JP2020508283A - 酸化ニッケルナノ粒子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、酸化ニッケルナノ粒子の製造方法およびこれを用いて製造された酸化ニッケルナノ粒子に関する。
本発明の他の実施態様は、前記製造方法により製造された酸化ニッケルナノ粒子を提供する。
本願明細書の全体にわたって、ある部分がある構成要素を「含む」とする時、これは、特に反する記載がない限り、他の構成要素を除くものではなく、他の構成要素をさらに含んでもよいことを意味する。
本発明の一実施態様は、Ni(OH)2粉末およびKOH粉末を準備するステップ、前記Ni(OH)2粉末および前記KOH粉末を混合して混合粉末を形成するステップ、および前記混合粉末を90℃以上200℃以下の温度で熱処理するステップを含む、酸化ニッケルナノ粒子の製造方法を提供する。
本発明の一実施態様によれば、前記酸化ニッケルナノ粒子は、エレクトロクロミックフィルム、二次電池の正極材料、各種の触媒またはガスセンサに用いられることができる。
固相のNi(OH)2粉末(製造会社:Sigma−Aldrich)9.2g(0.1モル)および固相のKOH粉末(製造会社:Sigma−Aldrich)11.2g(0.2モル)を準備し、それを乳鉢で粉砕しながら混合した。この時、Ni(OH)2粉末:KOH粉末のモル比は1:2であった。
熱処理時の温度を約120℃、熱処理時間を約1時間に調節したことを除いては、実施例1と同様の方法により酸化ニッケルナノ粒子を得た。
図2は、実施例2により製造された酸化ニッケルナノ粒子のXRD(X−Ray Diffraction)の測定結果を示すものである。図2によれば、実施例2により製造された酸化ニッケルナノ粒子は、酸化ニッケル以外の他の不純物が検出されないことを確認した。
熱処理時の温度を約110℃、熱処理時間を約1時間に調節し、Ni(OH)2粉末:KOH粉末のモル比を1:1.8に調節したことを除いては、実施例1と同様の方法により酸化ニッケルナノ粒子を得た。
Ni(NO3)2・6H2O 29.1gを水100mlに溶かした溶液Aを準備し、NaOH 8gを水100mlに溶かした溶液Bを準備した後、溶液Aおよび溶液Bを混合した。混合された溶液から沈殿する粒子を遠心分離機で回収し、洗浄および乾燥してNi(OH)2粉末を得た。
図5は、実施例4により製造された酸化ニッケルナノ粒子のXRD(X−Ray Diffraction)の測定結果を示すものである。図5によれば、実施例4により製造された酸化ニッケルナノ粒子は、酸化ニッケル以外の他の不純物が検出されないことを確認した。
熱処理時の温度を約80℃、熱処理時間を約20時間に調節したことを除いては、実施例1と同様の方法により酸化ニッケルナノ粒子を得た。
図6は、比較例1により製造された酸化ニッケルナノ粒子のXRD(X−Ray Diffraction)の測定結果を示すものである。図6によれば、比較例1により製造された酸化ニッケルナノ粒子は、実施例1〜実施例4とは異なり、酸化ニッケル以外に水酸化物であるNi(OH)2が検出されて不純物が含まれていることを確認した。
KOH 11.2g(0.2モル)の代わりにNaOH 8g(0.2モル)を用いたことを除いては、実施例1と同様の方法により合成されたナノ粒子を得た。
図7は、比較例2により合成されたナノ粒子のXRD(X−Ray Diffraction)の測定結果を示すものである。図7によれば、比較例2による方法によってナノ粒子を合成する場合、反応が起こらないため、酸化ニッケルナノ粒子が形成されず、初めの状態のNi(OH)2がそのまま残っていることを確認した。
熱処理時の温度を約110℃、熱処理時間を約1時間に調節し、Ni(OH)2粉末:KOH粉末のモル比を1:1.5に調節したことを除いては、実施例1と同様の方法により酸化ニッケルナノ粒子を得た。
Claims (8)
- Ni(OH)2粉末およびKOH粉末を準備するステップ、
前記Ni(OH)2粉末および前記KOH粉末を混合して混合粉末を形成するステップ、および
前記混合粉末を90℃以上200℃以下の温度で熱処理するステップ
を含む酸化ニッケルナノ粒子の製造方法。 - 前記混合粉末のNi(OH)2粉末とKOH粉末のモル比は、1:1.6〜1:3である、請求項1に記載の酸化ニッケルナノ粒子の製造方法。
- 前記Ni(OH)2粉末および前記KOH粉末の比表面積は、各々、0.01m2/g以上200m2/g以下である、請求項1または2に記載の酸化ニッケルナノ粒子の製造方法。
- 前記熱処理するステップは、常湿および常圧の雰囲気で行われる、請求項1から3のいずれか一項に記載の酸化ニッケルナノ粒子の製造方法。
- 前記酸化ニッケルナノ粒子の平均粒径は、5nm以上50nm以下である、請求項1から4のいずれか一項に記載の酸化ニッケルナノ粒子の製造方法。
- 前記酸化ニッケルナノ粒子の比表面積は、100m2/g以上である、請求項1から5のいずれか一項に記載の酸化ニッケルナノ粒子の製造方法。
- 前記酸化ニッケルナノ粒子内の水酸化物の含量は、0.1重量%未満である、請求項1から6のいずれか一項に記載の酸化ニッケルナノ粒子の製造方法。
- 請求項1に記載の製造方法により製造された酸化ニッケルナノ粒子。
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