JP2021001927A - 表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】信頼性の低下を抑制する表示装置を提供する。【解決手段】第１画素を備えた第１表示部ＤＡ１と、第１表示部に隣接し、第２画素を備えた第２表示部ＤＡ２と、第１表示部及び第２表示部に設けられた液晶層ＬＣと、第１表示部及び第２表示部を囲むとともに、第１表示部と第２表示部との間に設けられ、液晶層を封止するシールＳＥと、第１内壁ＩＷ１及び第２内壁ＩＷ２と、を備え、シールは、第１表示部を囲む第１内側面Ｉ１と、第２表示部を囲む第２内側面Ｉ２と、を有し、第１内壁は、第１内側面に沿って設けられ、第２内壁は、前記第２内側面に沿って設けられている、表示装置。【選択図】図２

Description

本発明の実施形態は、表示装置に関する。

液晶表示装置を製造するに際して、一方の基板に液晶材料を滴下した後に他方の基板を貼り合わせる製造方法が実用化されている。このような製造方法においては、完全に硬化する以前のシールと液晶材料とが接触し、液晶材料がシールに差し込むことがある。特に、基板とシールとの間に液晶材料が差し込んだ場合には、シールの接着強度が低下し、信頼性の低下を招くおそれがある。
このような課題に対して、例えば、シールの全周を囲む壁状スペーサを設ける技術が提案されている。

特開２０１６−５７４８７号公報

本実施形態の目的は、信頼性の低下を抑制する表示装置を提供することにある。

本実施形態によれば、
第１画素を備えた第１表示部と、前記第１表示部に隣接し、第２画素を備えた第２表示部と、前記第１表示部及び前記第２表示部に設けられた液晶層と、前記第１表示部及び前記第２表示部を囲むとともに、前記第１表示部と前記第２表示部との間に設けられ、前記液晶層を封止するシールと、第１内壁及び第２内壁と、を備え、前記シールは、前記第１表示部を囲む第１内側面と、前記第２表示部を囲む第２内側面と、を有し、前記第１内壁は、前記第１内側面に沿って設けられ、前記第２内壁は、前記第２内側面に沿って設けられている、表示装置が提供される。

図１は、本実施形態の表示装置ＤＳＰの一構成例を示す平面図である。 図２は、図１に示したシールＳＥを含む表示パネルＰＮＬの主要部を示す平面図である。 図３は、表示パネルＰＮＬの製造方法を説明するための図である。 図４は、表示パネルＰＮＬの製造方法を説明するための図である。 図５は、表示パネルＰＮＬの製造方法を説明するための図である。 図６は、図５に示したＡ−Ｂに沿った断面図である。 図７は、第１基板ＳＵＢ１の主要な構成を説明するための図である。 図８は、信号線Ｓと第２シールＳＥ２との関係を示す平面図である。 図９は、図８に示す領域Ａを拡大した平面図である。 図１０は、第１基板ＳＵＢ１における第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２の一部を示す平面図である。 図１１は、図１０に示したＣ−Ｄ線に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。 図１２は、他の構成例を示す断面図である。 図１３は、他の構成例を示す断面図である。 図１４は、他の構成例を示す断面図である。 図１５は、他の構成例を示す断面図である。 図１６は、他の構成例を示す断面図である。 図１７は、他の構成例を示す断面図である。 図１８は、他の構成例を示す断面図である。 図１９は、他の構成例を示す断面図である。

以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。

図１は、本実施形態の表示装置ＤＳＰの一構成例を示す平面図である。本実施形態においては、表示装置ＤＳＰの一例として、液晶表示装置について説明する。
表示装置ＤＳＰは、表示パネルＰＮＬと、ＩＣチップ１と、を備えている。ここでは便宜上、表示パネルＰＮＬの短辺が延びる方向を第１方向Ｘとし、表示パネルＰＮＬの長辺が延びる方向を第２方向Ｙとし、表示パネルＰＮＬの厚さ方向を第３方向Ｚとする。一例では、第１方向Ｘ、第２方向Ｙ、及び、第３方向Ｚは、互いに直交しているが、９０度以外の角度で交差していてもよい。

表示パネルＰＮＬは、画像を表示する第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２と、遮光部ＬＳと、を備えている。第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２は、第２方向Ｙに並んでいる。第１表示部ＤＡ１は、複数の第１画素ＰＸ１を備えている。第２表示部ＤＡ２は、複数の第２画素ＰＸ２を備えている。複数の第１画素ＰＸ１及び複数の第２画素ＰＸ２は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙにマトリクス状に配置されている。第１画素ＰＸ１及び第２画素ＰＸ２の各々の構成については後述する。図１に示した例では、第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２は、いずれも四角形状に形成されているが、他の多角形状に形成されてもよいし、円形状または楕円形状に形成されてもよい。

遮光部ＬＳは、斜線で示すように、第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２をそれぞれ囲むように設けられている。図１に示した例では、遮光部ＬＳは、表示パネルＰＮＬの外縁に沿った枠状に形成された第１遮光部ＬＳ１と、第１表示部ＤＡ１と第２表示部ＤＡ２との間で第１方向Ｘに延びる直線状に形成された第２遮光部ＬＳ２とを有している。第２遮光部ＬＳ２は、第１遮光部ＬＳ１に繋がっている。第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２の各々は、遮光部ＬＳによって規定されている。

なお、図示を省略するが、第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２には、第１方向Ｘに延びる線状遮光部または第２方向Ｙに延びる線状遮光部が設けられる場合がある。あるいは、第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２には、第１方向Ｘに延びる線状遮光部と、第２方向Ｙに延びる線状遮光部とが別々の工程で形成される場合がある。このような線状遮光部は、遮光部ＬＳに繋がっている。
また、第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２には、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに沿って形成された格子状遮光部が設けられる場合がある。このような格子状遮光部は、遮光部ＬＳに繋がっている。

表示パネルＰＮＬは、第１基板ＳＵＢ１と、第２基板ＳＵＢ２と、液晶層ＬＣと、シールＳＥと、を備えている。第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２は、第３方向Ｚに重畳している。遮光部ＬＳは、第２基板ＳＵＢ２に設けられている。液晶層ＬＣは、液晶分子を含む液晶材料からなり、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間に保持され、第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２に設けられている。第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とのセルギャップは、第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２にそれぞれ設けられたスペーサによって形成される。シールＳＥは、フィラー（シール内スペーサ）を含み、セルギャップの維持に貢献している。

