JP2020533809A - 多積層をエッチングするための化学的性質 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、全ての目的に関して、参照によって全体として本明細書に組み込まれる、2017年8月31日出願の米国特許出願第15/692,247号の利益を主張する。
・ハードマスク層が、非晶質炭素又はドープド炭素のCVD又はスピンオン堆積層、ケイ素含有スピンオンマスク、及び炭素含有スピンオンマスクからなる群から選択される;
・ハードマスク層が非晶質炭素(a−C)層である;
・ハードマスク層がドープド炭素層である;
・ハードマスク層が、ケイ素含有スピンオンマスク層である;
・ハードマスク層が、炭素含有スピンオンマスク層である;
・交互層の堆積が、基板上に第1のエッチング層を堆積すること、第1のエッチング層上に第2のエッチング層を堆積すること、第2のエッチング層上に別の第1のエッチング層を堆積すること、並びに交互に及び繰り返し、第1及び第2のエッチング層を堆積して、基板上に第1及び第2のエッチング層の複数の対を含む積層構造を形成することを含む;
・交互層が、酸化ケイ素、窒化ケイ素、SiOCH、SiON、SiaObCcNdHe(式中、a>0;b、c、d及びe≧0)又はその組合せの層を含む;
・交互層が、酸素原子、窒素原子、炭素原子、水素原子又はその組合せを含み、交互層がケイ素含有膜である;
・交互層が、酸化ケイ素の層及び窒化ケイ素の層を含む;
・交互層が、酸化ケイ素及び窒化ケイ素の交互層を含む;
・交互層が、酸化ケイ素及び窒化ケイ素の交互層である;
・第1のエッチング層が、酸化ケイ素層を含む;
・第1のエッチング層が、窒化ケイ素層を含む;
・第2のエッチング層が、酸化ケイ素層を含む;
・第2のエッチング層が、窒化ケイ素層を含む;
・交互層が、ハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・交互層が、a−C層から選択的にエッチングされる;
・交互層が、ドープド炭素層から選択的にエッチングされる;
・交互層が、ケイ素含有スピンオンハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・交互層が、炭素含有スピンオンハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素及び窒化ケイ素の交互層が、ハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素及び窒化ケイ素の交互層が、a−C層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素及び窒化ケイ素の交互層が、ドープド炭素層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素及び窒化ケイ素の交互層が、ケイ素含有スピンオンハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素及び窒化ケイ素の交互層が、炭素含有スピンオンハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素層が、ハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素層が、a−C層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素層が、ドープド炭素層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素層が、ケイ素含有スピンオンハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素層が、炭素含有スピンオンハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・窒化ケイ素層が、ハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・窒化ケイ素層が、a−C層から選択的にエッチングされる;
・窒化ケイ素層が、ドープド炭素層から選択的にエッチングされる;
・窒化ケイ素層が、ケイ素含有スピンオンハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・窒化ケイ素層が、炭素含有スピンオンハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスから生成したプラズマを用いる単一プロセスによって第1及び第2のエッチング層の交互層をエッチングする;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、高エッチング速度で第1及び第2の両エッチング層をエッチングする;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、高エッチング速度で酸化ケイ素層及び窒化ケイ素層の両方をエッチングする;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、高エッチング速度で酸化ケイ素層及び窒化ケイ素層を選択的にエッチングしない;
・第1及び第2の両エッチング層をエッチングするヒドロフルオロカーボンエッチングガスの選択性が、約1:2〜約2:1の範囲である;
・第1及び第2の両エッチング層をエッチングするヒドロフルオロカーボンエッチングガスの選択性が、約1:1である;
・酸化ケイ素層及び窒化ケイ素層の両方をエッチングするヒドロフルオロカーボンエッチングガスの選択性が、約1:2〜約2:1の範囲である;
・酸化ケイ素層及び窒化ケイ素層の両方をエッチングするヒドロフルオロカーボンエッチングガスの選択性が、約1:1である;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、少なくとも1つの水素を含有する;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、少なくとも1つの水素を含有する、3炭素(C3)ヒドロフルオロカーボン(m>0、n>0であるC3HmFn)化合物である;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、少なくとも1つの水素を含有する、C3有機フッ素化合物である;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン(C3H2F6)である;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン(iso−C3H2F6)である;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、1,1,1,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロパン(C3HF7)である;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、1,1,1,2,2,3,3−ヘプタフルオロプロパン(iso−C3HF7)である;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、プラズマ下でケイ素含有膜と反応し、揮発性副産物を形成する;
・副産物を除去する;
・凝縮を避けるため、プラズマエッチング用のヒドロフルオロカーボンエッチングガスを加熱する;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスの望ましい流量を維持するために、プラズマエッチング用のヒドロフルオロカーボンエッチングガスを加熱する;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスに酸素含有ガスを添加する;
・酸素含有ガスが、O2、O3、CO、CO2、NO、NO2、N2O、SO2、COS、H2O及びそれらの組合せからなる群から選択される;
・酸素含有ガスがO2である;
・アパーチャーを形成する前に、ヒドロフルオロカーボンエッチングガスと酸素含有ガスとを混合し、混合物を製造する;
・酸素含有ガスとは別にヒドロフルオロカーボンエッチングガスを導入する;
・連続的に酸素含有ガスを導入し、断続的にヒドロフルオロカーボンエッチングガスを導入する;
