JP2015026560A - 発光装置および電子機器 - Google Patents
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Abstract
Description
関する。
発光素子の発光光を基板と反対側に取り出すトップエミッション方式の発光装置が電子機
器の表示装置などとして多用されている。トップエミッション方式は、発光素子を挟み、
基板側に形成された一方の第1電極(例えば陽極)と基板との間に反射層を形成し、発光
素子を挟む他方の第2電極(例えば陰極)側から光を取り出す方式であって、光の利用効
率が高い方式である。
極と反射層との間で所定の波長の光を共振させて、光の取り出し効率を高める技術が開示
されている(例えば非特許文献1)。この技術では、共振構造におけるピーク波長をλ、
反射層から前記第2電極の光学的距離をD、前記第1電極での反射における位相シフトを
φL、前記第2電極での反射における位相シフトをφU、整数をmとしたとき、下記の式
を満たす光学構造が提案されている。
D={(2πm+φL+φU)/4π}λ・・・(1)
造を単純にしつつ、広い波長の光をある程度の効率で取り出すことができるため、発光装
置の低コスト化を実現でき、かつ、高精細画素を作り込みやすいなどの利点がある。
、緑色領域、および、青色領域の全ての領域の光を取り出すため、赤色画素、緑色画素、
および、青色画素の色分離はカラーフィルターなどで行う必要がある。したがって、観測
側での発光スペクトルの帯域幅が広くなり、色純度が悪くなる傾向がある。また、赤色、
緑色、および、青色の各波長領域で比較した場合、光取り出し効率が低くなる傾向がある
。その結果、発光装置の消費電力が高くなり、パネル特性として不利になる。
び、青色画素別に光学的距離Dを調整する技術が開示されている(例えば特許文献1)。
しかし、特許文献1に記載されたような技術の場合、各色の画素別に光学的距離Dを調整
するために、画素構造が複雑になり、製造工程数が増加する。また、特許文献1に記載さ
れたような技術において高精細画素を形成する際には、プロセスルールの制約を受けやす
く、開口率が狭くなる。さらには、特許文献1に記載されたような技術によって製造した
発光装置は、反射層から半透過反射層までの膜厚のばらつきによる色度変化が大きくなっ
ていまう。
易化、並びに、膜厚のばらつきによる色度変化の安定化を実現するためには、前記(1)
式において、m=0とした有機EL素子を製造することが好ましい。
ラーフィルターのカットオフ特性を鋭くすることが考えられる。しかしながら、カットオ
フ特性を鋭くするためには、カラーフィルターの膜厚を厚く必要があり、微細パターニン
グが困難な小型の高精細パネルにおいては、このようなカットオフ特性の鋭いカラーフィ
ルターを形成することが難しい。特に、封止膜上にこのようなカットオフ特性の鋭いカラ
ーフィルターを形成することは困難となる。また、カラーフィルターの膜厚を厚くするた
めには、カラーフィルターの材料の選択肢が狭くなってしまう。
、カラーフィルターで色分離する発光装置を、小型の高精細パネルとして製造する場合で
も、色純度を向上させ、製造を容易化するという課題の解決を目的としている。
れた反射層と、前記反射層上に配置された発光層と、前記発光層上に配置された半透過反
射層とを備え、前記反射層と前記半透過反射層の間の光路長がいずれの発光領域において
も同じとなるように調整された共振構造を有する発光装置であって、前記反射層とは異な
る層に配置され、前記発光層からの発光光から、赤色、緑色、および青色の波長の光を取
り出すカラーフィルターと、前記カラーフィルターとは異なる層に配置され、前記赤色の
波長と前記緑色の波長との間の波長の光と、前記緑色の波長と前記青色の波長との間の波
長の光とに対して、透過率の極小値を有するノッチフィルターと、を備えることを特徴と
する。
ラーフィルターによって取り出され、ノッチフィルターによって、赤色の波長と緑色の波
長との間の波長の光と、緑色の波長と青色の波長との間の波長の光との透過が抑えられる
。したがって、カラーフィルターの膜厚を厚くすることなく、色純度を向上させることが
できる。また、カラーフィルターの膜厚を厚くする必要がないので、発光装置の小型化が
容易となる。
射層での反射における位相シフトをφL、前記半透過反射層での反射における位相シフト
をφU、前記反射層と前記半透過反射層兼対向電極の間に発生する定在波のピーク波長を
