JP2020535482A - 投影対物レンズ - Google Patents

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Abstract

オブジェクト空間を像空間に投影するために使用される投影対物レンズ。対物レンズは、光軸に沿ってオブジェクト空間から順に、正の焦点力を持つ第1レンズセット(G1)、負の焦点力を持つ第2レンズセット(G2)、正の焦点力を持つ第3レンズセット(G3)、負の焦点力を有する第4レンズセット(G4)、および正の焦点力を有する第5レンズセット(G5)を含む。非球面レンズは、第1レンズセット(G1)、第2レンズセット(G2)、第3レンズセット(G3)、第4レンズセット(G4)、および第5レンズセット(G5)に提供される。この設計によれば、レンズの数が減り、対物レンズの構造がよりコンパクトになり、対物レンズの透過率が向上し、非球面レンズの構造設計が最適化され、非球面レンズの非球面性が減少し、非球面レンズの加工困難性及びコストが削減され、上記の状況を除いて、対物レンズはバイテレセントリック構造であり、マスク表面の微小な不規則性欠陥に対する対物レンズの感度が低下する。【選択図】図1

Description

本願は、光学技術の分野に関し、特に、投影対物レンズに関する。
投影フォトリソグラフィは、投影イメージングの原理を使用して、ステップアンドリピート方式またはステップアンドスキャン方式でマスク上のICパターンをフォトレジストコーティングされたウェハに転写する光学露光プロセスである。一般に、フォトリソグラフィプロセスの解像度は、波長を短くするか、開口数を大きくするか、プロセス係数を減らすか、その他の方法で実現できる。集積回路デバイスの集積が絶えず増加しているため、対物レンズの解像度に対する要求が高くなっている。さらに、機械全体のサイズのスペース制限に制限されて、リソグラフィ技術は、投影対物レンズの露光性能が影響を受けないことが保証される条件下で、投影対物レンズの体積要件に対して厳しくなっている。したがって、リソグラフィ投影対物レンズの小型化、コンパクトな構造、優れた性能、および妥当なコストは、トレンドになり、技術開発の必要性が高まっている。
従来技術では、一方で、投影フォトリソグラフィの対物レンズ系は多数のレンズを組み込んでおり、これは、システムでのエネルギー吸収をもたらし、したがって、対物レンズの全体的な透過率を低下させる。一方、対物レンズ系は物体側のテレセントリック性が大きいため、製造によって引き起こされるマスク表面の粗さに非常に敏感であり、特に歪曲収差に対して非常に敏感であるため、マスク表面の小さな凸状または凹状の欠陥でも対物レンズによって拡大されるため、ウェハ表面の露光品質に影響する。
本願の目的は、既存の対物レンズ群における多数のレンズおよび大きな物体側テレセントリック性の問題を解決する投影対物レンズを提供することであり、レンズの数および対物レンズ系のマスク欠陥に対する感度を低減することである。
この目的を達成するために、本願は、物体側から像側に像を投影するための投影対物レンズを提供する。投影対物レンズは、光軸に沿って物体側から順に配置された、正の焦点力を有する第1のレンズ群であって、負の焦点力を有する第1のレンズサブ群を含み、前記第1のレンズサブ群の1つのレンズは、物体側に近い側に非球面を有する、第1のレンズ群と、負の焦点力を有する第2のレンズ群であって、第1の両凹レンズサブ群を含み、最も像側にある前記第1の両凹レンズサブ群のレンズが物体側に近い側に非球面を有する、第2のレンズ群と、正の焦点力を持つ第3のレンズ群と、負の焦点力を有する第4のレンズ群であって、第2の両凹レンズサブ群を含み、最も物体側にある第2の両凹レンズサブ群のレンズが像側に近い側に非球面を有する、第4のレンズ群と、正の焦点力を有する第5のレンズ群であって、第3の両凹レンズサブ群を含み、最も像側にある第3の両凹レンズサブ群のレンズが像側に近い側に非球面を有する、第5のレンズ群と、を備える。
オプションで、前記第1のレンズ群が正の焦点力を有する第2のレンズサブ群をさらに含む。前記第1のレンズサブ群は負の焦点力を有する1つのレンズを少なくとも含み、前記第2のレンズサブ群は正の焦点力を有する2つのレンズを少なくとも含む。
オプションで、前記第2のレンズ群は、負の焦点力を有する4つのレンズを少なくとも含む。前記第1の両凹レンズサブ群は負の焦点力を有し、また、2つの両凹レンズを少なくとも含む。
オプションで、前記第2のレンズ群はN個のレンズを含み、Nは4以上の偶数であり、前記第1の両凹レンズサブ群はM個のレンズを含み、Mは2以上の偶数である。
オプションで、前記第1の両凹レンズサブ群のレンズは、前記第2のレンズ群を通過する光軸によって規定される光路の中間点の両側に分布されている。前記第1の両凹レンズサブ群のレンズは、前記光路の前記中間点に対して対称となるように配置される。
オプションで、前記第3のレンズ群は、正の焦点力を有する2つのレンズを少なくとも含む。
オプションで、前記第3のレンズ群の各レンズは、動作波長で1.6未満の屈折率を有する材料から成る。
オプションで、前記第4のレンズ群は、それぞれが負の焦点力を有する3つのレンズを少なくとも含む。
オプションで、前記第4のレンズ群は、負の焦点力を有する1つのメニスカスレンズを少なくとも含む。
オプションで、前記第5のレンズ群は、第3のレンズサブ群、第4のレンズサブ群、及び、第5のレンズサブ群を含み、前記第3のレンズサブ群は、少なくとも2つのレンズを含み、前記第4のレンズサブ群は、少なくとも3つのレンズを含み、前記第5のレンズサブ群は、少なくとも5つのレンズを含む。