・酸素含有ガスが、ヒドロフルオロカーボンエッチングガス及び酸素含有ガスの全体積の約0.01%v/v〜約99.9%v/vを含む;
・酸素含有ガスが、ヒドロフルオロカーボンエッチングガス及び酸素含有ガスの全体積の約0.01%v/v〜約10%v/vを含む;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスに不活性ガスを添加する;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスに不活性ガスを添加しない;
・不活性ガスが、He、Ar、Xe、Kr、Ne及びN2からなる群から選択される;
・不活性ガスがArである;
・不活性ガスがXeである;
・不活性ガスがKrである;
・アパーチャーを形成する前に、ヒドロフルオロカーボンエッチングガスと不活性ガスとを混合し、混合物を製造する;
・不活性ガスとは別にヒドロフルオロカーボンエッチングガスを導入する;
・連続的に不活性ガスを導入し、断続的にヒドロフルオロカーボンエッチングガスを導入する;
・不活性ガスが、ヒドロフルオロカーボンエッチング化合物の蒸気及び不活性ガスの全体積の約0.01%v/v〜約99.9%v/vを含む;
・不活性ガスが、ヒドロフルオロカーボンエッチング化合物の蒸気及び不活性ガスの全体積の約90%v/v〜約99%v/vを含む;
・基板がSiウエハである;
・基板が結晶質ケイ素層である;
・約1:1〜約50:1のアスペクト比を有する交互層におけるアパーチャーを製造する;
・約1:1〜約200:1のアスペクト比を有する交互層におけるアパーチャーを製造する;
・5%未満のボーイングを有する交互層においてアパーチャーを製造する;
・2%未満のボーイングを有する交互層においてアパーチャーを製造する;
・約5nm〜約200nmの範囲の直径を有するアパーチャーを製造する;
・約100nmの直径を有するアパーチャーを製造する;
・約50nmの直径を有するアパーチャーを製造する;
・アパーチャーを製造する;
・アパーチャーが3D NANDアパーチャーである;
・アパーチャーがコンタクトホールである;
・アパーチャーが3D NANDコンタクトホールである;
・アパーチャーが階段状コンタクトである;
・約1:1〜約200:1のアスペクト比を有するチャネルホールを製造する;
・5%未満のボーイングを有する交互層においてチャネルホールを製造する;
・2%未満のボーイングを有する交互層においてチャネルホールを製造する;
・約5nm〜約200nmの範囲の直径を有するチャネルホールを製造する;
・約100nmの直径を有するチャネルホールを製造する;
・約40nmの直径を有するチャネルホールを製造する;
・約1:1〜約200:1のアスペクト比を有するコンタクトホールを製造する;
・約5nm〜約200nmの範囲の直径を有するコンタクトホールを製造する;
・5%未満のボーイングを有する交互層においてコンタクトホールを製造する;
・2%未満のボーイングを有する交互層においてコンタクトホールを製造する;
・約100nmの直径を有するコンタクトホールを製造する;
・約40nmの直径を有するコンタクトホールを製造する;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスに第2のエッチングガスを添加することによって選択性を改善する;
・第2のエッチングガスが、cC4F8、C4F8、C4F6、C5F8、CF4、CH3F、CF3H、CH2F2、COS、CS2、CF3I、C2F3I、C2F5I、FNO、SO2及びそれらの組合せからなる群から選択される;
・アパーチャーを形成する前に、ヒドロフルオロカーボンエッチングガスと第2のエッチングガスとを混合する;
・第2のエッチングガスとは別にヒドロフルオロカーボンエッチングガスを導入する;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスに約0.01%v/v〜約99.99%v/vの第2のエッチングガスを添加する;
・RF力を適用することによってプラズマを活性化する;
・約25W〜約20,000Wの範囲のRF力によってプラズマを活性化する;
・エッチング圧力が約1mTorr〜約10Torrの範囲である;
・エッチング圧力が30mTorrである;
・約0.1sccm〜約1slmの範囲の流量においてヒドロフルオロカーボンエッチングガスを導入する;
・約−196℃〜約500℃の範囲の温度で基板を維持する;
・約−120℃〜約300℃の範囲の温度で基板を維持する;
・約−100℃〜約50℃の範囲の温度で基板を維持する;
・約−10℃〜約40℃の範囲の温度で基板を維持する;並びに
・四重極型質量分析計、発光分光計、FTIR又は他のラジカル/イオン測定ツールによるプラズマ下でヒドロフルオロカーボンエッチングガスを測定する。
・有機フッ素エッチングガスが少なくとも1つの水素を含有する;
・有機フッ素エッチングガスがC3H2F6である;
・有機フッ素エッチングガスがiso−C3H2F6である;
・有機フッ素エッチングガスがC3HF7である;
・有機フッ素エッチングガスがiso−C3HF7である;
・約95体積%〜約99.999体積%の範囲の純度を有する;
・約10パーツパートリリオン〜約5体積%の微量ガス不純物を含む;
・微量ガス不純物が水を含む;
・微量ガス不純物がCO2を含む;
・微量ガス不純物がN2を含む;
・微量ガス不純物がCFC及びHCFCを含む;
・有機フッ素エッチングガスが、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満のCFC及びHCFCを含有する;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満のCFC及びHCFCを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満のCFC及びHCFCを含有する;
・C3HF7が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満のCFC及びHCFCを含有する;
・iso−C3HF7が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満のCFC及びHCFCを含有する;
・CFC及びHCFCが、1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロプロパン、1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−(トリフルオロメチル)プロプ−1−エン、1,1,1,3,3−ペンタフルオロ−2−クロロプロペン、1,1,1,3−テトラフルオロ−3−クロロプロペン、1,1−ジフルオロ−2,2−ジクロロエテン、トリクロロフルオロメタン、1,1,1,3,3−ペンタフルオロ−3−クロロプロパン、1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパン及び1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−クロロプロパンである;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロプロパンを含有する;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3−ペンタフルオロ−2−クロロプロペンを含有する;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3−テトラフルオロ−3−クロロプロペンを含有する;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1−ジフルオロ−2,2−ジクロロエテンを含有する;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満のトリクロロフルオロメタンを含有する;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3−ペンタフルオロ−3−クロロプロパンを含有する;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパンを含有する;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−クロロプロパンを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロプロパンを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3−ペンタフルオロ−2−クロロプロペンを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3−テトラフルオロ−3−クロロプロペンを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1−ジフルオロ−2,2−ジクロロエテンを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満のトリクロロフルオロメタンを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3−ペンタフルオロ−3−クロロプロパンを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパンを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−クロロプロパンを含有する;
