JP2020535482A - 投影対物レンズ - Google Patents
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Abstract
Description
オプションで、前記第1のレンズ群が正の焦点力を有する第2のレンズサブ群をさらに含む。前記第1のレンズサブ群は負の焦点力を有する1つのレンズを少なくとも含み、前記第2のレンズサブ群は正の焦点力を有する2つのレンズを少なくとも含む。
オプションで、前記第2のレンズ群は、負の焦点力を有する4つのレンズを少なくとも含む。前記第1の両凹レンズサブ群は負の焦点力を有し、また、2つの両凹レンズを少なくとも含む。
オプションで、前記第2のレンズ群はN個のレンズを含み、Nは4以上の偶数であり、前記第1の両凹レンズサブ群はM個のレンズを含み、Mは2以上の偶数である。
オプションで、前記第1の両凹レンズサブ群のレンズは、前記第2のレンズ群を通過する光軸によって規定される光路の中間点の両側に分布されている。前記第1の両凹レンズサブ群のレンズは、前記光路の前記中間点に対して対称となるように配置される。
オプションで、前記第3のレンズ群は、正の焦点力を有する2つのレンズを少なくとも含む。
オプションで、前記第3のレンズ群の各レンズは、動作波長で1.6未満の屈折率を有する材料から成る。
オプションで、前記第4のレンズ群は、それぞれが負の焦点力を有する3つのレンズを少なくとも含む。
オプションで、前記第4のレンズ群は、負の焦点力を有する1つのメニスカスレンズを少なくとも含む。
オプションで、前記第5のレンズ群は、第3のレンズサブ群、第4のレンズサブ群、及び、第5のレンズサブ群を含み、前記第3のレンズサブ群は、少なくとも2つのレンズを含み、前記第4のレンズサブ群は、少なくとも3つのレンズを含み、前記第5のレンズサブ群は、少なくとも5つのレンズを含む。
オプションで、前記第4のレンズサブ群は、前記第3の両凹レンズサブ群を含む。前記第3の両凹レンズサブ群のレンズは、像側に近い側に非球面を有し、前記第3の両凹レンズサブ群は、少なくとも1つの両凹レンズを含む。
オプションで、前記第5のレンズサブ群は、少なくとも4つのメニスカスレンズを含む。
オプションで、前記投影対物レンズの光学絞りが、前記第3のレンズサブ群と前記第4のレンズサブ群の間に位置している。
オプションで、前記第3のレンズサブ群及び前記第4のレンズサブ群のそれぞれは、正の焦点力を有するレンズサブ群である。
オプションで、前記第3のレンズ群の各レンズは、動作波長で1.47の屈折率を有するシリカから成る。
オプションで、前記投影対物レンズは、物体側平行板及び像側平行板を備える。前記物体側平行板は、前記光軸上で物体側に近い側に配置され、前記像側平行板は、前記光軸上で像側に近い側に配置される。
オプションで、前記投影対物レンズは、32mmより大きい物体側動作距離、及び、8mmより大きい像側動作距離を有する。
オプションで、各非球面の最大非球面度は300μm未満である。
オプションで、前記投影対物レンズは、6mrad未満の物体側テレセントリック性、及び、3mrad未満の像側テレセントリック性を有する。
オプションで、前記投影対物レンズが、60nm未満の像面湾曲、50nm未満の非点収差、及び、4nm未満の歪曲収差を有する。
オプションで、前記投影対物レンズが、−0.25の倍率、0.65の像側開口数、及び、26mm×16mmより大きい像側視野サイズを有する。
本願発明は、更に、露光装置であって、マスクを支持するマスクステージと、露光されるワークピースを支持するワークピースステージ、露光ビームを放射する光源を含む。前記露光ビームは、前記マスクステージ及び前記投影対物レンズを通過した後、前記マスクのパターンを前記ワークピースに投影する露光装置を提供する。
前記投影対物レンズの非球面の式は以下の通りである、
ここで、Zは非球面の曲線の式であり、Yは半径寸法であり、CURVは曲率であり、Aは4次の定数係数であり、Bは6次の定数係数であり、Cは8次の定数係数であり、Dは10次の定数係数であり、Eは12次の定数係数であり、Fは14次の定数係数であり、Gは16次の定数係数であり、Hは18次の定数係数であり、Jは20次の定数係数であり、Kはテーパ係数である。
1.対物レンズのレンズの数を減らすことができ、光学構造がコンパクトになり、コストが削減される。
2.対物レンズ系の透過率を向上させる。
3.バイテレセントリック構造となり、マスク表面の極小さな凸状または凹状の欠陥に対する対物レンズの感度を下げることができる。
4.非球面レンズ表面の設計を最適化して非球面性を低減できるため、非球面製造の困難さとコストが削減される。
次に、本願の実施形態1に係る投影対物レンズの構造図である図1を参照する。この実施形態の投影対物レンズは、全長が1100mmを超えず、最大波長帯域が5nmまでのI線紫外スペクトルに適している。この実施形態の投影対物レンズは、倍率が−0.25、像側開口数が0.65、像側FoV(視野)サイズが26mm×16mmである。