オプションで、前記第4のレンズサブ群は、前記第3の両凹レンズサブ群を含む。前記第3の両凹レンズサブ群のレンズは、像側に近い側に非球面を有し、前記第3の両凹レンズサブ群は、少なくとも1つの両凹レンズを含む。
オプションで、前記第5のレンズサブ群は、少なくとも4つのメニスカスレンズを含む。
オプションで、前記投影対物レンズの光学絞りが、前記第3のレンズサブ群と前記第4のレンズサブ群の間に位置している。
オプションで、前記第3のレンズサブ群及び前記第4のレンズサブ群のそれぞれは、正の焦点力を有するレンズサブ群である。
オプションで、前記第3のレンズ群の各レンズは、動作波長で1.47の屈折率を有するシリカから成る。
オプションで、前記投影対物レンズは、物体側平行板及び像側平行板を備える。前記物体側平行板は、前記光軸上で物体側に近い側に配置され、前記像側平行板は、前記光軸上で像側に近い側に配置される。
オプションで、前記投影対物レンズは、32mmより大きい物体側動作距離、及び、8mmより大きい像側動作距離を有する。
オプションで、各非球面の最大非球面度は300μm未満である。
オプションで、前記投影対物レンズは、6mrad未満の物体側テレセントリック性、及び、3mrad未満の像側テレセントリック性を有する。
オプションで、前記投影対物レンズが、60nm未満の像面湾曲、50nm未満の非点収差、及び、4nm未満の歪曲収差を有する。
オプションで、前記投影対物レンズが、−0.25の倍率、0.65の像側開口数、及び、26mm×16mmより大きい像側視野サイズを有する。
本願発明は、更に、露光装置であって、マスクを支持するマスクステージと、露光されるワークピースを支持するワークピースステージ、露光ビームを放射する光源を含む。前記露光ビームは、前記マスクステージ及び前記投影対物レンズを通過した後、前記マスクのパターンを前記ワークピースに投影する露光装置を提供する。
前記投影対物レンズの非球面の式は以下の通りである、
Figure 2020535482
ここで、Zは非球面の曲線の式であり、Yは半径寸法であり、CURVは曲率であり、Aは4次の定数係数であり、Bは6次の定数係数であり、Cは8次の定数係数であり、Dは10次の定数係数であり、Eは12次の定数係数であり、Fは14次の定数係数であり、Gは16次の定数係数であり、Hは18次の定数係数であり、Jは20次の定数係数であり、Kはテーパ係数である。
従来技術と比較して、本願の投影対物レンズは、以下の有利な効果を提供する。
1.対物レンズのレンズの数を減らすことができ、光学構造がコンパクトになり、コストが削減される。
2.対物レンズ系の透過率を向上させる。
3.バイテレセントリック構造となり、マスク表面の極小さな凸状または凹状の欠陥に対する対物レンズの感度を下げることができる。
4.非球面レンズ表面の設計を最適化して非球面性を低減できるため、非球面製造の困難さとコストが削減される。
本願の実施形態1に係る投影対物レンズの構造図である。 本願の実施形態1に係る投影対物レンズの波面収差プロファイルを示す図である。 本願の実施形態1に係る投影対物レンズの像面湾曲と歪曲収差を示す図である。 本願の実施形態1に係る投影対物レンズのテレセントリックプロファイルを示す図である。 本願の実施形態1に係る投影対物レンズの非球面プロファイルを示す。 本願の実施形態2に係る投影対物レンズの構造図である。 本願の実施形態2に係る投影対物レンズの波面収差を示す図である。 本願の実施形態2に係る投影対物レンズの像面湾曲と歪曲収差を示す図である。 本願の実施形態2に係る投影対物レンズのテレセントリックプロファイルを示す。 本願の実施形態2に係る投影対物レンズの非球面プロファイルを示す。
本願の具体的な実施形態は、概略図を参照して以下詳細に説明される。本願の特徴および利点は、以下の説明および添付の特許請求の範囲からより明らかになるであろう。添付の図面は非常に単純化された形式で提示され、必ずしも縮尺通りに提示されるわけではなく、本願を説明する際の便宜および明確さを促進することのみを意図していることに留意されたい。
実施形態1
次に、本願の実施形態1に係る投影対物レンズの構造図である図1を参照する。この実施形態の投影対物レンズは、全長が1100mmを超えず、最大波長帯域が5nmまでのI線紫外スペクトルに適している。この実施形態の投影対物レンズは、倍率が−0.25、像側開口数が0.65、像側FoV(視野)サイズが26mm×16mmである。
実施形態1に係る投影対物レンズは、25個の光学素子を含む。1番目の光学素子と25番目の光学素子は、焦点力のない平行板で、対物レンズの内部コンポーネントを保護するために使用される。2つの平行板を除いて、残りの23個の光学素子のうち4つの素子はそれぞれ、比較的小さい非球面性を有する非球面を有する。実施形態1では、投影対物レンズは、ビーム入射方向から順に、物体側平行平板1、第1レンズ群G1、第2レンズ群G2、第3レンズ群G3、第4レンズ群G4、第5レンズ群G5、像側平行板25を備えている。
第1レンズ群G1は正の焦点力を有し、次の4つのレンズで構成される。負の焦点力を持つ両凹レンズであって、物体側の面が非球面である第2レンズ2。正の焦点力を持つメニスカスレンズである第3レンズ3。正の焦点力を有する両凸レンズである第4レンズ4。