シールＳＥは、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とを接着するとともに、液晶層ＬＣを封止している。一例では、シールＳＥは、途切れることなく連続したループ状に形成されており、液晶注入口を含まない。図１に示した例では、シールＳＥは、表示パネルＰＮＬの外縁に沿った枠状に形成された第１シールＳＥ１と、第１表示部ＤＡ１と第２表示部ＤＡ２との間で第１方向Ｘに延びる直線状に形成された第２シールＳＥ２とを有している。第１シールＳＥ１は、その全体が第１遮光部ＬＳ１に重畳し、第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２を囲むように設けられている。第２シールＳＥ２は、その全体が第２遮光部ＬＳ２に重畳し、第１表示部ＤＡ１と第２表示部ＤＡ２との間に設けられ、第１シールＳＥ１に繋がっている。このようなシールＳＥがディスペンサによって描画される場合、第１シールＳＥ１及び第２シールＳＥ２は、一筆で描画することができる。なお、シールＳＥの形状は、図示した例に限らない。例えば、第２シールＳＥ２は、第１シールＳＥ１から離間していてもよい。

第２シールＳＥ２は、第１表示部ＤＡ１と第２表示部ＤＡ２とを連通する少なくとも１つの開口ＯＰを有している。図１に示した例では、第２シールＳＥ２は、１つの開口ＯＰを有している。開口ＯＰでは、第１表示部ＤＡ１の液晶材料の第２表示部ＤＡ２への移動、あるいは、第２表示部ＤＡ２の液晶材料の第１表示部ＤＡ１への移動が許容される。換言すると、第１表示部ＤＡ１は、第１基板ＳＵＢ１、第２基板ＳＵＢ２、第１シールＳＥ１及び第２シールＳＥ２で囲まれた第１室Ｒ１を有しており、第２表示部ＤＡ２は、第１基板ＳＵＢ１、第２基板ＳＵＢ２、第１シールＳＥ１及び第２シールＳＥ２で囲まれた第２室Ｒ２を有している。また、第２シールＳＥ２には、第１室Ｒ１と第２室Ｒ２とを連通する連通路（開口ＯＰ）が形成されており、これら第１室Ｒ１、第２室Ｒ２、及び、連通路が液晶層ＬＣで充填されている。これによって、液晶層ＬＣの液晶材料は、連通路を通じて第１室Ｒ１から第２室Ｒ２への移動、及び、第２室Ｒ２から第１室Ｒ１への移動が可能となる。

第１基板ＳＵＢ１は、実装部ＭＡを有している。ＩＣチップ１は、実装部ＭＡに実装されている。実装部ＭＡは、点線で示したフレキシブルプリント回路基板２を電気的に接続するための端子部ＴＡを備えている。なお、ＩＣチップ１は、フレキシブルプリント回路基板２に実装されていてもよい。

図２は、図１に示したシールＳＥを含む表示パネルＰＮＬの主要部を示す平面図である。表示パネルＰＮＬは、第１内壁ＩＷ１及び第２内壁ＩＷ２と、第１外壁ＯＷ１及び第２外壁ＯＷ２と、を備えている。第１内壁ＩＷ１は、第１表示部ＤＡ１とシールＳＥとの間に設けられている。第２内壁ＩＷ２は、第２表示部ＤＡ２とシールＳＥとの間に設けられている。

より具体的には、シールＳＥは、第１表示部ＤＡ１を囲む第１内側面Ｉ１と、第２表示部ＤＡ２を囲む第２内側面Ｉ２と、第１外側面Ｏ１と、第２外側面Ｏ２と、を有している。シールＳＥのうち、第１シールＳＥ１においては、第１外側面Ｏ１は第１内側面Ｉ１の反対側に位置し、第２外側面Ｏ２は第２内側面Ｉ２の反対側に位置している。また、シールＳＥのうち、第２シールＳＥ２においては、第１内側面Ｉ１の反対側に第２内側面Ｉ２が位置している。

第１内壁ＩＷ１は第１内側面Ｉ１に沿って設けられ、第２内壁ＩＷ２は第２内側面Ｉ２に沿って設けられている。第１外壁ＯＷ１は第１外側面Ｏ１に沿って設けられ、第２外壁ＯＷ２は第２外側面Ｏ２に沿って設けられている。つまり、シールＳＥのうち、第１表示部ＤＡ１の周囲の第１シールＳＥ１は第１内壁ＩＷ１と第１外壁ＯＷ１との間に設けられ、第２表示部ＤＡ２の周囲の第１シールＳＥ１は第２内壁ＩＷ２と第２外壁ＯＷ２との間に設けられ、第１表示部ＤＡ１と第２表示部ＤＡ２の間の第２シールＳＥ２は第１内壁ＩＷ１と第２内壁ＩＷ２との間に設けられている。

第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２の各々は、概ね四角形状に形成されている。シールＳＥは、第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２の各辺に沿って設けられている。例えば、第１表示部ＤＡ１に注目すると、第１表示部ＤＡ１は、４つのエッジＥ１１乃至Ｅ１４と、４つのコーナーＣ１１乃至Ｃ１４と、を有している。第１内壁ＩＷ１及び第１外壁ＯＷ１は、エッジＥ１１乃至Ｅ１４に沿ってそれぞれライン状に形成され、コーナーＣ１１乃至Ｃ１４に対応してラウンド状（あるいは円弧状）に形成されている。
同様に、第２表示部ＤＡ２は、４つのエッジＥ２１乃至Ｅ２４と、４つのコーナーＣ２１乃至Ｃ２４と、を有している。第２内壁ＩＷ２及び第２外壁ＯＷ２は、エッジＥ２１乃至Ｅ２４に沿ってそれぞれライン状に形成され、コーナーＣ２１乃至Ｃ２４に対応してラウンド状（あるいは円弧状）に形成されている。
第１内壁ＩＷ１及び第２内壁ＩＷ２は、第１表示部ＤＡ１と第２表示部ＤＡ２との間においては、ライン状に形成されている。第１外壁ＯＷ１及び第２外壁ＯＷ２は、それぞれコーナーＣ１３及びＣ２３においてラウンド状に形成され、両者が繋がっている。同様に、第１外壁ＯＷ１及び第２外壁ＯＷ２は、それぞれコーナーＣ１４及びＣ２４においてもラウンド状に形成され、繋がっている。

