JP5956883B2 - レーザ治療装置 - Google Patents

Description

この発明は、眼科分野で用いられるレーザ治療装置に関する。

レーザ治療装置は網膜の光凝固治療などに用いられる。レーザ治療装置において、所定パターンの照準光を用いて網膜の所望の領域に照準を合わせた後、この照準パターンの少なくとも一部からなる治療位置に対してレーザ光を照射するよう構成されたものが知られている（たとえば特許文献１、２を参照）。

特許第４３７７４０５号 特表２００９−５１４５６４号公報

レーザ治療装置を用いたレーザ治療において、術者は、被検眼に当接されるコンタクトレンズの保持、観察野の調整、レーザの照射位置の調整、レーザの照射指示など、様々な操作を行う必要がある。これらの操作を並行して行うことは非常に煩雑である。

この発明の目的は、レーザ治療装置の操作の容易化を図ることにある。

上記目的を達成するために、請求項１に記載のレーザ治療装置は、被検眼の眼底を照明する照明系と、照明された眼底を観察するための観察系と、所定パターンの照準光、及び、前記所定パターンに基づくパターンのレーザ光からなる治療光を、眼底に照射する照射系と、前記照明系による眼底の照明範囲を変更するための照明範囲変更部と、前記照射系による前記照準光及び／又は前記治療光の照射条件を設定する照射条件設定部と、設定された照射条件に基づき前記照明範囲変更部を制御して前記照明範囲を変更する制御部とを有するレーザ治療装置である。
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のレーザ治療装置であって、前記照射条件は、前記所定パターンにおけるスポットの配列、前記所定パターンのサイズ、前記所定パターンの向き、前記所定パターンにおけるスポットのサイズ、及び、前記所定パターンにおけるスポットの間隔のうち、１つ以上の条件を含むことを特徴とする。
また、請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載のレーザ治療装置であって、前記照射条件設定部は、眼底に対する前記照準光の照射位置を移動するための操作部を含み、前記制御部は、前記操作部を用いた照射位置の移動操作に対応して前記照明範囲の変更を行うことを特徴とする。
また、請求項４に記載の発明は、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載のレーザ治療装置であって、前記照明範囲変更部は、前記照明系に設けられた絞り部材を含むことを特徴とする。
また、請求項５に記載の発明は、請求項４に記載のレーザ治療装置であって、前記絞り部材は、互いの間隔を変更可能な一対のスリット刃を有するスリット絞りを含むことを特徴とする。
また、請求項６に記載の発明は、請求項５に記載のレーザ治療装置であって、前記一対のスリット刃の間隔を維持した状態で前記一対のスリット刃を移動させる駆動部を有することを特徴とする。
また、請求項７に記載の発明は、請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載のレーザ治療装置であって、前記照明範囲変更部は、前記照明系に設けられた液晶シャッタを含むことを特徴とする。
また、請求項８に記載の発明は、請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載のレーザ治療装置であって、前記照明範囲変更部は、眼底を照明するための光を発生する面光源を含み、前記制御部は、前記面光源の発光面における発光領域を変更することにより前記照明範囲の変更を行うことを特徴とする。
また、請求項９に記載の発明は、請求項１〜請求項８のいずれか一項に記載のレーザ治療装置であって、前記制御部は、前記照射条件と前記照明範囲とが対応付けられた対応情報を予め記憶する記憶部と、前記照射条件設定部により設定された照射条件に対応する照明範囲を前記対応情報に基づいて特定する照明範囲特定部とを有し、特定された照明範囲に基づいて前記照明範囲の変更を行うことを特徴とする。
また、請求項１０に記載の発明は、被検眼の眼底を照明する照明系と、照明された眼底を撮影する撮影系と、所定パターンの照準光、及び、前記所定パターンに基づくパターンのレーザ光からなる治療光を、眼底に照射する照射系とを有し、前記照明系は、眼底の照明範囲を変更するための照明範囲変更部を含み、前記照準光又は前記治療光が照射された状態の眼底を前記撮影系により撮影して得られた撮影画像を解析して、前記照準光又は前記治療光の照射位置を特定する照射位置特定部と、前記照射位置の特定結果に基づき前記照明範囲変更部を制御して前記照明範囲を変更する制御部とを有するレーザ治療装置である。

この発明に係るレーザ治療装置によれば、レーザ治療装置の操作の容易化を図ることが可能である。

実施形態に係るレーザ治療装置の構成例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置の構成例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置による照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置による照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置による照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置による照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置による照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置による照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置による照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置による照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置による照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置による照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置による照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置による照射光のパターンの例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置の構成例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置の構成例を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置の動作例を示すフローチャートである。 実施形態に係るレーザ治療装置の変形例の構成を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置の変形例の構成を示す概略図である。 実施形態に係るレーザ治療装置の変形例の構成を示す概略図である。

この発明に係るレーザ治療装置の実施形態の一例について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下の実施形態において、上記特許文献に記載された技術を任意に援用することが可能である。

方向を定義しておく。装置光学系から患者に向かう方向を前方向とし、その逆方向を後方向とする。また、前方向に直交する水平方向を左右方向とする。更に、前後方向と左右方向の双方に直交する方向を上下方向とする。

［構成］
この実施形態に係るレーザ治療装置１の構成の一例を図１に示す。レーザ治療装置１は、被検眼Ｅの眼底Ｅｆに対してレーザ治療を施すために使用される。レーザ治療装置１は、光源ユニット２と、スリットランプ３と、光ファイバ４と、処理ユニット５と、操作ユニット６とを有する。なお、スリットランプ３に代えて、手術用顕微鏡や、倒像鏡や、眼内挿入タイプの観察装置などを用いてもよい。

光源ユニット２とスリットランプ３は、光ファイバ４を介して光学的に接続されている。光ファイバ４は、１つ以上の導光路を有する。光源ユニット２と処理ユニット５は、信号を伝送可能に接続されている。スリットランプ３と処理ユニット５は、信号を伝送可能に接続されている。操作ユニット６と処理ユニット５は、信号を伝送可能に接続されている。信号の伝送形態は有線でも無線でもよい。

処理ユニット５は、ハードウェアとソフトウェアとの協働によって動作するコンピュータである。処理ユニット５が実行する処理については後述する。操作ユニット６は、各種のハードウェアキー及び／又はソフトウェアキー（ＧＵＩ）を含んで構成される。ハードウェアキーの例として、スリットランプ３に設けられたボタン・ハンドル・ノブや、スリットランプ３に接続されたコンピュータ（処理ユニット５等）に設けられたキーボード・ポインティングデバイス（マウス・トラックボール等）や、別途に設けられたフットスイッチ・操作パネルなどがある。ソフトウェアキーは、たとえばスリットランプ３や上記コンピュータに設けられた表示デバイスに表示される。

（光源ユニット２）
光源ユニット２は、眼底Ｅｆに照射される光を発生する。光源ユニット２は、照準光源２ａと、治療光源２ｂと、ガルバノミラー２ｃと、遮光板２ｄとを有する。なお、図１に示す部材以外の部材を光源ユニット２に設けることができる。たとえば、光ファイバ４の直前位置に、光源ユニット２により発生された光を光ファイバ４の端面に入射させる光学素子（レンズ等）を設けることができる。

