JP2020522025A - マスタープレートの製造方法及びマスタープレート - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 72
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 58
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 28
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 110
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 3
- 238000004049 embossing Methods 0.000 claims description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 11
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 3
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 2
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 1
- 230000003190 augmentative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000004984 smart glass Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D—WORKING OR PROCESSING OF SHEET METAL OR METAL TUBES, RODS OR PROFILES WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D37/00—Tools as parts of machines covered by this subclass
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
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- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/0074—Production of other optical elements not provided for in B29D11/00009- B29D11/0073
- B29D11/00769—Producing diffraction gratings
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0081—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means for altering, e.g. enlarging, the entrance or exit pupil
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- G—PHYSICS
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- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/01—Head-up displays
- G02B27/017—Head mounted
- G02B27/0172—Head mounted characterised by optical features
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
- G02B27/44—Grating systems; Zone plate systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1828—Diffraction gratings having means for producing variable diffraction
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
-
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/01—Head-up displays
- G02B27/0101—Head-up displays characterised by optical features
- G02B2027/0123—Head-up displays characterised by optical features comprising devices increasing the field of view
- G02B2027/0125—Field-of-view increase by wavefront division
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Dry Formation Of Fiberboard And The Like (AREA)
- Diaphragms For Electromechanical Transducers (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
Description
選択的なエッチ層の積層体を含む基板を提供すること、
前記基板上にエッチマスク層を提供すること、
前記マスク層の異なるマスクゾーンで前記基板をマスクゾーン毎に露出させることで多工程エッチングプロセスにより前記基板をエッチングし、前記マスクゾーン及び前記選択的なエッチ層を用いて、前記マスクゾーン及び前記選択的なエッチ層に応じて、高さ調整された表面プロファイルを前記基板に製造すること、及び
高さ調整が前記基板の前記表面プロファイルによって最後に部分的に規定される高さ調整されたマスター回折格子を、前記表面プロファイル上に提供すること、を含む方法を提供する。
Claims (15)
- 回折構造を製造するためのマスタープレートの製造方法であって、
選択的なエッチ層の積層体を含む基板を提供すること、
前記基板上にエッチマスク層を提供すること、
前記マスク層の異なるマスクゾーンで前記基板をマスクゾーン毎に露出させることで多工程エッチングプロセスにより前記基板をエッチングし、前記選択的なエッチ層を用いて、前記基板の横方向の寸法におけるマスクゾーン及び高さ方向の寸法における積層で規定された、高さ調整された表面プロファイルを前記基板に製造すること、及び
高さ調整が前記基板の前記表面プロファイルによって少なくとも部分的に規定される高さ調整されたマスター回折格子を、前記表面プロファイル上に提供すること、を含む方法。 - 前記エッチマスク層が前記基板の表面から測定された厚さが異なる複数のマスクゾーンを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記基板の前記段階的な露出が、前記基板が少なくとも一つのマスクゾーンで露出するまで前記マスク層を均一に薄くすることを含む、請求項2に記載の方法。
- 前記基板の前記段階的な露出が、前記基板が少なくとも一つのマスクゾーンで露出するまで、1又は複数の工程により前記マスク層を局所的に薄くすることを含む、請求項1又は請求項2に記載の方法。
- 前記基板の前記段階的な露出が、前記基板が少なくとも一つのマスクゾーンで露出するまで、前記マスク層の各領域についてのリソグラフィ工程を繰り返すことを含む、請求項4に記載の方法。
- 前記多工程エッチングプロセスが、前記基板の連続するエッチ層ペアそれぞれについて、
前記基板が露出している前記マスク層の領域において選択的エッチングによって上側エッチ層を除去すること、