エッジＥ１１乃至Ｅ１３に沿った第１シールＳＥ１は、第１内壁ＩＷ１と第１外壁ＯＷ１との間においてライン状に形成されている。エッジＥ２１乃至Ｅ２３に沿った第１シールＳＥ１は、第２内壁ＩＷ２と第２外壁ＯＷ２との間においてライン状に形成されている。エッジＥ１４及びＥ２４に沿った第２シールＳＥ２は、第１内壁ＩＷ１と第２内壁ＩＷ２との間においてライン状に形成されている。また、シールＳＥは、コーナーＣ１１乃至Ｃ１４、及び、コーナーＣ２１乃至Ｃ２４に対応してラウンド状に形成されている。

第１内壁ＩＷ１及び第２内壁ＩＷ２は、シールＳＥと液晶層ＬＣとの間に設けられており、液晶層ＬＣとシールＳＥとの接触を抑制している。第１内壁ＩＷ１及び第２内壁ＩＷ２は、それぞれ間隙ＩＳを有している。間隙ＩＳにおいては、液晶層ＬＣがシールＳＥに接している。なお、第１外壁ＯＷ１及び第２外壁ＯＷ２がそれぞれ間隙を有していてもよい。また、開口ＯＰにおいては、液晶材料の移動が阻害されないように、第１内壁ＩＷ１及び第２内壁ＩＷ２のいずれも設けないことが望ましい。

次に、表示パネルＰＮＬの製造方法の一例について図３乃至図５を参照しながら説明する。なお、以下の製造方法では、本実施形態の第１内壁、第２内壁、第１外壁、及び、第２外壁のいずれも設けられていないものとして説明する。

まず、図３に示すように、第１マザー基板Ｍ１を用意する。第１マザー基板Ｍ１は、大型のガラス基板をベースとして形成され、複数の有効領域ＡＡを備えている。図中の一点鎖線は、第１マザー基板Ｍ１のカットラインＣＬを示している。有効領域ＡＡの各々は、カットラインＣＬで囲まれている。後の工程で第１マザー基板Ｍ１がカットラインＣＬでカットされた際に、有効領域ＡＡの各々は、各種絶縁膜及び各種導電層等を備え、上記の第１基板ＳＵＢ１を構成する。
第１マザー基板Ｍ１の各有効領域ＡＡにおいて、第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２を囲むようにシールＳＥを形成するとともに、第１マザー基板Ｍ１の最外周において、すべての有効領域ＡＡを囲むように最外周シールＳＯを形成する。最外周シールＳＯは、途切れることなく連続したループ状に形成されている。この最外周シールＳＯは、第１マザー基板Ｍ１と第２マザー基板Ｍ２とを貼り合わせた後に、フッ化水素酸によってガラス基板を化学的に研磨（薄板化）する際に、各有効領域ＡＡをフッ化水素酸から保護するために設けられる。

続いて、図４に示すように、各有効領域ＡＡにおいて、シールＳＥで囲まれた内側に液晶材料ＬＭを滴下する。液晶材料ＬＭの滴下量は、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とのセルギャップ等に基づいて設定される。第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２の各々において、第１方向Ｘに沿った液晶材料ＬＭの滴下位置のピッチはほぼ等しく設定され、また、第２方向Ｙに沿った液晶材料ＬＭの滴下位置のピッチもほぼ等しく設定される。

続いて、図５に示すように、第２マザー基板Ｍ２を用意する。第２マザー基板Ｍ２は、大型のガラス基板をベースとして形成されている。そして、大気圧よりも減圧された環境（例えば真空環境）において、第１マザー基板Ｍ１と第２マザー基板Ｍ２とを貼り合わせる。その後、大気圧の環境に解放されると、第１マザー基板Ｍ１及び第２マザー基板Ｍ２に大気圧が加わり、滴下された液晶材料ＬＭと、硬化前のシールＳＥ及び最外周シールＳＯとが広がり、各有効領域ＡＡでは、液晶材料ＬＭとシールＳＥとが接触する。このとき、隣接するシールＳＥの間には、大気圧よりも減圧された領域（例えば真空状態の領域）ＡＢが形成される。このため、シールＳＥは、液晶材料ＬＭに向かって内側に広がるとともに、領域ＡＢに向かって外側に広がる。

図６は、図５に示したＡ−Ｂに沿った断面図である。
図６の（Ａ）は、大気圧の環境に解放された直後の様子を模式的に示している。液晶材料ＬＭには、シールＳＥに向かって広がろうとする応力Ｆ１が発生する。シールＳＥには、液晶材料ＬＭに向かって広がろうとする応力Ｆ２と、領域ＡＢに向かって広がろうとする応力Ｆ３とが発生する。領域ＡＢが高真空状態の場合、応力Ｆ３が増大し、これに伴って応力Ｆ２が低下する。
図６の（Ｂ）は、液晶材料ＬＭと硬化前のシールＳＥとが接触した様子を模式的に示している。図６の（Ａ）に示したように応力Ｆ２の低下に伴い、応力Ｆ１の大きさが応力Ｆ２の大きさを上回ると、液晶材料ＬＭは硬化前のシールＳＥに差し込んでくる。特に、液晶材料ＬＭは、シールＳＥと第１マザー基板Ｍ１との界面、あるいは、シールＳＥと第２マザー基板Ｍ２との界面に差し込みやすい。このように液晶材料ＬＭが差し込む現象は、シールＳＥと各基板との接着強度の低下を招く。

液晶材料ＬＭの滴下位置がシールＳＥに近接している領域では、液晶材料ＬＭの応力Ｆ１が特に大きく、シールＳＥの応力Ｆ２の大きさとの差が大きいため、差し込みが発生しやすい。すべての滴下位置がシールＳＥから十分に離れていれば、差し込みが発生しにくくなる。しかしながら、製造装置の都合や、画面サイズ、基板サイズなどの種々の制約によって、すべての滴下位置を所望の位置に設定できるとは限らない。このため、種々の制約を受けることなく、差し込みを抑制することが要求される。