・C3HF7が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−(トリフルオロメチル)プロプ−1−エンを含有する;
・iso−C3HF7が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−(トリフルオロメチル)プロプ−1−エンを含有する;
・微量ガス不純物が、開示された有機フッ素エッチング化合物以外のヒドロフルオロカーボンを含む;
・開示された有機フッ素エッチング化合物以外のヒドロフルオロカーボンが、x=3及びy=2である場合、z≠6であり、且つx=3及びy=1である場合、z≠7であることを条件として、x=0〜3、y=0〜8、z=0〜8である式CxHyFzを有する;
・C3H2F6が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満の開示された有機フッ素エッチング化合物以外のヒドロフルオロカーボンを含有する;
・C3H2F6が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のiso−C3H2F6を含有する;
・C3H2F6が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のC3HF7を含有する;
・C3H2F6が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のiso−C3HF7を含有する;
・iso−C3H2F6が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満の開示された有機フッ素エッチング化合物以外のヒドロフルオロカーボンを含有する;
・iso−C3H2F6が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のC3H2F6を含有する;
・iso−C3H2F6が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のC3HF7を含有する;
・iso−C3H2F6が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のiso−C3HF7を含有する;
・C3HF7が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満の開示された有機フッ素エッチング化合物以外のヒドロフルオロカーボンを含有する;
・C3HF7が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のC3H2F6を含有する;
・C3HF7が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のiso−C3H2F6を含有する;
・C3HF7が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のiso−C3HF7を含有する;
・iso−C3HF7が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満の開示された有機フッ素エッチング化合物以外のヒドロフルオロカーボンを含有する;
・iso−C3HF7が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のC3H2F6を含有する;
・iso−C3HF7が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のiso−C3H2F6を含有する;
・iso−C3HF7が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のC3HF7を含有する;並びに
・有機フッ素エッチングガスが20ppmw未満の水分含有量を有する。
次の記載及び請求項全体で、特定の略語、記号及び用語が使用され、そしてこれには次のものが含まれる:
本出願は、全ての目的に関して、参照によって全体として本明細書に組み込まれる、2017年8月31日出願の米国特許出願第15/692,247号の利益を主張する。
・ハードマスク層が、非晶質炭素又はドープド炭素のCVD又はスピンオン堆積層、ケイ素含有スピンオンマスク、及び炭素含有スピンオンマスクからなる群から選択される;
・ハードマスク層が非晶質炭素(a−C)層である;
・ハードマスク層がドープド炭素層である;
・ハードマスク層が、ケイ素含有スピンオンマスク層である;
・ハードマスク層が、炭素含有スピンオンマスク層である;
・交互層の堆積が、基板上に第1のエッチング層を堆積すること、第1のエッチング層上に第2のエッチング層を堆積すること、第2のエッチング層上に別の第1のエッチング層を堆積すること、並びに交互に及び繰り返し、第1及び第2のエッチング層を堆積して、基板上に第1及び第2のエッチング層の複数の対を含む積層構造を形成することを含む;
・交互層が、酸化ケイ素、窒化ケイ素、SiOCH、SiON、SiaObCcNdHe(式中、a>0;b、c、d及びe≧0)又はその組合せの層を含む;
・交互層が、酸素原子、窒素原子、炭素原子、水素原子又はその組合せを含み、交互層がケイ素含有膜である;
・交互層が、酸化ケイ素の層及び窒化ケイ素の層を含む;
・交互層が、酸化ケイ素及び窒化ケイ素の交互層を含む;
・交互層が、酸化ケイ素及び窒化ケイ素の交互層である;
・第1のエッチング層が、酸化ケイ素層を含む;
・第1のエッチング層が、窒化ケイ素層を含む;
・第2のエッチング層が、酸化ケイ素層を含む;
・第2のエッチング層が、窒化ケイ素層を含む;
・交互層が、ハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・交互層が、a−C層から選択的にエッチングされる;
・交互層が、ドープド炭素層から選択的にエッチングされる;
・交互層が、ケイ素含有スピンオンハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・交互層が、炭素含有スピンオンハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素及び窒化ケイ素の交互層が、ハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素及び窒化ケイ素の交互層が、a−C層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素及び窒化ケイ素の交互層が、ドープド炭素層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素及び窒化ケイ素の交互層が、ケイ素含有スピンオンハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素及び窒化ケイ素の交互層が、炭素含有スピンオンハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素層が、ハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素層が、a−C層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素層が、ドープド炭素層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素層が、ケイ素含有スピンオンハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・酸化ケイ素層が、炭素含有スピンオンハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・窒化ケイ素層が、ハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・窒化ケイ素層が、a−C層から選択的にエッチングされる;
