１６は、治療レーザ光およびエイミング光が共に導光される光路に設けられている。

本実施形態の治療レーザ光源１１は、患者眼Ｅの組織（本実施形態では眼底組織）に凝固斑を生じさせるエネルギーの治療レーザ光（光凝固治療用のレーザ光）と、凝固斑を生じさせるエネルギーよりも低いエネルギーを各スポットに加える治療レーザ光（低侵襲治療用のレーザ光）を、共に出射することができる。低侵襲治療用のレーザ光の態様は、適宜選択できる。例えば、治療レーザ光源１１は、治療レーザ光の出力、および、各スポットに治療レーザ光を照射する照射時間の少なくともいずれかを、光凝固治療用のレーザ光を出射する場合に比べて小さくすることで、低侵襲治療用のレーザ光を出射してもよい。また、レーザ治療装置１は、出力および照射時間（パルス幅）の少なくともいずれかが小さい治療レーザ光を、複数のスポットの各々に断続的に複数回照射することで、低侵襲治療を実行してもよい。

なお、本実施形態では、１つの治療レーザ光源１１が、光凝固治療用のレーザ光と低侵襲治療用のレーザ光を共に出射する。しかし、光凝固治療用のレーザ光を出射する治療レーザ光源と、低侵襲治療用のレーザ光を出射する治療レーザ光源が、別々に設けられてもよい。また、治療レーザ光源１１のゲイン媒体には、例えばＮｄ：ＹＡＧ、Ｎｄ：ＹＶＯ４、Ｎｄ：ＹＬＦ、Ｈｏ：ＹＡＧ、Ｅｒ：ＹＡＧ、Ｙｂ：ＹＡＧ、Ｙｂ：ＹＶＯ４等の周知の媒体を用いることができる。

＜照射光学系＞
照射光学系２０は、光源ユニット１０から入射したレーザ光（本実施形態では、光ファイバ１９を経て入射した治療レーザ光およびエイミング光）を、患者眼Ｅの組織（例えば、眼底、線維柱帯等）に照射する。本実施形態の照射光学系２０は、スリットランプ（図示せず）に装着されたデリバリである。照射光学系２０は、リレーレンズ２１、ズームレンズ２２、ミラー２３、コリメータレンズ２４、走査部３０、対物レンズ２５、および反射ミラー２６を備える。

ズームレンズ２２は、リレーレンズ２１から入射したレーザ光（本実施形態では治療レーザ光およびエイミング光）のスポットサイズを変更するために、レーザ光の光軸方向に移動する。ズームレンズ２２の位置は、エンコーダ２２Ａによって検出される。後述する制御ユニット４０のＣＰＵ４１は、エンコーダ２２Ａによって検出されるズームレンズ２２の位置に基づいて、組織に照射される治療レーザ光およびエイミング光のスポットサイズを検出する。なお、レーザ光のスポットサイズを変更するための構成を変更することも可能である。例えば、レーザ治療装置１は、倍率が異なる複数のレンズを備え、レーザ光の光軸に挿入するレンズを切り換えることでスポットサイズを変更してもよい。

ズームレンズ２２を経たレーザ光は、ミラー２３およびコリメータレンズ２４を介して走査部３０に入射する。走査部３０は、レーザ光（本実施形態では治療レーザ光およびエイミング光）を走査することで、組織におけるレーザ光の照射位置を移動させる（切り替える）。走査部３０を経たレーザ光は、対物レンズ２５を通り、反射ミラー２６によって反射され、コンタクトレンズＣＬを介して患者眼Ｅの組織に照射される。

走査部３０について説明する。図２に示すように、本実施形態の走査部３０は、第１ガルバノミラー（ガルバノスキャナ）３１および第２ガルバノミラー３５を備える。第１ガルバノミラー３１は、ミラー３２およびアクチュエータ３３を備える。ミラー３２の揺動軸はｙ軸方向に延びており、ミラー３２はレーザ光をｘ方向に走査する。第２ガルバノミラー３５は、ミラー３６およびアクチュエータ３７を備える。ミラー３６の揺動軸はｚ軸方向に延びており、ミラー３６はレーザ光をｙ方向に走査する。アクチュエータ３３，３７にはモータおよびポテンショメータが内蔵されている。後述するＣＰＵ４１は、ポテンショメータによって検出される位置情報に基づいて、２つのミラー３２，３６の各々を独立して揺動させる。その結果、レーザ光が二次元で走査される。

なお、本実施形態の走査部３０は、２つのガルバノミラー３１，３５によってレーザ光を走査させる。しかし、走査部３０の具体的な構成は変更してもよい。例えば、ポリゴンミラー、ＭＥＭＳスキャナ等を走査部３０に用いてもよい。また、ミラーの反射等を利用する代わりに、レーザ光を偏向させるデバイス（例えば、音響光学素子（ＡＯＭ）等）を走査部３０に用いてもよい。また、本実施形態の走査部３０は、治療レーザ光とエイミング光を共に走査させる。しかし、治療レーザ光を走査させる走査部と、エイミング光を走査させる走査部とを別々に設けることも可能である。

＜観察光学系・照明光学系＞
図１の説明に戻る。観察光学系３８は、ユーザ（例えば術者等）が患者眼Ｅを観察するために用いられる。本実施形態の観察光学系３８は、対物レンズ、変倍光学系、保護フィルタ、正立プリズム群、視野絞り、および接眼レンズ等を備える。照明光学系３９は、患者眼Ｅを照明する。本実施形態の照明光学系３９は、照明光源、コンデンサレンズ、スリット、および投影レンズ等を備え、スリット光によって患者眼Ｅを照明する。本実施形態では、観察光学系３８および照明光学系３９は、スリットランプである照射光学系２０に搭載されている。