（照準光源２ａ）
照準光源２ａは、レーザ治療を施す部位に照準を合わせるための照準光ＬＡを発生する。照準光源２ａとしては任意の光源が用いられる。たとえば、眼底Ｅｆを目視観察しつつ照準を合わせる構成が適用される場合、術者眼Ｅ_０により認識可能な可視光を発する光源（レーザ光源、発光ダイオード等）が照準光源２ａとして用いられる。また、眼底Ｅｆの撮影画像を観察しつつ照準を合わせる構成が適用される場合、撮影画像を取得するための撮像素子が感度を有する波長帯の光を発する光源（レーザ光源、発光ダイオード等）が照準光源２ａとして用いられる。照準光ＬＡは、ガルバノミラー２ｃに導かれる。照準光源２ａの動作は、処理ユニット５により制御される。

（治療光源２ｂ）
治療光源２ｂは、治療用のレーザ光（治療光ＬＴ）を発する。治療光ＬＴは、その用途に応じて可視レーザ光でも不可視レーザ光でもよい。また、治療光源２ｂは、異なる波長のレーザ光を発する単一のレーザ光源又は複数のレーザ光源であってよい。治療光ＬＴは、ガルバノミラー２ｃに導かれる。治療光源２ｂの動作は、処理ユニット５により制御される。

（ガルバノミラー２ｃ）
ガルバノミラー２ｃは、反射面を有するミラーと、ミラーの向き（反射面の向き）を変更するアクチュエータとを含んで構成される。照準光ＬＡと治療光ＬＴは、ガルバノミラー２ｃの反射面の同じ位置に到達するようになっている。なお、照準光ＬＡと治療光ＬＴをまとめて「照射光」と呼ぶことがある。ガルバノミラー２ｃ（の反射面）の向きは、少なくとも、照射光を光ファイバ４に向けて反射させる向き（照射用向き）と、照射光を遮光板２ｄに向けて反射させる向き（停止用向き）とに変更される。ガルバノミラー２ｃの動作は、処理ユニット５により制御される。

（遮光板２ｄ）
ガルバノミラー２ｃが停止用向きに配置されている場合、照射光は遮光板２ｄに到達する。遮光板２ｄは、たとえば照射光を吸収する材質及び／又は形態からなる部材であり、遮光作用を有する。

この実施形態では、照準光源２ａと治療光源２ｂは、それぞれ連続的に光を発生する。そして、ガルバノミラー２ｃを照射用向きに配置させることで、照射光を被検眼Ｅに照射させる。また、ガルバノミラー２ｃを停止用向きに配置させることで、被検眼Ｅに対する照射光の照射を停止させる。

（スリットランプ３）
スリットランプ３は、被検眼Ｅの前眼部及び眼底Ｅｆの観察に用いられる装置である。より詳しく説明すると、スリットランプ３は、被検眼Ｅをスリット光で照明し、この照射野を拡大観察するための眼科装置である。なお、「観察」には、肉眼での観察と、撮像素子による撮影画像の観察の一方又は双方が含まれる。この実施形態では肉眼観察を行う場合について説明するが、撮影画像を観察する場合には、従来のスリットランプと同様の画像撮影用の光学系（撮影系）が設けられる。

スリットランプ３は、照明部３ａと、観察部３ｂと、接眼部３ｃと、レーザ照射部３ｄとを有する。照明部３ａには、図２に示す照明系１０が格納されている。観察部３ｂと接眼部３ｃには、観察系３０が格納されている。レーザ照射部３ｄには、レーザ照射系５０が格納されている。

図示は省略するが、スリットランプ３には、従来と同様に、レバー、ハンドル、ボタン、ノブ等の操作部材が設けられている。これら操作部材は、機能的に操作ユニット６に含まれる。なお、図１に示す構成では、操作ユニット６からの信号を受けた処理ユニット５がスリットランプ３を制御するようになっているが、このような電気的な駆動力を用いて動作する機構だけでなく、操作者が印加した駆動力を用いて動作する機構を適用することもできる。

（スリットランプ３の光学系）
図２を参照してスリットランプ３の光学系について説明する。なお、図２には、眼底Ｅｆのレーザ治療に用いられるコンタクトレンズＣＬが示されている。スリットランプ３は、照明系１０と、観察系３０と、レーザ照射系５０とを有する。

（照明系１０）
照明系１０は、被検眼Ｅを観察するための照明光を出力する。照明部３ａは、照明系１０の光軸（照明光軸）１０ａの向きを左右方向及び上下方向に変更可能に構成されている。それにより、被検眼Ｅの照明方向を任意に変更することができる。

照明系１０は、光源１１と、集光レンズ１２と、フィルタ１３、１４及び１５と、スリット絞り１６と、結像レンズ１７、１８及び１９と、偏向部材２０とを有する。

光源１１は照明光を出力する。なお、照明系１０に複数の光源を設けてもよい。たとえば、定常光を出力する光源（ハロゲンランプ、ＬＥＤ等）と、フラッシュ光を出力する光源（キセノンランプ、ＬＥＤ等）の双方を光源１１として設けることができる。また、角膜観察用の光源と眼底観察用の光源とを別々に設けてもよい。集光レンズ１２は、光源１１から出力された光を集めるレンズ（系）である。光源１１の動作は、処理ユニット５により制御される。

フィルタ１３〜１５は、それぞれ、照明光の特定の成分を除去又は弱める作用を持つ光学素子である。フィルタ１３〜１５としては、たとえば、ブルーフィルタ、無赤色フィルタ、減光フィルタ、防熱フィルタ、角膜蛍光フィルタ、色温度変換フィルタ、演色性変換フィルタ、紫外線カットフィルタ、赤外線カットフィルタなどがある。各フィルタ１３〜１５は、照明光の光路に対して挿脱可能とされている。フィルタ１３〜１５の挿脱は、処理ユニット５により制御される。

スリット絞り１６は、スリット光（細隙光）を生成するためのスリットを形成する。スリット絞り１６は、一対のスリット刃を有する。これらスリット刃の間隔を変更することによりスリット幅が変更される。なお、スリット絞り１６以外の絞り部材を照明系１０に設けることができる。この絞り部材の例として、照明光の光量を変更するための照明絞りや、照明野のサイズを変更するための照明野絞りなどがある。また、これら絞り部材以外の部材を用いて照明光の光量や照射野のサイズを変更することが可能である。このような部材の例として後述の液晶シャッタがある。スリット絞り１６、照明絞り、照明野絞り、及び液晶シャッタのそれぞれの動作は、処理ユニット５により制御される。

結像レンズ１７、１８及び１９は、照明光の像を形成するためのレンズ系である。偏向部材２０は、結像レンズ１７、１８及び１９を経由した照明光を偏向して被検眼Ｅに照射させる。偏向部材２０としては、たとえば反射ミラー又は反射プリズムが用いられる。

上記以外の部材を照明系１０に設けることができる。たとえば、偏向部材２０の後段に、拡散板を挿脱可能に設けることができる。拡散板は、照明光を拡散することにより、照明野の明るさを一様にする。また、照明光による照明野の背景領域を照明する背景光源を設けることができる。

（観察系３０）
観察系３０は、被検眼Ｅによる照明光の反射光を術者眼Ｅ_０に案内する光学系である。観察系３０は、左右両眼での観察を可能とする左右一対の光学系を有する。左右の光学系は実質的に同一の構成を有するので、図２には一方の光学系のみが示されている。

観察部３ｂは、観察系３０の光軸（観察光軸）３０ａの向きを左右方向及び上下方向に変更可能に構成されている。それにより、被検眼Ｅの観察方向を任意に変更することができる。