正の焦点力を有する両凸レンズである第5レンズ5。メニスカスレンズは曲率半径が小さいため、色収差の除去効果がある。両凹レンズは負の焦点距離を有し、光を発散させるように構成される。両凸レンズは正の焦点力を有し、光を収束するように構成される。
次に、本願の実施形態2に係る投影対物レンズの構造図である図6を参照する。この実施形態の投影対物レンズは、全長が1100mmを超えず、最大波長帯域が5nmまでのI線紫外スペクトルに適している。この実施形態の投影対物レンズは、倍率が−0.25、像側開口数が0.65、像側FoVサイズが26mm×19.2mmである。
1 第1レンズ
2 第2レンズ
3 第3レンズ
4 第4レンズ
5 第5レンズ
6 第6レンズ
7 第7レンズ
8 第8レンズ
9 第9レンズ
12 第12レンズ
13 第13レンズ
14 第14レンズ
10 第10レンズ
11 第11レンズ
15 第15レンズ
16 第16レンズ
17 第17レンズ
18 第18レンズ
19 第19レンズ
20 第20レンズ
24 第24レンズ
25 第25レンズ
I 像側
ST 光学絞り
G1 第1レンズ群
G2 第2レンズ群
G3 第3レンズ群
G4 第4レンズ群
G5 第5レンズ群
SG1 第1レンズサブ群
SG2 第2レンズサブ群
SG3 第3レンズサブ群
SG4 第4レンズサブ群
SG5 第5レンズサブ群
S 矢状面湾曲プロファイル
T メリディオナル像面湾曲プロファイル
F 物体側テレセントリックプロファイル
N 像側テレセントリックプロファイル
Claims (22)
- 物体側から像側に像を投影するための投影対物レンズであって、光軸に沿って物体側から順に配置された、
正の焦点力を有する第1のレンズ群であって、負の焦点力を有する第1のレンズサブ群を含み、前記第1のレンズサブ群の1つのレンズは、物体側に近い側に非球面を有する、第1のレンズ群と、
負の焦点力を有する第2のレンズ群であって、第1の両凹レンズサブ群を含み、最も像側にある前記第1の両凹レンズサブ群のレンズが物体側に近い側に非球面を有する、第2のレンズ群と、
正の焦点力を持つ第3のレンズ群と、
負の焦点力を有する第4のレンズ群であって、第2の両凹レンズサブ群を含み、最も物体側にある第2の両凹レンズサブ群のレンズが像側に近い側に非球面を有する、第4のレンズ群と、
正の焦点力を有する第5のレンズ群であって、第3の両凹レンズサブ群を含み、最も像側にある第3の両凹レンズサブ群のレンズが像側に近い側に非球面を有する、第5のレンズ群と、
を備える、投影対物レンズ。 - 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
前記第1のレンズ群が正の焦点力を有する第2のレンズサブ群をさらに含み、
前記第1のレンズサブ群は負の焦点力を有する1つのレンズを少なくとも含み、
前記第2のレンズサブ群は正の焦点力を有する2つのレンズを少なくとも含む、
投影対物レンズ。 - 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
前記第2のレンズ群は、負の焦点力を有する4つのレンズを少なくとも含み、
前記第1の両凹レンズサブ群は負の焦点力を有し、また、2つの両凹レンズを少なくとも含む、
投影対物レンズ。 - 請求項3に記載の投影対物レンズであって、
前記第2のレンズ群はN個のレンズを含み、Nは4以上の偶数であり、前記第1の両凹レンズサブ群はM個のレンズを含み、Mは2以上の偶数である、
投影対物レンズ。 - 請求項4に記載の投影対物レンズであって、
前記第1の両凹レンズサブ群のレンズは、前記第2のレンズ群を通過する光軸によって規定される光路の中間点の両側に分布されており、
前記第1の両凹レンズサブ群のレンズは、前記光路の前記中間点に対して対称となるように配置される、
投影対物レンズ。 - 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
前記第3のレンズ群は、正の焦点力を有する2つのレンズを少なくとも含む、
投影対物レンズ。 - 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
前記第3のレンズ群の各レンズは、動作波長で1.6未満の屈折率を有する材料から成る、
投影対物レンズ。 - 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
前記第4のレンズ群は、それぞれが負の焦点力を有する3つのレンズを少なくとも含む、
投影対物レンズ。 - 請求項8に記載の投影対物レンズであって、
前記第4のレンズ群は、負の焦点力を有する1つのメニスカスレンズを少なくとも含む、
投影対物レンズ。 - 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
前記第5のレンズ群は、第3のレンズサブ群、第4のレンズサブ群、及び、第5のレンズサブ群を含み、
前記第3のレンズサブ群は、少なくとも2つのレンズを含み、
前記第4のレンズサブ群は、少なくとも3つのレンズを含み、
前記第5のレンズサブ群は、少なくとも5つのレンズを含む、
投影対物レンズ。 - 請求項10に記載の投影対物レンズであって、
前記第4のレンズサブ群は、前記第3の両凹レンズサブ群を含み、