λ、2以下の整数をmとしたとき、
D={(2πm+φL+φU)/4π}λ・・・(2)
を満たし、前記整数mの値が0であるようにしてもよい。本発明によれば、前記整数mの
値を0としたので、反射層から半透過反射層までの構造を簡単にしつつ、反射層から半透
過反射層までの膜厚にばらつきがある場合でも、色度のばらつきの少ない発光装置を提供
することができる。
、前記ノッチフィルターは、前記光取り出し側基板の光取り出し側に配置された第1のノ
ッチフィルターと、前記光取り出し側基板の前記発光層側に配置された第2のノッチフィ
ルターとを含むようにしてもよい。本発明によれば、第1のノッチフィルターを光取り出
し側基板の光取り出し側に配置し、第2のノッチフィルターを光取り出し側基板の発光層
側に配置するようにしたので、所定波長域の光を透過させないノッチフィルターを容易に
設計し、製造することができる。
ッチフィルターの光学特性と異なるようにしてもよい。本発明によれば、それぞれのノッ
チフィルターで異なる波長域の光の透過を抑えるようにしたので、ノッチフィルターを容
易に設計し、製造することができる。
電子機器においては、前記発光装置を備えているので、色純度が高く、色度のばらつきの
少ない表示部を有する電子機器を提供することができる。
学部材を備えるようにしてもよい。本発明の電子機器によれば、発光装置の発光面におい
て、所定波長域の光の反射率が高くなる場合でも、この発光面と電子機器の表示面との間
に光学部材を備えるので、発光面における反射光が直視されることがなく、電子機器にお
いて良好な表示が行われる。
いては、各部の寸法の比率は実際のものとは適宜に異ならせてある。
<A:発光装置の構造>
図1は、本発明の一実施形態に係る発光装置E1の概要を示す模式的な断面図である。
発光装置E1は、複数の発光素子U1が第1基板10の面上に配列された構成であるが、
図1においては、説明の便宜上、赤色(R)の発光素子U1、緑色(G)の発光素子U1
、および青色(B)の発光素子U1がそれぞれひとつずつ例示されている。本実施形態の
発光装置E1は、トップエミッション型であり、発光素子U1にて発生した光は第1基板
10とは反対側に向かって進行する。従って、ガラスなどの光透過性を有する板材のほか
、セラミックスや金属のシートなど不透明な板材を第1基板10として採用することがで
きる。本実施形態では、第1基板10の厚さを0.5mmとした。
第1基板10には、発光素子U1に給電して発光させるための配線が配置されているが
、配線の図示は省略する。また、第1基板10には、発光素子U1に給電するための回路
が配置されているが、回路の図示は省略する。
、画素電極12の上に配置された光取り出し側半透過反射層としての対向電極17(第2
電極)と、反射層兼画素電極12と対向電極17との間に配置された発光機能層16とを
備える。また、発光素子U1は、対向電極17上に配置された封止層18と、封止層18
上に配置されたカラーフィルター19と、カラーフィルター19と第2基板22との間に
配置されたノッチフィルター20とを備える。以下、詳細に説明する。
画素電極12は、光反射性を有する材料によって形成される。この種の材料としては、例
えばAl(アルミニウム)、Ag(銀)、Au(金)、Cu(銅)などの単体金属、また
はAu、CuまたはAgを主成分とする合金などが好適に採用される。本実施形態では、
反射層兼画素電極12はAlで形成される。本実施形態では、反射層兼画素電極12の膜
厚を80nmとした。
子用の反射層兼画素電極、緑色(G)の発光素子用の反射層兼画素電極、および青色(B
)の発光素子用の反射層兼画素電極に隔離されている。
層(HIL:Hole Injection Layer)と、正孔注入層上に形成された正孔輸送層(HTL
:Hole transport layer)と、正孔輸送層上に形成された発光層(EML:Emitting Lay
er)と、発光層上に形成された電子輸送層(ETL:Electron Transport Layer)とから
なる。
α−NPDで形成される。本実施形態では、正孔注入層の膜厚を2nmとし、正孔輸送層
の膜厚を25nmとした。なお、正孔注入層および正孔輸送層を、正孔注入層と正孔輸送
層の機能を兼ねる単一の層で形成することもできる。
態では、有機EL物質は低分子材料であって、白色光を発する。赤色のホスト材料および
赤色のドーパント材料、ならびに緑色および青色のホスト材料としては図2に示すものが
