JP2020522020A - パーティクル除去装置および関連システム - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2017年6月1日に出願された欧州出願第17173872.7号、2017年7月24日に出願された欧州出願第17182807.2号の優先権を主張し、それらの全体が本明細書に援用される。
− 放射ビームPB(たとえば紫外放射)を調整する照明システムILと、
− パターニングデバイスMA(例えばマスク)を支持し、パターニングデバイスを要素PLに対して正確に位置決めする第1位置決め装置PMに接続されている支持構造MT(例えばマスクテーブル)と、
− 基板W(例えば、レジストで被覆されたウェーハ)を保持するためにあり、基板を要素PLに対して正確に位置決めするための第2位置決め装置PWに接続されている基板テーブルWT(例えば基板テーブル)と、
− パターニングデバイスMAにより放射ビームPBに付与されたパターンを基板Wの(例えば1つ以上のダイを含む)目標部分Cに結像するように構成されている投影システムPL(例えば屈折投影レンズ)と、を備える。
Claims (37)
- クランプからパーティクルを除去するための、前記クランプの近傍に配置可能な装置であって、
絶縁部と、
支持部と、を備え、前記絶縁部の少なくとも一部または全部が前記支持部に設けられ、前記支持部は、電圧が前記装置の前記支持部及び/または前記クランプの電極に印加されるとき前記支持部が前記クランプからのパーティクルの除去のために前記装置と前記クランプとの間に電界を発生可能とする電極として働くように構成されている、装置。 - 前記装置は、前記装置の少なくとも一部分の形状が、前記装置と前記クランプとの間の距離を低減または最小化することができるように、前記クランプの一部分の形状と相補的となるように構成されている、請求項1に記載の装置。
- 前記支持部は、少なくとも1つの凹部または複数の凹部を備える、請求項1または2に記載の装置。
- 前記支持部は、複数の凹部を備え、前記絶縁部は、少なくとも2つの隣接する凹部の間に延在する、請求項3に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの凹部、または前記複数の凹部の各凹部は、前記装置が前記クランプに向けて移動するとき、前記クランプの支持体が前記少なくとも1つの凹部に、または前記複数の凹部の各凹部に少なくとも部分的に受け入れられることができるように成形されている、請求項3または4に記載の装置。
- 前記絶縁部は、電圧が前記装置の前記支持部及び/または前記クランプの電極に印加されるとき不均一電界が前記装置と前記クランプとの間に生成されるように成形されまたは構成されている、請求項1から5のいずれかに記載の装置。
- 前記絶縁部は、電圧が前記装置の前記支持部及び/または前記クランプの電極に印加されるとき前記装置と前記クランプとの間に生成される電界の少なくとも一部が前記絶縁部での1つまたは複数の点で集中または増加されるように成形されまたは構成されている、請求項1から6のいずれかに記載の装置。
- 装置は、複数の絶縁部を備え、各絶縁部が前記支持部から延在または突出するように設けられている、請求項1から7のいずれかに記載の装置。
- 前記絶縁部または各絶縁部は、第1端から第2端へと先細となるように設けられ、前記絶縁部または各絶縁部の第1端が前記支持部に設けられ、前記第2端が使用時に前記クランプに向けられるように設けられている、請求項8に記載の装置。
- 前記絶縁部または各絶縁部の第2端は、尖状または鋭状の部分を備える、請求項9に記載の装置。
- 前記装置の横方向の延長または寸法は、前記クランプの横方向の延長または寸法に実質的に一致するように選択されている、請求項1から10のいずれかに記載の装置。
- 前記装置の横方向の延長または寸法は、前記クランプの予め定められた領域または空間からパーティクルが除去されまたは除去可能であるように選択されている、請求項1から10のいずれかに記載の装置。
- 前記装置は、コントローラに接続されまたは接続可能であるように構成され、前記コントローラは、前記装置の前記支持部及び/または前記クランプの電極に電圧を印加するように構成されている、請求項1から12のいずれかに記載の装置。
- 前記支持部及び/または前記絶縁部は、連続面を定めるように設けられている、請求項1または請求項6から13のいずれかに記載の装置。
- 電圧が前記装置の前記支持部及び/または前記クランプの電極に印加されるとき、前記電圧は、前記装置と前記クランプとの間の電界が前記クランプと前記クランプで使用される物体との間に生成される電界の方向とは反対の方向に延在するように選択されている、請求項1から14のいずれかに記載の装置。
- クランプからパーティクルを除去するためのシステムであって、
請求項1から15のいずれかに記載の装置と、
物体を保持するように構成されたクランプと、を備えるシステム。 - 前記クランプは、リソグラフィ装置とともに使用されるように構成され、または、前記クランプは、リソグラフィ装置の一部でありまたはリソグラフィ装置に備えられている、請求項16に記載のシステム。
- 前記クランプは、静電クランプを備える、請求項16または17に記載のシステム。
- 前記装置の前記支持部及び/または前記クランプの電極に電圧を印加するように構成されたコントローラをさらに備え、前記電圧は、前記装置と前記クランプとの間に生成される電界が前記クランプからのパーティクルの除去を生じさせるように前記クランプ上のパーティクルに働くように選択されている、請求項16から18のいずれかに記載のシステム。
- クランプからパーティクルを除去する方法であって、