＜制御ユニット＞
制御ユニット４０は、ＣＰＵ（プロセッサ）４１、ＲＯＭ４２、ＲＡＭ４３、および不揮発性メモリ４４等を備える。ＣＰＵ４１は、レーザ治療装置１における各種制御を司るコントローラ（制御部）の一例である。ＲＯＭ４２には、各種プログラム、初期値等が記憶されている。ＲＡＭ４３は、各種情報を一時的に記憶する。不揮発性メモリ４４は、電源の供給が遮断されても記憶内容を保持できる非一過性の記憶媒体である。例えば、制御ユニット４０に着脱可能に装着されるＵＳＢメモリ、フラッシュＲＯＭ等を、不揮発性メモリ４４として使用することができる。一例として、本実施形態では、レーザ治療制御処理（図４〜図６、図８、および図１０参照）を実行するためのレーザ治療制御プログラムは、ＲＯＭ４２または不揮発性メモリ４４に記憶されている。

制御ユニット４０には、治療レーザ光源１１、エイミング光源１２、エンコーダ２２Ａ、アクチュエータ３３，３７、フットスイッチ４６、および操作部５０等が接続されている。フットスイッチ４６は、術者によって踏み込まれることで、治療レーザ光の照射の開始指示を制御ユニット４０に入力する。なお、制御ユニット４０に照射開始指示を入力するための構成は変更してもよい。例えば、手で操作されるボタン、タッチパネル等を、照射開始指示の入力手段として用いてもよい。

＜操作部＞
操作部５０は、術者がレーザ治療装置１に対して各種指示を入力するために、術者によって操作される。本実施形態では、タッチパネル式のディスプレイ５２が操作されることで各種指示が入力される。しかし、キーボード、マウス、ボタン等が操作部５０に用いられてもよいことは言うまでもない。図１に示すディスプレイ５２の表示画面は、治療中に表示される画面の一例である。図１に示す表示画面には、配列パターン設定部５３、治療モード設定部５４、および枠表示設定部５５等が表示されている。

配列パターン設定部５３は、治療レーザ光の配列パターンおよび照射順の少なくともいずれかを設定するために、ユーザによって操作される。配列パターンとは、照射開始指示が１回入力される毎に治療レーザ光が照射されるスポットの配列のパターンである。つまり、配列パターンとは、１回の照射開始指示によって治療されるスポットの、患者眼の組織上での配置を示す。

図３は、配列パターン６０および領域表示枠７０（詳細は後述する）の一例を示す図である。図３では、縦３箇所×横３箇所の合計９箇所のスポット６１に治療レーザ光を照射するための配列パターン６０（３×３正方形パターン）が例示されている。本実施形態では、例えば、スポット６１が２×２の正方形状に並ぶ配列パターン６０、スポット６１が４×４の正方形状に並ぶ配列パターン６０、スポット６１を曲線状に並べる配列パターン６０、円弧状の配置をさらに径方向に複数並べて形成される扇形の配列パターン６０、スポット６１を直線状に並べる配列パターン６０等も予め用意されている。また、スポット６１が１つであるシングルパターンも用意されている。さらに、本実施形態では、ユーザは、配列パターン設定部５３を操作することで、所望の配列パターン６０を作成することも可能である。ユーザは、配列パターン設定部５３を操作することで、用意された１または複数の配列パターン６０から、治療に用いる配列パターン６０を指定することができる。制御ユニット４０のＣＰＵ４１は、指定された配列パターン６０を、治療に用いる配列パターン６０として設定する。

照射順は、配列パターン６０に含まれる複数のスポット６１の各々に対して実行される、治療レーザ光の照射順である。照射順は、各々の配列パターン６０毎に予め定められていてもよい。この場合、ユーザが配列パターン設定部５３を操作して、配列パターン６０を指定する指示をレーザ治療装置１に入力すると、ＣＰＵ４１は、指定された配列パターン６０に対して予め定められている照射順を、治療の際の照射順として設定してもよい。また、ユーザは、配列パターン設定部５３を操作することで、配列パターン６０に対応する照射順の変更指示または指定指示をレーザ治療装置１に入力することができる。変更指示または指定指示がユーザによって入力されると、ＣＰＵ４１は、入力された指示に応じて照射順を設定する。

図３では、説明のために、９箇所のスポット６１の各々の照射順がスポット内に便宜的に示されている。図３で例示する配列パターン６０では、照射順が最初（１番目）のスポット６１は、図中左上に位置する。照射順は、図中左上のスポット６１から右側のスポット６１へ２回移動した後、図中１段下のスポット６１へ移動する。その後、照射順は左側のスポット６１へ２回移動し、さらに１段下のスポット６１へ移動した後、右側のスポット６１へ２回移動する。従って、図３に例示する配列パターン６０では、照射順が最後のスポット６１は、図中右下のスポット６１となっている。

治療モード設定部５４は、治療を行う際のレーザ治療装置１のモードを設定するためにユーザによって操作される。本実施形態では、治療モードとして、光凝固治療モードと低侵襲治療モードを含む複数のモードが設けられている。光凝固治療モードでは、患者眼Ｅの組織に凝固斑を生じさせるエネルギーの治療レーザ光が、配列パターン６０に含まれる各スポット６１に照射される。低侵襲治療モードでは、凝固斑を生じさせるエネルギーよりも低いエネルギーの治療レーザ光が、各スポット６１に照射される。ユーザが治療モード設定部５４を操作して、治療モードを選択する指示をレーザ治療装置１に入力すると、ＣＰＵ４１は、選択された治療モードを設定する。なお、本実施形態では、前述した配列パターン６０は、光凝固治療モードおよび低侵襲治療モードのいずれにも用いられる。

枠表示設定部５５は、エイミング光による領域表示枠７０（図３参照）の表示をレーザ治療装置１に実行させるか否かを指定するために、ユーザによって操作される。領域表示枠７０は、患者眼Ｅの組織上で、複数のスポット６１を含む配列パターン６０の領域を示す。詳細は後述するが、本実施形態のレーザ治療装置１は、複数のスポット６１を含む配列パターン６０を囲む枠部７１の少なくとも一部（本実施形態では、枠部７１内に設定される複数の枠部内スポット７２）にエイミング光を繰り返し照射することで、領域表示枠７０をユーザに視認させることができる。ユーザが枠表示設定部５５を操作して、領域表示枠７０の表示の有無を選択する指示をレーザ治療装置１に入力すると、ＣＰＵ４１は、入力された指示に応じて、領域表示枠７０の表示の有無を設定する。なお、図３に示す例では、配列パターン６０に含まれるスポット６１の大きさと、枠部７１内に設定される枠部内スポット７２の大きさが異なる。しかし、スポット６１の大きさと枠部内スポット７２の大きさは同一でもよい。