前記第3の両凹レンズサブ群のレンズは、像側に近い側に非球面を有し、
前記第3の両凹レンズサブ群は、少なくとも1つの両凹レンズを含む、
投影対物レンズ。 - 請求項10に記載の投影対物レンズであって、
前記第5のレンズサブ群は、少なくとも4つのメニスカスレンズを含む、
投影対物レンズ。 - 請求項10に記載の投影対物レンズであって、
前記投影対物レンズの光学絞りが、前記第3のレンズサブ群と前記第4のレンズサブ群の間に位置している、
投影対物レンズ。 - 請求項10に記載の投影対物レンズであって、
前記第3のレンズサブ群及び前記第4のレンズサブ群のそれぞれは、正の焦点力を有するレンズサブ群である、
投影対物レンズ。 - 請求項7に記載の投影対物レンズであって、
前記第3のレンズ群の各レンズは、動作波長で1.47の屈折率を有するシリカから成る、
投影対物レンズ。 - 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
物体側平行板及び像側平行板を備え、
前記物体側平行板は、前記光軸上で物体側に近い側に配置され、
前記像側平行板は、前記光軸上で像側に近い側に配置される、
投影対物レンズ。 - 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
前記投影対物レンズは、32mmより大きい物体側動作距離、及び、8mmより大きい像側動作距離を有する、
投影対物レンズ。 - 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
各非球面の最大非球面度は300μm未満である、
投影対物レンズ。 - 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
前記投影対物レンズは、6mrad未満の物体側テレセントリック性、及び、3mrad未満の像側テレセントリック性を有する、
投影対物レンズ。 - 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
前記投影対物レンズが、60nm未満の像面湾曲、50nm未満の非点収差、及び、4nm未満の歪曲収差を有する、
投影対物レンズ。 - 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
前記投影対物レンズが、−0.25の倍率、0.65の像側開口数、及び、26mm×16mmより大きい像側視野サイズを有する、
投影対物レンズ。 - 請求項1から21の何れか1項に記載の投影対物レンズを用いた露光装置であって、
マスクを支持するマスクステージと、露光されるワークピースを支持するワークピースステージ、露光ビームを放射する光源を含み、
前記露光ビームは、前記マスクステージ及び前記投影対物レンズを通過した後、前記マスクのパターンを前記ワークピースに投影し、
前記投影対物レンズの非球面の式は以下の通りである、
ここで、Zは非球面の曲線の式であり、Yは半径寸法であり、CURVは曲率であり、Aは4次の定数係数であり、Bは6次の定数係数であり、Cは8次の定数係数であり、Dは10次の定数係数であり、Eは12次の定数係数であり、Fは14次の定数係数であり、Gは16次の定数係数であり、Hは18次の定数係数であり、Jは20次の定数係数であり、Kはテーパ係数である、
露光装置。
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Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111381346B (zh) * | 2018-12-30 | 2021-05-11 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种光刻投影物镜 |
CN110895366A (zh) * | 2019-11-22 | 2020-03-20 | 福建福光天瞳光学有限公司 | 一种0.5倍110mm物距高分辨率工业双远心镜头 |
CN114563866B (zh) * | 2022-03-14 | 2024-02-20 | 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所) | 投影物镜系统 |
CN116954028A (zh) * | 2022-04-12 | 2023-10-27 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 光刻投影物镜及光刻机 |
CN114839751A (zh) * | 2022-04-22 | 2022-08-02 | 嘉兴中润光学科技股份有限公司 | 一种变焦镜头和成像装置 |
WO2023224409A1 (ko) * | 2022-05-19 | 2023-11-23 | 삼성전자 주식회사 | 프로젝션 렌즈 광학계, 이를 채용한 프로젝션 장치 및 웨어러블 디바이스 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08254652A (ja) * | 1995-03-15 | 1996-10-01 | Nikon Corp | 投影光学系 |