使用される。さらに、青色のドーパント材料としてはDPAVBiが使用される。緑色の
ドーパント材料としてはキナクリドンが使用される。本実施形態では、発光層の膜厚を5
0nmとした。
電子輸送層は、Alq3(トリス8−キノリノラトアルミニウム錯体)で形成される。
本実施形態では、電子輸送層28の膜厚を25nmとした。
複数の発光素子U1に渡って連続している。対向電極17は、その表面に到達した光の一
部を透過するとともに他の一部を反射する性質(すなわち半透過半反射性)を持った半透
過反射層として機能し、例えばマグネシウムや銀などの単体金属、またはマグネシウムや
銀を主成分とする合金から形成される。本実施形態では、対向電極17は、MgAg(マ
グネシウム銀合金)で形成される。対向電極17の膜厚は、10nmとした。
て、無機材料からなる封止層18が形成される。封止層18は、SiN(窒化珪素)やS
iON(酸窒化珪素)などのガス透過率が低い無機材料から形成される。本実施形態では
、封止層18はSiN(窒化珪素)で形成される。封止層18の膜厚は400nmとした
。
第2基板22が配置される。第2基板22はガラスなどの光透過性を有する材料で形成さ
れる。第2基板22の厚さは0.5mmとした。第2基板22のうち第1基板10との対
向面には、カラーフィルター19および図示しない遮光膜が形成される。遮光膜は、各発
光素子U1に対向して開口が形成された遮光体の膜体である。開口内にはカラーフィルタ
ー19が形成される。
る赤色用カラーフィルター19Rが形成され、緑色の発光素子U1に対応する開口内には
緑色光を選択的に透過させる緑色用カラーフィルター19Gが形成され、青色の発光素子
U1に対応する開口内には青色光を選択的に透過させる青色用カラーフィルター19Bが
形成される。本実施形態のノッチフィルター20の膜厚は、2.0μm〜2.5μmとし
た。
。本実施形態では、ノッチフィルター20は、誘電体多層膜で形成される。ノッチフィル
ター20の膜厚は、1μm〜10μmの範囲である。本実施形態のノッチフィルター20
は、図3に示すように、480〜520nmおよび550〜600nmの波長の光、つま
り、赤色と緑色の間の波長の光と、緑色と青色の間の波長の光とをカットするように設計
されている。
射層としての対向電極17との間で発光機能層16が発する光を共振させる共振器構造が
形成される。これにより、特定の波長の光を効率良く取り出すことができる。
介して第1基板10と貼り合わされる。封止層は、透明の樹脂材料、例えばエポキシ樹脂
などの硬化性樹脂から形成される。以上が本実施形態の発光装置E1の構造である。
射層としての対向電極17までの光学的距離を所定値に設定することにより、反射層兼画
素電極12から対向電極17に定在波を発生させる共振構造を採用している。
能層16側の面の間の光学的距離をD、下辺電極である反射層兼画素電極12での反射に
おける位相シフトをφL、上辺電極である対向電極30での反射における位相シフトをφ
U、定在波のピーク波長をλ、整数をmとすると、下記の式を満たす構造となっている。
D={(2πm+φL+φU)/4π}λ・・・(3)
、緑色、青色の全ての波長の色を取り出し、カラーフィルター19で色分離を行う構造に
なっている。
以上のような本実施形態の発光装置E1と比較例の発光装置E10およびE11とにお
いて、カラーフィルターとして同一の材料を用い、膜厚を変化させた場合のNTSCカバ
ー率を調べた結果について説明する。
比較例1の発光装置E10は、図4に示すように、反射層12の上に配置された透明層
30と、透明層30上に配置された透明電極層(第1電極:陽極)31とを備えていると
ころが、第1実施形態の発光装置E1と異なる。第1実施形態の発光装置E1との共通箇
所には同一の符号を付して説明を省略する。
30の膜厚は70nmとした。透明電極層31はITO(indium tin oxide)で形成され
、赤色の発光素子の透明電極31の膜厚は130nm、緑色の発光素子の透明電極の膜厚
は90nm、青色の発光素子の透明電極の膜厚は50nmとした。発光機能層16、対向
電極17の層厚については、発光装置E10と同様である。つまり、発光機能層16が1
02nm、対向電極17が10nmとなっている。
色の画素別に光学的距離Dを調整する構造になっている。
比較例2の発光装置E11は、図5に示すように、第2基板22とカラーフィルター1
