KR20140146928A - 니켈 입자의 제조 방법 및 그에 의하여 제조된 니켈 입자 - Google Patents
니켈 입자의 제조 방법 및 그에 의하여 제조된 니켈 입자 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20140146928A KR20140146928A KR20130069908A KR20130069908A KR20140146928A KR 20140146928 A KR20140146928 A KR 20140146928A KR 20130069908 A KR20130069908 A KR 20130069908A KR 20130069908 A KR20130069908 A KR 20130069908A KR 20140146928 A KR20140146928 A KR 20140146928A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- nickel
- nickel particles
- particles
- producing
- sodium
- Prior art date
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 233
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 146
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 113
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 26
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 23
- BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ni+2] BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 17
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 claims abstract description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 21
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 17
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 16
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 claims description 9
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 9
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical group Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 9
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 claims description 8
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 claims description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 claims description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 claims description 5
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 claims description 5
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 claims description 5
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 claims description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 5
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 claims description 4
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 4
- MXRGSJAOLKBZLU-UHFFFAOYSA-N 3-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CC1CCCCNC1=O MXRGSJAOLKBZLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 241000080590 Niso Species 0.000 claims description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 2
- DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2,3,4,5,6-pentahydroxyhexanal;sodium Chemical compound [Na].CC(O)=O.OCC(O)C(O)C(O)C(O)C=O DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;nickel Chemical compound [Ni].CC(O)=O.CC(O)=O MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 claims description 2
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 claims description 2
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 claims description 2
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 claims description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 claims description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 claims description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims description 2
- 229940078494 nickel acetate Drugs 0.000 claims description 2
- BMGNSKKZFQMGDH-FDGPNNRMSA-L nickel(2+);(z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound [Ni+2].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O BMGNSKKZFQMGDH-FDGPNNRMSA-L 0.000 claims description 2
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) nitrate Chemical compound [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 claims description 2
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 claims description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 claims description 2
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 claims description 2
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 2
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 claims description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 claims description 2
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 claims description 2
- 235000019812 sodium carboxymethyl cellulose Nutrition 0.000 claims description 2
- 229920001027 sodium carboxymethylcellulose Polymers 0.000 claims description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 claims description 2
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000011008 sodium phosphates Nutrition 0.000 claims description 2
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 claims description 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WUUHFRRPHJEEKV-UHFFFAOYSA-N tripotassium borate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]B([O-])[O-] WUUHFRRPHJEEKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N trisodium borate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 3
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 abstract description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 13
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 6
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 4
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 3
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- NWZSZGALRFJKBT-KNIFDHDWSA-N (2s)-2,6-diaminohexanoic acid;(2s)-2-hydroxybutanedioic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O.NCCCC[C@H](N)C(O)=O NWZSZGALRFJKBT-KNIFDHDWSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000012868 Overgrowth Diseases 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- -1 for example Chemical compound 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N hydrazine monohydrate Substances O.NN IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/005—Electrodes
- H01G4/008—Selection of materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G53/00—Compounds of nickel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/018—Dielectrics
- H01G4/06—Solid dielectrics
- H01G4/08—Inorganic dielectrics
- H01G4/12—Ceramic dielectrics
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Abstract
본 발명은 니켈 입자의 제조 방법 및 그에 의하여 제조된 니켈 입자에 관한 것이다. 본 발명에 따른 니켈 입자의 제조 방법은 수산화 니켈 복합체를 중간 생성물로 도입하여 종래 니켈 입자 제조 방법에 비하여 반응온도 및 반응시간을 감소시킬 수 있어 보다 개선된 생산 공정을 통하여 니켈 입자를 제조할 수 있다. 또한, 상기 제조된 니켈 입자는 다양하고 균일한 크기를 갖고, 입자 표면의 형태도 다양하므로 적층 세라믹 콘덴서의 내부 전극을 제조하는데 유용하게 사용할 수 있다.
Description
본 발명은 니켈 입자의 제조 방법 및 그에 의하여 제조된 니켈 입자에 관한 것이다.
최근 전자 부품의 소형화 추세에 따라 적층 세라믹 콘덴서(MLCC)는 소형화, 고용량화의 콘센서로 널리 사용되고 있다. 적층 세라믹 콘덴서에서 내부 전극재료는 Pd, Pt 등의 고가의 귀금속 재료를 사용하여 왔으나 최근 제조비용의 절감을 위하여 니켈 분말로 대체되고 있는 추세이며, 특히 적층수가 많은 고용량의 적층 세라믹 콘덴서의 내부 전극으로 니켈을 중심으로 하는 연구가 활발히 진행되고 있다.
적층 세라믹 콘덴서에서 니켈 전극층은 분말 야금에서 성형체의 충진밀도에 비하여 낮으며, 소성시 소결에 따른 수축량이 유전체 층에 비하여 크기 때문에 니켈 전극에서 층간 단락 및 단선으로 인한 불량을 일으키기 쉽다. 이러한 불량을 막기 위해서 내부 전극에 사용되는 니켈 입자는 조대한 입자를 포함하지 않아야 하고 입도 분포가 좁고 균일해야 하며 응집이 없이 양호한 분산성을 가져야 한다.
