KR101593748B1 - 니켈 입자의 제조 방법 및 그에 의하여 제조된 니켈 입자 - Google Patents

니켈 입자의 제조 방법 및 그에 의하여 제조된 니켈 입자 Download PDF

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Abstract

본 발명은 니켈 입자의 제조 방법 및 그에 의하여 제조된 니켈 입자에 관한 것이다. 본 발명에 따른 니켈 입자의 제조 방법은 수산화 니켈 복합체를 중간 생성물로 도입하여 종래 니켈 입자 제조 방법에 비하여 반응온도 및 반응시간을 감소시킬 수 있어 보다 개선된 생산 공정을 통하여 니켈 입자를 제조할 수 있다. 또한, 상기 제조된 니켈 입자는 다양하고 균일한 크기를 갖고, 입자 표면의 형태도 다양하므로 적층 세라믹 콘덴서의 내부 전극을 제조하는데 유용하게 사용할 수 있다.

Description

니켈 입자의 제조 방법 및 그에 의하여 제조된 니켈 입자{METHOD FOR PREPARING NICKEL PARTICLE AND NICKEL PARTICLE PREPARED BY THEREOF}
본 발명은 니켈 입자의 제조 방법 및 그에 의하여 제조된 니켈 입자에 관한 것이다.
최근 전자 부품의 소형화 추세에 따라 적층 세라믹 콘덴서(MLCC)는 소형화, 고용량화의 콘센서로 널리 사용되고 있다. 적층 세라믹 콘덴서에서 내부 전극재료는 Pd, Pt 등의 고가의 귀금속 재료를 사용하여 왔으나 최근 제조비용의 절감을 위하여 니켈 분말로 대체되고 있는 추세이며, 특히 적층수가 많은 고용량의 적층 세라믹 콘덴서의 내부 전극으로 니켈을 중심으로 하는 연구가 활발히 진행되고 있다.
적층 세라믹 콘덴서에서 니켈 전극층은 분말 야금에서 성형체의 충진밀도에 비하여 낮으며, 소성시 소결에 따른 수축량이 유전체 층에 비하여 크기 때문에 니켈 전극에서 층간 단락 및 단선으로 인한 불량을 일으키기 쉽다. 이러한 불량을 막기 위해서 내부 전극에 사용되는 니켈 입자는 조대한 입자를 포함하지 않아야 하고 입도 분포가 좁고 균일해야 하며 응집이 없이 양호한 분산성을 가져야 한다.
이를 위하여 종래 적층 세라믹 콘덴서 내부전극 재료로서 이용된 니켈 입자의 제조방법이 다수 제안되어 왔지만, 고적층, 고용량의 콘덴서 구현을 위한 100㎚ 이하의 균일한 니켈 입자를 제조할 수 있는 만족할 만한 방법은 알려져 있지 않았다.
구체적으로, 종래 염화니켈을 1000℃ 정도의 고온하에서 수소로 기상 환원시키는 방법이 제안되었다. 그러나 이러한 방법은 고온 하에서 반응이 열이력을 갖고 있어 입자 표면은 평활하지만 핵의 생성과 성장이 동시에 일어나기 때문에, 입도 분포가 넓고 2.0㎛ 이상의 조대한 입자들이 존재하므로 내부 전극의 박층화로 적용하기에는 어려운 단점이 있었다.
또한, 염화니켈 및 황산니켈 수용액을 강알칼리 존재 하에서 환원제로서 히드라진 및 히드라진 수화물을 이용하여 환원하여 니켈분말을 제조할 수 있는 습식 환원법이 제안되었다. 상기 방법은 기상반응법에 비하여 좁은 입도 분포를 갖는 니켈 입자를 얻을 수 있었으나, 입자 표면이 평활하지 않고 입자가 서로 엉겨 뭉쳐 있어 치밀한 내부전극을 형성하기 곤란한 문제점이 여전히 존재하였다.
따라서, 간단한 반응 공정을 통하여 좁은 입도 분포를 가지며 입자의 크기를 다양하게 제어 가능한 니켈 입자 제조 방법에 대한 기술이 절실히 요구되고 있는 실정이다.
본 발명은 니켈 입자의 제조 방법 및 그에 의하여 제조된 니켈 입자를 제공한다.