前記上側エッチ層が除去された複数の領域において選択的エッチングによって下側エッチ層を除去すること、及び
所望により、前記基板を別のマスクゾーンの領域で露出させること、を含む、請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の方法。 - 前記下側エッチ層を除去することと前記マスク層を均一に薄くすることとが、単一のエッチング段階で少なくとも部分的に同時に実行される、請求項3及び請求項6に記載の方法。
- 選択的なエッチ層の前記積層体が、第一の厚さを有する下側調整層と前記調整層の上に配置された上側エッチストップ層とを含む選択的なエッチ層ペアの積層体を含み、これらの層の前記第一及び第二の厚さが共に前記表面プロファイルの高さ調整を規定する、請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第二の厚さが前記第一の厚さより小さい、請求項8に記載の方法。
- 前記積層体が少なくとも三つのエッチ層ペア、例えば、少なくとも五つのエッチ層ペアを含み、前記エッチマスク層が異なる高さを有する少なくともそれに対応する数のマスクゾーンを含む、請求項1から請求項9のいずれか一項に記載の方法。
- 高さ調整されたマスター回折格子を提供することが、
前記表面プロファイルが覆われるように前記基板を平坦な被覆層で被覆すること、
前記基板上に前記高さ調整されたマスター回折格子を生成するために、周期的なパターンに従って前記被覆層のゾーンを除去すること、例えば異方性エッチングによって除去すること、を含む、請求項1から請求項10のいずれか一項に記載の方法。 - 前記マスター回折格子がさらにフィルファクタ(fill factor)調整される、請求項1から請求項11のいずれか一項に記載の方法。
- 前記エッチマスク層が、
前記基板をエッチング可能な均一のマスク層で被覆し、その上にマスクゾーンを微細加工法、例えば、エンボス加工又はグレースケールエッチングなどのエッチングによってパターン形成することによって、又は、
エッチング可能な材料を例えば印刷により付与することで、前記基板上に前記マスクゾーンを設けることによって、設けられる、請求項1から請求項12のいずれか一項に記載の方法。 - 1cm2以上、例えば、2〜500cm2の横方向面積を有するマスタープレートが製造され、前記マスター回折格子の周期が10μm以下、とりわけ1μm以下、例えば、200〜800nmである、請求項1から請求項13のいずれか一項に記載の方法。
- 回折構造を製造するためのマスタープレートであって、
基板と、
前記基板上に製造されたマスター回折格子とを含み、
前記基板が選択的にエッチング可能な層の積層体を含み、高さ特性が前記エッチング可能な層の厚さによって決定される表面プロファイルを備え、
前記マスター回折格子の前記高さ特性が少なくとも部分的には前記基板の前記表面プロファイルによって規定される、マスタープレート。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI20175505 | 2017-06-02 | ||
FI20175505A FI128629B (en) | 2017-06-02 | 2017-06-02 | Method for making a master plate and a master plate |
PCT/FI2018/050384 WO2018220272A1 (en) | 2017-06-02 | 2018-05-22 | Method of manufacturing a master plate and a master plate |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020522025A true JP2020522025A (ja) | 2020-07-27 |
JP2020522025A5 JP2020522025A5 (ja) | 2020-12-17 |
JP7017196B2 JP7017196B2 (ja) | 2022-02-08 |
Family
ID=64455230
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019566815A Active JP7017196B2 (ja) | 2017-06-02 | 2018-05-22 | マスタープレートの製造方法及びマスタープレート |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210157042A1 (ja) |
EP (1) | EP3631538B8 (ja) |
JP (1) | JP7017196B2 (ja) |
CN (1) | CN110998375A (ja) |
ES (1) | ES2938898T3 (ja) |
FI (1) | FI128629B (ja) |
WO (1) | WO2018220272A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11554445B2 (en) * | 2018-12-17 | 2023-01-17 | Applied Materials, Inc. | Methods for controlling etch depth by localized heating |
KR20210155816A (ko) * | 2019-05-15 | 2021-12-23 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 가변 깊이 디바이스 구조들을 형성하는 방법들 |
US20220197035A1 (en) * | 2020-12-17 | 2022-06-23 | Google Llc | Spatial variance along waveguide incoupler |
EP4190541A1 (en) * | 2021-12-02 | 2023-06-07 | Flooring Industries Limited, SARL | Press element and method for manufacturing press elements |
BE1030607B1 (nl) * | 2022-06-10 | 2024-01-16 | Flooring Ind Ltd Sarl | Perselement en werkwijze voor het vervaardigen van perselementen |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06258510A (ja) * | 1993-03-09 | 1994-09-16 | Canon Inc | 回折格子製作用成形型およびその製造方法 |
JP2000155207A (ja) * | 1998-09-18 | 2000-06-06 | Canon Inc | 素子の製造方法 |
JP2004062200A (ja) * | 2002-07-30 | 2004-02-26 | Agilent Technol Inc | 回折光学素子及びその製作方法 |
JP2006017788A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 階段状表面を有する部材の製造方法及びその部材 |
JP2007328096A (ja) * | 2006-06-07 | 2007-12-20 | Ricoh Co Ltd | 回折光学素子とその作製方法および光学モジュール |
JP2008089923A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Oki Electric Ind Co Ltd | 光学素子の製造方法 |
CN101171534A (zh) * | 2005-05-02 | 2008-04-30 | 冲电气工业株式会社 | 衍射光学元件的制造方法 |