正の焦点力を有する両凸レンズである第5レンズ5。メニスカスレンズは曲率半径が小さいため、色収差の除去効果がある。両凹レンズは負の焦点距離を有し、光を発散させるように構成される。両凸レンズは正の焦点力を有し、光を収束するように構成される。
第2レンズ群G2は負の焦点力を有し、以下の4つのレンズから構成される。負の焦点力を有するメニスカスレンズである第6レンズ6。負の焦点力を有する両凹レンズである第7レンズ7。負の焦点力を有する両凹レンズであって、物体側の面が非球面である第8レンズ8。負の焦点力を持つメニスカスレンズである第9レンズ9。メニスカスレンズは曲率半径が小さいため、色収差の除去効果がある。両凹レンズは負の焦点力を有し、光を発散させるように構成される。両凸レンズは正の焦点力を有し、光を収束するように構成される。
第3レンズ群G3は正の焦点力を有し、以下の2つのレンズから構成される。正の焦点力を有する両凸レンズである第10レンズ10。正の焦点力を有する両凸レンズである第11レンズ11。両凸レンズは正の焦点力を有し、光を収束するように構成される。
第3レンズ群G3は、動作波長で1.6未満の屈折率を有する材料から成る。特に、第3レンズ群G3は、動作波長で1.47未満の屈折率を有するシリカから成る。
第4レンズ群G4は負の焦点力を有し、以下の3つのレンズから構成される。負の焦点力を有するメニスカスレンズである第12レンズ12。負の焦点力を有する両凹レンズであり、像側に近い面が非球面である第13レンズ13。負の焦点力を有する両凹レンズである第14レンズ14。メニスカスレンズは曲率半径が小さいため、色収差の除去効果がある。両凹レンズは負の焦点距離を有し、光を発散させるように構成される。
第5レンズ群G5は正の焦点力を有し、以下の10個のレンズから構成される。正の焦点力を有する両凸レンズである第15レンズ15。正の焦点力を有する両凸レンズである第16レンズ16。正の焦点力を有する両凸レンズである第17レンズ17。負の焦点力を有する両凹レンズであって、像側に近い面が非球面である第18レンズ18。正の焦点力を持つ両凸レンズである第19レンズ19。メニスカスレンズである第20レンズ20から第24レンズ24。メニスカスレンズは曲率半径が小さいため、色収差の除去効果がある。両凹レンズは負の焦点距離を有し、光を発散させるように構成される。両凸レンズは正の焦点力を有し、光を収束するように構成される。
第1レンズ群G1は、負の焦点力を有する第1レンズサブ群SG1と、正の焦点力を有する第2レンズサブ群SG2とに分割し得る。
第5レンズ群G5は、第3レンズサブ群SG3、第4レンズサブ群SG4、及び、第5レンズサブ群SG5に分割し得る。投影対物レンズの光学絞りは、第3レンズサブ群SG3と第4レンズサブ群SG4の間にあり、光学絞りのすぐ上流と下流の各レンズ群は、正の焦点力を有する。
第2レンズ2の物体側の面、第8レンズ8の物体側の面、第13レンズ13の像側の面、第18レンズ18の像側の面は、非球面である。第13レンズ13の像側の面の非球面性が最大となり、その値は255μmである。
投影対物レンズはバイテレセントリック構造であるため、物体側の各視野の主光線は第1平行板の前面にほぼ平行に入射し、像側の各視野の主光線はほぼ平行に放出され、像面に収束する。物体側の各視野の主光線は、光軸に対して6mradの角度を有し、像側の各視野の主光線は、光軸に対して3mradの角度を有する。投影対物レンズの物体側動作距離は32mmを超え、像側動作距離は8mmを超える。
表1は、実施形態1に係る投影対物レンズの具体的なパラメータを要約している。半径値R(すなわち、光軸の方向に沿った曲率半径)が正であるとき、曲率中心が物体側に近い側にあることを示す。半径値Rが負であるとき、曲率中心が像側に近いことを示す。半径値R、厚さd、半径Y(つまり、光軸に垂直な方向に沿ったレンズのサイズの半分)の値はすべてミリメートル単位で与えられる。シリアル番号「O」は物体側を表す。「I」は像側を表す。「ST」は光学絞りを表す。「a」は物体側に近いレンズ面を表す。「b」は、像側に近いレンズ面を表す。例えば、「22a」は、レンズ22の物体側に近い表面を示す。
(表1)
実施形態1における投影対物レンズのパラメータ

Figure 2020535482
表1から分かるように、2a、8a、13b、18bはそれぞれ非球面であり、次のように表すことができる。
Figure 2020535482
表2は、レンズ表面2a、8a、13bおよび18bのパラメータを提供する。ここで、Zは非球面の曲線の式であり、Yは半径寸法であり、CURVは曲率であり、Aは4次の定数係数であり、Bは6次の定数係数であり、Cは8次の定数係数であり、Dは10次の定数係数であり、Eは12次の定数係数であり、Fは14次の定数係数であり、Gは16次の定数係数であり、Hは18次の定数係数であり、Jは20次の定数係数であり、Kはテーパ係数である。
(表2)
実施形態1における非球面のパラメータ

Figure 2020535482
本願の実施形態1に係る投影対物レンズの波面収差プロファイルを示す図である図2を参照されたい。このプロファイルから、対物レンズの全視野の波面が補正され、色収差が適切に補正されることがわかる。
本願の実施形態1に係る投影対物レンズの像面湾曲、非点収差および歪曲収差を示す図である図3を参照されたい。図から分かるように、メリディオナル像面湾曲プロファイルTと矢状面曲率プロファイルSはそれぞれ40nm未満であり、非点収差は20nm未満であり、歪曲収差は約3nmである。