본 발명은 니켈 입자의 제조 방법에 관한 것이다. 하나의 예시적인 니켈 입자의 제조 방법은, 수산화 니켈 복합체를 환원제와 반응시켜 니켈 입자를 제조하는 단계를 포함할 수 있다.
본 명세서에서 용어 「수산화 니켈 복합체」는, 니켈 반응 전구체를 통하여 얻어진 니켈 이온이 수산화물과 반응하여 에너지적으로 보다 안정한 이온결합 형태로 이루어져 있는 화합물을 의미이다.
상기 환원제는 예를 들어, 히드라진 (N2H4), 소디움보로하이드라이드 (NaBH4) 및 아스코르빅산 (C6H8O6)으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
상기 환원제는 상기 수산화 니켈 복합체를 환원시키는 역할을 할 수 있으며, 상기 환원제의 함량은 수산화 니켈 복합체 100 중량부 대비 100 내지 1,000 중량부를 사용할 수 있다. 상기 환원제의 함량이 100 중량부 미만인 경우 환원반응이 충분하게 이루어지지 않는 문제점이 있고, 1,000 중량부 초과인 경우 급속한 환원반응 진행으로 인하여 분산제가 제대로 코팅되지 않는 문제점이 발생할 수 있다.
또한, 상기 니켈 입자를 제조하는 단계의 반응온도는 25 내지 100℃, 바람직하게는 40 내지 90℃, 보다 바람직하게는 55 내지 80℃ 정도일 수 있고, 반응시간은 0.1 내지 5시간, 바람직하게는 0.2 내지 4시간, 보다 바람직하게는 0.3 내지 3시간 정도일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
상기 반응온도가 25℃ 미만인 경우 활성화 에너지를 미만의 에너지 공급으로 인하여 환원 반응이 원활하게 일어나지 않는 문제가 있고, 100℃ 초과인 경우 환원반응이 급속하게 진행되어 분산제가 니켈 핵에 코팅되지 못하여 니켈 입자의 안정성이 저하되고 입자가 불균일하게 되는 문제가 있다.
또한, 상기 반응시간이 0.1시간 미만인 경우 반응 중간에 입자를 분리하기 때문에 충분한 환원 반응이 일어나지 않고, 용액 내 반응에 참여하지 못한 니켈하이드록사이드가 남아 있게 되므로 제조 효율이 급격하게 떨어지는 문제가 발생할 수 있으며, 5시간 초과인 경우 입자간 뭉침(aggregation) 현상이 일어나 니켈 입자의 과도한 성장으로 인하여 입도가 불균일하게 되는 문제가 있다.
또한, 본 발명에 따른 상기 니켈 입자의 제조 방법은 니켈염과 염기성 화합물을 포함하는 혼합용액으로부터 수산화 니켈 복합체를 제조하는 단계를 추가적으로 포함할 수 있다.
상기 니켈염은 니켈을 포함하고 물 또는 알코올에 용해 가능한 염이라면 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어 염화니켈 (NiCl2), 황산니켈 (NiSO4), 질산니켈 (Ni(NO3)2). 니켈 아세테이트 (Ni(OCOCH3)2), 니켈 아세틸아세토네이트 (Ni(C5H7O2)2) 및 이들의 수화물 등이 예시될 수 있다.
하나의 예시에서, 상기 니켈염은 상기 혼합용액에 대하여 0.05 내지 5몰, 0.1 내지 4.5몰 또는 0.2 내지 4몰의 농도로 첨가될 수 있다. 상기 니켈염의 농도가 0.05몰 미만인 경우 제공되는 니켈 이온이 적어 첨가로 인한 효과가 미미하며 상대적으로 용매의 사용량이 많아지므로 제조단가가 상승하는 문제가 있고, 5몰 초과인 경우 니켈 핵의 생성시 핵과 핵의 충돌이 빈번히 발생하게 되어 입자들간 뭉침 현상으로 인하여 나노 입자의 과성장 응집 및 입자 크기의 불균형 문제가 발생할 수 있다.
상기 염기성 화합물은 예를 들어, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 인산나트륨, 인산칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨 또는 이들의 혼합물 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
하나의 예시에서, 상기 염기성 화합물은 상기 혼합용액에 대하여 0.01 내지 1몰, 0.025 내지 0.8몰 또는 0.04 내지 0.6몰의 농도로 첨가될 수 있다. 상기 염기성 화합물의 농도가 0.01몰 미만인 경우 니켈하이드록사이드의 생성이 원활하지 않아 반응이 제대로 일어나지 않는 문제가 있으며, 1몰 초과인 경우 과량 첨가로 인한 부반응이 일어나므로 부산물 발생에 따른 분리 및 정제 과정을 별도로 필요로 하는 문제점이 있다.