本実施形態によれば、図２を参照して説明したように、第１内壁ＩＷ１がシールＳＥの第１内側面Ｉ１に沿って設けられ、また、第２内壁ＩＷ２が第２内側面Ｉ２に沿って設けられている。このため、シールＳＥと液晶層ＬＣとの接触面積を低減することができる。これにより、上記の製造工程において、液晶材料ＬＭの応力Ｆ１がシールＳＥに直接作用せず、液晶材料ＬＭのシールＳＥへの差し込み（特に、シールと第１基板との間、及び、シールと第２基板との間への差し込み）が抑制される。したがって、種々の制約を受けることなく、シールＳＥの接着強度の低下が抑制され、信頼性の低下が抑制される。

また、第１内壁ＩＷ１及び第２内壁ＩＷ２は、第１表示部ＤＡ１と第２表示部ＤＡ２との間に設けられている。このため、第１表示部ＤＡ１に滴下された液晶材料ＬＭ、及び、第２表示部ＤＡ２に滴下された液晶材料ＬＭのそれぞれの応力が、第１表示部ＤＡ１と第２表示部ＤＡ２との間の第２シールＳＥ２に直接作用せず、第２シールＳＥ２への液晶材料ＬＭの差し込みが抑制される。

また、第１外壁ＯＷ１がシールＳＥの第１外側面Ｏ１に沿って設けられ、また、第２外壁ＯＷ２が第２外側面Ｏ２に沿って設けられている。このため、上記の製造工程において、シールＳＥの外側に減圧された領域ＡＢが形成されている場合であっても、第１外壁ＯＷ１及び第２外側面Ｏ２によってシールＳＥの過度の広がりが抑制される。また、図６の（Ａ）に示した応力Ｆ３の増大が抑制され、応力Ｆ２の低下が抑制される。このため、応力Ｆ１の大きさと、応力Ｆ２の大きさとの差が小さくなり、液晶材料ＬＭの差し込みが抑制される。

また、第１内壁ＩＷ１及び第２内壁ＩＷ２には、間隙ＩＳが設けられている。このため、例えば真空環境の製造過程で第１マザー基板Ｍ１と第２マザー基板Ｍ２とを貼り合わせた際に、シールＳＥと第１内壁ＩＷ１との間、あるいは、シールＳＥと第２内壁ＩＷ２との間に気泡（真空の空隙）が形成されたとしても、間隙ＩＳが気泡の逃げ道を形成することができる。これにより、気泡がシールＳＥ付近に取り残されたり、後工程で気泡が液晶層ＬＣに取り込まれたりすることが抑制される。

なお、第１内壁ＩＷ１及び第２内壁ＩＷ２の各々は、差し込みの発生が予想される領域（滴下位置とシールとが近接する領域）に、部分的に設けられてもよい。

図７は、第１基板ＳＵＢ１の主要な構成を説明するための図である。
第１基板ＳＵＢ１は、第１表示部ＤＡ１に設けられた複数の走査線Ｇ１と、第２表示部ＤＡ２に設けられた複数の走査線Ｇ２と、第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２に亘って設けられた複数の信号線Ｓと、第１表示部ＤＡ１に近接して設けられたゲートドライバＧＤ１１及びＧＤ１２と、第２表示部ＤＡ２に近接して設けられたゲートドライバＧＤ２１及びＧＤ２２と、を備えている。

ゲートドライバＧＤ１１及びＧＤ２１は、互いにバス配線Ｂ１を介して接続されている。ゲートドライバＧＤ１２及びＧＤ２２は、互いにバス配線Ｂ２を介して接続されている。バス配線Ｂ１及びＢ２は、例えばＩＣチップ１と電気的に接続されている。バス配線Ｂ１及びＢ２の各々は、例えば、スタートパルスを供給するための配線、クロックを供給するための配線、高電位電源線（ＶＧＨ）、低電位電源線（ＶＧＬ）などを含んでいる。バス配線Ｂ１のうち、ゲートドライバＧＤ１１とゲートドライバＧＤ２１との間の領域を中継部ＢＲ１と称する。また、バス配線Ｂ２のうち、ゲートドライバＧＤ１２とゲートドライバＧＤ２２との間の領域を中継部ＢＲ２と称する。これらの中継部ＢＲ１及びＢＲ２には、回路構成が含まれない。

図１等に示した第１遮光部ＬＳ１及び第２遮光部ＬＳ２と、ゲートドライバＧＤ１２及びＧＤ２２との関係性について着目する。ゲートドライバＧＤ１２及びＧＤ２２は、第１遮光部ＬＳ１と重畳している。中継部ＢＲ２は、第１遮光部ＬＳ１と第２遮光部ＬＳ２との接続部（交差部）に設けられている。このような接続部付近には、ゲートドライバＧＤ１２及びＧＤ２２のいずれの回路構成も設けられていない。なお、中継部ＢＲ１も同様に、接続部に設けられている。

複数の走査線Ｇ１は、ゲートドライバＧＤ１１及びＧＤ１２の少なくとも一方と電気的に接続されている。複数の走査線Ｇ２は、ゲートドライバＧＤ２１及びＧＤ２２の少なくとも一方と電気的に接続されている。

ＩＣチップ１は、ディスプレイドライバＤＤを内蔵している。ディスプレイドライバＤＤは、画像を表示する画像表示モードにおいて映像信号等の画像表示に必要な信号を表示パネルＰＮＬに出力する。複数の信号線Ｓは、ディスプレイドライバＤＤと電気的に接続されている。信号線Ｓの各々は、第１画素ＰＸ１及び第２画素ＰＸ２とそれぞれ電気的に接続されている。

例えば、第１画素ＰＸ１において、第１基板ＳＵＢ１は、スイッチング素子ＳＷ１と、画素電極ＰＥ１と、を備えている。スイッチング素子ＳＷ１は、走査線Ｇ１及び信号線Ｓと電気的に接続されている。画素電極ＰＥ１は、スイッチング素子ＳＷ１と電気的に接続されている。また、第１基板ＳＵＢ１は、共通電極ＣＥ１を備えている。共通電極ＣＥ１は、複数の第１画素ＰＸ１に対して共通に設けられている。なお、共通電極ＣＥ１は、第２基板ＳＵＢ２に設けられていてもよい。容量ＣＳ１は、例えば、共通電極ＣＥ１と同電位の電極、及び、画素電極ＰＥ１と同電位の電極の間に形成される。第１表示部ＤＡ１においては、液晶層ＬＣは、画素電極ＰＥ１と共通電極ＣＥ１との間に生じる電界によって駆動される。