US5856884A (en) * | 1997-09-05 | 1999-01-05 | Nikon Corporation | Projection lens systems |
JPH116957A (ja) * | 1997-04-25 | 1999-01-12 | Nikon Corp | 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法 |
JPH1197347A (ja) * | 1997-07-16 | 1999-04-09 | Nikon Corp | 投影露光装置、及び該装置を用いたパターン転写方法 |
JP2000171699A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-23 | Carl Zeiss:Fa | 投影対物レンズ |
JP2000171706A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-23 | Carl Zeiss:Fa | マイクロリソグラフィ用縮小対物レンズ,投影露光装置及び投影露光方法 |
JP2000171707A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-23 | Carl Zeiss:Fa | マイクロリソグラフィ用縮小投影対物レンズ |
JP2000235146A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-08-29 | Carl Zeiss:Fa | マイクロリソグラフィーの結晶レンズと投影形露光装置とを具備した対物レンズ |
JP2004046119A (ja) * | 2002-05-14 | 2004-02-12 | Cark Zeiss Smt Ag | 投影露光システム |
JP2005519348A (ja) * | 2002-03-08 | 2005-06-30 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 液浸リソグラフィ用の屈折投影対物レンズ |
US20130250434A1 (en) * | 2010-12-01 | 2013-09-26 | Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd. | Projection objective lens system |
CN103364928A (zh) * | 2012-03-31 | 2013-10-23 | 上海微电子装备有限公司 | 一种投影物镜光学系统 |
CN103389564A (zh) * | 2012-05-11 | 2013-11-13 | 上海微电子装备有限公司 | 一种投影物镜 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3486529B2 (ja) * | 1997-07-25 | 2004-01-13 | キヤノン株式会社 | ズ−ムレンズ |
DE19942281A1 (de) * | 1999-05-14 | 2000-11-16 | Zeiss Carl Fa | Projektionsobjektiv |
US6867922B1 (en) * | 1999-06-14 | 2005-03-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system and projection exposure apparatus using the same |
US7203007B2 (en) * | 2000-05-04 | 2007-04-10 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection exposure machine comprising a projection lens |
US7154676B2 (en) * | 2002-03-01 | 2006-12-26 | Carl Zeiss Smt A.G. | Very-high aperture projection objective |
US7301707B2 (en) * | 2004-09-03 | 2007-11-27 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection optical system and method |
WO2007131161A2 (en) * | 2006-05-05 | 2007-11-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Symmetrical objective having four lens groups for microlithography |
CN101523294B (zh) | 2006-08-14 | 2012-08-08 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 具有光瞳镜的反射折射投影物镜、投影曝光设备和方法 |
