JP2020524913A - 高気密気相腐食キャビティ - Google Patents
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Abstract
Description
4HF(気体)+SiO2(固体)→SiF4(気体)↑+2H2O
特許文献1:JP4903764B214
2 下部キャビティ、
3 昇降制御装置、
4 入気口、
5 排気口、
6 加熱プレート、
7 第1シール機構、
8 第2シール機構、
9 第3シール機構、
10 上蓋フランジ、
11 第1シール面、
12 第2シール面、
13 第1シール溝、
14 第3シール面、
15 第4シール面、
16 第1シール部材、
17 加熱プレート保護ケース、
25 キャビティ底部貫通孔、
18 第2シール溝、
19 第2シール部材、
20 第3シール溝、
21 第3シール部材、
22 排気調節装置、
23 第4シール溝、
24 第4シール部材。
Claims (10)
- 上部キャビティと、下部キャビティと、昇降制御装置とを含む高気密気相腐食キャビティであって、
前記昇降制御装置は、前記上部キャビティの上下移動を制御するように前記上部キャビティに接続され、前記下部キャビティは固定されており、前記下部キャビティに入気口、排気口及び熱プレートが設けられ、
前記上部キャビティと前記下部キャビティとの間に第1シール機構が設けられ、前記加熱プレートと前記下部キャビティとの間に第2シール機構が設けられ、在前記排気口に第3シール機構が設けられることを特徴とする、高気密気相腐食キャビティ。 - 前記上部キャビティは、円形の蓋状であり、前記上部キャビティの周縁に、全周にわたってキャビティがある平面と直交する上蓋フランジが形成され、前記上部キャビティにおける前記上蓋フランジよりも外側の下面は、滑らかな第1シール面となるように加工され、
前記下部キャビティは、円形の皿状であり、前記下部キャビティの周縁の上面は、滑らかな第2シール面となるように加工され、前記第1シール面又は前記第2シール面にシール溝が形成され、
前記下部キャビティの周縁の内壁は、滑らかな第3シール面となるように加工され、前記上部キャビティの前記フランジの前記外壁は、滑らかな第4シール面となるように加工されることを特徴とする、請求項1に記載の高気密気相腐食キャビティ。 - 前記第1シール面、前記第2シール面、前記第3シール面、前記第4シール面及び前記第1シール溝内に配置された第1シール部材は、前記第1シール機構を構成することを特徴とする、請求項1に記載の高気密気相腐食キャビティ。
- 前記第1シール部材は、耐食性シールリングであることを特徴とする、請求項3に記載の高気密気相腐食キャビティ。
- 前記第2シール機構に第2シール部材及び第3シール部材が設けられ、前記第3シール機構に第4シール部材が設けられ、前記第2シール部材、前記第3シール部材、及び前記第4シール部材は、いずれも耐食性シールリングであることを特徴とする、請求項3に記載の高気密気相腐食キャビティ。
- 前記上部キャビティ及び前記下部キャビティの材質は、パーフルオロアルコキシ樹脂(PFA)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、エチレンテトラフルオロエチレン(ETFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリプロピレン(PP)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)のうちの1種又は複数種の組み合わせであることを特徴とする、請求項1に記載の高気密気相腐食キャビティ。
- 導入される気相源は、フッ化水素(HF)、塩化水素(HCl)、臭化水素(HBr)、ヨウ化水素(HI)、二フッ化キセノン(XeF2)のうちの1種又は複数種の組み合わせであることを特徴とする、請求項1に記載の高気密気相腐食キャビティ。
- 前記昇降制御装は、駆動装置及び変位センサを含むことを特徴とする、請求項1に記載の高気密気相腐食キャビティ。
- 前記駆動装置は、シリンダ又は電動シリンダであり、前記変位センサは光学センサ又は静電容量センサであることを特徴とする、請求項8に記載の高気密気相腐食キャビティ。
- 前記下部キャビティの前記排気口には、前記第3シール機構を介して排気調節装置が接続されることを特徴とする、請求項1に記載の高気密気相腐食キャビティ。
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