（レーザ治療制御処理）
図４〜図１１を参照して、本実施形態のレーザ治療装置１が実行するレーザ治療制御処理について説明する。メイン処理（図４参照）、エイミング光照射制御処理（図５参照）、および照射順表現制御処理（図６、図８、および図１０参照）は、いずれもレーザ治療制御処理の一部である。レーザ治療制御処理は、記憶装置（例えば不揮発性メモリ４４等）に記憶されたレーザ治療制御プログラムに従って、ＣＰＵ４１によって実行される。ＣＰＵ４１は、患者眼Ｅの治療を開始する指示がユーザによって入力されると、図４に例示するメイン処理を開始する。

図４に示すように、ＣＰＵ４１は、メイン処理を開始すると、エイミング光照射制御処理（図５参照）を開始する（Ｓ１）。エイミング光照射制御処理は、メイン処理と並行して実行される。エイミング光照射制御処理では、患者眼Ｅの組織に対するエイミング光の照射が制御される。ユーザは、組織に照射されているエイミング光の位置を、所望の位置に合わせることで、治療レーザ光の照準を適切な位置に合わせることができる。エイミング光照射制御処理の詳細については後述する。

ＣＰＵ４１は、治療レーザ光の配列パターン６０および照射順（図３参照）の少なくともいずれかを設定する指示が入力されたか否かを判断する（Ｓ２）。入力されていなければ（Ｓ２：ＮＯ）、処理はＳ４へ移行する。配列パターン６０および照射順の少なくともいずれかを設定する指示が入力されると（Ｓ２：ＹＥＳ）、ＣＰＵ４１は、入力された指示に応じて、治療に使用する配列パターン６０および照射順を設定する（Ｓ３）。なお、Ｓ３の処理が実行されるまでは、デフォルトの配列パターン６０および照射順が使用されてもよい。

次いで、ＣＰＵ４１は、領域表示枠７０（図３参照）の表示の有無を指定する指示が入力されたか否かを判断する（Ｓ４）。入力されていなければ（Ｓ４：ＮＯ）、処理はＳ６へ移行する。領域表示枠７０の表示の有無を指定する指示が入力されると（Ｓ４：ＹＥＳ）、ＣＰＵ４１は、入力された指示に応じて、領域表示枠７０の有無を設定する（Ｓ５）。

次いで、ＣＰＵ４１は、治療モード（光凝固治療モードまたは低侵襲治療モード）を選択する指示が入力されたか否かを判断する（Ｓ６）。入力されていなければ（Ｓ６：ＮＯ）、処理はＳ９へ移行する。治療モードを選択する指示が入力されると（Ｓ６：ＹＥＳ）、ＣＰＵ４１は、実行する治療モードを、ユーザによって選択された治療モードに設定する（Ｓ７）。

次いで、治療レーザ光の照射を開始させる指示が入力されたか否かを判断する（Ｓ９）。前述したように、本実施形態では、ユーザは、フットスイッチ（図１参照）を操作することで、治療レーザ光の照射を開始させる指示を入力することができる。照射開始指示が入力されていなければ（Ｓ９：ＮＯ）、処理はそのままＳ１４へ移行する。

治療レーザ光の照射開始指示が入力されると（Ｓ９：ＹＥＳ）、ＣＰＵ４１は、エイミング光照射制御処理（図５参照）を中断し、組織に対するエイミング光の照射を一旦停止させる（Ｓ１０）。従って、ユーザは、治療レーザ光が照射される組織の状態を容易に把握することができる。次いで、ＣＰＵ４１は、治療レーザ光源１１および走査部３０の駆動を制御することで、設定されている配列パターン６０に含まれる複数のスポット６１の各々に、設定されている照射順に従って、治療レーザ光を順に照射する（Ｓ１１）。なお、Ｓ７で光凝固治療モードが設定されている場合には、Ｓ１１では、前述した光凝固治療用のレーザ光が各スポット６１に照射される。また、Ｓ７で低侵襲治療モードが設定されている場合には、Ｓ１１では、前述した低侵襲治療用のレーザ光が各スポット６１に照射される。配列パターン６０に含まれる全てのスポット６１に対する治療レーザ光の照射が完了すると、エイミング光照射制御処理（図５参照）が再開される。

次いで、ＣＰＵ４１は、処理を終了させる指示が入力されたか否かを判断する（Ｓ１４）。入力されていなければ（Ｓ１４：ＮＯ）、処理はＳ２へ戻り、Ｓ２〜Ｓ１４の処理が繰り返される。終了指示が入力されると（Ｓ１４：ＹＥＳ）、メイン処理は終了する。

図５を参照して、エイミング光照射制御処理について説明する。前述したように、エイミング光照射制御処理では、患者眼Ｅの組織に対するエイミング光の照射が制御される。ＣＰＵ４１は、エイミング光照射制御処理を開始すると、Ｓ３（図４参照）で配列パターン６０および照射順の少なくともいずれかが設定されたか否かを判断する（Ｓ２１）。設定されていなければ（Ｓ２１：ＮＯ）、処理はＳ２３へ移行する。配列パターン６０および照射順の少なくともいずれかが設定されると（Ｓ２１：ＹＥＳ）、ＣＰＵ４１は、Ｓ３で設定された内容に応じて、配列パターン６０および照射順を変更する（Ｓ２２）。従って、エイミング光の照射中に配列パターン６０および照射順が変更されると、変更された内容に応じて、エイミング光の照射位置等も変更される。

