JP2020520477A5

JP2020520477A5 -

Info

Publication number: JP2020520477A5
Application number: JP2019563374A
Authority: JP
Filing date: 2018-05-11
Publication date: 2021-07-26
Anticipated expiration: 2038-05-11

Description

ＧＢ２４２８４９１Ａは、効率的な色補正のために、凹面ミラーの近傍で放射線が２回通過する領域に反対方向に通過する放射線を有する回折光学要素が配置される折り畳みビーム経路および凹面ミラーをもつ反射屈折投影レンズを記載している。

Claims

光学結像系の結像ビーム経路中の位置で、投影露光装置（ＷＳＣ）の投影レンズ（ＰＯ）の光学要素（ＰＰ）との交換用の光学要素（ＰＰ’）として使用するための、局所的に変化する透過率を有する補正面をもつ光学要素を生成するための方法であって、前記方法が、
ａ）回折構造を備えるべき少なくとも１つの補正面の前記結像ビーム経路中の位置を選ぶステップと、
ｂ）前記結像ビーム経路中の前記補正面の前記位置と視野依存瞳場所との間の割り当てを確認するステップと、
ｃ）像視野の異なる視野点に関して（前記像視野の視野場所に応じて）射出瞳内の局所強度分布を測定するステップと、
ｄ）前記射出瞳内の前記局所強度分布の意図したプロファイルを得るために、回折による放射線強度のマスキングについての求められている局所分布を表す意図した偏向プロファイルを確認するステップと
ｅ）前記補正面の区域場所に入射する光線の入射角をもつ第１のスペクトルと、前記像視野の方向に前記区域場所から発する光線の反射角をもつ第２のスペクトルと、非重大領域の方向に前記区域場所から進む光線の反射角をもつ第３のスペクトルとを確認するステップと、
ｆ）動作波長の光線の前記第３のスペクトルの領域の角度への回折を生成する回折構造の構造周期および構造方位を確認するステップと、
ｇ）前記意図した偏向プロファイルが得られることになる前記回折構造の空間依存回折強度を確認するステップと、
ｈ）ステップｆ）およびステップｇ）の結果に応じて前記補正面に前記回折構造を生成するステップと
を含む、方法。
請求項１に記載の方法により生成される前記交換用の光学要素（ＰＰ’）を用いるステップと、
マスク（Ｍ）のパターン（ＰＡＴ）が前記投影レンズ（ＰＯ）の物体平面（ＯＳ）の領域に配置されるように前記投影露光装置（ＷＳＣ）の照明系（ＩＬＬ）と前記投影レンズ（ＰＯ）との間に前記マスク（Ｍ）を保持するステップと、
放射線感受性基板（Ｗ）の放射線感受性面が前記物体平面と光学的に共役な前記投影レンズの像平面（ＩＳ）の領域に配置されるように前記基板（Ｗ）を保持するステップと、
前記投影露光装置（ＷＳＣ）の投影レンズ（ＰＯ）の光学要素（ＰＰ）を前記交換用の光学要素（ＰＰ’）へと交換するステップと、
前記マスクの照明視野（ＯＦ）を動作波長λを有する前記照明系によって供給された照明放射線で照明するステップと、
前記照明視野にある前記パターンの一部を前記基板の像視野（ＩＦ）に前記投影レンズを用いて投影するステップであり、前記像視野における像生成に寄与するすべて光線が前記投影レンズの結像ビーム経路を形成する、投影するステップと
を含み、
動作中に、前記回折構造が、前記回折構造に入射した前記光線の前記強度の成分を前記結像ビーム経路の外の非重大領域に回折によって誘導する、投影露光方法。
前記回折構造（ＤＳ）は、前記回折された放射線の４０％超が前記像視野（ＩＦ）まで達しないように設計される、請求項２に記載の投影露光方法。
前記回折構造（ＤＳ）は、以下の条件：
・最も高い回折強度が０次の回折に存在し、前記０次の回折と異なる最も高い回折強度をもつ回折次数が、前記結像ビーム経路の外の非重大領域に回折される、
・前記射出瞳内の前記強度分布は、回折構造のない構成と比較して、前記射出瞳内の前記強度分布が、０．２％超だけ、好ましくは、２％超だけ、特に、１０％超だけ変化するように変更され、好ましくは、これらの限度が、前記強度分布の非回転対称寄与に当てはまる、
・前記補正面の前記光学的使用領域の５％超、好ましくは１０％超、特に、１５％超の面積をもつ部分が、いかなる回折構造も保持しない、
・前記回折構造の非回転対称成分のＲＭＳ値が、回転対称成分のＲＭＳ値を超える、
の少なくとも１つ、好ましくは、これらの条件のいくつかまたはすべてが満たされるように生成される、請求項２または３に記載の投影露光方法。
前記回折構造（ＤＳ）によって回折された前記成分のうちの実質的成分が、前記非重大領域において少なくとも１つの低反射放射線捕捉デバイス（ＳＩ１、ＳＩ２）によって捕捉され、好ましくは、前記低反射放射線捕捉デバイスが、前記補正面をもつ前記光学要素から少なくとも５ｍｍ離して配置される、請求項２から４までのいずれか１項に記載の投影露光方法。
前記回折構造が、高密度ラインをもつパターンを有し、前記高密度ラインが、前記動作波長の１０倍未満のライン間隔を有する、請求項２から５までのいずれか１項に記載の投影露光方法。
前記回折構造が、部分的にまたは完全に、位相格子として設計される、請求項２から６までのいずれか１項に記載の投影露光方法。
単位面積当たり異なる密度をもつ回折構造（ＤＳ）が前記補正面に生成され、および／または前記回折構造は、回折構造をもつ領域が前記補正面において回折構造のない領域の隣に位置するように生成される、請求項２から７までのいずれか１項に記載の投影露光方法。
前記投影レンズは、少なくとも１つの実中間像が前記物体平面（ＯＳ）と前記像平面（ＩＳ）との間の中間像平面の領域に生成されるように構成され、前記補正面を備えた前記光学要素が、前記物体平面と前記中間像との間の瞳平面に、またはその近傍に配置される、請求項２から８までのいずれか１項に記載の投影露光方法。
前記照明視野および前記像視野が、第１の方向の視野幅と前記第１の方向に垂直な第２の方向の視野高さとの間の１よりも大きいアスペクト比を用いてスロット形状にされ、前記回折構造の構造要素の構造方位は、前記回折構造が、主として（ｐｒｅｄｏｍｉｎａｎｔｌｙ）または排他的に（ｅｘｃｌｕｓｉｖｅｌｙ）前記第２の方向に回折するように設計される、請求項２から９までのいずれか１項に記載の投影露光方法。
補正面のない前記投影レンズの瞳透過率が測定によって決定され、前記回折構造は、空間依存回折プロファイルが生成されるように具現され、前記回折プロファイルは、前記補正面が前記結像ビーム経路に配置される場合、補正面のない構成に対して前記瞳透過率の変動を低減する、請求項２から１０までのいずれか１項に記載の投影露光方法。
深紫外線（ＤＵＶ）範囲からの動作波長または極紫外線範囲（ＥＵＶ）からの動作波長をもつ電磁放射線が利用される、請求項２から１１までのいずれか１項に記載の投影露光方法。