本願の実施形態1に係る投影対物レンズのテレセントリックプロファイルを示す図4を参照されたい。図から分かるように、投影対物レンズは、物体側のテレセントリック性の最大値が6mrad未満であり、画像側のテレセントリック性の最大値が3mrad未満である。
本願の実施形態1に係る投影対物レンズにおける最大非球面の非球面プロファイルを示す図5を参照されたい。図から分かるように、非球面の半値径が42mmであるときに非球面性が最大となり、その最大値は255μmである。
実施形態2
次に、本願の実施形態2に係る投影対物レンズの構造図である図6を参照する。この実施形態の投影対物レンズは、全長が1100mmを超えず、最大波長帯域が5nmまでのI線紫外スペクトルに適している。この実施形態の投影対物レンズは、倍率が−0.25、像側開口数が0.65、像側FoVサイズが26mm×19.2mmである。
実施形態2に係る投影対物レンズは、25個の光学素子を含む。1番目の光学素子と25番目の光学素子は、焦点力のない平行板で、対物レンズの内部コンポーネントを保護するために使用される。2つの平行板を除いて、残りの23個の光学素子のうち4つの素子はそれぞれ、比較的小さい非球面性を有する非球面を有する。実施形態2では、投影対物レンズは、ビーム入射方向から順に、物体側平行平板1、第1レンズ群G1、第2レンズ群G2、第3レンズ群G3、第4レンズ群G4、第5レンズ群G5、像側平行板25を備えている。
第1レンズ群G1は正の焦点力を有し、次の4つのレンズで構成される。負の焦点力を持つ両凹レンズであって、物体側の面が非球面である第2レンズ2。正の焦点力を持つメニスカスレンズである第3レンズ3。正の焦点力を有する両凸レンズである第4レンズ4。正の焦点力を有する両凸レンズである第5レンズ5。メニスカスレンズは曲率半径が小さいため、色収差の除去効果がある。両凹レンズは負の焦点距離を有し、光を発散させるように構成される。両凸レンズは正の焦点力を有し、光を収束するように構成される。
第2レンズ群G2は負の焦点力を有し、以下の4つのレンズから構成される。負の焦点力を有するメニスカスレンズである第6レンズ6。負の焦点力を有する両凹レンズである第7レンズ7。負の焦点力を有する両凹レンズであって、物体側の面が非球面である第8レンズ8。負の焦点力を持つメニスカスレンズである第9レンズ9。メニスカスレンズは曲率半径が小さいため、色収差の除去効果がある。両凹レンズは負の焦点力を有し、光を発散させるように構成される。
第3レンズ群G3は正の焦点力を有し、以下の2つのレンズから構成される。正の焦点力を有する両凸レンズである第10レンズ10。正の焦点力を有する両凸レンズである第11レンズ11。両凸レンズは正の焦点力を有し、光を収束するように構成される。
第3レンズ群G3は、動作波長で1.6未満の屈折率を有する材料から成る。特に、第3レンズ群G3は、動作波長で1.47未満の屈折率を有するシリカから成る。
第4レンズ群G4は負の焦点力を有し、以下の3つのレンズから構成される。負の焦点力を有するメニスカスレンズである第12レンズ12。負の焦点力を有する両凹レンズであり、像側に近い面が非球面である第13レンズ13。負の焦点力を有する両凹レンズである第14レンズ14。メニスカスレンズは曲率半径が小さいため、色収差の除去効果がある。両凹レンズは負の焦点距離を有し、光を発散させるように構成される。
第5レンズ群G5は正の焦点力を有し、以下の10個のレンズから構成される。正の焦点力を有する両凸レンズである第15レンズ15。正の焦点力を有する両凸レンズである第16レンズ16。正の焦点力を有する両凸レンズである第17レンズ17。負の焦点力を有する両凹レンズであって、像側に近い面が非球面である第18レンズ18。正の焦点力を持つ両凸レンズである第19レンズ19。メニスカスレンズである第20レンズ20から第24レンズ24。メニスカスレンズは曲率半径が小さいため、色収差の除去効果がある。両凹レンズは負の焦点距離を有し、光を発散させるように構成される。両凸レンズは正の焦点力を有し、光を収束するように構成される。
第1レンズ群G1は、負の焦点力を有する第1レンズサブ群SG1と、正の焦点力を有する第2レンズサブ群SG2とに分割し得る。
第5レンズ群G5は、第3レンズサブ群SG3、第4レンズサブ群SG4、及び、第5レンズサブ群SG5に分割し得る。投影対物レンズの光学絞りは、第3レンズサブ群SG3と第4レンズサブ群SG4の間にあり、光学絞りのすぐ上流と下流の各レンズ群は、正の焦点力を有する。
第2レンズ2の物体側の面、第8レンズ8の物体側の面、第13レンズ13の像側の面、第18レンズ18の像側の面は、非球面である。第13レンズ13の像側の面の非球面性が最大となり、その非球面値は291μmである。
投影対物レンズはバイテレセントリック構造であるため、物体側の各視野の主光線は第1平行板の前面にほぼ平行に入射し、像側の各視野の主光線はほぼ平行に放出され、像面に収束する。物体側の各視野の主光線は、光軸に対して6mradの角度を有し、像側の各視野の主光線は、光軸に対して3mradの角度を有する。投影対物レンズの物体側動作距離は32mmを超え、像側動作距離は8mmを超える。
表3は、実施形態1に係る投影対物レンズの具体的なパラメータを要約している。半径値R(すなわち、光軸の方向に沿った曲率半径)が正であるとき、曲率中心が物体側に近い側にあることを示す。半径値Rが負であるとき、曲率中心が像側に近いことを示す。半径値R、厚さd、半径Y(つまり、光軸に垂直な方向に沿ったレンズのサイズの半分)の値はすべてミリメートル単位で与えられる。シリアル番号「O」は物体側を表す。「I」は像側を表す。「ST」は光学絞りを表す。「a」は物体側に近いレンズ面を表す。「b」は、像側に近いレンズ面を表す。例えば、「22a」は、レンズ22の物体側に近い表面を示す。