또한, 상기 수산화 니켈 복합체를 제조하는 단계에 사용된 혼합용액은 분산제를 추가적으로 포함할 수 있다.
상기 분산제는 예를 들어, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 셀룰로오즈계 유도체 및 폴리머로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 구체적으로, 상기 분산제는 CTAB (cetyltrimethylammonium bromide), SDS (sodium dodecyl sulfate), Na-CMC (sodium carboxymethyl cellulose), PVP (polyvinylpyrrolidone), PVP/VA (vinylpyrrolidone/vineylacetate) 및 비닐카프로락탐/비닐피롤리돈/프로필메타아크릴아미드 (vinylcaprolactam/vinylpyrrolidone/propylmethacylamide)등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다.
또한, 상기 분산제의 농도는 상기 혼합용액에 대하여 0.1 내지 200g/L, 0.5 내지 150g/L 또는 1 내지 100g/L의 농도로 첨가될 수 있다. 상기 분산제의 농도가 0.1g/L 미만인 경우 활성화 에너지를 반응이 일어날 수 있을 정도로 낮추지 못하여 반응이 일어나지 않거나, 일어나더라도 니켈 입자의 형상 및 크기 제어가 어려우며 입자에 대해 충분한 분산성을 부여할 수 없는 문제가 있고, 100g/L 초과인 경우 그 점성으로 인하여 반응이 제대로 일어나지 않을 뿐만 아니라 잉여 유기물이 과도하게 생성되어 제조 공정 후 니켈 입자의 세척 및 분리가 어려워져 대량의 세척 용매 사용을 유발하여 비경제적인 문제점이 있다.
하나의 예시에서, 상기 혼합용액에 사용되는 용매는 물, 알코올, 에틸렌 글리콜, 다이에틸렌글리콜, 트라이에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 또는 이들의 혼합물 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
또한, 상기 수산화 니켈 복합체를 제조하는 단계의 반응온도는 30 내지 90℃, 바람직하게는 45 내지 75℃, 보다 바람직하게는 60℃ 정도일 수 있고, 반응시간은 0.1 내지 2시간, 바람직하게는 0.25 내지 1시간, 보다 바람직하게는 0.5시간 정도일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
상기 반응온도가 30℃ 미만인 경우 환원 반응이 원활하게 일어나지 않는 문제가 있고, 90℃ 초과인 경우 반응이 급속하게 진행되어 과도한 수산화 니켈 복합체 생성으로 인한 안정성이 저하되고 입자가 불균일하게 되는 문제가 있다.
또한, 상기 반응시간이 0.1시간 미만인 경우 반응 중간에 입자를 분리하기 때문에 충분한 환원반응이 일어나지 않아 용액 내 반응에 참여하지 못한 니켈하이드록사이드가 남아 있게 되므로 수산화 니켈 복합체의 제조 효율이 급격하게 떨어지는 문제가 있고, 2시간 초과인 경우 입자간 뭉침 현상이 일어나 니켈 입자의 과도한 성장으로 인해 입도가 불균일하게 되는 문제가 있다.
또한, 본 발명의 니켈 입자 제조 방법은 상기 제조된 니켈 입자를 분리, 세척 또는 건조하는 단계를 추가적으로 포함할 수 있다.
상기 제조된 니켈 입자의 분리, 세척 또는 건조하는 단계는 당해 기술분야의 통상적인 방법에 의하여 분리하는 단계와 분리된 니켈 입자를 세척하거나 건조하는 단계일 수 있다. 구체적으로, 원심분리에 의하여 혼합액으로부터 상기 니켈 입자를 분리할 수 있고, 분리된 니켈 입자를 아세톤과 증류수를 이용하여 세척하고 진공 건조기에서 건조하여 니켈 입자를 회수할 수 있다.
본 발명은 또한 상기 니켈 입자의 제조방법에 의하여 제조된 니켈 입자에 관한 것이다.