TWI412813B (zh) | 2010-11-05 | 2013-10-21 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | 變焦投影鏡頭 |
CN104035187B (zh) | 2014-06-06 | 2017-04-26 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种大数值孔径的纯折射式干式投影光学系统 |
CN105527701B (zh) * | 2014-09-28 | 2018-06-29 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 大视场投影光刻物镜 |
CN205982805U (zh) | 2016-08-30 | 2017-02-22 | 中山联合光电科技股份有限公司 | 一种大光圈小体积高像素变焦投影光学系统 |
-
2017
- 2017-09-29 CN CN201710909308.1A patent/CN109581622B/zh active Active
-
2018
- 2018-09-29 JP JP2020517905A patent/JP6986145B2/ja active Active
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- 2018-09-29 SG SG11202002780VA patent/SG11202002780VA/en unknown
- 2018-10-01 TW TW107134624A patent/TWI696895B/zh active
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08254652A (ja) * | 1995-03-15 | 1996-10-01 | Nikon Corp | 投影光学系 |
JPH116957A (ja) * | 1997-04-25 | 1999-01-12 | Nikon Corp | 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法 |
JPH1197347A (ja) * | 1997-07-16 | 1999-04-09 | Nikon Corp | 投影露光装置、及び該装置を用いたパターン転写方法 |
US5856884A (en) * | 1997-09-05 | 1999-01-05 | Nikon Corporation | Projection lens systems |
JP2000171707A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-23 | Carl Zeiss:Fa | マイクロリソグラフィ用縮小投影対物レンズ |
JP2000171706A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-23 | Carl Zeiss:Fa | マイクロリソグラフィ用縮小対物レンズ,投影露光装置及び投影露光方法 |
JP2000171699A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-23 | Carl Zeiss:Fa | 投影対物レンズ |
JP2000235146A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-08-29 | Carl Zeiss:Fa | マイクロリソグラフィーの結晶レンズと投影形露光装置とを具備した対物レンズ |
JP2005519348A (ja) * | 2002-03-08 | 2005-06-30 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 液浸リソグラフィ用の屈折投影対物レンズ |
JP2004046119A (ja) * | 2002-05-14 | 2004-02-12 | Cark Zeiss Smt Ag | 投影露光システム |
US20130250434A1 (en) * | 2010-12-01 | 2013-09-26 | Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd. | Projection objective lens system |
CN103364928A (zh) * | 2012-03-31 | 2013-10-23 | 上海微电子装备有限公司 | 一种投影物镜光学系统 |
CN103389564A (zh) * | 2012-05-11 | 2013-11-13 | 上海微电子装备有限公司 | 一种投影物镜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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