이를 위하여 종래 적층 세라믹 콘덴서 내부전극 재료로서 이용된 니켈 입자의 제조방법이 다수 제안되어 왔지만, 고적층, 고용량의 콘덴서 구현을 위한 100㎚ 이하의 균일한 니켈 입자를 제조할 수 있는 만족할 만한 방법은 알려져 있지 않았다.
구체적으로, 종래 염화니켈을 1000℃ 정도의 고온하에서 수소로 기상 환원시키는 방법이 제안되었다. 그러나 이러한 방법은 고온 하에서 반응이 열이력을 갖고 있어 입자 표면은 평활하지만 핵의 생성과 성장이 동시에 일어나기 때문에, 입도 분포가 넓고 2.0㎛ 이상의 조대한 입자들이 존재하므로 내부 전극의 박층화로 적용하기에는 어려운 단점이 있었다.
또한, 염화니켈 및 황산니켈 수용액을 강알칼리 존재 하에서 환원제로서 히드라진 및 히드라진 수화물을 이용하여 환원하여 니켈분말을 제조할 수 있는 습식 환원법이 제안되었다. 상기 방법은 기상반응법에 비하여 좁은 입도 분포를 갖는 니켈 입자를 얻을 수 있었으나, 입자 표면이 평활하지 않고 입자가 서로 엉겨 뭉쳐 있어 치밀한 내부전극을 형성하기 곤란한 문제점이 여전히 존재하였다.
따라서, 간단한 반응 공정을 통하여 좁은 입도 분포를 가지며 입자의 크기를 다양하게 제어 가능한 니켈 입자 제조 방법에 대한 기술이 절실히 요구되고 있는 실정이다.
본 발명은 니켈 입자의 제조 방법 및 그에 의하여 제조된 니켈 입자를 제공한다.
본 발명은 니켈 입자의 제조 방법에 관한 것이다. 하나의 예시적인 니켈 입자의 제조 방법은, 수산화 니켈 복합체를 환원제와 반응시켜 니켈 입자를 제조하는 단계를 포함할 수 있다.
본 명세서에서 용어 「수산화 니켈 복합체」는, 니켈 반응 전구체를 통하여 얻어진 니켈 이온이 수산화물과 반응하여 에너지적으로 보다 안정한 이온결합 형태로 이루어져 있는 화합물을 의미이다.
상기 환원제는 예를 들어, 히드라진 (N2H4), 소디움보로하이드라이드 (NaBH4) 및 아스코르빅산 (C6H8O6)으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
상기 환원제는 상기 수산화 니켈 복합체를 환원시키는 역할을 할 수 있으며, 상기 환원제의 함량은 수산화 니켈 복합체 100 중량부 대비 100 내지 1,000 중량부를 사용할 수 있다. 상기 환원제의 함량이 100 중량부 미만인 경우 환원반응이 충분하게 이루어지지 않는 문제점이 있고, 1,000 중량부 초과인 경우 급속한 환원반응 진행으로 인하여 분산제가 제대로 코팅되지 않는 문제점이 발생할 수 있다.
또한, 상기 니켈 입자를 제조하는 단계의 반응온도는 25 내지 100℃, 바람직하게는 40 내지 90℃, 보다 바람직하게는 55 내지 80℃ 정도일 수 있고, 반응시간은 0.1 내지 5시간, 바람직하게는 0.2 내지 4시간, 보다 바람직하게는 0.3 내지 3시간 정도일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
상기 반응온도가 25℃ 미만인 경우 활성화 에너지를 미만의 에너지 공급으로 인하여 환원 반응이 원활하게 일어나지 않는 문제가 있고, 100℃ 초과인 경우 환원반응이 급속하게 진행되어 분산제가 니켈 핵에 코팅되지 못하여 니켈 입자의 안정성이 저하되고 입자가 불균일하게 되는 문제가 있다.
또한, 상기 반응시간이 0.1시간 미만인 경우 반응 중간에 입자를 분리하기 때문에 충분한 환원 반응이 일어나지 않고, 용액 내 반응에 참여하지 못한 니켈하이드록사이드가 남아 있게 되므로 제조 효율이 급격하게 떨어지는 문제가 발생할 수 있으며, 5시간 초과인 경우 입자간 뭉침(aggregation) 현상이 일어나 니켈 입자의 과도한 성장으로 인하여 입도가 불균일하게 되는 문제가 있다.
또한, 본 발명에 따른 상기 니켈 입자의 제조 방법은 니켈염과 염기성 화합물을 포함하는 혼합용액으로부터 수산화 니켈 복합체를 제조하는 단계를 추가적으로 포함할 수 있다.