상기 니켈 입자의 제조방법에 의하여 제조된 니켈 입자의 크기는 0.01 내지 2.5㎛, 0.05 내지 2.0㎛ 또는 0.1 내지 1.5㎛일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
상기 니켈 입자의 크기를 상기의 범위로 조절함으로써 적층 내부 전극 물질로 적용함과 동시에 적층 내부 전극의 박층화를 이룰 수 있는 효과가 있다.
상기 니켈 입자의 제조방법에 의하여 제조된 니켈 입자는 적층 세라믹 콘센트의 내부전극 재료 물질로 사용되기 위하여 균일한 입자가 요구되기 때문에 좁은 입도 분포를 가지는 것이 바람직하다.
상기 입도 분포는 당해 기술분야에서 알려진 적절한 방법에 의해 측정될 수 있다. 예컨대 적절한 방법으로는 레이저 회절법 또는 상이한 메쉬(mesh) 크기를 갖는 체로 된 컬럼들을 사용하여 측정하는 방법이 있다.
하나의 예시에서, 상기 니켈 입자의 제조방법에 의하여 제조된 니켈 입자의 입도 분포는 하기 일반식 1에 따른 1 내지 2 이하일 수 있다.
[일반식 1]
입도 분포=Y/X
상기 일반식 1에서, X는 상기 제조된 전체 니켈 입자 질량의 10% 분율을 구성하는 작은 입자들의 크기를 나타내며, Y는 상기 제조된 전체 니켈 입자 질량의 10% 분율을 구성하는 큰 입자들의 크기를 나타낸다.
상기 니켈 입자의 제조방법에 의하여 제조된 니켈 입자는 반응온도 및 반응시간이 감소하여 간단한 공정을 통하여 제조될 수 있고, 특히 다양하고 균일한 크기를 갖을 수 있으며, 입자 표면의 형태도 다양화할 수 있으므로 적층 세라믹 콘덴서의 내부 전극을 제조하는데 유용하게 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 니켈 입자 제조 방법은, 수산화 니켈 복합체를 중간 생성물로 도입하여 종래 니켈 입자 제조 방법에 비하여 반응온도 및 반응시간을 감소시킬 수 있어 보다 개선된 생산 공정을 통하여 니켈 입자를 제조할 수 있다. 또한, 상기 제조된 니켈 입자는 다양하고 균일한 크기를 갖고, 입자 표면의 형태도 다양하므로 적층 세라믹 콘덴서의 내부 전극을 제조하는데 유용하게 사용할 수 있다.
도 1은 실시예 1 및 실시예 2에서 관찰한 SEM(Scanning Electron Microscope) 사진을 나타낸 도이다.
도 2는 실시예 3 내지 실시예 5에서 관찰한 SEM(Scanning Electron Microscope) 사진을 나타낸 도이다.
도 3 내지 도 7은 실시예 1 내지 실시예 5에서 관찰한 SEM 사진 이미지를 근거로 나타낸 입도 분포 그래프를 나타낸 도이다.
이하 실시예 및 비교예를 통하여 상기 니켈 입자 제조 방법을 상세히 설명하나, 상기 니켈 입자 제조 방법의 범위가 하기 제시된 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.
실시예 1
염화니켈 3.56g, 수산화나트륨 10M 8㎖를 용매인 1-프로판올 2g 및 물 28g의 혼합용액에 첨가하고, 60℃에서 30분 동안 물중탕한다. 이 후, 환원제로서 히드라진을 1.5g 첨가하고 60℃에서 1시간 동안 교반하여 환원반응을 일으켜 니켈 입자를 제조하였다. 원심분리기를 이용하여 제조된 니켈 입자를 분리하고, 분리된 니켈 입자를 에탄올과 증류수를 이용하여 3회 세척한 후 40℃로 유지된 진공 건조기에서 3시간 동안 건조하고 니켈 입자를 수거하였다.
상기 수거된 니켈 입자를 S-4800 SEM(Scanning Electron Microscope, 주사전자현미경, HITACHI사)으로 관찰한 사진을 도 1의 A에 도시하였다. 또한, 상기 SEM 사진을 통하여 측정한 니켈 입자의 입도 분포를 도 3에 나타내었다.
도 1의 A 및 도 3에서 확인할 수 있는 바와 같이, 제조된 니켈 입자는 0.35 내지 0.55㎛의 구형의 균일한 입자임을 확인할 수 있었다.