観察系３０は、対物レンズ３１と、変倍レンズ３２及び３３と、保護フィルタ３４と、結像レンズ３５と、偏向部３６と、視野絞り３７と、接眼レンズ３８とを有する。

対物レンズ３１は、被検眼Ｅに対峙する位置に配置される。変倍レンズ３２及び３３は、変倍光学系（ズームレンズ系）を構成する。各変倍レンズ３２及び３３は、観察光軸３０ａに沿って移動可能とされている。変倍光学系の他の例として、観察系３０の光路に対して選択的に挿入可能な複数の変倍レンズ群を設けることができる。これら変倍レンズ群は、それぞれ異なる倍率を付与するように構成されている。観察系３０の光路に配置された変倍レンズ群が変倍レンズ３２及び３３として用いられる。このような変倍光学系により、被検眼Ｅの肉眼観察像や撮影画像の倍率（画角）を変更できる。倍率の変更は、たとえば、操作ユニット６に含まれる観察倍率操作ノブを操作することにより行われる。また、処理ユニット５が、操作ユニット６に含まれるスイッチ等による操作に基づいて、倍率を制御するようにしてもよい。

保護フィルタ３４は、被検眼Ｅに照射される治療光ＬＴを遮蔽するフィルタである。それにより、術者眼Ｅ_０をレーザ光から保護することができる。保護フィルタ３４は、たとえば、レーザ治療（又はレーザ出力）の開始トリガに対応して光路に挿入される。通常の観察時には、保護フィルタ３４は光路から退避される。保護フィルタ３４の挿脱は、処理ユニット５により制御される。また、見かけ上の色味の変化を減少させる多層膜構造のフィルタを用いることも可能である。その場合、このフィルタを常に光路に配置させておくことができる。

結像レンズ３５は、被検眼Ｅの像を結ばせるレンズ（系）である。偏向部３６は、光の進行方向を術者の眼幅に合わせるように平行移動させる光学部材であり、プリズム３６ａ及び３６ｂを含んで構成される。接眼レンズ３７は偏向部３６と一体的に移動する。偏向部３６と接眼レンズ３７は接眼部３ｃに格納されている。観察系３０における他の部材は、観察部３ｂに格納されている。

（レーザ照射系５０）
レーザ照射系５０は、光源ユニット２から光ファイバ４を介してスリットランプ３に伝送された照射光を被検眼Ｅに導く光学系である。

レーザ照射系５０は、コリメータレンズ５１と、ガルバノスキャナ５２と、ミラー５３と、リレーレンズ５４及び５５と、ミラー５６と、コリメータレンズ５７と、偏向部材５８とを有する。

コリメータレンズ５１は、光ファイバ４から出力された照射光を平行光束にする。ガルバノスキャナ５２は、照射光を２次元的に偏向する。ガルバノスキャナ５２は、たとえば、照射光を左右方向に偏向するためのガルバノミラーと、照明光を上下方向に偏向するためのガルバノミラーとを含む。これらガルバノミラーは、反射面の偏向可能方向が互いに直交している。これらガルバノミラーの向きをそれぞれ独立に変更することで、照射光の２次元的な偏向が実現される。ガルバノスキャナ５２の動作は、処理ユニット５により制御される。

ミラー５３は、ガルバノスキャナ５２を経由した照射光を反射して、その進行方向を変える。リレーレンズ５４及び５５は、ミラー５３により反射された照射光をリレーする。ミラー５６は、リレーレンズ５４及び５５を経由した照射光を反射して、その進行方向を変える。コリメータレンズ５７は、リレーレンズ５４及び５５を経由した照射光を平行光束にする。偏向部材５８は、対物レンズ３１の後方に配置され、コリメータレンズ５７を経由した照射光を偏向して被検眼Ｅに照射させる。

［照射光のパターン］
照射光のパターンについて説明する。照射光のパターンには様々な条件（照射条件）がある。照射光の投影像をスポットと呼ぶ。照射条件としては、複数のスポットの配列（配列条件）、配列のサイズ（配列サイズ条件）、配列の向き（配列方向条件）、各スポットのサイズ（スポットサイズ条件）、スポットの間隔（スポット間隔条件）などがある。その他、スポットの個数（スポット数条件）なども考えられるが、他の条件（の組み合わせ）と実質的に同一視することができる。

配列条件は、複数のスポットがどのように配列されているかを示す条件である。配列条件には、たとえば上記特許文献に記載されているように、様々なものがある。その具体例として、円状配列（図３Ａ）、楕円状配列（図３Ｂ）、矩形状配列（図３Ｃ）、弧状配列（図３Ｄ）、直線状配列（図３Ｅ）、円板状配列（図３Ｆ）、楕円板状配列（図３Ｇ）、矩形板状配列（図３Ｈ）、扇形板状配列（図３Ｉ）、幅の有る円状配列（円環状配列（図３Ｊ））、幅の有る弧状配列（円環状配列の一部：部分円環状配列（図３Ｋ））、幅の有る直線状配列（帯状配列（図３Ｌ））などがある。また、ユーザが任意に配列を設定できるように構成することも可能である。また、複数の配列を組み合わせて使用することも可能である（たとえば特許文献１の図６（ｈ））。配列条件は、ガルバノスキャナ５２の制御に用いられる。

配列サイズ条件は、或る配列において、その配列をどのようなサイズで投影するかを示す条件である。たとえば、円状配列において、そのサイズ（たとえば径）を示すパラメータが配列サイズ条件である。配列サイズ条件については、これを任意に設定できるように構成してもよいし、これの選択肢（たとえば大、中、小）を設けるように構成してもよい。配列サイズ条件は、ガルバノスキャナ５２の制御に用いられる。

配列方向条件は、或る配列において、その配列をどのような向きで投影するかを示す条件である。たとえば、弧状配列の向きを示すパラメータが配列方向条件である。配列方向条件については、これを任意に設定できるように構成してもよいし、これの選択肢（たとえば上向き、下向き、左向き、右向き）を設けるように構成してもよい。配列方向条件は、ガルバノスキャナ５２の制御に用いられる。

スポットサイズ条件は、各スポットをどの程度のサイズで投影するかを示す条件である。たとえば、円状配列において、各スポットの投影サイズ（径、面積、周囲長等）を変更することで、異なるパターンの円状配列を適用することができる。スポットサイズ条件については、これを任意に設定できるように構成してもよいし、これの選択肢（たとえば大、中、小）を設けるように構成してもよい。なお、或る配列において、全てのスポットサイズが同じである必要はない。その場合、或る配列を複数の部分に分け、各部分についてスポットサイズを個別に設定するように構成することができる。

スポットサイズを変更するための構成について説明する。光ファイバ４が単一の導光路からなる場合、スポットサイズを変更するための光学部材がレーザ照射系５０に設けられる。この光学部材は、たとえば変倍レンズ（系）である。処理ユニット５は、レーザ照射系５０の光軸（照射光軸）５０ａに沿って変倍レンズを移動させることにより、設定されたスポットサイズを実現する。

光ファイバ４が２つ以上の導光路を有する場合、これら導光路の径をそれぞれ異ならせることができる。この場合、２つ以上の導光路を択一的に使用することで、被検眼Ｅに照射される光のスポットサイズが変更される。処理ユニット５は、目的のスポットサイズに対応する導光路に照射光が入射される向きに、光源ユニット２のガルバノミラー２ｃを配置させる。