9の間にノッチフィルター20を備えていないところだけが第1実施形態の発光装置E1
と異なっている。第1実施形態の発光装置E1との共通箇所には同一の符号を付して説明
を省略する。つまり、比較例2の発光装置E11は、上記式(3)においてm=0として
、赤色、緑色、青色の全ての波長の色を取り出し、カラーフィルター19で色分離を行う
構造になっている。
図6に本実施形態の発光装置E1と、比較例1の発光装置E10と、比較例2の発光装
置E11とのNTSCカバー率を示す。図6に示すように、比較例1の発光装置E10に
おいては、カラーフィルター19の膜厚が1μmでも、NTSCカバー率は97.8%、
つまり、ほぼ100%になる。
TSCカバー率を得るには、カラーフィルター19の膜厚を5μm程度まで厚くしなけれ
ばならないことが判る。
2.0〜2.5μmであっても、比較例1の発光装置E10と同程度のNTSCカバー率
が得られることが判る。
のような薄い膜厚で済むので、微細パターニングが困難な小型の高精細パネルを製造する
場合、例えば、画素短辺の寸法が1〜20μm程度の小型の高精細パネルを製造する場合
であっても、カラーフィルター19を容易に形成することが可能となる。また、カラーフ
ィルター19の膜厚が上述のような薄い膜厚で済むので、カラーフィルター19の材料の
選択肢が広がることになる。
次に、比較例1の発光装置E10と、本実施形態の発光装置E1との色度のばらつきを
比較した結果について説明する。図7は、比較例1の発光装置E10の色度のばらつきを
示す図である。図8は、本実施形態の発光装置E1の色度のばらつきを示す図である。図
7及び図8においては、反射層12から対向電極17までの膜厚が、−5.0%から+5
.0%までの範囲で変化した場合における色度変化の算出結果を示している。なお、色度
変化の算出においては、カラーフィルター19とノッチフィルター20の透過率は変化し
ないと仮定した。ノッチフィルター20は、光学フィルターを製造する装置で成膜可能で
あるため、膜厚のばらつきは、反射層12から対向電極17までを成膜する装置と比較し
て小さくすることが容易である。したがって、透過率は変化しないと仮定した。
7までの膜厚が厚くなるほど三角形で示される色域が時計回りに移動することが判る。こ
れに対して、本実施形態の発光装置E1は、図8に示すように膜厚が−5.0%から+5
.0%までの範囲で変化した場合でも、三角形で示される色域はほぼ変化せず、色度のば
らつきが小さいことが判る。したがって、本実施形態の発光装置E1は、品質保証および
製品の歩留まり向上に効果があると考えられる。
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、以下に述べる各種の変形が可
能である。また、各変形例及び実施形態は、適宜、組み合わせてもよいことは勿論である
。
上述した実施形態では、第2基板22とカラーフィルター19との間にノッチフィルタ
ー20を配置する例について説明した。しかし、本発明はこのような例に限定されるもの
ではない。図9に変形例1の発光装置E2を示す。発光装置E2は、複数の発光素子U2
が第1基板10の面上に配列された構成であるが、図9においては、説明の便宜上、赤色
(R)の発光素子U1、緑色(G)の発光素子U1、および青色(B)の発光素子U1が
それぞれひとつずつ例示されている。図9に示すように、発光装置E2は、第2基板22
の両方の面にノッチフィルター20、21が配置されている。ノッチフィルター20、2
1はそれぞれ異なる光学特性を備える。例えば、ノッチフィルター20が赤色と緑色の間
の光をカットし、ノッチフィルター21が緑色と青色の間の光をカットするように設計さ
れている。ノッチフィルター20、21をこのように配置することにより、ノッチフィル
ター設計や製造が容易となる。
上述した実施形態では、各色の発光素子の反射層兼画素電極12をAlで形成する例に
ついて説明したが、本発明はこのような例に限定されるものではない。例えば、赤色の発
光素子の反射層兼画素電極12はAg、AuまたはCuで形成し、緑色および青色の発光
素子の反射層兼画素電極12はAlで形成してもよい。
λ=4Dπ/(2πm+φL+φU) ・・・(4)
となる。つまり、同一膜厚であっても、反射界面での位相シフトが小さい場合、定在波の
ピーク波長は長波長側へシフトする。特に、m=0の場合、
λ=4Dπ/(φL+φU) ・・・(5)
であり、反射界面での位相シフトの影響が大きくなる。