第２画素ＰＸ２において、第１基板ＳＵＢ１は、スイッチング素子ＳＷ２と、画素電極ＰＥ２と、を備えている。スイッチング素子ＳＷ２は、走査線Ｇ２及び信号線Ｓと電気的に接続されている。画素電極ＰＥ２は、スイッチング素子ＳＷ２と電気的に接続されている。また、第１基板ＳＵＢ１は、共通電極ＣＥ２を備えている。共通電極ＣＥ２は、複数の第２画素ＰＸ２に対して共通に設けられている。なお、共通電極ＣＥ２は、第２基板ＳＵＢ２に設けられていてもよい。容量ＣＳ２は、例えば、共通電極ＣＥ２と同電位の電極、及び、画素電極ＰＥ２と同電位の電極の間に形成される。第２表示部ＤＡ２においては、液晶層ＬＣは、画素電極ＰＥ２と共通電極ＣＥ２との間に生じる電界によって駆動される。なお、第１画素ＰＸ１及び第２画素ＰＸ２は、それぞれカラーフィルタを備えるが、これらのカラーフィルタは第１基板ＳＵＢ１に設けられてもよいし、第２基板ＳＵＢ２に設けられてもよい。

図８は、信号線Ｓと第２シールＳＥ２との関係を示す平面図である。
信号線Ｓの各々は、第２遮光部ＬＳ２と交差し、第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２に亘って途切れることなく設けられている。複数の信号線Ｓのうち、第１信号線Ｓ１は、第２遮光部ＬＳ２において、第２シールＳＥ２の開口ＯＰと重畳している。また、第２信号線Ｓ２は、第２遮光部ＬＳ２において、第２シールＳＥ２と交差している。
なお、第２遮光部ＬＳ２及び第２シールＳＥ２に重畳する走査線は設けられていない。あるいは、第２遮光部ＬＳ２及び第２シールＳＥ２に重畳する領域では、信号線Ｓと交差する配線は設けられていない。

図９は、図８に示す領域Ａを拡大した平面図である。この平面図では、主要部のみを図示している。複数の第２信号線Ｓ２は、第１表示部ＤＡ１と第２表示部ＤＡ２との間において、第１内壁ＩＷ１、第２シールＳＥ２、及び、第２内壁ＩＷ２とそれぞれ交差している。また、第２信号線Ｓ２は、間隙ＩＳを介して第２シールＳＥと交差する場合がある。第２信号線Ｓ２のピッチが間隙ＩＳの幅より小さい場合、１本以上の第２信号線Ｓ２が間隙ＩＳを通るように設けられる。

図１０は、第１基板ＳＵＢ１における第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２の一部を示す平面図である。なお、ここでは、説明に必要な主要部のみを図示し、第１遮光部ＬＳ１及び第２遮光部ＬＳ２は点線で示し、第１表示部ＤＡ１及び第２表示部ＤＡ２に設けられる線状遮光部あるいは格子状遮光部の図示を省略している。

第１基板ＳＵＢ１は、給電線Ｆと、導電膜ＴＦ１及びＴＦ２と、を備えている。給電線Ｆは、共通電極ＣＥ１及びＣＥ２にコモン電位を供給するための配線であり、後述するが、例えば信号線Ｓと同一層に設けられている。導電膜ＴＦ１及びＴＦ２の各々は、第１遮光部ＬＳ１及び第２遮光部ＬＳ２に重畳している。導電膜ＴＦ２は、導電膜ＴＦ１から離間している。導電膜ＴＦ１の一部、及び、導電膜ＴＦ２の一部は、それぞれ給電線Ｆに重畳している。導電膜ＴＦ１は、第１表示部ＤＡ１の周囲に設けられ、画素電極ＰＥ１から離間している。導電膜ＴＦ１は、第１表示部ＤＡ１に隣接する側において、画素電極ＰＥ１と同様の形状のダミーパターンＤＰ１を有している。導電膜ＴＦ２は、第２表示部ＤＡ２の周囲に設けられ、画素電極ＰＥ２から離間している。導電膜ＴＦ２は、第２表示部ＤＡ２に隣接する側において、画素電極ＰＥ２と同様の形状のダミーパターンＤＰ２を有している。ダミーパターンＤＰ１及びＤＰ２は、いずれも第１遮光部ＬＳ１及び第２遮光部ＬＳ２に重畳している。

共通電極ＣＥ１は、第１表示部ＤＡ１において画素電極ＰＥ１に重畳している。また、共通電極ＣＥ１は、ダミーパターンＤＰ１を含む導電膜ＴＦ１に重畳している。第１遮光部ＬＳ１に重畳する接続部ＣＮ１において、給電線Ｆ、共通電極ＣＥ１、及び、導電膜ＴＦ１は、互いに電気的に接続されている。つまり、導電膜ＴＦ１は、共通電極ＣＥ１と同電位である。
共通電極ＣＥ２は、共通電極ＣＥ１から離間している。共通電極ＣＥ２は、第２表示部ＤＡ２において画素電極ＰＥ２に重畳している。また、共通電極ＣＥ２は、ダミーパターンＤＰ２を含む導電膜ＴＦ２に重畳している。第１遮光部ＬＳ１に重畳する接続部ＣＮ２において、給電線Ｆ、共通電極ＣＥ２、及び、導電膜ＴＦ２は、互いに電気的に接続されている。

図１１は、図１０に示したＣ−Ｄ線に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。ここでは、第１表示部ＤＡ１の断面構造について説明するが、第２表示部ＤＡ２も第１表示部ＤＡ１と同様の断面構造を有している。