光ファイバ４は、パターンを保持しつつ光を伝送することが可能なイメージングファイバ（画像伝送ファイバ）であってもよい。この場合、光ファイバ４の前段又は後段の任意の位置に、スポットサイズを変更するための光学部材（変倍レンズ等）が設けられる。この光学部材の制御は、光ファイバ４が単一の導光路からなる場合と同様である。

スポット間隔条件は、隣接するスポットをどの程度の間隔（ピッチ）で投影するかを示す条件である。スポット間隔条件については、これを任意に設定できるように構成してもよいし、これの選択肢（たとえば疎、密）を設けるように構成してもよい。なお、或る配列において、全てのスポット間隔が同じである必要はない。その場合、或る配列を複数の部分に分け、各部分についてスポット間隔を個別に設定するように構成することができる。スポット間隔条件は、ガルバノスキャナ５２の制御に用いられる。

照射条件には、照射光のパターン以外の事項に関するものも含まれる。たとえば、複数種別の照射光を選択的に使用可能な場合、照射光の種別を照射条件に含めることができる。照射条件の種別の具体例として、レーザ光の種別（波長、用途等）がある。このような照射光種別条件は、照準光源２ａ及び／又は治療光源２ｂの制御に用いられる。

また、照射条件は、照射光の強度に関する条件を含んでいてもよい。この照射強度条件の例として、照準光源２ａや治療光源２ｂによる照射光の出力強度を示す出力強度条件がある。出力強度条件は、照準光源２ａ及び／又は治療光源２ｂの制御に用いられる。また、出力強度条件は、治療光源２ｂから出力される治療光（レーザ光）のエネルギーを示すパラメータを含んでいてもよい。

照射強度条件の他の例として、照射光の光量を減光部材によって調整するための条件（減光条件）がある。減光部材としては減光フィルタがある。より具体的には、１つの減光フィルタを光路に挿脱する構成や、透過率が異なる複数の減光フィルタを選択的に光路に配置可能な構成などがある。

［制御系］
レーザ治療装置１の制御系について、図４を参照しながら説明する。レーザ治療装置１の制御系は、処理ユニット５に設けられた制御部１０１を中心に構成される。なお、図４には、この実施形態で特に注目する構成部位のみが記載されており、それ以外の構成部位は省略されている。

（制御部１０１）
制御部１０１は、レーザ治療装置１の各部を制御する。たとえば、制御部１０１は、光源ユニット２の制御、表示ユニット７の制御、照明系１０の制御、観察系３０の制御、レーザ照射系５０の制御などを行う。

光源ユニット２の制御として、制御部１０１は、照準光源２ａの制御、治療光源２ｂの制御、ガルバノミラー２ｃの制御などを行う。照準光源２ａ及び治療光源２ｂの制御は、照射光の出力のオン／オフ、照射光の出力強度（出力光量）の制御などを含む。また、１つ以上の治療光源２ｂにより複数種別の治療光ＬＴを出力可能な構成が適用される場合、制御部１０１は、治療光ＬＴを選択的に出力させるように治療光源２ｂを制御する。ガルバノミラー２ｃの制御は、ガルバノミラー２ｃの反射面の向きを変更する制御を含む。

表示ユニット７は、制御部１０１の制御を受けて各種の情報を表示する。表示ユニット７は、ＬＣＤ等のフラットパネルディスプレイ、ＣＲＴディスプレイなどの任意の表示デバイスを含んで構成される。表示ユニット７は、たとえばスリットランプ３又は処理ユニット５（コンピュータ）に設けられる。

照明系１０の制御として、制御部１０１は、光源１１の制御、フィルタ１３〜１５の制御、スリット絞り１６の制御、その他の絞り部材の制御などを行う。光源１１の制御は、照明光の出力のオン・オフ、照明光の出力強度（出力光量）の制御などを含む。

フィルタ１３〜１５の制御は、照明光軸１０ａに対してフィルタ１３〜１５をそれぞれ独立に挿脱する制御を含む。フィルタ１３〜１５の制御は、フィルタ駆動部１３Ａを制御することにより行われる。フィルタ駆動部１３Ａは、ソレノイドやパルスモータ等のアクチュエータと、このアクチュエータにより発生された駆動力をフィルタ１３〜１５に伝達する機構とを含む。

スリット絞り１６の制御は、一対のスリット刃の間隔を変更する制御や、一対のスリット刃を一体的に移動させる制御などを含む。前者の制御は、スリット幅の変更制御に相当する。後者の制御は、スリット幅を一定に保った状態で照明光（スリット光）の照射位置を変更する制御に相当する。その他の絞り部材には、前述のように、照明光の光量を変更するための照明絞りや、照明野のサイズを変更するための照明野絞りがある。スリット絞り１６、照明絞り、照明野絞りの制御は、絞り駆動部１６Ａを制御することによりそれぞれ独立に行われる。絞り駆動部１６Ａは、パルスモータ等のアクチュエータと、このアクチュエータにより発生された駆動力を絞り部材に伝達する機構とを含む。

観察系３０の制御として、制御部１０１は、変倍レンズ３２、３３の制御、保護フィルタ３４の制御などを行う。変倍レンズ３２、３３の制御は、変倍駆動部３２Ａを制御してこれらを観察光軸３０ａに沿って移動させる制御、或いは、異なる倍率の変倍レンズ群を観察系３０の光路に配置させる制御である。それにより、観察倍率（画角）が変更される。変倍駆動部３２Ａは、パルスモータ等のアクチュエータと、このアクチュエータにより発生された駆動力を変倍レンズ３２、３３に伝達する機構とを含む。保護フィルタ３４の制御は、保護フィルタ駆動部３４Ａを制御して、保護フィルタ３４を観察光軸３０ａに対して挿脱するものである。

レーザ照射系５０の制御として、制御部１０１は、ガルバノスキャナ５２の制御などを行う。ガルバノスキャナ５２は、前述のように、照射光を左右方向に偏向するためのガルバノミラー（第１のガルバノミラー）と、照明光を上下方向に偏向するためのガルバノミラー（第２のガルバノミラー）とを含む。制御部１０１は、第１のガルバノミラーの反射面の向きと、第２のガルバノミラーの反射面の向きとを、それぞれ独立に変更する。それにより、光源ユニット２から光ファイバ４を介して入射された照射光を２次元的に偏向することができる。

制御部１０１は、記憶部１０２に記憶されたデータの読み出し処理や、記憶部１０２に対するデータの書き込み処理を行う。

制御部１０１は、マイクロプロセッサ、ＲＡＭ、ＲＯＭ、ハードディスクドライブ等を含んで構成される。このハードディスクドライブには、制御プログラムが予め記憶されている。制御部１０１の動作は、この制御プログラムと上記ハードウェアとが協働することによって実現される。また、制御部１０１は、外部装置と通信するための通信デバイスを含んでいてもよい。制御部１０１は「制御部」に含まれる。

（記憶部１０２）
記憶部１０２は各種のデータやコンピュータプログラムを記憶する。記憶部１０２は、たとえばＲＡＭ、ＲＯＭ、ハードディスクドライブ等の記憶装置を含んで構成される。記憶部１０２は「制御部」に含まれる。