次いで、ＣＰＵ４１は、Ｓ４（図４参照）で設定されている領域表示枠７０の表示の有無を判断する（Ｓ２３）。領域表示枠７０を表示させる旨が設定されている場合（Ｓ２３：ＹＥＳ）、ＣＰＵ４１は、図３に示すように、治療に使用する配列パターン６０を囲む枠部７１の少なくとも一部（本実施形態では、枠部７１内に設定される複数の枠部内スポット７２）を、エイミング光を照射させる照射位置に追加する（Ｓ２４）。この場合、後述する照射順表現制御処理（図６、図８、および図１０参照）および一律照射制御処理（Ｓ２８）では、配列パターン６０に含まれる複数のスポット６１に加えて、枠部７１内にもエイミング光が高速で繰り返し照射される。その結果、領域表示枠７０の全体がユーザによって把握される。よって、ユーザは、配列パターン６０の領域をより容易に把握することができる。一方で、領域表示枠７０を表示させる旨が設定されていない場合（Ｓ２３：ＮＯ）、ＣＰＵ４１は、エイミング光の照射位置から、配列パターン６０を囲む枠部７１を除外する。この場合、配列パターン６０内のスポット６１にのみエイミング光が照射されるので、領域表示枠７０は表示されない。

次いで、ＣＰＵ４１は、光凝固治療モードおよび低侵襲治療モードのいずれが設定されているかを判断する（Ｓ２６）。治療モードとして低侵襲治療モードが設定されている場合（Ｓ２６：ＹＥＳ）、ＣＰＵ４１は、照射順表現制御処理（図６、図８、および図１０参照）を実行する（Ｓ２７）。詳細は後述するが、照射順表現制御処理では、配列パターン６０に含まれる複数のスポット６１の各々に対する治療レーザ光の照射順が、エイミング光によって表現される。一方で、治療モードとして光凝固治療モードが設定されている場合（Ｓ２６：ＮＯ）、ＣＰＵ４１は、一律照射制御処理を実行する（Ｓ２８）。一律照射制御処理では、ＣＰＵ４１は、配列パターン６０に含まれる複数のスポット６１の全てに対し、エイミング光を高速で繰り返し照射させる。この場合、ユーザは、複数のスポット６１の全ての位置を容易に把握することができる。なお、前述したように、領域表示枠７０を表示させる旨が設定されている場合には、全てのスポット６１に加えて、枠部７１内にもエイミング光が繰り返し照射される（図３参照）。

以上説明したように、本実施形態では、低侵襲治療モードで治療が実行される場合と、光凝固治療モードで治療が実行される場合で、照射順表現制御処理（Ｓ２７）と一律照射制御処理（Ｓ２８）が切り替えられる。従って、ユーザは、エイミング光の照射態様を把握することで、その時点で設定されている治療モードを確認することができる。よって、ユーザが意図しない治療が実行される可能性が低下する。

また、低侵襲治療モードで治療が実行される場合には、光凝固治療モードで治療が実行される場合に比べて、治療レーザ光の照射痕が組織に残らない（または残り難い）。つまり、低侵襲治療では、ユーザは、治療の跡を目視によって確認し難い。従って、複数のスポット６１の各々に対する低侵襲治療用のレーザ光の照射が途中で中断されてしまった場合等には、ユーザは、治療レーザ光が既に照射された部位と未だ照射されていない部位を区別し難い。本実施形態では、ＣＰＵ４１は、低侵襲治療モードが設定されている場合に照射順表現制御処理（Ｓ２７）を実行する。従って、ユーザは、低侵襲治療用のレーザ光の照射が途中で中断されてしまった場合等でも、治療レーザ光の照射順を把握することで、治療レーザ光が既に照射された部位と未だ照射されていない部位を区別し易い。

次いで、ＣＰＵ４１は、処理を終了させる指示が入力されたか否かを判断する（Ｓ２９）。入力されていなければ（Ｓ２９：ＮＯ）、処理はＳ２１へ戻り、Ｓ２１〜Ｓ２９の処理が繰り返される。終了指示が入力されると（Ｓ２９：ＹＥＳ）、エイミング光照射制御処理は終了する。

以下、図６〜図１２を参照して、第１〜第４照射順表現制御処理について説明する。ユーザは、第１〜第４照射順制御処理のうちのいずれかを選択する指示を、レーザ治療装置１に入力することができる。ＣＰＵ４１は、図５のＳ２７において、第１〜第４照射順制御処理のうちユーザによって選択されている処理を実行する。

以下では、複数の配列パターン６０のうち、図３に示す配列パターン６０（３×３正方形パターン）および照射順（図３において数字で示された順）が設定されている場合を例示して説明を行う。また、以下では、領域表示枠７０を表示させる旨が設定されていない場合を例示して説明を行う。なお、領域表示枠７０を表示させる旨が設定されている場合には、前述したように、エイミング光を繰り返し照射する照射位置には、配列パターン６０内のスポット６１に加えて枠部内スポット７２も含まれる。その結果、エイミング光によって領域表示枠７０（図３参照）が表現される。

また、以下説明する第１〜第４照射順制御処理では、配列パターン６０に含まれる複数のスポット６１のうち、１つまたは複数のスポット６１が第１スポット６１Ａ（図７、図９、図１１、および図１２参照）とされる。第１スポット６１Ａは、エイミング光の照射中に、Ｓ３で設定された照射順に従って順次切り替えられる。配列パターン６０に含まれる複数のスポット６１のうち、第１スポット６１Ａ以外のスポット６１は、第２スポット６１Ｂ（図７、図９、図１１、および図１２参照）とされる。

図６および図７を参照して、第１照射順表現制御処理について説明する。第１照射順表現制御処理では、配列パターン６０に含まれる複数のスポット６１のうち、Ｍ個（Ｍ≧１）の第１スポット６１Ａを除くＮ個（Ｎ＞Ｍ）の第２スポット６１Ｂの各々に、エイミング光が高速で繰り返し照射される。さらに、第１スポット６１Ａの位置が照射順に従って切り替えられることで、治療レーザ光の照射順が表現される。図６および図７では、第１スポット６１Ａの数が１つである場合を例示する。しかし、第１スポット６１Ａの数は２つ以上であってもよい。