・窒化ケイ素層が、ドープド炭素層から選択的にエッチングされる;
・窒化ケイ素層が、ケイ素含有スピンオンハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・窒化ケイ素層が、炭素含有スピンオンハードマスク層から選択的にエッチングされる;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスから生成したプラズマを用いる単一プロセスによって第1及び第2のエッチング層の交互層をエッチングする;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、高エッチング速度で第1及び第2の両エッチング層をエッチングする;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、高エッチング速度で酸化ケイ素層及び窒化ケイ素層の両方をエッチングする;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、高エッチング速度で酸化ケイ素層及び窒化ケイ素層を選択的にエッチングしない;
・第1及び第2の両エッチング層をエッチングするヒドロフルオロカーボンエッチングガスの選択性が、約1:2〜約2:1の範囲である;
・第1及び第2の両エッチング層をエッチングするヒドロフルオロカーボンエッチングガスの選択性が、約1:1である;
・酸化ケイ素層及び窒化ケイ素層の両方をエッチングするヒドロフルオロカーボンエッチングガスの選択性が、約1:2〜約2:1の範囲である;
・酸化ケイ素層及び窒化ケイ素層の両方をエッチングするヒドロフルオロカーボンエッチングガスの選択性が、約1:1である;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、少なくとも1つの水素を含有する;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、少なくとも1つの水素を含有する、3炭素(C3)ヒドロフルオロカーボン(m>0、n>0であるC3HmFn)化合物である;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、少なくとも1つの水素を含有する、C3有機フッ素化合物である;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン(C3H2F6)である;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン(iso−C3H2F6)である;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、1,1,1,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロパン(C3HF7)である;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、1,1,1,2,2,3,3−ヘプタフルオロプロパン(iso−C3HF7)である;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが、プラズマ下でケイ素含有膜と反応し、揮発性副産物を形成する;
・副産物を除去する;
・凝縮を避けるため、プラズマエッチング用のヒドロフルオロカーボンエッチングガスを加熱する;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスの望ましい流量を維持するために、プラズマエッチング用のヒドロフルオロカーボンエッチングガスを加熱する;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスに酸素含有ガスを添加する;
・酸素含有ガスが、O2、O3、CO、CO2、NO、NO2、N2O、SO2、COS、H2O及びそれらの組合せからなる群から選択される;
・酸素含有ガスがO2である;
・アパーチャーを形成する前に、ヒドロフルオロカーボンエッチングガスと酸素含有ガスとを混合し、混合物を製造する;
・酸素含有ガスとは別にヒドロフルオロカーボンエッチングガスを導入する;
・連続的に酸素含有ガスを導入し、断続的にヒドロフルオロカーボンエッチングガスを導入する;
・酸素含有ガスが、ヒドロフルオロカーボンエッチングガス及び酸素含有ガスの全体積の約0.01%v/v〜約99.9%v/vを含む;
・酸素含有ガスが、ヒドロフルオロカーボンエッチングガス及び酸素含有ガスの全体積の約0.01%v/v〜約10%v/vを含む;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスに不活性ガスを添加する;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスに不活性ガスを添加しない;
・不活性ガスが、He、Ar、Xe、Kr、Ne及びN2からなる群から選択される;
・不活性ガスがArである;
・不活性ガスがXeである;
・不活性ガスがKrである;
・アパーチャーを形成する前に、ヒドロフルオロカーボンエッチングガスと不活性ガスとを混合し、混合物を製造する;
・不活性ガスとは別にヒドロフルオロカーボンエッチングガスを導入する;
・連続的に不活性ガスを導入し、断続的にヒドロフルオロカーボンエッチングガスを導入する;
・不活性ガスが、ヒドロフルオロカーボンエッチング化合物の蒸気及び不活性ガスの全体積の約0.01%v/v〜約99.9%v/vを含む;
・不活性ガスが、ヒドロフルオロカーボンエッチング化合物の蒸気及び不活性ガスの全体積の約90%v/v〜約99%v/vを含む;
・基板がSiウエハである;
・基板が結晶質ケイ素層である;
・約1:1〜約50:1のアスペクト比を有する交互層におけるアパーチャーを製造する;
・約1:1〜約200:1のアスペクト比を有する交互層におけるアパーチャーを製造する;
・5%未満のボーイングを有する交互層においてアパーチャーを製造する;
・2%未満のボーイングを有する交互層においてアパーチャーを製造する;
・約5nm〜約200nmの範囲の直径を有するアパーチャーを製造する;
・約100nmの直径を有するアパーチャーを製造する;
・約50nmの直径を有するアパーチャーを製造する;
・アパーチャーを製造する;
・アパーチャーが3D NANDアパーチャーである;
・アパーチャーがコンタクトホールである;
・アパーチャーが3D NANDコンタクトホールである;
・アパーチャーが階段状コンタクトである;
・約1:1〜約200:1のアスペクト比を有するチャネルホールを製造する;
・5%未満のボーイングを有する交互層においてチャネルホールを製造する;
・2%未満のボーイングを有する交互層においてチャネルホールを製造する;
・約5nm〜約200nmの範囲の直径を有するチャネルホールを製造する;
・約100nmの直径を有するチャネルホールを製造する;
・約40nmの直径を有するチャネルホールを製造する;
・約1:1〜約200:1のアスペクト比を有するコンタクトホールを製造する;
・約5nm〜約200nmの範囲の直径を有するコンタクトホールを製造する;
・5%未満のボーイングを有する交互層においてコンタクトホールを製造する;
・2%未満のボーイングを有する交互層においてコンタクトホールを製造する;
・約100nmの直径を有するコンタクトホールを製造する;
・約40nmの直径を有するコンタクトホールを製造する;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスに第2のエッチングガスを添加することによって選択性を改善する;