記憶部１０２には対応情報１０２ａが予め記憶されている。対応情報１０２ａにおいては、光源ユニット２により生成される照射光の照射条件と、照明系１０による眼底Ｅｆの照明範囲とが対応付けられている。前述のように、この実施形態では所定パターンの照射光が眼底Ｅｆに照射され、照射光の照射条件には、所定パターンを形成する複数のスポットの配列を示す配列条件、所定パターンのサイズを示す配列サイズ条件、所定パターンの向きを示す配列方向条件、各スポットのサイズを示すスポットサイズ条件、スポットの間隔を示すスポット間隔条件などがある。一方、照明系１０による照明範囲は、前述の絞り部材（スリット絞り１６、照明絞り、照明野絞り）などによって変更される。対応情報１０２ａは、上記照射条件のうちの１つ又は２つ以上の組み合わせと、照明系１０による照明範囲とを対応付けている。

対応情報１０２ａの具体例を説明する。図５に示す対応情報１０２ａは、配列条件と照明範囲とが対応付けられたテーブル情報である。配列条件としては、前述の円状配列、楕円状配列、矩形状配列、弧状配列、直線状配列、円板状配列、楕円板状配列、矩形板状配列、扇形板状配列、円環状配列、部分円環状配列、帯状配列が列挙されている。なお、各照明範囲は、たとえば、対応する配列条件（及びパターンのサイズ）を含むように設定される。また、各照明範囲のパラメータとしては、絞り部材の開口サイズ（たとえばスリット幅、スリット長など）を示す情報が用いられる。このパラメータの例として、スリット絞り１６のスリット刃の位置情報、スリット幅の値、スリット長の値、照明野絞りのＦ値などがある。

複数のスポットが円状に配列された円状配列と、この円状配列の内部にもスポットが設けられた円板状配列及び円環状配列には、予め設定された照明範囲Ａ１がそれぞれ対応付けられている。複数のスポットが楕円状に配列された楕円状配列と、この楕円状配列の内部にもスポットが設けられた楕円板状配列には、予め設定された照明範囲Ａ２がそれぞれ対応付けられている。複数のスポットが矩形状の配列された矩形状配列と、この矩形状配列の内部にもスポットが設けられた矩形板状配列には、予め設定された照明範囲Ａ３がそれぞれ対応付けられている。複数のスポットが弧状に配列された弧状配列には、予め設定された照明範囲Ａ４が対応付けられている。複数のスポットが直線状に配列された直線状配列には、予め設定された照明範囲Ａ５が対応付けられている。扇形に区画された２次元領域に複数のスポットが配列された扇形板状配列には、予め設定された照明範囲Ａ６が対応付けられている。円環状配列の一部からなる２次元領域に複数のスポットが配列された部分円環状配列には、予め設定された照明範囲Ａ７が対応付けられている。直線状配列をその短手方向に拡大した２次元領域に複数のスポットが配列された帯状配列には、予め設定された照明範囲Ａ８が対応付けられている。各照明範囲Ａ１〜Ａ８は、たとえば、対応する配列条件の形状及び／又はサイズに応じて予め設定される。なお、配列条件のサイズ（照射光のパターンのサイズ）は、任意に設定されたデフォルト値（基準サイズ）であってよい。

配列サイズ条件を考慮した対応情報１０２ａについて説明する。配列サイズ条件は、たとえば、照射光の各パターンの基準サイズに対する比として設定される。具体例として、図５の対応情報１０２ａについて説明したように基準サイズが予め設定されている場合、この基準サイズに対するパターンのサイズの比を示す値と、照明範囲を示すパラメータとが対応付けられた対応情報１０２ａが作成される。なお、スポットサイズ条件やスポット間隔条件の変更に応じてパターン全体のサイズ（つまり配列サイズ条件）が変化する場合、上記と同様にして、スポットサイズ条件やスポット間隔条件を考慮した対応情報１０２ａが作成される。

配列方向条件を考慮した対応情報１０２ａについて説明する。配列サイズ条件を考慮した対応情報１０２ａは、回転対称性を有する配列パターンについては設定する必要はない。たとえば、円形状配列や円板状配列は任意の回転について対称性を有するので、配列方向条件の項目に円形状配列を含める必要はない。一方、楕円状配列や楕円板状配列は、１８０度の回転に対してのみ対称性を有する。よって、配列方向条件の変化、つまり回転角度の様々な値に対して、異なる照明範囲が対応付けられた対応情報１０２ａを作成することができる。他の配列についても同様である。

（操作ユニット６、表示ユニット７）
操作ユニット６は、前述のように、各種のハードウェアキー及び／又はソフトウェアキーを含んで構成される。また、表示ユニット７は、各種の情報を表示する。以下に説明するように、操作ユニット６（及び表示ユニット７）は、「照射条件設定部」及び「操作部」の一例として機能する。

操作ユニット６は、照射光の照射条件の設定に用いられる。照射条件の設定操作は、たとえば、所定のハードウェアキー又はソフトウェアキーを用いて行われる。前者の具体例として、配列条件、配列サイズ条件、配列方向条件、スポットサイズ条件、スポット間隔条件、スポット数条件、照射光種別条件、照射強度条件（出力強度条件、減光条件）など、任意の照射条件を設定するためのハードウェアキーが操作ユニット６に予め設けられる。ユーザは所望の照射条件に対応するハードウェアキーを操作することで、照射条件の設定を行う。後者の具体例として、上記のような照射条件を設定するための設定画面が、制御部１０１によって表示ユニット７に表示される。ユーザは、表示された設定画面に設けられたＧＵＩを操作ユニット６によって操作することにより、照射条件の設定を行う。

また、操作ユニット６は、眼底Ｅｆに対する照射光の照射位置を移動するために用いられる。照射位置の移動操作についても、所定のハードウェアキー又はソフトウェアキーを用いて行われる。なお、照射位置の移動は、たとえば、制御部１０１がガルバノスキャナ５２を制御することにより、又はスリットランプ３の光学系を移動制御することにより行われる。なお、後者の場合、光学系を移動させるための移動機構（光学系移動機構）がスリットランプ３に設けられる。この光学系移動機構は、電動制御されるものであり、アクチュエータと、このアクチュエータにより発生された駆動力を伝達する機構とを含んで構成される。また、ユーザにより行われた操作を駆動力としてスリットランプ３の光学系を移動させることにより、光学系を移動させるように構成することも可能である。

図４では、操作ユニット６と表示ユニット７とを別々に表しているが、これらを一体的に構成することも可能である。その具体例として、タッチパネル式のＬＣＤを用いることができる。

（データ処理部１１０）
データ処理部１１０は各種のデータ処理を行う。データ処理部１１０には、照明範囲特定部１１１が設けられている。

（照明範囲特定部１１１）
照明範囲特定部１１１は、操作ユニット６（及び表示ユニット７）により設定された照射条件に対応する照明範囲を特定する。照明範囲特定部１１１は「制御部」に含まれる。照明範囲特定部１１１が実行する処理の具体例を以下に説明する。

配列条件、配列サイズ条件、配列方向条件、スポットサイズ条件、スポット間隔条件、スポット数条件、照射光種別条件、照射強度条件（出力強度条件、減光条件）等の照射条件が設定された場合、照明範囲特定部１１１は、設定された照射条件に対応する照明範囲を対応情報１０２ａに基づいて特定する。この特定処理は、たとえば図５に示すような対応情報１０２ａにおいて、設定された照射条件に対応付けられた照明範囲を検索することによって実行される。たとえば、配列条件として「円形状配列」が設定された場合、図５に示す対応情報１０２ａにおいて「円形状配列」に対応付けられている照明範囲「Ａ１」が特定される。