(表3)
実施形態2に係る投影対物レンズのパラメータ

Figure 2020535482
表3から分かるように、2a、8a、13b、18bはそれぞれ非球面であり、次のように表すことができる。
Figure 2020535482
表4は、レンズ表面2a、8a、13bおよび18bのパラメータを提供する。ここで、Zは非球面の曲線の式であり、Yは半径寸法であり、CURVは曲率であり、Aは4次の定数係数であり、Bは6次の定数係数であり、Cは8次の定数係数であり、Dは10次の定数係数であり、Eは12次の定数係数であり、Fは14次の定数係数であり、Gは16次の定数係数であり、Hは18次の定数係数であり、Jは20次の定数係数であり、Kはテーパ係数である。
(表4)
実施形態2における非球面のパラメータ

Figure 2020535482
本願の実施形態2に係る投影対物レンズの波面収差プロファイルを示す図である図7を参照されたい。このプロファイルから、対物レンズの全視野の波面が補正され、色収差が適切に補正されることがわかる。
本願の実施形態2に係る投影対物レンズの像面湾曲、非点収差および歪曲収差を示す図である図8を参照されたい。図から分かるように、メリディオナル像面湾曲プロファイルTと矢状面曲率プロファイルSはそれぞれ60nm未満であり、非点収差は50nm未満であり、歪曲収差は約4nmである。
本願の実施形態2に係る投影対物レンズのテレセントリックプロファイルを示す図9を参照されたい。図から分かるように、投影対物レンズは、物体側のテレセントリック性の最大値が6mrad未満であり、画像側のテレセントリック性の最大値が3mrad未満である。
本願の実施形態2に係る投影対物レンズにおける最大非球面の非球面プロファイルを示す図10を参照されたい。図から分かるように、非球面の半値径が45mmであるときに非球面性が最大となり、その最大値は291μmである。
上述の発明の投影対物レンズは露光装置に適用可能であり、露光装置は以下を含む、マスクを支持するマスクステージ、露光されるワークピースを支持するワークステージ、露光ビームを発する光源。露光ビームは、マスクステージと投影対物レンズを通過した後、マスク上のパターンをワークピースに投影する。投影対物レンズでの非球面は、次式で表現される。
Figure 2020535482
ここで、Zは非球面の曲線の式であり、Yは半径寸法であり、CURVは曲率であり、Aは4次の定数係数であり、Bは6次の定数係数であり、Cは8次の定数係数であり、Dは10次の定数係数であり、Eは12次の定数係数であり、Fは14次の定数係数であり、Gは16次の定数係数であり、Hは18次の定数係数であり、Jは20次の定数係数であり、Kはテーパ係数である。
要約すると、本願の実施形態で提供される投影対物レンズは、像を物体側から像側に投影するように構成される。投影対物レンズは、光軸に沿って物体側から順に、正の焦点力を持つ第1レンズ群、負の焦点力を持つ第2レンズ群、正の焦点力を持つ第3レンズ群、負の焦点力を持つ第4レンズ群、正の焦点力を持つ第5レンズ群を含む。第1レンズ群、第2レンズ群、第4レンズ群、第5レンズ群のそれぞれに非球面レンズを配置することでレンズ枚数を減らし、構造のコンパクト化と投影対物レンズの透過率向上を実現した。一方、これは非球面の構造設計も最適化するため、非球面性を減らし、非球面の製造の困難さとコストを削減することができる。さらに、投影対物レンズはバイテレセントリック構造を備えているため、マスク表面の極小さな凸状または凹状の欠陥に対する対物レンズの感度を下げることができる。
上記の説明は、本願のいくつかの好ましい実施形態にすぎず、いかなる意味でも本願の範囲を限定することを意図するものではない。開示された技術的解決策に基づいて当業者によって行われた同等の代替物または変形は、添付の特許請求の範囲の保護範囲内にある。
O オブジェクト側
1 第1レンズ
2 第2レンズ
3 第3レンズ
4 第4レンズ
5 第5レンズ
6 第6レンズ
7 第7レンズ
8 第8レンズ
9 第9レンズ
12 第12レンズ
13 第13レンズ
14 第14レンズ
10 第10レンズ
11 第11レンズ
15 第15レンズ
16 第16レンズ
17 第17レンズ
18 第18レンズ
19 第19レンズ
20 第20レンズ
24 第24レンズ
25 第25レンズ
I 像側
ST 光学絞り
G1 第1レンズ群
G2 第2レンズ群
G3 第3レンズ群
G4 第4レンズ群
G5 第5レンズ群
SG1 第1レンズサブ群
SG2 第2レンズサブ群
SG3 第3レンズサブ群
SG4 第4レンズサブ群
SG5 第5レンズサブ群
S 矢状面湾曲プロファイル
T メリディオナル像面湾曲プロファイル
F 物体側テレセントリックプロファイル
N 像側テレセントリックプロファイル

Claims (22)

  1. 物体側から像側に像を投影するための投影対物レンズであって、光軸に沿って物体側から順に配置された、
    正の焦点力を有する第1のレンズ群であって、負の焦点力を有する第1のレンズサブ群を含み、前記第1のレンズサブ群の1つのレンズは、物体側に近い側に非球面を有する、第1のレンズ群と、
    負の焦点力を有する第2のレンズ群であって、第1の両凹レンズサブ群を含み、最も像側にある前記第1の両凹レンズサブ群のレンズが物体側に近い側に非球面を有する、第2のレンズ群と、