図６に示すように、ＣＰＵ４１は、第１照射順表現制御処理を開始すると、配列パターン６０に含まれる複数のスポット６１のうち、第１スポット６１Ａを特定するためのカウンタＣを、「１」に設定する（Ｓ３１）。ＣＰＵ４１は、設定されている治療レーザ光の照射順がＣ番目のスポット６１（つまり、第１スポット６１Ａ）を、エイミング光の照射位置から除外する（Ｓ３２）。ＣＰＵ４１は、走査部３０およびエイミング光源１２の駆動を制御することで、複数のエイミング光の照射位置（領域表示枠７０を表示させない場合には、複数の第２スポット６１Ｂ）の各々に、エイミング光を高速で繰り返し照射させる（Ｓ３３）。なお、Ｓ３３において、１つの照射位置に対するエイミング光の照射が開始されてから、次の照射位置に対するエイミング光の照射が開始されるまでの時間間隔ｔは、十分に短い時間に設定される。その結果、図７に示すように、ユーザには、複数の第２スポット６１Ｂにエイミング光が略同時に照射されているように見える。一例として、本実施形態における時間間隔ｔは、各照射位置に対するレーザ光の照射時間（例えば約２０ｍｓ）と、走査部３０によって照射位置を次の位置に移動させる時間（例えば約２ｍｓ）の和となっている。

次いで、ＣＰＵ４１は、Ｃ番目以外の第２スポット６１Ｂに対するエイミング光の照射が開始された以後の経過時間が、時間Ｔに達したか否かを判断する（Ｓ３４）。時間Ｔの長さは、前述した時間間隔ｔよりも長い。時間Ｔが経過していなければ（Ｓ３４：ＮＯ）、Ｓ３３の処理が継続される。時間Ｔが経過すると（Ｓ３４：ＹＥＳ）、第１スポット６１Ａを特定するためのカウンタＣに「１」が加算される（Ｓ３５）。つまり、第１スポット６１Ａが、治療レーザ光の照射順に従って次のスポット６１に切り替えられる。

以上のように、時間Ｔは、第１スポット６１Ａを次の照射順のスポット６１に切り替える時間間隔となる。本実施形態では、時間Ｔは、Ｓ３３でエイミング光の照射位置を次の位置に切り替える時間間隔ｔよりも長い。従って、ユーザは、Ｓ３３でエイミング光が繰り返し照射される複数の第２スポット６１Ｂの位置を把握しつつ、第１スポット６１Ａが切り替えられる順番（つまり、治療レーザ光の照射順）を適切に把握することができる。一例として、本実施形態では、時間Ｔは約５００ｍｓに設定されている。つまり、第１スポット６１Ａの位置は約５００ｍｓ毎に移動し、第１スポット６１Ａの位置の移動が繰り返されることで、術者は治療レーザ光の照射順を把握できる。

次いで、ＣＰＵ４１は、第１スポット６１Ａを特定するためのカウンタＣの値が、配列パターン６０に含まれるスポット６１の数を超えたか否かを判断する（Ｓ３６）。カウンタＣの値がスポット６１の数を超えていなければ（Ｓ３６：ＮＯ）、処理はＳ３２へ戻り、Ｓ３２〜Ｓ３６の処理が繰り返される。

カウンタＣの値がスポット６１の数を超えた場合には（Ｓ３６：ＹＥＳ）、第１スポット６１Ａを最初の照射順のスポット６１から最後の照射順のスポット６１まで順に切り替える一連のサイクルが終了している。この場合、ＣＰＵ４１は、一律照射制御および一律非照射制御の少なくともいずれか（以下、単に「一律制御」という）を実行する（Ｓ３７）。一律照射制御では、配列パターン６０に含まれる複数のスポット６１の全てに、エイミング光が高速で（例えば時間間隔ｔで）繰り返し照射される。一律非照射制御処理では、配列パターン６０に含まれる複数のスポット６１の全てに対するエイミング光の照射が停止される。Ｓ３７の処理が開始された以後の経過時間が、時間Ｗ（Ｗ≧Ｔ）に到達するまで（Ｓ３８：ＮＯ）、Ｓ３７の処理が継続される。時間Ｗが経過すると（Ｓ３８：ＹＥＳ）、処理はＳ３１へ戻り、前述したサイクルが再び開始される。

以上のように、時間Ｗは、２つのサイクルの間に一律制御を実行する時間の長さとなる。時間Ｗの長さは、一律制御が実行されていることをユーザが把握することが可能な長さであればよい。ユーザは、２つのサイクルの間に実行される一律制御を把握することで、配列パターン６０に含まれる複数のスポット６１のうち、照射順が最初のスポット６１と最後のスポット６１を適切に把握することができる。一例として、本実施形態では、時間Ｗの長さは、時間Ｔの長さ以上に設定される。

図７を参照して、第１照射順表現制御処理が実行される場合にユーザが把握（本実施形態では、ユーザが観察光学系３８に設けられている接眼レンズを覗いて観察）する、エイミング光の照射状態の推移の一例について説明する。なお、図７、図９、図１１、および図１２に黒色で示したスポット６１は、残像効果によって、エイミング光が常に照射されているように見えるスポット６１である。点線で示したスポット６１には、エイミング光は照射されない。前述したように、第１照射順表現制御処理では、複数の第２スポット６１Ｂにのみエイミング光が繰り返し照射され、第１スポット６１Ａにはエイミング光は照射されない。従って、ユーザは、第１スポット６１Ａと第２スポット６１Ｂを、エイミング光によって容易に判別できる。第１スポット６１Ａは、治療レーザ光の照射順に従って順次切り替えられる。よって、ユーザは、第１スポット６１Ａが切り替えられる順番を把握することで、治療レーザ光の照射順を適切に把握することができる。

また、エイミング光が繰り返し照射される第２スポット６１Ｂの数Ｎは、第１スポット６１Ａの数Ｍよりも大きい。従って、ユーザは、配列パターン６０に含まれる複数のスポット６１の位置を把握し易く、且つ、治療レーザ光の照射順も把握し易い。