第１基板ＳＵＢ１は、絶縁基板１０、絶縁膜１１乃至１３、バス配線Ｂ１、給電線Ｆ、信号線Ｓ、金属配線ＭＬ、共通電極ＣＥ１、導電膜ＴＦ１、配向膜ＡＬ１などを備えている。なお、図７に示した走査線Ｇ１及びＧ２、及び、スイッチング素子ＳＷ１及びＳＷ２は、例えば絶縁基板１０と絶縁膜１１との間に設けられている。バス配線Ｂ１、給電線Ｆ、及び、信号線Ｓは、絶縁膜１１及び１２の間に設けられている。スイッチング素子のドレイン電極ＤＥも、絶縁膜１１及び１２の間に設けられている。金属配線ＭＬは、絶縁膜１２及び１３の間に設けられている。なお、平面視においては、金属配線ＭＬは、第２方向Ｙに沿って延出し、信号線Ｓに重畳するように設けられている。金属配線ＭＬは、共通電極ＣＥ１に接している。つまり、共通電極ＣＥ１が金属配線ＭＬと電気的に接続されている。これにより、第１表示部ＤＡ１において共通電極ＣＥ１が低抵抗化される。
導電膜ＴＦ１は、絶縁膜１３及び配向膜ＡＬ１の間に設けられている。共通電極ＣＥ１と導電膜ＴＦ１との間には、絶縁膜１３が介在している。共通電極ＣＥ１は、接続部ＣＮ１において給電線Ｆに接し、また、導電膜ＴＦ１は、接続部ＣＮ１において共通電極ＣＥ１に接し、互いに電気的に接続されている。これにより、共通電極ＣＥ１及び導電膜ＴＦ１には給電線Ｆからコモン電位が給電される。
画素電極ＰＥ１は、導電膜ＴＦ１と同様に、絶縁膜１３と配向膜ＡＬ１との間に設けられている。画素電極ＰＥ１は、スイッチング素子のドレイン電極ＤＥに接し、互いに電気的に接続されている。第１スペーサＳＰ１は、画素電極ＰＥ１とドレイン電極ＤＥとの接続部に設けられている。

第２基板ＳＵＢ２は、絶縁基板２０、第１遮光部ＬＳ１、第２遮光部ＬＳ２、カラーフィルタ層ＣＦ、オーバーコート層ＯＣ、配向膜ＡＬ２などを備えている。第１遮光部ＬＳ１及び第２遮光部ＬＳ２は、絶縁基板２０とオーバーコート層ＯＣとの間に設けられている。カラーフィルタ層ＣＦは、オーバーコート層ＯＣと配向膜ＡＬ２との間に設けられている。カラーフィルタ層ＣＦは、例えば、赤カラーフィルタＣＦＲ、緑カラーフィルタＣＦＧ、及び、青カラーフィルタＣＦＢを含んでいる。カラーフィルタ層ＣＦは、第１表示部ＤＡ１のみならず、第２表示部ＤＡ２にも設けられ、その一部は第２遮光部ＬＳ２に重畳している。第２スペーサＳＰ２は、第１スペーサＳＰ１に接するように設けられている。これらの第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２は、セルギャップを形成している。

第１シールＳＥ１は、第１遮光部ＬＳ１の直下に設けられ、配向膜ＡＬ１及びＡＬ２にそれぞれ接している。第１シールＳＥ１は、シール内スペーサＳＳ（あるいはフィラーと称する場合も有る）を含んでいる。第２シールＳＥ２も第１シールＳＥ１と同様に構成されている。

絶縁基板１０及び２０は、ガラス基板や樹脂基板などの透明な基板である。絶縁膜１１及び１３は、透明な無機絶縁膜である。絶縁膜１２及びオーバーコート層ＯＣは、透明な有機絶縁膜である。バス配線Ｂ１、給電線Ｆ、信号線Ｓ、ドレイン電極ＤＥ、及び、金属配線ＭＬは、不透明な金属材料によって形成されている。共通電極ＣＥ１、導電膜ＴＦ１、及び、画素電極ＰＥ１は、透明な導電材料によって形成された透明電極である。第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２は、例えば透明な有機絶縁材料によって形成されている。

第１偏光板ＰＬ１を含む第１光学素子ＯＤ１は絶縁基板１０に接着され、第２偏光板ＰＬ２を含む第２光学素子ＯＤ２は絶縁基板２０に接着されている。第１光学素子ＯＤ１及び第２光学素子ＯＤ２の各々は、必要に応じて位相差板等を含んでいてもよい。第１偏光板ＰＬ１及び第２偏光板ＰＬ２は、第１偏光板ＰＬ１の第１偏光軸ＡＸ１と第２偏光板ＰＬ２の第２偏光軸ＡＸ２とがクロスニコルの関係になるように設けられている。

ここで、第１シールＳＥ１を囲む第１内壁ＩＷ１及び第１外壁ＯＷ１の一構成例について説明する。なお、第２内壁ＩＷ２は第１内壁ＩＷ１と同様の断面構造を有し、第２外壁ＯＷ２は第１外壁ＯＷ１と同様の断面構造を有しており、第２内壁ＩＷ２及び第２外壁ＯＷ２の説明は省略する。
第１内壁ＩＷ１は、第１基板ＳＵＢ１に設けられた第１凸部Ｐ１と、第２基板ＳＵＢ２に設けられた第２凸部Ｐ２と、を備えている。第１凸部Ｐ１は、導電膜ＴＦ１上に設けられ、第２基板ＳＵＢ２に向かって突出している。第２凸部Ｐ２は、第１凸部Ｐ１と対向し、オーバーコート層ＯＣ上に設けられ、第１基板ＳＵＢ１に向かって突出している。
第１外壁ＯＷ１は、第１基板ＳＵＢ１に設けられた第３凸部Ｐ３と、第２基板ＳＵＢ２に設けられた第４凸部Ｐ４と、を備えている。第３凸部Ｐ３は、絶縁膜１２上に設けられ、第２基板ＳＵＢ２に向かって突出している。第４凸部Ｐ４は、第３凸部Ｐ３と対向し、オーバーコート層ＯＣ上に設けられ、第１基板ＳＵＢ１に向かって突出している。

第１凸部Ｐ１及び第３凸部Ｐ３は、第１スペーサＳＰ１と同一材料によって形成されている。第１凸部Ｐ１及び第３凸部Ｐ３の少なくとも一部は、配向膜ＡＬ１によって覆われている。第２凸部Ｐ２及び第４凸部Ｐ４は、第２スペーサＳＰ２と同一材料によって形成されている。第２凸部Ｐ２及び第４凸部Ｐ４の少なくとも一部は、配向膜ＡＬ２によって覆われている。
第１凸部Ｐ１及び第３凸部Ｐ３と第１シールＳＥ１との間には、配向膜ＡＬ１が介在しているが、第１凸部Ｐ１及び第３凸部Ｐ３が第１シールＳＥ１と接していてもよい。第２凸部Ｐ２及び第４凸部Ｐ４と第１シールＳＥ１との間には、配向膜ＡＬ２が介在しているが、第２凸部Ｐ２及び第４凸部Ｐ４が第１シールＳＥ１と接していてもよい。また、第１凸部Ｐ１及び第２凸部Ｐ２と第１シールＳＥ１との間に液晶層ＬＣが介在してもよい。第３凸部Ｐ３及び第４凸部Ｐ４と第１シールＳＥ１との間に空気層が介在してもよい。