・第2のエッチングガスが、cC4F8、C4F8、C4F6、C5F8、CF4、CH3F、CF3H、CH2F2、COS、CS2、CF3I、C2F3I、C2F5I、FNO、SO2及びそれらの組合せからなる群から選択される;
・アパーチャーを形成する前に、ヒドロフルオロカーボンエッチングガスと第2のエッチングガスとを混合する;
・第2のエッチングガスとは別にヒドロフルオロカーボンエッチングガスを導入する;
・ヒドロフルオロカーボンエッチングガスに約0.01%v/v〜約99.99%v/vの第2のエッチングガスを添加する;
・RF力を適用することによってプラズマを活性化する;
・約25W〜約20,000Wの範囲のRF力によってプラズマを活性化する;
・エッチング圧力が約1mTorr〜約10Torrの範囲である;
・エッチング圧力が30mTorrである;
・約0.1sccm〜約1slmの範囲の流量においてヒドロフルオロカーボンエッチングガスを導入する;
・約−196℃〜約500℃の範囲の温度で基板を維持する;
・約−120℃〜約300℃の範囲の温度で基板を維持する;
・約−100℃〜約50℃の範囲の温度で基板を維持する;
・約−10℃〜約40℃の範囲の温度で基板を維持する;並びに
・四重極型質量分析計、発光分光計、FTIR又は他のラジカル/イオン測定ツールによるプラズマ下でヒドロフルオロカーボンエッチングガスを測定する。
・有機フッ素エッチングガスが少なくとも1つの水素を含有する;
・有機フッ素エッチングガスがC3H2F6である;
・有機フッ素エッチングガスがiso−C3H2F6である;
・有機フッ素エッチングガスがC3HF7である;
・有機フッ素エッチングガスがiso−C3HF7である;
・約95体積%〜約99.999体積%の範囲の純度を有する;
・約10パーツパートリリオン〜約5体積%の微量ガス不純物を含む;
・微量ガス不純物が水を含む;
・微量ガス不純物がCO2を含む;
・微量ガス不純物がN2を含む;
・微量ガス不純物がCFC及びHCFCを含む;
・有機フッ素エッチングガスが、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満のCFC及びHCFCを含有する;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満のCFC及びHCFCを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満のCFC及びHCFCを含有する;
・C3HF7が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満のCFC及びHCFCを含有する;
・iso−C3HF7が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満のCFC及びHCFCを含有する;
・CFC及びHCFCが、1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロプロパン、1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−(トリフルオロメチル)プロプ−1−エン、1,1,1,3,3−ペンタフルオロ−2−クロロプロペン、1,1,1,3−テトラフルオロ−3−クロロプロペン、1,1−ジフルオロ−2,2−ジクロロエテン、トリクロロフルオロメタン、1,1,1,3,3−ペンタフルオロ−3−クロロプロパン、1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパン及び1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−クロロプロパンである;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロプロパンを含有する;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3−ペンタフルオロ−2−クロロプロペンを含有する;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3−テトラフルオロ−3−クロロプロペンを含有する;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1−ジフルオロ−2,2−ジクロロエテンを含有する;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満のトリクロロフルオロメタンを含有する;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3−ペンタフルオロ−3−クロロプロパンを含有する;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパンを含有する;
・C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−クロロプロパンを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロプロパンを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3−ペンタフルオロ−2−クロロプロペンを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3−テトラフルオロ−3−クロロプロペンを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1−ジフルオロ−2,2−ジクロロエテンを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満のトリクロロフルオロメタンを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3−ペンタフルオロ−3−クロロプロパンを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパンを含有する;
・iso−C3H2F6が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−クロロプロパンを含有する;
・C3HF7が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−(トリフルオロメチル)プロプ−1−エンを含有する;
・iso−C3HF7が、100ppm未満、好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満の1,1,3,3,3−ペンタフルオロ−2−(トリフルオロメチル)プロプ−1−エンを含有する;
・微量ガス不純物が、開示された有機フッ素エッチング化合物以外のヒドロフルオロカーボンを含む;
・開示された有機フッ素エッチング化合物以外のヒドロフルオロカーボンが、x=3及びy=2である場合、z≠6であり、且つx=3及びy=1である場合、z≠7であることを条件として、x=0〜3、y=0〜8、z=0〜8である式CxHyFzを有する;
・C3H2F6が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満の開示された有機フッ素エッチング化合物以外のヒドロフルオロカーボンを含有する;
・C3H2F6が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のiso−C3H2F6を含有する;
・C3H2F6が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のC3HF7を含有する;
・C3H2F6が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のiso−C3HF7を含有する;
・iso−C3H2F6が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満の開示された有機フッ素エッチング化合物以外のヒドロフルオロカーボンを含有する;
・iso−C3H2F6が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のC3H2F6を含有する;
・iso−C3H2F6が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のC3HF7を含有する;
