JP2021018965A5 - - Google Patents

Claims (7)

1. 半透過反射層と、
   第１サブ画素に対応して設けられる第１反射層と、
   出射される光の波長域が前記第１サブ画素と同じ第２サブ画素に対応して設けられる第
   ２反射層と、
   前記第１反射層と前記半透過反射層との間、かつ、前記第２反射層と前記半透過反射層
   との間に設けられる発光機能層と、
   を備え、
   前記第２反射層と前記半透過反射層との間の距離は、前記第１反射層と前記半透過反射
   層との間の距離よりも長い、
   ことを特徴とする発光装置。
2. 半透過反射層と、
   第１サブ画素に対応して設けられる第１反射層と、
   前記第１サブ画素に対応し、かつ、前記半透過反射層の前記第１反射層とは反対側に設
   けられる第１カラーフィルターと、
   第２サブ画素に対応して設けられる第２反射層と、
   前記第２サブ画素に対応し、かつ、前記半透過反射層の前記第２反射層とは反対側に設
   けられ、透過させる光の波長域が前記第１カラーフィルターと同じ第２カラーフィルター
   と、
   前記第１反射層と前記半透過反射層との間、かつ、前記第２反射層と前記半透過反射層
   との間に設けられる発光機能層と、
   を備え、
   前記第２反射層と前記半透過反射層との間の距離は、前記第１反射層と前記半透過反射
   層との間の距離よりも長い、
   ことを特徴とする発光装置。
3. 前記第１反射層と前記発光機能層との間に設けられる第１画素電極と、
   前記第２反射層と前記発光機能層との間に設けられる第２画素電極と、
   前記第１反射層と前記第１画素電極との間、かつ、前記第２反射層と前記第２画素電極
   との間に設けられ、第１材料を含む第１層と、前記第１材料とは異なる第２材料を含む第
   ２層と、を有する、絶縁層と、
   を備え、
   前記第２サブ画素における前記第２層の厚さは、前記第１サブ画素における前記第２層
   の厚さより厚い、
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の発光装置。
4. 前記第１サブ画素は、前記第２サブ画素よりも表示領域の中央に配置される、
   ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の発光装置。
5. 請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の発光装置を備えた電子機器。
6. 半透過反射層と、第１サブ画素に対応する第１反射層と、出射される光の波長域が前記
   第１サブ画素と同じ第２サブ画素に対応する第２反射層と、発光機能層と、絶縁層と、を
   備えた発光装置の製造方法であって、
   第１材料を含む前記絶縁層の第１層を形成する工程と、
   前記第１層の上に、前記第１層に含まれる材料とは異なる材料を用いて第１材料層を形
   成する工程と、
   前記第１材料層の上にレジストマスクを形成し、前記第１層をエッチングストッパーと
   して前記第１材料層をパターニングすることで、前記絶縁層の第２層を形成する工程と、
   前記第２層の上に、前記第２層に含まれる材料と同じ材料を用いて第２材料層を形成す
   る工程と、
   前記第２材料層の上にレジストマスクを形成し、前記第２材料層をパターニングするこ
   とで、前記絶縁層の第２層を厚くする工程と、を含み、
   表示領域において、前記第２サブ画素よりも中央に配置される前記第１サブ画素におけ
   る前記第２層の厚さは、前記第２サブ画素における前記第２層の厚さよりも薄くする、発
   光装置の製造方法。
7. 半透過反射層と、第１サブ画素に対応する第１反射層と、出射される光の波長域が前記
   第１サブ画素と同じ第２サブ画素に対応する第２反射層と、発光機能層と、絶縁層と、を
   備えた発光装置の製造方法であって、
   第１材料を含む前記絶縁層の第１層を形成する工程と、
   前記第１層の上に、前記第１層に含まれる材料とは異なる材料を用いて材料層を形成す
   る工程と、
   前記材料層の上にレジストを形成し、多階調の露光マスクを用いて階調露光を行う工程
   と、
   前記階調露光によって形成されたレジストマスクを用いて、前記材料層をパターニング
   することで、前記材料層に前記レジストマスクの形状を転写して、前記絶縁層の第２層を
   形成する工程と、を含み、
   表示領域において、前記第２サブ画素よりも中央に配置される前記第１サブ画素におけ
   る前記第２層の厚さは、前記第２サブ画素における前記第２層の厚さよりも薄くする、発
   光装置の製造方法。