図１１に示す構成例では、第２凸部Ｐ２は、第３方向Ｚに沿って第１凸部Ｐ１の直上に位置し、第１凸部Ｐ１から離間している。第１凸部Ｐ１と第２凸部Ｐ２との間において、第１シールＳＥ１は液晶層ＬＣに接している。第１凸部Ｐ１と第２凸部Ｐ２との隙間は、図２等で説明した間隙ＩＳと同様に機能する。このため、第１内壁にＩＷ１において、第１凸部Ｐ１と第２凸部Ｐ２とが離間している場合には、図２に示した間隙ＩＳを省略してもよい。

第４凸部Ｐ４は、第３方向Ｚに沿って第３凸部Ｐ３の直上に位置し、第３凸部Ｐ３から離間している。第３凸部Ｐ３と第４凸部Ｐ４との間において、第１シールＳＥ１は空気層に接している。

このような構成例では、表示パネルＰＮＬの製造過程において、第１シールＳＥ１に向かって広がる液晶材料に対して第１凸部Ｐ１及び第２凸部Ｐ２が障壁として機能し、配向膜ＡＬ１と第１シールＳＥ１との間、及び、配向膜ＡＬ２と第１シールＳＥ１との間への液晶材料の差し込みが抑制される。

次に、他の構成例について説明する。なお、図１２乃至図１８に示す各断面図においては、主要部のみを図示し、配向膜ＡＬ１及びＡＬ２などの図示を省略している。

図１２は、他の構成例を示す断面図である。図１２に示す構成例は、図１１に示した構成例と比較して、第１内壁ＩＷ１において第１凸部Ｐ１と第２凸部Ｐ２とが接し、第１外壁ＯＷ１において第３凸部Ｐ３と第４凸部Ｐ４とが接している点で相違している。第１凸部Ｐ１と第２凸部Ｐ２との間において、第１シールＳＥ１は、液晶層ＬＣと接していない。
このような構成例においても、上記の構成例と同様の効果が得られる。加えて、製造過程において、第１シールＳＥ１の内側への広がりが第１内壁ＩＷ１によって抑制され、また、外側への広がりが第１外壁ＯＷ１によって抑制される。また、液晶材料の第１シールＳＥ１への接触が抑制される。

図１３は、他の構成例を示す断面図である。図１３に示す構成例は、図１１に示した構成例と比較して、第１凸部Ｐ１及び第３凸部Ｐ３が省略され、第１内壁ＩＷ１が第２凸部Ｐ２によって構成され、第１外壁ＯＷ１が第４凸部Ｐ４によって構成されている点で相違している。なお、第２凸部Ｐ２及び第４凸部Ｐ４が省略され、第１内壁ＩＷ１が第１凸部Ｐ１によって構成されてもよいし、第１外壁ＯＷ１が第３凸部Ｐ３によって構成されてもよい。つまり、第１内壁ＩＷ１は、第１凸部Ｐ１及び第２凸部Ｐ２の少なくとも一方によって構成されている。また、第１外壁ＯＷ１は、第３凸部Ｐ３及び第４凸部Ｐ４の少なくとも一方によって構成されている。
第２凸部Ｐ２は、第１基板ＳＵＢ１から離間している。第２凸部Ｐ２と第１基板ＳＵＢ１との間において、第１シールＳＥ１は液晶層ＬＣに接している。なお、第２凸部Ｐ２が第１基板ＳＵＢ１に接していてもよい。また、第４凸部Ｐ４は、第１基板ＳＵＢ１から離間しているが、第１基板ＳＵＢ１に接していてもよい。
このような構成例においても、上記の構成例と同様の効果が得られる。

図１４は、他の構成例を示す断面図である。図１４に示す構成例は、図１３に示した構成例と比較して、第１内壁ＩＷ１が第２凸部Ｐ２に重畳する黒色層３１を備え、第１外壁ＯＷ１が第４凸部Ｐ４に重畳する黒色層３２を備えた点で相違している。黒色層３１及び３２は、第１遮光部ＬＳ１とオーバーコート層ＯＣとの間に設けられている。
例えば、第１遮光部ＬＳ１は、第１表示部ＤＡ１において第１方向Ｘに延びる線状遮光部とともに形成され、黒色層３１及び３２は、第１表示部ＤＡ１において第２方向Ｙに延びる線状遮光部とともに形成される。黒色層３１及び３２は、第１遮光部ＬＳ１と同一材料によって形成されている。一例では、第１遮光部ＬＳ１、及び、黒色層３１及び３２は、黒色の有機絶縁材料によって形成されている。オーバーコート層ＯＣは、第１遮光部ＬＳ１、及び、黒色層３１及び３２を覆っている。第２凸部Ｐ２と黒色層３１との間、及び、第４凸部Ｐ４と黒色層３２との間には、それぞれオーバーコート層ＯＣが介在している。
このような構成例においても、上記の構成例と同様の効果が得られる。

図１５は、他の構成例を示す断面図である。図１５に示す構成例は、図１３に示した構成例と比較して、第１内壁ＩＷ１が第２凸部Ｐ２に重畳する着色層３３を備え、第１外壁ＯＷ１が第４凸部Ｐ４に重畳する着色層３４を備えた点で相違している。着色層３３及び３４は、第１遮光部ＬＳ１とオーバーコート層ＯＣとの間に設けられている。
着色層３３及び３４は、例えば、図１１に示した赤カラーフィルタＣＦＲ、緑カラーフィルタＣＦＧ、青カラーフィルタＣＦＢのいずれかと同一材料によって形成される。なお、着色層３３の色は、着色層３４の色と同じであってもよいし、着色３４の色と異なっていてもよい。また、着色層３３及び３４の各々は、２つ以上のカラーフィルタが積層された積層体であってもよい。オーバーコート層ＯＣは、第１遮光部ＬＳ１、及び、着色層３３及び３４を覆っている。第２凸部Ｐ２と着色層３３との間、及び、第４凸部Ｐ４と着色層３４との間には、それぞれオーバーコート層ＯＣが介在している。
このような構成例においても、上記の構成例と同様の効果が得られる。