なお、配列条件として、複数の項目（配列）が選択設定される場合がある。ここで、複数の配列のうちの１つの配列の内部に他の配列が含まれる場合と、そうでない場合とがある。複数の配列の組み合わせからなる配列条件が設定された場合、照明範囲特定部１１１は、これら配列の包含関係を判定する。他の配列を含む１の配列が特定された場合、照明範囲特定部１１１は、この１の配列に対応する照明範囲を、対応情報１０２ａに基づいて特定する。

一方、このような１の配列が特定されなかった場合、照明範囲特定部１１１は、当該組み合わせ配列条件に含まれる２つ以上の配列を特定する。ここで特定される２つ以上の配列は、たとえば、当該組み合わせ配列条件が示すパターンにおいて外縁（輪郭）をなす配列である。そして、照明範囲特定部１１１は、特定された２つ以上の配列のそれぞれに対応する照明範囲を対応情報１０２ａに基づいて特定し、これら照明範囲を少なくとも包含するように新たな照明範囲を決定する。この新たな照明範囲が、照明範囲特定部１１１による特定結果として用いられる。

照射光の照射位置が移動された場合、照明範囲特定部１１１は、操作ユニット６を用いた照射位置の移動操作に対応する照明範囲を求める。この処理についてより具体的に説明する。照射位置の移動操作は、照射光（特に照準光）が照射されているときに行われる。照射位置の移動が制御部１０１を介して行われるよう構成される場合、制御部１０１は、ガルバノスキャナ５２や光学系移動機構に対する制御内容を照明範囲特定部１１１に送る。照明範囲特定部１１１は、この制御内容（つまり照射位置の移動内容）に基づいて照明範囲の移動方向及び移動量を特定する。

一方、ユーザの操作を駆動力として照射位置を移動させる構成が適用される場合、ユーザの操作内容又は光学系の移動内容を検出する検出部が、照明範囲特定部１１１に設けられる。検出部は、たとえば、操作内容を検出するエンコーダや、光学系の位置を検出する位置センサを含んで構成される。照明範囲特定部１１１は、検出部による検出結果に基づいて照明範囲の移動方向及び移動量を特定する。

照明範囲特定部１１１は、上記のようにして得られた照明範囲の特定結果を制御部１０１に送る。制御部１０１は、この照明範囲の特定結果に基づいて絞り部材（スリット絞り１６等）などを制御することにより、照明系１０による眼底Ｅｆの照明範囲を変更する。

［動作］
レーザ治療装置１の動作について説明する。レーザ治療装置１の動作の一例を図６に示す。コンタクトレンズＣＬは被検眼Ｅに当接されているものとする。

（Ｓ１：眼底を照明する）
ユーザが所定の操作を行ったことに対応し、制御部１０１は、照明系１０の光源１１を点灯させる。このとき、スリット絞り１６等の絞り部材は、所定の初期状態になっている。それにより、被検眼Ｅの眼底Ｅｆが照明光によって照明される。

（Ｓ２：照射条件を設定する）
ユーザは、照準光ＬＡ及び／又は治療光ＬＴの照射条件を設定する。この設定操作は、操作ユニット６等の照射条件設定部を用いて行われる。照射条件の設定内容を示す信号は、制御部１０１を介して照明範囲特定部１１１に送られる。

（Ｓ３：照明範囲を特定する）
照明範囲特定部１１１は、ステップ２で設定された照射条件に対応する照明範囲を、対応情報１０２ａに基づいて特定する。この処理の例については前述した。照明範囲特定部１１１は、特定された照明範囲を示す信号を制御部１０１に送る。

（Ｓ４：照明範囲を変更する）
制御部１０１は、ステップ３で特定された照明範囲に基づいて絞り駆動部１６Ａを制御することにより、照明系１０による眼底Ｅｆの照明範囲を変更する。この照明範囲の変更は、たとえば、スリット絞り１６のスリット幅を変更することによる、照明範囲の拡大又は縮小である。

（Ｓ５：所定パターンの照準光を照射する）
ユーザが所定の操作を行ったことに対応し、制御部１０１は、照準光源２ａ、ガルバノミラー２ｃ、ガルバノスキャナ５２等を制御することにより、所定パターンの照準光ＬＡを眼底Ｅｆに照射させる。なお、照準光の照射を開始するタイミングは、ステップ２以降の任意のタイミングでよい。また、照準光ＬＡのパターンは、たとえばステップ２で設定された照射条件（配列条件等）に基づくものである。

（Ｓ６：ユーザが照準合わせを行う）
ユーザは、照明系１０による照明範囲内の眼底組織を観察して治療部位（傷病部位）を把握し、その治療部位に照準光ＬＡが照射されるように照準光ＬＡの照射位置を移動させる。この操作は、操作ユニット６等の操作部を用いて行われる。

なお、前述したように、ステップ４で変更された後における眼底Ｅｆの照明範囲は、ステップ５で眼底Ｅｆに照射される照準光ＬＡの照射位置（投影パターン）を含んでいる。よって、ユーザ（術者）は、少なくとも照準光ＬＡの照射位置を観察することができ、当該照射位置が治療部位に合致している否か判断することができる。当該照射位置が治療部位に一致している場合には照準合わせを行う必要は無いが、そのようなケースは稀である。したがって、実際には、上記のように照準合わせが行われる。

（Ｓ７：照明範囲を移動する）
ステップ６における照準合わせの操作内容、つまり照準光ＬＡの照射位置の移動内容は、前述のように、制御部１０１によって認識される。制御部１０１は、照準光ＬＡの照射位置の移動操作に対応して絞り駆動部１６Ａを制御することにより、照明系１０による眼底Ｅｆの照明範囲を変更する。この照明範囲の変更は、たとえば、スリット幅を維持した状態でスリット絞り１６の一対のスリット刃を移動させることによる照明範囲の移動、つまり照射位置に対する照明範囲の追従である。また、この照明範囲の変更は、移動後の照準光ＬＡの照射位置を含む新たな照明範囲への移行であってもよい。また、この照明範囲の変更は、移動前の照準光ＬＡの照射位置と、移動後の照準光ＬＡの照射位置の双方を含むように、照明範囲を拡大するものであってもよい。

（Ｓ８：照準合わせ完了？）
照準合わせが完了するまで、ステップ６及びステップ７が反復される（Ｓ８：Ｎｏ、Ｓ６、Ｓ７）。

（Ｓ９：ユーザが治療開始操作を行う）
照準合わせが完了したら（Ｓ８：Ｙｅｓ）、ユーザは、操作ユニット６を用いて所定の治療開始操作を行う。

（Ｓ１０：所定パターンの治療光を照射する）
治療開始操作がなされると、制御部１０１は、被検眼Ｅに対する照準光ＬＡの照射を停止させるとともに、治療光源２ｂ、ガルバノミラー２ｃ、ガルバノスキャナ５２等を制御することにより、所定パターンの治療光ＬＴを眼底Ｅｆに照射させる。

なお、治療光ＬＴのパターンは、照準光ＬＡのパターンと同じであってもよいし、異なっていてもよい。後者の例として、照準光ＬＡのパターンの一部からなるパターンの治療光ＬＴを照射することができる。また、スポットサイズやスポット間隔を違えることも可能である。以上で、この動作例の説明を終える。