クランプからパーティクルを除去するための装置を前記クランプの近傍に配置することを備え、前記装置は、絶縁部と、支持部と、を備え、前記絶縁部の少なくとも一部または全部が前記支持部に設けられ、前記支持部は、電圧が前記装置の前記支持部及び/または前記クランプの電極に印加されるとき前記支持部が前記クランプからのパーティクルの除去のために前記装置と前記クランプとの間に電界を発生可能とする電極として働くように構成され、さらに、
前記クランプからのパーティクルの除去のために前記装置と前記クランプとの間に電界を発生させるように前記装置の前記支持部及び/または前記クランプの電極に電圧を印加することを備える、方法。 - 前記電圧は、パーティクルが前記絶縁部の少なくとも一部または全部に付着するように選択されている、請求項20に記載の方法。
- 放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付けられた放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構築された支持構造と、
基板を保持するように構築された基板テーブルであって、前記基板を保持するためのクランプを備える基板テーブルと、
前記パターン付けられた放射ビームを前記基板に投影するように構成された投影システムと、
前記クランプからパーティクルを除去するための、請求項1から15のいずれかに記載の装置と、を備えるリソグラフィ装置。 - 放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付けられた放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構築された支持構造であって、前記パターニングデバイスを保持するためのクランプを備える支持構造と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記パターン付けられた放射ビームを前記基板に投影するように構成された投影システムと、
前記クランプからパーティクルを除去するための、請求項1から15のいずれかに記載の装置と、を備えるリソグラフィ装置。 - 基板テーブルからパーティクルを除去するための、前記基板テーブルの近傍に配置可能な装置であって、
絶縁部と、
支持部と、を備え、前記絶縁部の少なくとも一部または全部が前記支持部に設けられ、前記支持部は、電圧が前記装置の前記支持部及び/または前記基板テーブルに印加されるとき前記支持部が前記基板テーブルからのパーティクルの除去のために前記装置と前記基板テーブルとの間に電界を発生可能とする電極として働くように構成されている、装置。 - 前記装置は、前記基板テーブルのバールの上面からパーティクルを除去するように構成されている、請求項24に記載の装置。
- 前記支持部及び/または前記絶縁部は、連続面を定めるように設けられている、請求項24または25に記載の装置。
- 前記絶縁部及び前記支持部は、前記バールの領域において突出部を有する、請求項25に記載の装置。
- 前記支持部は、導電プレートである、請求項24から27のいずれかに記載の装置。
- 前記絶縁部は、ポリマー層である、請求項24から28のいずれかに記載の装置。
- 前記装置は、コントローラに接続されまたは接続可能であるように構成され、前記コントローラは、前記装置の前記支持部及び/または前記基板テーブルに電圧を印加するように構成されている、請求項24から29のいずれかに記載の装置。
- 基板テーブルからパーティクルを除去するためのシステムであって、
請求項24から30のいずれかに記載の装置と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、を備えるシステム。 - 前記基板テーブルは、リソグラフィ装置とともに使用されるように構成され、または、前記基板テーブルは、リソグラフィ装置の一部でありまたはリソグラフィ装置に備えられている、請求項31に記載のシステム。
- 前記装置の前記支持部及び/または前記基板テーブルに電圧を印加するように構成されたコントローラをさらに備え、前記電圧は、前記装置と前記基板テーブルとの間に生成される電界が前記基板テーブルからのパーティクルの除去を生じさせるように前記基板テーブル上のパーティクルに働くように選択されている、請求項31または32に記載のシステム。
- 基板テーブルからパーティクルを除去する方法であって、
基板テーブルからパーティクルを除去するための装置を前記基板テーブルの近傍に配置することを備え、前記装置は、絶縁部と、支持部と、を備え、前記絶縁部の少なくとも一部または全部が前記支持部に設けられ、前記支持部は、電圧が前記装置の前記支持部及び/または前記基板テーブルに印加されるとき前記支持部が前記基板テーブルからのパーティクルの除去のために前記装置と前記基板テーブルとの間に電界を発生可能とする電極として働くように構成され、さらに、
前記基板テーブルからのパーティクルの除去のために前記装置と前記基板テーブルとの間に電界を発生させるように前記装置の前記支持部及び/または前記基板テーブルに電圧を印加することを備える、方法。 - 前記電圧は、パーティクルが前記絶縁部の少なくとも一部または全部に付着するように選択されている、請求項34に記載の方法。
- 放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付けられた放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構築された支持構造と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記パターン付けられた放射ビームを前記基板に投影するように構成された投影システムと、
前記基板テーブルからパーティクルを除去するための、請求項24から30のいずれかに記載の装置と、を備えるリソグラフィ装置。 - 前記クランプ上のパーティクルは、前記クランプから除去される前に、予め帯電されている、請求項20または21に記載の方法。
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