図８および図９を参照して、第２照射順表現制御処理について説明する。第２照射順表現制御処理では、配列パターン６０に含まれる複数のスポット６１のうち、ｎ個（ｎ≧２）の第２スポット６１Ｂを除くｍ個（１≦ｍ＜ｎ）の第１スポット６１Ａに、エイミング光が繰り返し、または継続して照射される。さらに、第１スポット６１Ａが照射順に従って切り替えられることで、治療レーザ光の照射順が表現される。図８および図９に示す例では、第１スポット６１Ａの数が１つである場合を例示する。しかし、第１スポット６１Ａの数は、前述した第１照射順表現制御処理と同様に１つであってもよいし、３つ以上であってもよい。なお、第２照射順表現制御処理に含まれる複数のステップのうち、前述した第１照射順表現制御処理と同様の処理を採用できるステップについては、説明を簡略化する。

図８に示すように、ＣＰＵ４１は、第２照射順表現制御処理を開始すると、配列パターン６０に含まれる複数のスポット６１のうち、第１スポット６１Ａを特定するためのカウンタＣを、「１」に設定する（Ｓ４１）。ＣＰＵ４１は、設定されている治療レーザ光の照射順がＣ番目のスポット６１とＣ−１番目のスポット６１（つまり、第１スポット６１Ａ）を、エイミング光の照射位置に追加する。なお、Ｓ４２の処理では、「Ｃ−１」の値が「０」となる場合には、Ｃ番目のスポット６１のみがエイミング光の照射位置に追加される。また、カウンタＣの値が、配列パターン６０に含まれるスポット６１の数よりも大きい場合には、Ｃ−１番目のスポット６１のみがエイミング光の照射位置に追加される。ＣＰＵ４１は、走査部３０およびエイミング光源１２の駆動を制御することで、複数のエイミング光の照射位置（領域表示枠７０を表示させない場合には、複数の第１スポット６１Ａ）の各々に、エイミング光を高速で（時間間隔ｔで）繰り返し照射させる（Ｓ４３）。

次いで、ＣＰＵ４１は、Ｓ４３の処理を開始した以後の経過時間が時間Ｔに達したか否かを判断する（Ｓ４４）。時間Ｔが経過していなければ（Ｓ４４：ＮＯ）、Ｓ４３の処理が継続される。時間Ｔが経過すると（Ｓ４４：ＹＥＳ）、第１スポット６１Ａを特定するためのカウンタＣに「１」が加算される（Ｓ３５）。

次いで、ＣＰＵ４１は、Ｃ−１の値が、配列パターン６０に含まれるスポット６１の数を超えたか否かを判断する（Ｓ４６）。Ｃ−１値がスポット６１の数を超えていなければ（Ｓ４６：ＮＯ）、処理はＳ４２へ戻り、Ｓ４２〜Ｓ４６の処理が繰り返される。

Ｃ−１の値がスポット６１の数を超えた場合には（Ｓ４６：ＹＥＳ）、第１スポット６１Ａを最初の照射順のスポット６１から最後の照射順のスポット６１まで順に切り替える一連のサイクルが終了している。この場合、ＣＰＵ４１は、前述した一律制御を実行する（Ｓ４７）。Ｓ４７の処理が開始された以後の経過時間が、時間Ｗ（Ｗ≧Ｔ）に到達するまで（Ｓ４８：ＮＯ）、Ｓ４７の処理が継続される。時間Ｗが経過すると（Ｓ４８：ＹＥＳ）、処理はＳ４１へ戻り、前述したサイクルが再び開始される。

図９を参照して、第２照射順表現制御処理が実行される場合にユーザが把握する、エイミング光の照射状態の推移の一例について説明する。第２照射順表現制御処理では、複数の第１スポット６１Ａにのみエイミング光が繰り返し照射され、第２スポット６１Ｂにはエイミング光は照射されない。従って、ユーザは、第１スポット６１Ａと第２スポット６１Ｂを、エイミング光によって容易に判別できる。第１スポット６１Ａは、治療レーザ光の照射順に従って順次切り替えられる。よって、ユーザは、第１スポット６１Ａが切り替えられる順番を把握することで、治療レーザ光の照射順を適切に把握することができる。また、ユーザは、第２スポット６１Ｂの数よりも少ない第１スポット６１Ａの切替順を把握することで、治療レーザ光の照射順をより適切に把握することができる。

図１０および図１１を参照して、第３照射順表現制御処理について説明する。第３照射順表現制御処理では、エイミング光が照射される小スポット６３（図１１参照）が、第１スポット６１Ａの領域内にＸ個、第２スポット６１Ｂの領域内にＹ個（Ｙ≠Ｘ）設定される。第１スポット６１Ａおよび第２スポット６１Ｂの各々の領域内に設定された複数の小スポット６３に、エイミング光が繰り返し照射される。さらに、第１スポット６１Ａが照射順に従って切り替えられることで、治療レーザ光の照射順が表現される。

図１０および図１１に示す例では、第１スポット６１Ａ内に設定される小スポット６３の数Ｘが４つ、第２スポット６１Ｂ内に設定される小スポット６３の数Ｙが１つである場合を例示する。しかし、第１スポット６１Ａおよび第２スポット６１Ｂの各々の領域内に設定される小スポット６３の数を変更することも可能である。例えば、第１スポット６１Ａ内に設定される小スポット６３の数Ｘが、第２スポット６１Ｂ内に設定される小スポット６３の数Ｙよりも少なくてもよい。また、図１０および図１１に示す例では、第１スポット６１Ａが１つ設定される。しかし、第１照射順表現制御処理および第２照射順表現制御処理と同様に、第１スポット６１Ａおよび第２スポット６１Ｂの数を変更することも可能である。なお、第３照射順表現制御処理に含まれる複数のステップのうち、前述した第１照射順表現制御処理および第２照射順表現制御処理と同様の処理を採用できるステップについては、説明を簡略化する。