7の屈折率をn2、対向電極17の消衰係数をk2とすると、下記の式で表すことができ
る。
φ=tan−1{2n1k2/(n1 2−n2 2−k2 2)} ・・・(6)
発光機能層16の屈折率をn1を1.8として、代表的な金属材料であるAl、Cu、A
u、Agで位相シフト量を計算した結果、金属材料としてAlを使用した場合に比べて、
Cu、Au、Agを使用した方が、位相シフト量が小さいことが判った。
電極12に用いた場合には、Alを用いた場合に比べて、600nm以上の長波長側で光
取り出し効率が改善されることが判った。
が小さいCu、Au、または、Agを採用することにより、600nm以上の長波長側で
ある赤色の光の取出し効率を改善することができる。520〜560nmの波長である緑
色を発光する発光素子、および、450〜470nmの波長である青色を発光する発光素
子に用いる反射層については、いずれもAlを採用することができる。このように構成す
ることにより、前記(3)式においてm=0とした場合の光学構造を採用した本実施形態
の発光装置E1においても、赤色の光の取出し効率を改善することができ、消費電力を著
しく低減させることができる。
上述した実施形態においては、第2基板22側から光を取り出すトップエミッション型
の発光装置に本発明を適用する例について説明した。しかしながら、本発明はこのような
例に限定されるものではない。例えば、第1基板10側から光を取り出すボトムエミッシ
ョン型の発光装置に本発明は適用可能である。
上述した実施形態においては、画素電極12が反射層を兼ねる例について説明した。し
かしながら、本発明はこのような例に限定されるものではない。例えば、前記式(1)に
おいて、m=0を満たすことができるのであれば、画素電極を透明な導電膜で形成し、画
素電極と第1基板との間に別途反射層を設けるような構成としてもよい。
本発明に係る発光装置は様々な電子機器に適用可能である。以下、代表的な応用例につ
いて説明する。
図10は、上述した実施形態の発光装置E1を、ヘッドマウント・ディスプレイにおい
て画像を表示するマイクロ・ディスプレイに応用した例を示す斜視図である。発光装置E
1は、表示部で開口する枠状のケース72に収納されるとともに、FPC(Flexible Pri
nted Circuits)基板74の一端が接続されている。FPC基板74には、半導体チップ
の制御回路5が、COF(Chip On Film)技術によって実装されるとともに、複数の端子
76が設けられて、図示省略された上位回路に接続される。当該上位回路から複数の端子
76を介して画像データが同期信号に同期して供給される。同期信号には、垂直同期信号
や、水平同期信号、ドットクロック信号が含まれる。また、画像データは、表示すべき画
像の画素の階調レベルを例えば8ビットで規定する。
である。すなわち、制御回路5は、同期信号にしたがって生成した各種の制御信号や各種
電位を発光装置E1に供給するほか、デジタルの画像データをアナログのデータ信号に変
換して、発光装置E1に供給する。
光学的な構成を示す図である。図11に示されるように、ヘッドマウント・ディスプレイ
300は、外観的には、一般的な眼鏡と同様にテンプル310や、ブリッジ320、レン
ズ301L、301Rを有する。また、ヘッドマウント・ディスプレイ300は、図12
に示されるように、ブリッジ320近傍であってレンズ301L、301Rの奥側(図に
おいて下側)には、左眼用の発光装置E1Lと右眼用の発光装置E1Rとが設けられる。
によって発光装置E1Lによる表示画像は、光学レンズ302Lを介して図において9時
の方向に出射する。ハーフミラー303Lは、発光装置E1Lによる表示画像を6時の方
向に反射させる一方で、12時の方向から入射した光を透過させる。
いる。これによって発光装置E1Rによる表示画像は、光学レンズ302Rを介して図に
おいて3時の方向に出射する。ハーフミラー303Rは、発光装置E1Rによる表示画像
を6時方向に反射させる一方で、12時の方向から入射した光を透過させる。
、E1Rによる表示画像を、外の様子と重ね合わせたシースルー状態で観察することがで
きる。また、このヘッドマウント・ディスプレイ300において、視差を伴う両眼画像の
うち、左眼用画像を発光装置E1Lに表示させ、右眼用画像を発光装置E1Rに表示させ
ると、装着者に対し、表示された画像があたかも奥行きや立体感を持つかのように知覚さ
せることができる(3D表示)。