US20180040654A1 (en) * | 2016-08-02 | 2018-02-08 | Marc Christophersen | Fabrication method for digital etching of nanometer-scale level structures |
US20190041656A1 (en) * | 2018-06-28 | 2019-02-07 | Intel Corporation | Diffractive optical elements for wide field-of-view virtual reality devices and methods of manufacturing the same |
US10649141B1 (en) * | 2018-04-23 | 2020-05-12 | Facebook Technologies, Llc | Gratings with variable etch heights for waveguide displays |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60103310A (ja) * | 1983-11-11 | 1985-06-07 | Pioneer Electronic Corp | マイクロフレネルレンズの製造方法 |
JPS6415705A (en) * | 1987-07-09 | 1989-01-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of fine element |
JP2001004821A (ja) * | 1999-06-24 | 2001-01-12 | Canon Inc | 回折光学素子及びその製造方法 |
WO2004027843A1 (en) * | 2002-09-18 | 2004-04-01 | Tokyo University Of Science | Surface processing method |
JP2007057622A (ja) * | 2005-08-22 | 2007-03-08 | Ricoh Co Ltd | 光学素子及びその製造方法、光学素子用形状転写型の製造方法及び光学素子用転写型 |
US20090176060A1 (en) * | 2005-09-09 | 2009-07-09 | Tokyo University Of Science Educational Foundation Administrative Org. | Process for Producing 3-Dimensional Mold, Process for Producing Microfabrication Product, Process for Producing Micropattern Molding, 3-Dimensional Mold, Microfabrication Product, Micropattern Molding and Optical Device |
TWI438500B (zh) * | 2008-10-20 | 2014-05-21 | United Microelectronics Corp | 一種形成相位光柵的方法 |
WO2016031453A1 (ja) | 2014-08-29 | 2016-03-03 | 富士フイルム株式会社 | 環状オレフィン系フィルムの製造方法、及び、環状オレフィン系フィルム |
-
2017
- 2017-06-02 FI FI20175505A patent/FI128629B/en active IP Right Grant
-
2018
- 2018-05-22 EP EP18810137.2A patent/EP3631538B8/en active Active
- 2018-05-22 WO PCT/FI2018/050384 patent/WO2018220272A1/en active Application Filing
- 2018-05-22 CN CN201880038535.4A patent/CN110998375A/zh active Pending
- 2018-05-22 US US16/618,177 patent/US20210157042A1/en not_active Abandoned
- 2018-05-22 JP JP2019566815A patent/JP7017196B2/ja active Active
- 2018-05-22 ES ES18810137T patent/ES2938898T3/es active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06258510A (ja) * | 1993-03-09 | 1994-09-16 | Canon Inc | 回折格子製作用成形型およびその製造方法 |
JP2000155207A (ja) * | 1998-09-18 | 2000-06-06 | Canon Inc | 素子の製造方法 |
JP2004062200A (ja) * | 2002-07-30 | 2004-02-26 | Agilent Technol Inc | 回折光学素子及びその製作方法 |
JP2006017788A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 階段状表面を有する部材の製造方法及びその部材 |
CN101171534A (zh) * | 2005-05-02 | 2008-04-30 | 冲电气工业株式会社 | 衍射光学元件的制造方法 |
JP2007328096A (ja) * | 2006-06-07 | 2007-12-20 | Ricoh Co Ltd | 回折光学素子とその作製方法および光学モジュール |
JP2008089923A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Oki Electric Ind Co Ltd | 光学素子の製造方法 |
US20180040654A1 (en) * | 2016-08-02 | 2018-02-08 | Marc Christophersen | Fabrication method for digital etching of nanometer-scale level structures |
US10649141B1 (en) * | 2018-04-23 | 2020-05-12 | Facebook Technologies, Llc | Gratings with variable etch heights for waveguide displays |
US20190041656A1 (en) * | 2018-06-28 | 2019-02-07 | Intel Corporation | Diffractive optical elements for wide field-of-view virtual reality devices and methods of manufacturing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FI20175505A1 (en) | 2018-12-03 |
ES2938898T3 (es) | 2023-04-17 |
WO2018220272A1 (en) | 2018-12-06 |
EP3631538B1 (en) | 2023-01-18 |
EP3631538B8 (en) | 2023-03-22 |
EP3631538A4 (en) | 2021-03-03 |
EP3631538A1 (en) | 2020-04-08 |
FI128629B (en) | 2020-09-15 |
JP7017196B2 (ja) | 2022-02-08 |
CN110998375A (zh) | 2020-04-10 |
US20210157042A1 (en) | 2021-05-27 |
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