    正の焦点力を持つ第3のレンズ群と、
    負の焦点力を有する第4のレンズ群であって、第2の両凹レンズサブ群を含み、最も物体側にある第2の両凹レンズサブ群のレンズが像側に近い側に非球面を有する、第4のレンズ群と、
    正の焦点力を有する第5のレンズ群であって、第3の両凹レンズサブ群を含み、最も像側にある第3の両凹レンズサブ群のレンズが像側に近い側に非球面を有する、第5のレンズ群と、
    を備える、投影対物レンズ。
  2. 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
    前記第1のレンズ群が正の焦点力を有する第2のレンズサブ群をさらに含み、
    前記第1のレンズサブ群は負の焦点力を有する1つのレンズを少なくとも含み、
    前記第2のレンズサブ群は正の焦点力を有する2つのレンズを少なくとも含む、
    投影対物レンズ。
  3. 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
    前記第2のレンズ群は、負の焦点力を有する4つのレンズを少なくとも含み、
    前記第1の両凹レンズサブ群は負の焦点力を有し、また、2つの両凹レンズを少なくとも含む、
    投影対物レンズ。
  4. 請求項3に記載の投影対物レンズであって、
    前記第2のレンズ群はN個のレンズを含み、Nは4以上の偶数であり、前記第1の両凹レンズサブ群はM個のレンズを含み、Mは2以上の偶数である、
    投影対物レンズ。
  5. 請求項4に記載の投影対物レンズであって、
    前記第1の両凹レンズサブ群のレンズは、前記第2のレンズ群を通過する光軸によって規定される光路の中間点の両側に分布されており、
    前記第1の両凹レンズサブ群のレンズは、前記光路の前記中間点に対して対称となるように配置される、
    投影対物レンズ。
  6. 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
    前記第3のレンズ群は、正の焦点力を有する2つのレンズを少なくとも含む、
    投影対物レンズ。
  7. 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
    前記第3のレンズ群の各レンズは、動作波長で1.6未満の屈折率を有する材料から成る、
    投影対物レンズ。
  8. 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
    前記第4のレンズ群は、それぞれが負の焦点力を有する3つのレンズを少なくとも含む、
    投影対物レンズ。
  9. 請求項8に記載の投影対物レンズであって、
    前記第4のレンズ群は、負の焦点力を有する1つのメニスカスレンズを少なくとも含む、
    投影対物レンズ。
  10. 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
    前記第5のレンズ群は、第3のレンズサブ群、第4のレンズサブ群、及び、第5のレンズサブ群を含み、
    前記第3のレンズサブ群は、少なくとも2つのレンズを含み、
    前記第4のレンズサブ群は、少なくとも3つのレンズを含み、
    前記第5のレンズサブ群は、少なくとも5つのレンズを含む、
    投影対物レンズ。
  11. 請求項10に記載の投影対物レンズであって、
    前記第4のレンズサブ群は、前記第3の両凹レンズサブ群を含み、
    前記第3の両凹レンズサブ群のレンズは、像側に近い側に非球面を有し、
    前記第3の両凹レンズサブ群は、少なくとも1つの両凹レンズを含む、
    投影対物レンズ。
  12. 請求項10に記載の投影対物レンズであって、
    前記第5のレンズサブ群は、少なくとも4つのメニスカスレンズを含む、
    投影対物レンズ。
  13. 請求項10に記載の投影対物レンズであって、
    前記投影対物レンズの光学絞りが、前記第3のレンズサブ群と前記第4のレンズサブ群の間に位置している、
    投影対物レンズ。
  14. 請求項10に記載の投影対物レンズであって、
    前記第3のレンズサブ群及び前記第4のレンズサブ群のそれぞれは、正の焦点力を有するレンズサブ群である、
    投影対物レンズ。
  15. 請求項7に記載の投影対物レンズであって、
    前記第3のレンズ群の各レンズは、動作波長で1.47の屈折率を有するシリカから成る、
    投影対物レンズ。
  16. 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
    物体側平行板及び像側平行板を備え、
    前記物体側平行板は、前記光軸上で物体側に近い側に配置され、
    前記像側平行板は、前記光軸上で像側に近い側に配置される、
    投影対物レンズ。
  17. 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
    前記投影対物レンズは、32mmより大きい物体側動作距離、及び、8mmより大きい像側動作距離を有する、
    投影対物レンズ。
  18. 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
    各非球面の最大非球面度は300μm未満である、
    投影対物レンズ。