・iso−C3H2F6が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のiso−C3HF7を含有する;
・C3HF7が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満の開示された有機フッ素エッチング化合物以外のヒドロフルオロカーボンを含有する;
・C3HF7が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のC3H2F6を含有する;
・C3HF7が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のiso−C3H2F6を含有する;
・C3HF7が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のiso−C3HF7を含有する;
・iso−C3HF7が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満の開示された有機フッ素エッチング化合物以外のヒドロフルオロカーボンを含有する;
・iso−C3HF7が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のC3H2F6を含有する;
・iso−C3HF7が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のiso−C3H2F6を含有する;
・iso−C3HF7が、10%v/v未満、好ましくは1%v/v未満、より好ましくは0.1%v/v未満、なおより好ましくは0.01%v/v未満のC3HF7を含有する;並びに
・有機フッ素エッチングガスが20ppmw未満の水分含有量を有する。
次の記載及び請求項全体で、特定の略語、記号及び用語が使用され、そしてこれには次のものが含まれる:
Claims (15)
- 基板上の第1のエッチング層及び第2のエッチング層の交互層と、前記交互層上のハードマスク層とを有する3D NANDフラッシュメモリの製造方法であって、
前記ハードマスク層上にハードマスクパターンを形成するステップと;
1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン(C3H2F6)、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン(iso−C3H2F6)、1,1,1,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロパン(C3HF7)及び1,1,1,2,2,3,3−ヘプタフルオロプロパン(iso−C3HF7)からなる群から選択されるヒドロフルオロカーボンエッチングガスを使用して前記ハードマスク層に対して前記第1のエッチング層及び前記第2のエッチング層の前記交互層を選択的にプラズマエッチングすることによって前記交互層中にアパーチャーを形成するために前記ハードマスクパターンを使用するステップと
を含み、前記第1のエッチング層は前記第2のエッチング層のものとは異なる材料を含む方法。 - 前記ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン(C3H2F6)である、請求項1に記載の方法。
- 前記ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン(iso−C3H2F6)である、請求項1に記載の方法。
- 前記ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが1,1,1,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロパン(C3HF7)である、請求項1に記載の方法。
- 前記ヒドロフルオロカーボンエッチングガスが1,1,1,2,2,3,3−ヘプタフルオロプロパン(iso−C3HF7)である、請求項1に記載の方法。
- 前記第1のエッチング層が酸化ケイ素層を含み、且つ前記第2のエッチング層が窒化ケイ素層を含み、且つ逆もまた同様である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ヒドロフルオロカーボンエッチングガスプラズマが、前記ハードマスク層に対して無限の選択性で前記第1のエッチング層及び前記第2のエッチング層の交互層をエッチングする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ヒドロフルオロカーボンエッチングガスプラズマが、約1:2〜約2:1、好ましくは約1:1の選別性で前記第2のエッチング層に対して前記第1のエッチング層をエッチングする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記アパーチャーの側壁が、0〜約5%未満のボーリングを有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記アパーチャーが、約1:1〜約200:1のアスペクト比を有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- プラズマエッチングのため、及び凝縮を避けるために、前記ヒドロフルオロカーボンエッチングガスの前もって決定された流量を維持するために、前記ヒドロフルオロカーボンエッチングガスを加熱するステップをさらに含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 酸素含有ガスを添加するステップ、不活性ガスを添加するステップ又はその組合せをさらに含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- cC4F8、C4F8、C4F6、C5F8、CF4、CH3F、CF3H、CH2F2、COS、CS2、CF3I、C2F3I、C2F5I、FNO、SO2及びそれらの組合せからなる群から選択される第2のエッチングガスを添加するステップをさらに含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン(C3H2F6)、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロプロパン(iso−C3H2F6)、1,1,1,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロパン(C3HF7)及び1,1,1,2,2,3,3−ヘプタフルオロプロパン(iso−C3HF7)からなる群から選択される有機フッ素化合物を含むヒドロフルオロカーボンエッチング化合物であって、前記有機フッ素化合物が99.9体積%〜100体積%の純度及び0〜0.1体積%の微量ガス不純物を有し、前記微量ガス不純物中に含有されるヒドロフルオロカーボン及び酸素含有ガスの全含有量が体積で0〜150ppmである、ヒドロフルオロカーボンエッチング化合物。
- 前記酸素含有ガスが水であり、且つ前記プラズマエッチング化合物が重量で0〜20ppmの水含有量を有する、請求項14に記載のヒドロフルオロカーボンエッチング化合物。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022234647A1 (ja) * | 2021-05-07 | 2022-11-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
WO2022234648A1 (ja) * | 2021-05-07 | 2022-11-10 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチング方法 |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10529581B2 (en) * | 2017-12-29 | 2020-01-07 | L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude | SiN selective etch to SiO2 with non-plasma dry process for 3D NAND device applications |
