JP2021015954A5 - - Google Patents
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Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US16/925,477 US11342364B2 (en) | 2019-07-11 | 2020-07-10 | Thin-film transistor substrate |
| CN202010662297.3A CN112216705B (zh) | 2019-07-11 | 2020-07-10 | 薄膜晶体管衬底 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019128954 | 2019-07-11 | ||
| JP2019128954 | 2019-07-11 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021015954A JP2021015954A (ja) | 2021-02-12 |
| JP2021015954A5 true JP2021015954A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2023-03-14 |
| JP7497185B2 JP7497185B2 (ja) | 2024-06-10 |
Family
ID=74530750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020055139A Active JP7497185B2 (ja) | 2019-07-11 | 2020-03-25 | 薄膜トランジスタ基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7497185B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20240276795A1 (en) * | 2021-07-13 | 2024-08-15 | Sharp Display Technology Corporation | Display device |
| CN113629070B (zh) * | 2021-07-21 | 2022-07-12 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 阵列基板、阵列基板的制作方法及显示面板 |
| CN115274689A (zh) * | 2022-07-06 | 2022-11-01 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 驱动基板及驱动基板的制备方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5174988B2 (ja) | 2010-04-07 | 2013-04-03 | シャープ株式会社 | 回路基板および表示装置 |
| US9647152B2 (en) | 2013-03-01 | 2017-05-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Sensor circuit and semiconductor device including sensor circuit |
| WO2016006530A1 (ja) | 2014-07-11 | 2016-01-14 | シャープ株式会社 | 半導体装置およびその製造方法、ならびに液晶表示装置 |
-
2020
- 2020-03-25 JP JP2020055139A patent/JP7497185B2/ja active Active
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