  19. 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
    前記投影対物レンズは、6mrad未満の物体側テレセントリック性、及び、3mrad未満の像側テレセントリック性を有する、
    投影対物レンズ。
  20. 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
    前記投影対物レンズが、60nm未満の像面湾曲、50nm未満の非点収差、及び、4nm未満の歪曲収差を有する、
    投影対物レンズ。
  21. 請求項1に記載の投影対物レンズであって、
    前記投影対物レンズが、−0.25の倍率、0.65の像側開口数、及び、26mm×16mmより大きい像側視野サイズを有する、
    投影対物レンズ。
  22. 請求項1から21の何れか1項に記載の投影対物レンズを用いた露光装置であって、
    マスクを支持するマスクステージと、露光されるワークピースを支持するワークピースステージ、露光ビームを放射する光源を含み、
    前記露光ビームは、前記マスクステージ及び前記投影対物レンズを通過した後、前記マスクのパターンを前記ワークピースに投影し、
    前記投影対物レンズの非球面の式は以下の通りである、
    Figure 2020535482
    ここで、Zは非球面の曲線の式であり、Yは半径寸法であり、CURVは曲率であり、Aは4次の定数係数であり、Bは6次の定数係数であり、Cは8次の定数係数であり、Dは10次の定数係数であり、Eは12次の定数係数であり、Fは14次の定数係数であり、Gは16次の定数係数であり、Hは18次の定数係数であり、Jは20次の定数係数であり、Kはテーパ係数である、
    露光装置。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111381346B (zh) * 2018-12-30 2021-05-11 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种光刻投影物镜
CN110895366A (zh) * 2019-11-22 2020-03-20 福建福光天瞳光学有限公司 一种0.5倍110mm物距高分辨率工业双远心镜头
CN114563866B (zh) * 2022-03-14 2024-02-20 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所) 投影物镜系统
CN116954028A (zh) * 2022-04-12 2023-10-27 上海微电子装备(集团)股份有限公司 光刻投影物镜及光刻机
CN114839751A (zh) * 2022-04-22 2022-08-02 嘉兴中润光学科技股份有限公司 一种变焦镜头和成像装置
WO2023224409A1 (ko) * 2022-05-19 2023-11-23 삼성전자 주식회사 프로젝션 렌즈 광학계, 이를 채용한 프로젝션 장치 및 웨어러블 디바이스

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08254652A (ja) * 1995-03-15 1996-10-01 Nikon Corp 投影光学系
US5856884A (en) * 1997-09-05 1999-01-05 Nikon Corporation Projection lens systems
JPH116957A (ja) * 1997-04-25 1999-01-12 Nikon Corp 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法
JPH1197347A (ja) * 1997-07-16 1999-04-09 Nikon Corp 投影露光装置、及び該装置を用いたパターン転写方法
JP2000171699A (ja) * 1998-11-30 2000-06-23 Carl Zeiss:Fa 投影対物レンズ
JP2000171706A (ja) * 1998-11-30 2000-06-23 Carl Zeiss:Fa マイクロリソグラフィ用縮小対物レンズ,投影露光装置及び投影露光方法
JP2000171707A (ja) * 1998-11-30 2000-06-23 Carl Zeiss:Fa マイクロリソグラフィ用縮小投影対物レンズ
JP2000235146A (ja) * 1998-11-30 2000-08-29 Carl Zeiss:Fa マイクロリソグラフィーの結晶レンズと投影形露光装置とを具備した対物レンズ
JP2004046119A (ja) * 2002-05-14 2004-02-12 Cark Zeiss Smt Ag 投影露光システム
JP2005519348A (ja) * 2002-03-08 2005-06-30 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 液浸リソグラフィ用の屈折投影対物レンズ
US20130250434A1 (en) * 2010-12-01 2013-09-26 Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd. Projection objective lens system
CN103364928A (zh) * 2012-03-31 2013-10-23 上海微电子装备有限公司 一种投影物镜光学系统