US10903109B2 (en) * | 2017-12-29 | 2021-01-26 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming high aspect ratio openings and methods of forming high aspect ratio features |
US11056348B2 (en) * | 2018-04-05 | 2021-07-06 | Invensas Bonding Technologies, Inc. | Bonding surfaces for microelectronics |
WO2019199922A1 (en) * | 2018-04-13 | 2019-10-17 | Mattson Technology, Inc. | Processing of workpieces with reactive species generated using alkyl halide |
US20190362983A1 (en) * | 2018-05-23 | 2019-11-28 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for etching oxide nitride stacks |
JP7129482B2 (ja) * | 2018-08-21 | 2022-09-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
CN112424913A (zh) * | 2018-10-26 | 2021-02-26 | 玛特森技术公司 | 用于去除硬掩模的基于水蒸气的含氟等离子体 |
US11270890B2 (en) * | 2018-12-14 | 2022-03-08 | Lam Research Corporation | Etching carbon layer using doped carbon as a hard mask |
US10923478B2 (en) * | 2019-01-28 | 2021-02-16 | Micron Technology, Inc. | Reduction of roughness on a sidewall of an opening |
CN111524780A (zh) * | 2019-02-02 | 2020-08-11 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 一种用于超深宽比刻蚀的等离子反应器及其刻蚀方法 |
US11538822B2 (en) * | 2019-06-18 | 2022-12-27 | Micron Technology, Inc. | Integrated assemblies having metal-containing liners along bottoms of trenches, and methods of forming integrated assemblies |
JP7339032B2 (ja) * | 2019-06-28 | 2023-09-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法および基板処理装置 |
US11527549B2 (en) | 2019-10-04 | 2022-12-13 | SK Hynix Inc. | Memory device and method of manufacturing the same |
US11322518B2 (en) * | 2019-10-04 | 2022-05-03 | SK Hynix Inc. | Memory device and method of manufacturing the same |
US11521846B2 (en) | 2019-12-16 | 2022-12-06 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited | Methods for patterning a silicon oxide-silicon nitride-silicon oxide stack and structures formed by the same |
JP2022034956A (ja) * | 2020-08-19 | 2022-03-04 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチング方法及びプラズマ処理装置 |
US11264357B1 (en) | 2020-10-20 | 2022-03-01 | Invensas Corporation | Mixed exposure for large die |
US11355464B2 (en) * | 2020-11-10 | 2022-06-07 | Nanya Technology Corporation | Semiconductor device structure with bottle-shaped through silicon via and method for forming the same |
CN112635475B (zh) * | 2020-12-18 | 2024-05-24 | 长江存储科技有限责任公司 | 一种堆叠结构及其制备方法 |
KR20220122260A (ko) * | 2021-02-26 | 2022-09-02 | 에스케이스페셜티 주식회사 | 실리콘 함유막의 다중 적층체의 식각 방법 및 이를 포함하는 반도체 디바이스의 제조방법 |
KR20220126045A (ko) * | 2021-03-08 | 2022-09-15 | 에스케이스페셜티 주식회사 | 실리콘 함유막의 다중 적층체의 식각 방법 및 이를 포함하는 반도체 디바이스의 제조방법 |
WO2022190809A1 (ja) * | 2021-03-09 | 2022-09-15 | 昭和電工株式会社 | エッチングガス及びエッチング方法 |
US11295960B1 (en) * | 2021-03-09 | 2022-04-05 | Hitachi High-Tech Corporation | Etching method |
KR20220146239A (ko) * | 2021-04-23 | 2022-11-01 | 삼성전자주식회사 | 하드 마스크 구조체를 포함하는 반도체 소자 |
US11631589B2 (en) * | 2021-05-04 | 2023-04-18 | Applied Materials, Inc. | Metal etch in high aspect-ratio features |
US11594420B1 (en) * | 2021-08-30 | 2023-02-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor structure and manufacturing method thereof |
WO2023069410A1 (en) * | 2021-10-18 | 2023-04-27 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Etching methods using silicon-containing hydrofluorocarbons |
WO2023249899A1 (en) * | 2022-06-23 | 2023-12-28 | Lam Research Corporation | High aspect ratio etch with a metal or metalloid containing mask |
WO2024044218A1 (en) * | 2022-08-25 | 2024-02-29 | Lam Research Corporation | High aspect ratio etch with a liner |
WO2024044216A1 (en) * | 2022-08-25 | 2024-02-29 | Lam Research Corporation | High aspect ratio etch with a non-uniform metal or metalloid containing mask |