図１６は、他の構成例を示す断面図である。図１６に示す構成例は、図１３に示した構成例と比較して、第１内壁ＩＷ１が第２凸部Ｐ２の代わりに黒色層３１を備え、第１外壁ＯＷ１が第４凸部Ｐ４の代わりに黒色層３２を備えた点で相違している。黒色層３１及び３２は、図１４に示した構成例と同様に形成される。オーバーコート層ＯＣは、第１遮光部ＬＳ１、及び、黒色層３１及び３２を覆っている。
オーバーコート層ＯＣは、第１基板ＳＵＢ１から離間している。オーバーコート層ＯＣと第１基板ＳＵＢ１との間において、第１シールＳＥ１は液晶層ＬＣに接している。
このような構成例においても、上記の構成例と同様の効果が得られる。

図１７は、他の構成例を示す断面図である。図１７に示す構成例は、図１３に示した構成例と比較して、第１内壁ＩＷ１が第２凸部Ｐ２の代わりに着色層３３を備え、第１外壁ＯＷ１が第４凸部Ｐ４の代わりに着色層３４を備えた点で相違している。着色層３３及び３４は、図１５に示した構成例と同様に形成される。オーバーコート層ＯＣは、第１遮光部ＬＳ１、及び、着色層３３及び３４を覆っている。
このような構成例においても、上記の構成例と同様の効果が得られる。

図１８は、他の構成例を示す断面図である。図１８に示す構成例は、図１３に示した構成例と比較して、第１内壁ＩＷ１が第２凸部Ｐ２の代わりに黒色層３１及び着色層３３の積層体を備え、第１外壁ＯＷ１が第４凸部Ｐ４の代わりに黒色層３２及び着色層３４の積層体を備えた点で相違している。黒色層３１は、第１遮光部ＬＳ１と着色層３３との間に設けられている。黒色層３２は、第１遮光部ＬＳ１と着色層３４との間に設けられている。オーバーコート層ＯＣは、第１遮光部ＬＳ１、黒色層３１及び３２、及び、着色層３３及び３３を覆っている。
このような構成例においても、上記の構成例と同様の効果が得られる。

図１９は、他の構成例を示す断面図である。図１９に示す構成例は、図１８に示した構成例と比較して、第１内壁ＩＷ１が黒色層３１及び着色層３３に加えて第２凸部Ｐ２を備え、第１外壁ＯＷ１が黒色層３２及び着色層３４に加えて第４凸部Ｐ４を備えた点で相違している。
このような構成例においても、上記の構成例と同様の効果が得られる。

上述した各構成例においては、第１外壁ＯＷ１は、第１内壁ＩＷ１と同様の断面構造を有するように構成されているが、これに限らない。つまり、第１内壁ＩＷ１と第１外壁ＯＷ１とで異なる構成例が適用されてもよい。

以上説明したように、本実施形態によれば、信頼性の低下を抑制する表示装置を提供することができる。

なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

ＤＳＰ…表示装置 ＰＮＬ…表示パネル
ＳＵＢ１…第１基板 ＳＵＢ２…第２基板 ＬＣ…液晶層
ＳＥ…シール ＳＥ１…第１シール ＳＥ２…第２シール ＯＰ…開口
ＤＡ１…第１表示部 ＤＡ２…第２表示部
ＬＳ…遮光部 ＬＳ１…第１遮光部 ＬＳ２…第２遮光部
ＩＷ１…第１内壁 ＩＷ２…第２内壁 ＩＳ…間隙
ＯＷ１…第１外壁 ＯＷ２…第２外壁
Ｐ１…第１凸部 Ｐ２…第２凸部 Ｐ３…第３凸部 Ｐ４…第４凸部
３１、３２…黒色層 ３３、３４…着色層

Claims (10)

1. 第１画素を備えた第１表示部と、
   前記第１表示部に隣接し、第２画素を備えた第２表示部と、
   前記第１表示部及び前記第２表示部に設けられた液晶層と、
   前記第１表示部及び前記第２表示部を囲むとともに、前記第１表示部と前記第２表示部との間に設けられ、前記液晶層を封止するシールと、
   第１内壁及び第２内壁と、を備え、
   前記シールは、前記第１表示部を囲む第１内側面と、前記第２表示部を囲む第２内側面と、を有し、
   前記第１内壁は、前記第１内側面に沿って設けられ、
   前記第２内壁は、前記第２内側面に沿って設けられている、表示装置。
2. 前記第１内壁及び前記第２内壁は、前記第１表示部及び前記第２表示部のエッジに沿って、ライン状に形成されている、請求項１に記載の表示装置。
3. 前記第１内壁及び前記第２内壁は、前記第１表示部及び前記第２表示部のコーナーにおいて、ラウンド状に形成されている、請求項２に記載の表示装置。
4. さらに、第１外壁及び第２外壁を備え、
   前記シールは、さらに、前記第１内側面の反対側の第１外側面と、前記第２内側面の反対側の第２外側面と、を有し、
   前記第１外壁は、前記第１外側面に沿って設けられ、
   前記第２外壁は、前記第２外側面に沿って設けられている、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の表示装置。
5. 前記第１外壁及び前記第２外壁は、前記第１表示部及び前記第２表示部のコーナーにおいて、ラウンド状に形成され、繋がっている、請求項４に記載の表示装置。
6. 前記第１内壁及び前記第２内壁は、間隙を有している、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の表示装置。
7. さらに、前記液晶層を保持し前記シールによって接着される第１基板及び第２基板を備え、
   前記第１内壁は、前記第１基板に設けられた第１凸部、及び、前記第２基板に設けられ前記第１凸部と対向する第２凸部の少なくとも一方を備えている、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の表示装置。
8. 前記第１内壁は、さらに、前記第２凸部に重畳する黒色層を備えている、請求項７に記載の表示装置。
9. 前記第１内壁は、さらに、前記第２凸部に重畳する着色層を備えている、請求項７に記載の表示装置。
10. 前記第１内壁は、黒色層、及び、着色層の少なくとも１つによって形成されている、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の表示装置。

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