실시예 2
염화니켈 3.56g, 수산화나트륨 10M 8㎖, Na-CMC 2g/L를 용매인 1-프로판올 2g 및 물 28g의 혼합용액에 첨가하고, 60℃에서 30분 동안 물중탕한다. 이 후, 환원제로서 히드라진을 1.5g 첨가하고 60℃에서 0.5시간 동안 교반하여 환원반응을 일으켜 니켈 입자를 제조하였다. 원심분리기를 이용하여 제조된 니켈 입자를 분리하고, 분리된 니켈 입자를 아세톤과 증류수를 이용하여 3회 세척한 후 40℃로 유지된 진공 건조기에서 3시간 동안 건조하여 니켈 입자를 수거하였다.
상기 수거된 니켈 입자를 S-4800 SEM(Scanning Electron Microscope, 주사전자현미경, HITACHI사)으로 관찰한 사진을 도 1의 B에 도시하였다. 또한, 상기 SEM 사진을 통하여 측정한 니켈 입자의 입도 분포를 도 4에 나타내었다.
도 1의 B 및 도 4에서 확인할 수 있는 바와 같이, 제조된 니켈 입자는 약 0.1㎛의 구형의 균일한 입자임을 확인할 수 있었다.
실시예 3
염화니켈 3.56g, 수산화나트륨 10M 8㎖를 용매인 1-프로판올 2g 및 물 28g의 혼합용액에 첨가하고, 60℃에서 30분 동안 물중탕한다. 이 후, 환원제로서 히드라진을 1.5g 첨가하고 75℃에서 3시간 동안 교반하여 환원반응을 일으켜 니켈 입자를 제조하였다. 원심분리기를 이용하여 제조된 니켈 입자를 분리하고, 분리된 니켈 입자를 아세톤과 증류수를 이용하여 3회 세척한 후 40℃로 유지된 진공 건조기에서 3시간 동안 건조하여 니켈 입자를 수거하였다.
상기 수거된 니켈 입자를 S-4800 SEM(Scanning Electron Microscope, 주사전자현미경, HITACHI사)으로 관찰한 사진을 도 2의 C에 도시하였다. 또한, 상기 SEM 사진을 통하여 측정한 입도 분포를 도 5에 나타내었다.
도 2의 C 및 도 5에서 확인할 수 있는 바와 같이, 제조된 니켈 입자는 0.3 내지 0.4㎛의 구형의 균일한 입자임을 확인할 수 있었다.
실시예 4
염화니켈 3.56g, 수산화나트륨 10M 8㎖, Na-CMC 2g/L를 용매인 1-프로판올 2g 및 물 28g의 혼합용액에 첨가하고, 60℃에서 30분 동안 물중탕한다. 이 후, 환원제로서 히드라진을 1.5g 첨가하고 75℃에서 3시간 동안 교반하여 환원반응을 일으켜 니켈 입자를 제조하였다. 원심분리기를 이용하여 제조된 니켈 입자를 분리하고, 분리된 니켈 입자를 아세톤과 증류수를 이용하여 3회 세척한 후 40℃로 유지된 진공 건조기에서 3시간 동안 건조하여 니켈 입자를 수거하였다.
상기 수거된 니켈 입자를 S-4800 SEM(Scanning Electron Microscope, 주사전자현미경, HITACHI사)으로 관찰한 사진을 도 2의 D에 도시하였다. 또한, 상기 SEM 사진을 통하여 측정한 입도 분포를 도 6에 나타내었다.
도 2의 D 및 도 6에서 확인할 수 있는 바와 같이, 제조된 니켈 입자는 0.2 내지 0.4㎛의 구형의 균일한 입자임을 확인할 수 있었다.
실시예 5
염화니켈 3.56g, 수산화나트륨 10M 10㎖, Na-CMC 10g/L를 용매인 1-프로판올 2g 및 물 28g의 혼합용액에 첨가하고, 60℃에서 30분 동안 물중탕한다. 이 후, 환원제로서 히드라진을 1.5g 첨가하고 75℃에서 3시간 동안 교반하여 환원반응을 일으켜 니켈 입자를 제조하였다. 원심분리기를 이용하여 제조된 니켈 입자를 분리하고, 분리된 니켈 입자를 아세톤과 증류수를 이용하여 3회 세척한 후 40℃로 유지된 진공 건조기에서 3시간 동안 건조하여 니켈 입자를 수거하였다.