US20240096641A1 (en) * | 2022-09-20 | 2024-03-21 | Applied Materials, Inc. | In-situ carbon liner for high aspect ratio features |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001517868A (ja) * | 1997-09-19 | 2001-10-09 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | フルオロプロペンまたはフルオロプロピレンを用いた酸化物の選択的エッチングプラズマ処理 |
JP2002500443A (ja) * | 1997-12-31 | 2002-01-08 | アライドシグナル・インコーポレイテッド | 地球温暖化影響を減少させたヒドロフルオロカーボンエッチング化合物 |
JP2008300616A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Nippon Zeon Co Ltd | エッチング方法 |
US20090176375A1 (en) * | 2008-01-04 | 2009-07-09 | Benson Russell A | Method of Etching a High Aspect Ratio Contact |
JP2016139782A (ja) * | 2015-01-23 | 2016-08-04 | セントラル硝子株式会社 | ドライエッチング方法 |
WO2017026197A1 (ja) * | 2015-08-12 | 2017-02-16 | セントラル硝子株式会社 | ドライエッチング方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3198538B2 (ja) * | 1991-05-24 | 2001-08-13 | ソニー株式会社 | ドライエッチング方法 |
US5176790A (en) | 1991-09-25 | 1993-01-05 | Applied Materials, Inc. | Process for forming a via in an integrated circuit structure by etching through an insulation layer while inhibiting sputtering of underlying metal |
US6015761A (en) | 1996-06-26 | 2000-01-18 | Applied Materials, Inc. | Microwave-activated etching of dielectric layers |
US6074959A (en) | 1997-09-19 | 2000-06-13 | Applied Materials, Inc. | Method manifesting a wide process window and using hexafluoropropane or other hydrofluoropropanes to selectively etch oxide |
US6387287B1 (en) | 1998-03-27 | 2002-05-14 | Applied Materials, Inc. | Process for etching oxide using a hexafluorobutadiene and manifesting a wide process window |
US20080041526A1 (en) * | 2006-08-16 | 2008-02-21 | Pass Thomas P | Single-sided etching |
JP5434970B2 (ja) | 2010-07-12 | 2014-03-05 | セントラル硝子株式会社 | ドライエッチング剤 |
US8945996B2 (en) * | 2011-04-12 | 2015-02-03 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming circuitry components and methods of forming an array of memory cells |
JP6257638B2 (ja) | 2012-10-30 | 2018-01-10 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 高アスペクト比酸化物エッチング用のフルオロカーボン分子 |
TWI642809B (zh) * | 2013-09-09 | 2018-12-01 | 法商液態空氣喬治斯克勞帝方法研究開發股份有限公司 | 用蝕刻氣體蝕刻半導體結構的方法 |
KR102333443B1 (ko) | 2014-10-24 | 2021-12-02 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자의 제조 방법 |
US9728422B2 (en) | 2015-01-23 | 2017-08-08 | Central Glass Company, Limited | Dry etching method |
-
2017
- 2017-08-31 US US15/692,247 patent/US11075084B2/en active Active
-
2018
- 2018-08-14 TW TW107128289A patent/TWI781210B/zh active
- 2018-08-28 JP JP2020530736A patent/JP7000575B2/ja active Active
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- 2018-08-28 CN CN201880053811.4A patent/CN111052318B/zh active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001517868A (ja) * | 1997-09-19 | 2001-10-09 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | フルオロプロペンまたはフルオロプロピレンを用いた酸化物の選択的エッチングプラズマ処理 |
JP2002500443A (ja) * | 1997-12-31 | 2002-01-08 | アライドシグナル・インコーポレイテッド | 地球温暖化影響を減少させたヒドロフルオロカーボンエッチング化合物 |
JP2008300616A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Nippon Zeon Co Ltd | エッチング方法 |
US20090176375A1 (en) * | 2008-01-04 | 2009-07-09 | Benson Russell A | Method of Etching a High Aspect Ratio Contact |
JP2016139782A (ja) * | 2015-01-23 | 2016-08-04 | セントラル硝子株式会社 | ドライエッチング方法 |
WO2017026197A1 (ja) * | 2015-08-12 | 2017-02-16 | セントラル硝子株式会社 | ドライエッチング方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022234647A1 (ja) * | 2021-05-07 | 2022-11-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
WO2022234648A1 (ja) * | 2021-05-07 | 2022-11-10 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチング方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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US11075084B2 (en) | 2021-07-27 |
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