［効果］
レーザ治療装置１の効果について説明する。

レーザ治療装置１は、照明系１０と、観察系３０と、照射系（光源ユニット２及びレーザ照射系５０）と、照明範囲変更部（スリット絞り１６等の絞り部材）と、照射条件設定部（操作ユニット６等）と、制御部１０１とを有する。照明系１０は、被検眼Ｅの眼底Ｅｆを照明する。観察系３０は、照明系１０により照明された眼底Ｅｆを観察するために用いられる。照射系は、所定パターンの照準光ＬＡ、及び、この所定パターンに基づくパターンのレーザ光からなる治療光ＬＴを、眼底Ｅｆに照射する。なお、前述のように、値旅行ＬＴのパターンは照準光ＬＡのパターンと同じであっても異なってもよい。照明範囲変更部は、照明系１０による眼底Ｅｆの照明範囲を変更する。照射条件設定部は、照射系による照準光ＬＡ及び／又は治療光ＬＴの照射条件を設定するために用いられる。制御部１０１は、照射条件設定部により設定された照射条件に基づき照明範囲変更部を制御することで、照明系１０による眼底Ｅｆの照明範囲を変更する。

このようなレーザ治療装置１によれば、照準光ＬＡや治療光ＬＴの照射条件に応じて眼底Ｅｆの照明範囲を自動で変更することが可能である。それにより、照明範囲を調整する操作の手間を省くことができ、レーザ治療装置の操作の容易化を図ることが可能となる。

照射光（照準光ＬＡ、治療光ＬＴ）の照射条件は、次に列挙する条件のうちの１つ以上を含んでいてもよい：照射光のパターンにおけるスポットの配列；照射光のパターンのサイズ；照射光のパターンの向き；照射光のパターンにおけるスポットのサイズ；照射光のパターンにおけるスポットの間隔。それにより、様々な照射条件について、照明範囲の自動での変更を行うことができる。

照射条件設定部は、眼底Ｅｆに対する照準光ＬＡの照射位置を移動するための操作部（操作ユニット６等）を含んでいてもよい。その場合、制御部１０１は、操作部を用いた照射位置の移動操作に対応して照明範囲の変更を行うことができる。この構成によれば、照準光ＬＡの照射位置の移動に伴う照明範囲の変更操作を省くことができるので、レーザ治療装置の操作の更なる容易化を図ることができる。

［変形例］
以上において説明した実施形態は、この発明を実施するための一例に過ぎない。この発明を実施しようとする者は、この発明の要旨の範囲内において任意の変形、省略、追加等を施すことが可能である。以下、変形例について説明する。なお、上記の実施形態に含まれる任意の構成や、以下の変形例に含まれる任意の構成を、適宜に組み合わせることが可能である。

（変形例１）
上記の実施形態では、照明範囲変更部として、スリット絞り１６等の絞り部材を用いる場合について説明した。この変形例では、液晶シャッタを照明範囲変更部として使用する場合について説明する。

この変形例に係るレーザ治療装置の構成例を図７に示す。この変形例に係るレーザ治療装置は、上記実施形態に液晶シャッタ１６Ｂを付加した構成を有する。液晶シャッタ１６Ｂは、たとえば液晶素子板と偏光板とを重ね合わせた構成を有し、液晶素子板に対する電気的な制御を受けて、シャッタの開閉動作、透光領域の変更動作、光透過率の変更動作などを行うデバイスである。液晶シャッタのそれぞれの動作は、制御部１０１により制御される。

液晶シャッタ１６Ｂを制御することで、眼底Ｅｆに対する照明のオン／オフの切り替え、照明範囲の変更、照明光の明るさの変更などを行うことができる。特に、この変形例では、制御部１０１が、照射条件設定部（操作ユニット６等）により設定された照射条件に基づき液晶シャッタ１６Ｂを制御することで、照明系１０による眼底Ｅｆの照明範囲を変更することが可能である。それにより、照準光ＬＡや治療光ＬＴの照射条件に応じて眼底Ｅｆの照明範囲を自動で変更することが可能となるので、照明範囲を調整する操作の手間を省略し、レーザ治療装置の操作の容易化を図ることができる。

（変形例２）
上記の実施形態や変形例１では、光源１１から出力された照明光を加工することで、眼底Ｅｆの照明範囲を変更している。この実施形態では、光源自体を制御することで眼底Ｅｆの照射範囲を変更する構成について説明する。

この変形例に係るレーザ治療装置の構成例を図８に示す。この変形例に係るレーザ治療装置は、上記実施形態の光源１１を面光源１１Ａに置換したものである。面光源１１は、平面状又は曲面状の発光面から照明光を発生する。面光源１１Ａは、たとえば有機ＥＬ光源のように１つの面が発光する光源でもよいし、複数の光源（ＬＥＤ等）を２次元的に配列してなる光源ユニットであってもよい。

制御部１０１は、面光源１１Ａを制御することにより発光領域を変更する。たとえば面光源１１Ａが有機ＥＬ光源である場合、バックライトを構成する複数の発光素子を選択的に点灯させることにより、光源１１Ａの発光領域を変更することができる。また、面光源１１Ａが上記光源ユニットである場合、これを構成する複数の光源を選択的に点灯させることにより、光源１１Ａの発光領域を変更することができる。

制御部１０１は、照射条件設定部により設定された照射条件に基づき面光源１１Ａ（照明範囲変更部）を制御することで、照射条件に応じた発光領域から照明光を出力させる。照射条件と発光領域との対応関係は、たとえば上記実施形態と同様の対応情報１０２ａを予め作成しておくことによって得られる。

このようにして面光源１１Ａの発光領域を変更することにより、照明系１０による眼底Ｅｆの照明範囲が変更される。それにより、照準光ＬＡや治療光ＬＴの照射条件に応じて眼底Ｅｆの照明範囲を自動で変更することが可能となるので、照明範囲を調整する操作の手間を省略し、レーザ治療装置の操作の容易化を図ることができる。

（変形例３）
上記の実施形態や変形例では、操作ユニット６等の照射条件設定部を用いて照射条件を設定している。この変形例では、照射条件を自動で設定可能な構成について説明する。

この変形例に係るレーザ治療装置の構成例を図９に示す。この変形例に係るレーザ治療装置は、観察系３０に撮像素子３９（撮影系）を有し、データ処理部１１０に照射位置特定部１１２を有する。

撮像素子３９は、たとえば、観察光軸３０ａから分岐した光路上に設けられる。この分岐は、ハーフミラー等のビームスプリッタにより実現される。撮像素子３９は、照射光（照準光ＬＡ及び／又は治療光ＬＴ）の波長帯に感度を有する。よって、照射光を眼底Ｅｆに照射した状態で撮像素子３９による撮影を行うと、その撮影画像には眼底Ｅｆに対する照射光の投影パターンが描出される。また、撮像素子３９は、照明系１０による照明光の波長帯に感度を有していてもよい。その場合、撮影画像には、眼底Ｅｆの形態と、照射光の投影パターンとが描出される。

照射位置特定部１１２は、照射光が照射された状態の眼底Ｅｆを撮像素子３９により撮影して得られた撮影画像を解析することで、眼底Ｅｆにおける照射光の照射位置を特定する。この処理の例を以下に説明する。なお、眼底Ｅｆの撮影時において、照明系１０による照明の有無は任意である。