상기 수거된 니켈 입자를 S-4800 SEM(Scanning Electron Microscope, 주사전자현미경, HITACHI사)으로 관찰한 사진을 도 2의 E에 도시하였다. 또한, 상기 SEM 사진을 통하여 측정한 입도 분포를 도 7에 나타내었다.
도 2의 E 및 도 7에서 확인할 수 있는 바와 같이, 제조된 니켈 입자는 1 내지 1.1㎛의 구형의 균일한 입자임을 확인할 수 있었다.
제조예 1. 적층 세라믹 콘덴서의 제조
상기 실시예 1 내지 5에 의하여 제조된 니켈 입자를 바인더에 분산시켜, 고점도의 니켈 페이스트를 제조하고, 이를 티탄산 바륨의 세라믹 유전체 층에 스크린 인쇄하여 도포하고 건조시킨 후, 이들을 여러 층으로 쌓아 압착시킨 후 환원분위기 하에서 약 1300℃에서 소성하여 제조한다.

Claims (20)

  1. 니켈염, 염기성 화합물 및 분산제인 Na-CMC(sodium carboxymethyl cellulose)를 포함하고 상기 분산제가 0.1 내지 200g/L의 농도로 첨가된 혼합용액으로부터 수산화 니켈 복합체를 제조하는 단계;
    수산화 니켈 복합체를 환원제인 히드라진(N2H4)과 반응시켜 입도 분포가 하기 일반식 1에 따른 Y/X가 1 내지 2 이하인 니켈 입자를 제조하는 단계;를 포함하는 니켈 입자의 제조 방법:
    [일반식 1]
    입도 분포=Y/X
    상기 일반식 1에서, X는 상기 제조된 전체 니켈 입자 질량의 10% 분율을 구성하는 작은 입자들의 크기를 나타내며, Y는 상기 제조된 전체 니켈 입자 질량의 10% 분율을 구성하는 큰 입자들의 크기를 나타낸다.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제 1 항에 있어서, 니켈염은 염화니켈 (NiCl2), 황산니켈 (NiSO4), 질산니켈 (Ni(NO3)2). 니켈 아세테이트 (Ni(OCOCH3)2), 니켈 아세틸아세토네이트 (Ni(C5H7O2)2) 및 이들의 수화물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 니켈 입자의 제조 방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 니켈염은 혼합용액에 대하여 0.05 내지 5몰의 농도로 첨가되는 니켈 입자의 제조 방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 염기성 화합물은 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 인산나트륨, 인산칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨 또는 이들의 혼합물인 니켈 입자의 제조 방법.
  7. 제 1 항에 있어서, 염기성 화합물은 혼합용액에 대하여 0.01 내지 1몰의 농도로 첨가되는 니켈 입자의 제조 방법.
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 제 1 항에 있어서, 혼합용액의 용매는 물, 알코올, 에틸렌 글리콜, 다이에틸렌글리콜, 트라이에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 또는 이들의 혼합물인 니켈 입자의 제조 방법.
  12. 제 1 항에 있어서, 수산화 니켈 복합체를 제조하는 단계의 반응온도는 30 내지 90℃이고, 반응시간은 0.1 내지 2시간인 니켈 입자의 제조 방법.
  13. 삭제
  14. 제 1 항에 있어서, 환원제의 함량은 수산화 니켈 복합체 100 중량부 대비 100 내지 1,000 중량부인 니켈 입자의 제조 방법.
  15. 제 1 항에 있어서, 니켈 입자를 제조하는 단계의 반응온도는 25 내지 100℃이고, 반응시간은 0.1 내지 5시간인 니켈 입자의 제조 방법.
  16. 제 1 항에 있어서, 제조된 니켈 입자를 세척, 분리 또는 건조하는 단계를 추가적으로 포함하는 니켈 입자의 제조 방법.
  17. 제 1 항, 제 4항 내지 제 7항, 제 11항, 제 12항 및 제 14항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 따른 니켈 입자의 제조방법으로 제조된 니켈 입자.
  18. 제 17 항에 있어서, 니켈 입자의 입자 크기는 0.01 내지 2.5㎛인 니켈 입자.
  19. 삭제
  20. 제 17 항에 따른 니켈 입자를 전극 재료로 포함하는 적층 세라믹콘덴서.
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