図１０に示すように、ＣＰＵ４１は、第３照射順表現制御処理を開始すると、配列パターン６０に含まれる複数のスポット６１のうち、第１スポット６１Ａを特定するためのカウンタＣを、「１」に設定する（Ｓ５１）。ＣＰＵ４１は、設定されている治療レーザ光の照射順がＣ番目のスポット６１（つまり、第１スポット６１Ａ）内に、Ｘ個（図１０および図１１に示す例では４個）の小スポット６３を設定する（Ｓ５２）。ＣＰＵ４１は、配列パターン６０に含まれる複数のスポット６１のうち、Ｃ番目以外のスポット６１（つまり、第２スポット６１Ｂ）内に、Ｙ個（図１０および図１１に示す例では１個）の小スポット６３を設定する（Ｓ５３）。ＣＰＵ４１は、走査部３０およびエイミング光源１２の駆動を制御することで、複数のエイミング光の照射位置（領域表示枠７０を表示させない場合には、Ｓ５２およびＳ５３で設定された複数の小スポット６３）の各々に、エイミング光を高速で（時間間隔ｔで）繰り返し照射させる（Ｓ５４）。

次いで、ＣＰＵ４１は、Ｓ５４の処理を開始した以後の経過時間が時間Ｔに達したか否かを判断する（Ｓ５５）。時間Ｔが経過していなければ（Ｓ５５：ＮＯ）、Ｓ５４の処理が継続される。時間Ｔが経過すると（Ｓ５５：ＹＥＳ）、第１スポット６１Ａを特定するためのカウンタＣに「１」が加算される（Ｓ５６）。

次いで、ＣＰＵ４１は、カウンタＣの値が、配列パターン６０に含まれるスポット６１の数を超えたか否かを判断する（Ｓ５７）。カウンタＣの値がスポット６１の数を超えていなければ（Ｓ５７：ＮＯ）、処理はＳ５２へ戻り、Ｓ５２〜Ｓ５７の処理が繰り返される。

カウンタＣの値がスポット６１の数を超えた場合には（Ｓ５７：ＹＥＳ）、第１スポット６１Ａを最初の照射順のスポット６１から最後の照射順のスポット６１まで順に切り替える一連のサイクルが終了している。この場合、ＣＰＵ４１は、前述した一律制御を実行する（Ｓ５８）。Ｓ５８の処理が開始された以後の経過時間が、時間Ｗ（Ｗ≧Ｔ）に到達するまで（Ｓ５９：ＮＯ）、Ｓ５８の処理が継続される。時間Ｗが経過すると（Ｓ５９：ＹＥＳ）、処理はＳ５１へ戻り、前述したサイクルが再び開始される。

図１１を参照して、第３照射順表現制御処理が実行される場合にユーザが把握する、エイミング光の照射状態の推移の一例について説明する。第３照射順表現制御処理では、第１スポット６１Ａ内に設定される小スポット６３の数と、第２スポット６１Ｂ内に設定される小スポット６３の数が異なる。従って、ユーザは、第１スポット６１Ａと第２スポット６１Ｂを、エイミング光によって容易に判別できる。第１スポット６１Ａは、治療レーザ光の照射順に従って順次切り替えられる。よって、ユーザは、第１スポット６１Ａが切り替えられる順番を把握することで、治療レーザ光の照射順を適切に把握することができる。

図１２を参照して、第４照射順表現制御処理について説明する。第４照射順表現制御処理では、複数のスポット６１に含まれる第１スポット６１Ａの数が、照射順に従って順次増加される。なお、第４照射順表現制御処理と、前述した第１照射順表現制御処理（図６参照）は、Ｓ３２で実行される処理内容が異なるのみである。つまり、ＣＰＵ４１は、第４照射順表現制御処理のＳ３２において、設定されている治療レーザ光の照射順がＣ番目のスポット６１（第１スポット６１Ａ）を、エイミング光の照射位置に追加する。

図１２に示すように、第４照射順表現制御処理が実行されると、第１スポット６１が、照射順に従って順次増加する。よって、ユーザは、第１スポット６１Ａが増加する順番を把握することで、治療レーザ光の照射順を適切に把握することができる。なお、図１２に示す例では、第１スポット６１Ａにエイミング光が照射され、第２スポット６１Ｂにはエイミング光が照射されない。しかし、第１スポット６１Ａと第２スポット６１Ｂに対するエイミング光の照射方法を変更することも可能である。例えば、ＣＰＵ４１は、第１スポット６１Ａにエイミング光を照射せず、第２スポット６１Ｂにエイミング光を照射してもよい。

上記実施形態で開示された技術は一例に過ぎない。従って、上記実施形態で例示された技術を変更することも可能である。例えば、上記実施形態で例示された複数の技術のうちの一部のみを実行することも可能である。領域表示枠７０（図３参照）をエイミング光によって表示させる処理（図５のＳ２３，Ｓ２４）は省略されてもよい。また、照射順表現制御処理と一律照射制御処理を使い分けるための処理（図５のＳ２６〜Ｓ２８）を省略することも可能である。

なお、図４のＳ３で配列パターン６０および照射順を設定する処理は、「パターン設定ステップ」の一例である。図５、図６、図８、および図１０で複数のスポット６１の各々にエイミング光を照射する処理は、「エイミング光照射ステップ」の一例である。図５、図６、図８、および図１０で照射順をユーザに呈示する処理は、「照射順呈示ステップ」の一例である。

１ レーザ治療装置
１１ 治療レーザ光源
１２ エイミング光源
３０ 走査部
４１ ＣＰＵ
４４ 不揮発性メモリ
６０ 配列パターン
６１ スポット
６１Ａ 第１スポット
６１Ｂ 第２スポット
７１ 枠部

Claims (13)