まず、照射位置特定部１１２は、必要に応じて、撮影画像の画質（コントラスト等）を向上させるための画像処理を施す。

眼底Ｅｆの撮影時に照明系１０による照明がなされていない場合、撮影画像には、照射光の投影パターンに相当する画像領域（パターン領域）が描出されている。照射位置特定部１１２は、撮影画像の画素値に基づいて、撮影画像のフレーム（描画範囲）におけるパターン領域の位置を特定する。この位置情報は、たとえば、フレームに予め設定された２次元座標系で表現される。照射位置特定部１１２は、特定されたパターン領域に相当する眼底Ｅｆの部位を照明するように、照明系１０（照明範囲変更部）を制御する。この処理は、たとえば、記憶部１０２に予め記憶された、照明系１０による照明範囲とフレームにおける位置とが対応付けられた対応情報（図示せず）を参照することによって実行される。このような処理により、照射光が照射されている眼底Ｅｆの部位を照明系１０で照明することができる。

眼底Ｅｆの撮影時に照明系１０による照明が行われている場合、撮影画像には、照射光の投影パターンと、眼底Ｅｆの形態とが描出されている。照射位置特定部１１２は、撮影画像の画素値に基づいて、照射光の投影パターンに相当するパターン領域と、眼底Ｅｆの形態が描出されている画像領域（つまり照明光が照射されている部位に相当する画像領域：照明領域）とを特定する。制御部１０１は、パターン領域と照明領域とが所定の位置関係になるように、照明系１０（照明範囲変更部）を制御する。その具体例として、パターン領域が照明領域に含まれている場合には、照明範囲の変更を行う必要はない。一方、パターン領域の少なくとも一部が照明領域に含まれない場合、制御部１０１は、照明領域がパターン領域を含むように照明系１０（照明範囲変更部）を制御する。このような処理により、照射光が照射されている眼底Ｅｆの部位を照明系１０で照明することができる。

データ処理部１１０は、撮影画像の画素値に基づいて、眼底Ｅｆの傷病部位に相当する画像領域（傷病領域）を特定することができる。この処理は、たとえば、傷病部位を撮影したときの特徴的な形態や画素値（輝度値等）に基づいて実行される。制御部１０１は、この傷病部位を照明するように照明系１０（照明範囲変更部）を制御することができる。また、制御部１０１は、特定された傷病領域と、照射光に相当するパターン領域との位置関係に基づいて、ガルバノスキャナ５２を制御することにより、傷病領域に照射光が照射されるように照射光の位置を変更することができる。

この変形例に係るレーザ治療装置の効果について説明する。この変形例に係るレーザ治療装置は、照明系１０と、撮影系（撮像素子３９を含む）と、照射系（光源ユニット２、レーザ照射系５０）と、照射位置特定部１１２と、制御部１０１とを有する。照明系１０は、被検眼Ｅの眼底Ｅｆを照明する。また、照明系１０は、眼底Ｅｆの照明範囲を変更する照明範囲変更部を含む。撮影系は、照明系１０により照明された眼底Ｅｆを撮影する。照射系は、所定パターンの照準光ＬＡ、及び、所定パターンに基づくパターンのレーザ光からなる治療光ＬＴを、眼底Ｅｆに照射する。照射位置特定部１１２は、照準光ＬＡ（又は治療光ＬＴ）が照射された状態の眼底Ｅｆを撮影系により撮影して得られた撮影画像を解析して、照準光ＬＡ（又は治療光ＬＴ）の照射位置を特定する。制御部１０１は、照射位置の特定結果に基づき照明範囲変更部を制御することにより、照明系１０による眼底Ｅｆの照明範囲を変更する。

このようなレーザ治療装置によれば、照準光ＬＡ（又は治療光ＬＴ）が照射された状態の眼底Ｅｆの撮影画像に基づいて眼底Ｅｆの照明範囲を自動で変更することが可能である。それにより、照明範囲を調整する操作の手間を省くことができ、レーザ治療装置の操作の容易化を図ることが可能となる。

１ レーザ治療装置
２ 光源ユニット
２ａ 照準光源
２ｂ 治療光源
２ｃ ガルバノミラー
３ スリットランプ
４ 光ファイバ
５ 処理ユニット
６ 操作ユニット
７ 表示ユニット
１０ 照明系
１１ 光源
１１Ａ 面光源
１６ スリット絞り
１６Ａ 絞り駆動部
１６Ｂ 液晶シャッタ
３０ 観察系
３９ 撮像素子
５０ レーザ照射系
５２ ガルバノスキャナ
１０１ 制御部
１０２ 記憶部
１０２ａ 対応情報
１１０ データ処理部
１１１ 照明範囲特定部
１１２ 照射位置特定部
ＬＡ 照準光
ＬＴ 治療光
Ｅ 被検眼
Ｅｆ 眼底

Claims (10)

1. 被検眼の眼底を照明する照明系と、
   照明された眼底を観察するための観察系と、
   所定パターンの照準光、及び、前記所定パターンに基づくパターンのレーザ光からなる治療光を、眼底に照射する照射系と、
   前記照明系による眼底の照明範囲を変更するための照明範囲変更部と、
   前記照射系による前記照準光及び／又は前記治療光の照射条件を設定する照射条件設定部と、
   設定された照射条件に基づき前記照明範囲変更部を制御して前記照明範囲を変更する制御部と
   を有するレーザ治療装置。
2. 前記照射条件は、前記所定パターンにおけるスポットの配列、前記所定パターンのサイズ、前記所定パターンの向き、前記所定パターンにおけるスポットのサイズ、及び、前記所定パターンにおけるスポットの間隔のうち、１つ以上の条件を含むことを特徴とする請求項１に記載のレーザ治療装置。
3. 前記照射条件設定部は、眼底に対する前記照準光の照射位置を移動するための操作部を含み、
   前記制御部は、前記操作部を用いた照射位置の移動操作に対応して前記照明範囲の変更を行う
   ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のレーザ治療装置。
4. 前記照明範囲変更部は、前記照明系に設けられた絞り部材を含むことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載のレーザ治療装置。
5. 前記絞り部材は、互いの間隔を変更可能な一対のスリット刃を有するスリット絞りを含むことを特徴とする請求項４に記載のレーザ治療装置。
6. 前記一対のスリット刃の間隔を維持した状態で前記一対のスリット刃を移動させる駆動部を有することを特徴とする請求項５に記載のレーザ治療装置。
7. 前記照明範囲変更部は、前記照明系に設けられた液晶シャッタを含むことを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載のレーザ治療装置。
8. 前記照明範囲変更部は、眼底を照明するための光を発生する面光源を含み、
   前記制御部は、前記面光源の発光面における発光領域を変更することにより前記照明範囲の変更を行う
   ことを特徴とする請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載のレーザ治療装置。
9. 前記制御部は、
   前記照射条件と前記照明範囲とが対応付けられた対応情報を予め記憶する記憶部と、
   前記照射条件設定部により設定された照射条件に対応する照明範囲を前記対応情報に基づいて特定する照明範囲特定部と
   を有し、
   特定された照明範囲に基づいて前記照明範囲の変更を行う
   ことを特徴とする請求項１〜請求項８のいずれか一項に記載のレーザ治療装置。
10. 被検眼の眼底を照明する照明系と、
    照明された眼底を撮影する撮影系と、
    所定パターンの照準光、及び、前記所定パターンに基づくパターンのレーザ光からなる治療光を、眼底に照射する照射系と
    を有し、
    前記照明系は、眼底の照明範囲を変更するための照明範囲変更部を含み、
    前記照準光又は前記治療光が照射された状態の眼底を前記撮影系により撮影して得られた撮影画像を解析して、前記照準光又は前記治療光の照射位置を特定する照射位置特定部と、
    前記照射位置の特定結果に基づき前記照明範囲変更部を制御して前記照明範囲を変更する制御部と
    を有するレーザ治療装置。

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