ノッチフィルター20は、図3に示す透過率特性と反転させた反射率特性を示す。つまり
、480〜520nmおよび550〜600nmの波長の光、つまり、赤色と緑色の間の
波長の光と、緑色と青色の間の波長の光に対する反射率が高くなる。その結果、発光装置
E1を直視した場合には、色味が認識されることがある。しかしながら、発光装置E1を
ヘッドマウントディスプレイ300に用いる場合には、発光装置E1が直視されないので
、好適に用いることができる。また、発光装置E1は小型で高精細化が可能なので、ヘッ
ドマウントディスプレイ300のような小型の装置に好適に用いることができる。
デオカメラやレンズ交換式のデジタルカメラなどにおける電子式ビューファインダーにも
適用可能である。
図13は、上述の実施形態に係る発光装置E1を表示装置として採用したモバイル型の
パーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。パーソナルコンピュータ2000は
、表示装置としての発光装置E1と本体部2010とを備える。本体部2010には、電
源スイッチ2001およびキーボード2002が設けられている。この発光装置E1は有
機EL素子を使用しているので、視野角が広く見易い画面を表示できる。
帯電話機3000は、複数の操作ボタン3001およびスクロールボタン3002、なら
びに表示装置としての発光装置E1を備える。スクロールボタン3002を操作すること
によって、発光装置E1に表示される画面がスクロールされる。
onal Digital Assistant、あるいは、スマートフォン)の構成を示す。情報携帯端末40
00は、複数の操作ボタン4001および電源スイッチ4002、ならびに表示装置とし
ての発光装置E1を備える。電源スイッチ4002を操作すると、住所録やスケジュール
帳といった各種の情報が発光装置E1に表示される。
たもののほか、デジタルスチルカメラ、テレビ、ビデオカメラ、カーナビゲーション装置
、ページャ、電子手帳、電子ペーパー、電卓、ワードプロセッサー、ワークステーション
、テレビ電話、POS端末、プリンター、スキャナー、複写機、ビデオプレーヤ、タッチ
パネルを備えた機器等などが挙げられる。
、19……カラーフィルター、20,21……ノッチフィルター、22……第2基板、E
1,E2……発光装置、U1,U2…発光素子。
Claims (6)
- 基板と、
前記基板上に配置された反射層と、
前記反射層上に配置された発光層と、
前記発光層上に配置された半透過反射層とを備え、前記反射層と前記半透過反射層の間
の光路長がいずれの発光領域においても同じとなるように調整された共振構造を有する発
光装置であって、
前記反射層とは異なる層に配置され、前記発光層からの発光光から、赤色、緑色、およ
び青色の波長の光を取り出すカラーフィルターと、
前記カラーフィルターとは異なる層に配置され、前記赤色の波長と前記緑色の波長との
間の波長の光と、前記緑色の波長と前記青色の波長との間の波長の光とに対して、透過率
の極小値を有するノッチフィルターと、を備える、
ことを特徴とする発光装置。 - 前記反射層から前記半透過反射層間の光路長をD、前記反射層での反射における位相シ
フトをφL、前記半透過反射層での反射における位相シフトをφU、前記反射層と前記半
透過反射層兼対向電極の間に発生する定在波のピーク波長をλ、2以下の整数をmとした
とき、
D={(2πm+φL+φU)/4π}λ
を満たし、
前記整数mの値が0である、
ことを特徴とする請求項1に記載の発光装置。 - 前記光の取り出し側に配置された光取り出し側基板を備え、
前記ノッチフィルターは、前記光取り出し側基板の光取り出し側に配置された第1のノ
ッチフィルターと、前記光取り出し側基板の前記発光層側に配置された第2のノッチフィ
ルターとを含む、
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の発光装置。 - 前記第1のノッチフィルターの光学特性は、前記第2のノッチフィルターの光学特性と
異なる、
ことを特徴とする請求項3に記載の発光装置。 - 請求項1ないし請求項4のいずれか一記載の発光装置を備えたことを特徴とする電子機
器。 - 前記発光装置の発光面と、前記電子機器の表示面との間に、光学部材を備えることを特
徴とする請求項5に記載の電子機器。
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