CN103389564A (zh) * 2012-05-11 2013-11-13 上海微电子装备有限公司 一种投影物镜

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3486529B2 (ja) * 1997-07-25 2004-01-13 キヤノン株式会社 ズ−ムレンズ
DE19942281A1 (de) * 1999-05-14 2000-11-16 Zeiss Carl Fa Projektionsobjektiv
US6867922B1 (en) * 1999-06-14 2005-03-15 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system and projection exposure apparatus using the same
US7203007B2 (en) * 2000-05-04 2007-04-10 Carl Zeiss Smt Ag Projection exposure machine comprising a projection lens
US7154676B2 (en) * 2002-03-01 2006-12-26 Carl Zeiss Smt A.G. Very-high aperture projection objective
US7301707B2 (en) * 2004-09-03 2007-11-27 Carl Zeiss Smt Ag Projection optical system and method
WO2007131161A2 (en) * 2006-05-05 2007-11-15 Carl Zeiss Smt Ag Symmetrical objective having four lens groups for microlithography
CN101523294B (zh) 2006-08-14 2012-08-08 卡尔蔡司Smt有限责任公司 具有光瞳镜的反射折射投影物镜、投影曝光设备和方法
TWI412813B (zh) 2010-11-05 2013-10-21 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 變焦投影鏡頭
CN104035187B (zh) 2014-06-06 2017-04-26 中国科学院光电技术研究所 一种大数值孔径的纯折射式干式投影光学系统
CN105527701B (zh) * 2014-09-28 2018-06-29 上海微电子装备(集团)股份有限公司 大视场投影光刻物镜
CN205982805U (zh) 2016-08-30 2017-02-22 中山联合光电科技股份有限公司 一种大光圈小体积高像素变焦投影光学系统

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08254652A (ja) * 1995-03-15 1996-10-01 Nikon Corp 投影光学系
JPH116957A (ja) * 1997-04-25 1999-01-12 Nikon Corp 投影光学系および投影露光装置並びに投影露光方法
JPH1197347A (ja) * 1997-07-16 1999-04-09 Nikon Corp 投影露光装置、及び該装置を用いたパターン転写方法
US5856884A (en) * 1997-09-05 1999-01-05 Nikon Corporation Projection lens systems
JP2000171707A (ja) * 1998-11-30 2000-06-23 Carl Zeiss:Fa マイクロリソグラフィ用縮小投影対物レンズ
JP2000171706A (ja) * 1998-11-30 2000-06-23 Carl Zeiss:Fa マイクロリソグラフィ用縮小対物レンズ,投影露光装置及び投影露光方法
JP2000171699A (ja) * 1998-11-30 2000-06-23 Carl Zeiss:Fa 投影対物レンズ
JP2000235146A (ja) * 1998-11-30 2000-08-29 Carl Zeiss:Fa マイクロリソグラフィーの結晶レンズと投影形露光装置とを具備した対物レンズ
JP2005519348A (ja) * 2002-03-08 2005-06-30 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 液浸リソグラフィ用の屈折投影対物レンズ
JP2004046119A (ja) * 2002-05-14 2004-02-12 Cark Zeiss Smt Ag 投影露光システム
US20130250434A1 (en) * 2010-12-01 2013-09-26 Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd. Projection objective lens system
CN103364928A (zh) * 2012-03-31 2013-10-23 上海微电子装备有限公司 一种投影物镜光学系统
CN103389564A (zh) * 2012-05-11 2013-11-13 上海微电子装备有限公司 一种投影物镜

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