1. 患者眼の組織に治療レーザ光を照射するレーザ治療装置であって、
   治療レーザ光を出射する治療レーザ光源と、
   治療レーザ光を走査し、患者眼の組織上で治療レーザ光が照射される位置を切り替える走査部と、
   制御部と、
   を備え、
   前記制御部は、
   治療レーザ光を照射する複数のスポットの配列パターン、および、前記配列パターンに含まれる前記複数のスポットの各々に対する治療レーザ光の照射順を設定するパターン設定ステップと、
   前記パターン設定ステップにおいて設定された、前記配列パターンに含まれる前記複数のスポットの各々に対する治療レーザ光の照射順を、治療レーザ光の照射前にユーザに呈示する照射順呈示ステップと、
   を実行することを特徴とするレーザ治療装置。
2. 請求項１に記載のレーザ治療装置であって、
   治療レーザ光が照射される位置を示すエイミング光を出射するエイミング光源をさらに備え、
   前記走査部は、治療レーザ光およびエイミング光を走査し、患者眼の組織上で治療レーザ光およびエイミング光が照射される位置を切り替えると共に、
   前記制御部は、
   少なくとも前記走査部の駆動を制御することで、設定された前記配列パターンに含まれる前記複数のスポットの各々にエイミング光を順次照射するエイミング光照射ステップを実行し、
   前記エイミング光照射ステップにおいて、エイミング光を用いて前記照射順呈示ステップを実行することを特徴とするレーザ治療装置。
3. 請求項２に記載のレーザ治療装置であって、
   前記制御部は、前記エイミング光照射ステップにおいて、
   前記配列パターンに含まれる前記複数のスポットのうち、１つまたは複数の第１スポットと、前記第１スポット以外の第２スポットとの間で、エイミング光の照射方法または照射の有無を異ならせると共に、
   エイミング光の照射中に、前記複数のスポット中の前記第１スポットを、設定されている前記照射順に従って順次切り替えることを特徴とするレーザ治療装置。
4. 請求項３に記載のレーザ治療装置であって、
   前記制御部は、前記エイミング光照射ステップにおいて、
   前記配列パターンに含まれる前記複数のスポットのうち、Ｍ個（Ｍ≧１）の前記第１スポットを除くＮ個（Ｎ＞Ｍ）の前記第２スポットの各々にエイミング光を繰り返し照射すると共に、
   前記第１スポットを、設定されている前記照射順に従って順次切り替えることを特徴とするレーザ治療装置。
5. 請求項３に記載のレーザ治療装置であって、
   前記制御部は、前記エイミング光照射ステップにおいて、
   前記配列パターンに含まれる前記複数のスポットのうち、ｎ個（ｎ≧２）の第２スポットを除くｍ個（１≦ｍ＜ｎ）の前記第１スポットにエイミング光を照射すると共に、
   前記第１スポットを、設定されている前記照射順に従って順次切り替えることを特徴とするレーザ治療装置。
6. 請求項３に記載のレーザ治療装置であって、
   エイミング光が照射される小スポットが、前記第１スポットの領域内にＸ個、前記第２スポットの領域内にＹ個（Ｙ≠Ｘ）設定されており、
   前記制御部は、前記エイミング光照射ステップにおいて、前記第１スポットおよび前記第２スポットの各々の領域内の複数の前記小スポットに、エイミング光を繰り返し照射すると共に、
   前記第１スポットを、設定されている照射順に従って順次切り替えることを特徴とするレーザ治療装置。
7. 請求項３に記載のレーザ治療装置であって、
   前記制御部は、前記エイミング光照射ステップにおいて、前記複数のスポット中の前記第１スポットの数を、設定されている前記照射順に従って順次増加させていくことを特徴とするレーザ治療装置。
8. 請求項３から７のいずれかに記載のレーザ治療装置であって、
   前記第１スポットを前記照射順に従って次の順に切り替える時間間隔が、前記走査部によってエイミング光の照射位置を次の位置に切り替える時間間隔よりも長いことを特徴とするレーザ治療装置。
9. 請求項３から８のいずれかに記載のレーザ治療装置であって、
   前記制御部は、前記エイミング光照射ステップにおいて、
   前記第１スポットおよび前記第２スポットの少なくともいずれかに加えて、設定された前記配列パターンを囲む枠部の少なくとも一部にエイミング光を繰り返し照射させることを特徴とするレーザ治療装置。
10. 請求項３から９のいずれかに記載のレーザ治療装置であって、
    前記制御部は、前記エイミング光照射ステップにおいて、
    前記第１スポットを前記照射順に従って順次切り替える照射順表現制御と、前記配列パターンに含まれる前記複数のスポットの全てに同一の条件でエイミング光を繰り返し照射させる一律照射制御とを、選択的に実行することを特徴とするレーザ治療装置。
11. 請求項１０に記載のレーザ治療装置であって、
    前記制御部は、
    前記組織に凝固斑を生じさせるエネルギーで、治療レーザ光を複数の前記スポットの各々に照射させる光凝固治療制御と、前記光凝固治療制御におけるエネルギーよりも低いエネルギーで、治療レーザ光を複数の前記スポットの各々に照射させる低侵襲治療制御とを選択的に実行すると共に、
    前記光凝固治療制御を実行する場合と前記低侵襲治療制御を実行する場合で、前記照射順表現制御と前記一律照射制御を切り替えることを特徴とするレーザ治療装置。
12. 請求項３から１１のいずれかに記載のレーザ治療装置であって、
    前記制御部は、前記エイミング光照射ステップにおいて、
    前記複数のスポット中の前記第１スポットを、設定されている前記照射順のうち最初の照射順から最後の照射順まで順に切り替える一連のサイクルが終了した後、次の前記サイクルを開始させるまでの間に、前記配列パターンに含まれる前記複数のスポットの全てに同一の条件でエイミング光を繰り返し照射させる一律照射制御、および、前記複数のスポットの全てに対するエイミング光の照射を停止させる一律非照射制御の少なくともいずれかを実行することを特徴とするレーザ治療装置。
13. 患者眼の組織に治療レーザ光を照射するレーザ治療装置によって実行されるレーザ治療制御プログラムであって、
    前記レーザ治療装置は、
    治療レーザ光を出射する治療レーザ光源と、
    治療レーザ光を走査し、患者眼の組織上で治療レーザ光が照射される位置を切り替える走査部と、
    制御部と、
    を備え、
    前記レーザ治療制御プログラムが前記制御部によって実行されることで、
    治療レーザ光を照射する複数のスポットの配列パターン、および、前記配列パターンに含まれる前記複数のスポットの各々に対する治療レーザ光の照射順を設定するパターン設定ステップと、
    前記パターン設定ステップにおいて設定された、前記配列パターンに含まれる前記複数のスポットの各々に対する治療レーザ光の照射順を、治療レーザ光の照射前にユーザに呈示する照射順呈示ステップと、
    を前記レーザ治療装置に実行させることを特徴とするレーザ治療制御プログラム。
    
    

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