상기 니켈염은 니켈을 포함하고 물 또는 알코올에 용해 가능한 염이라면 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어 염화니켈 (NiCl2), 황산니켈 (NiSO4), 질산니켈 (Ni(NO3)2). 니켈 아세테이트 (Ni(OCOCH3)2), 니켈 아세틸아세토네이트 (Ni(C5H7O2)2) 및 이들의 수화물 등이 예시될 수 있다.
하나의 예시에서, 상기 니켈염은 상기 혼합용액에 대하여 0.05 내지 5몰, 0.1 내지 4.5몰 또는 0.2 내지 4몰의 농도로 첨가될 수 있다. 상기 니켈염의 농도가 0.05몰 미만인 경우 제공되는 니켈 이온이 적어 첨가로 인한 효과가 미미하며 상대적으로 용매의 사용량이 많아지므로 제조단가가 상승하는 문제가 있고, 5몰 초과인 경우 니켈 핵의 생성시 핵과 핵의 충돌이 빈번히 발생하게 되어 입자들간 뭉침 현상으로 인하여 나노 입자의 과성장 응집 및 입자 크기의 불균형 문제가 발생할 수 있다.
상기 염기성 화합물은 예를 들어, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 인산나트륨, 인산칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨 또는 이들의 혼합물 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
하나의 예시에서, 상기 염기성 화합물은 상기 혼합용액에 대하여 0.01 내지 1몰, 0.025 내지 0.8몰 또는 0.04 내지 0.6몰의 농도로 첨가될 수 있다. 상기 염기성 화합물의 농도가 0.01몰 미만인 경우 니켈하이드록사이드의 생성이 원활하지 않아 반응이 제대로 일어나지 않는 문제가 있으며, 1몰 초과인 경우 과량 첨가로 인한 부반응이 일어나므로 부산물 발생에 따른 분리 및 정제 과정을 별도로 필요로 하는 문제점이 있다.
또한, 상기 수산화 니켈 복합체를 제조하는 단계에 사용된 혼합용액은 분산제를 추가적으로 포함할 수 있다.
상기 분산제는 예를 들어, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 셀룰로오즈계 유도체 및 폴리머로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 구체적으로, 상기 분산제는 CTAB (cetyltrimethylammonium bromide), SDS (sodium dodecyl sulfate), Na-CMC (sodium carboxymethyl cellulose), PVP (polyvinylpyrrolidone), PVP/VA (vinylpyrrolidone/vineylacetate) 및 비닐카프로락탐/비닐피롤리돈/프로필메타아크릴아미드 (vinylcaprolactam/vinylpyrrolidone/propylmethacylamide)등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다.
또한, 상기 분산제의 농도는 상기 혼합용액에 대하여 0.1 내지 200g/L, 0.5 내지 150g/L 또는 1 내지 100g/L의 농도로 첨가될 수 있다. 상기 분산제의 농도가 0.1g/L 미만인 경우 활성화 에너지를 반응이 일어날 수 있을 정도로 낮추지 못하여 반응이 일어나지 않거나, 일어나더라도 니켈 입자의 형상 및 크기 제어가 어려우며 입자에 대해 충분한 분산성을 부여할 수 없는 문제가 있고, 100g/L 초과인 경우 그 점성으로 인하여 반응이 제대로 일어나지 않을 뿐만 아니라 잉여 유기물이 과도하게 생성되어 제조 공정 후 니켈 입자의 세척 및 분리가 어려워져 대량의 세척 용매 사용을 유발하여 비경제적인 문제점이 있다.
하나의 예시에서, 상기 혼합용액에 사용되는 용매는 물, 알코올, 에틸렌 글리콜, 다이에틸렌글리콜, 트라이에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 또는 이들의 혼합물 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
또한, 상기 수산화 니켈 복합체를 제조하는 단계의 반응온도는 30 내지 90℃, 바람직하게는 45 내지 75℃, 보다 바람직하게는 60℃ 정도일 수 있고, 반응시간은 0.1 내지 2시간, 바람직하게는 0.25 내지 1시간, 보다 바람직하게는 0.5시간 정도일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
상기 반응온도가 30℃ 미만인 경우 환원 반응이 원활하게 일어나지 않는 문제가 있고, 90℃ 초과인 경우 반응이 급속하게 진행되어 과도한 수산화 니켈 복합체 생성으로 인한 안정성이 저하되고 입자가 불균일하게 되는 문제가 있다.
또한, 상기 반응시간이 0.1시간 미만인 경우 반응 중간에 입자를 분리하기 때문에 충분한 환원반응이 일어나지 않아 용액 내 반응에 참여하지 못한 니켈하이드록사이드가 남아 있게 되므로 수산화 니켈 복합체의 제조 효율이 급격하게 떨어지는 문제가 있고, 2시간 초과인 경우 입자간 뭉침 현상이 일어나 니켈 입자의 과도한 성장으로 인해 입도가 불균일하게 되는 문제가 있다.
또한, 본 발명의 니켈 입자 제조 방법은 상기 제조된 니켈 입자를 분리, 세척 또는 건조하는 단계를 추가적으로 포함할 수 있다.
상기 제조된 니켈 입자의 분리, 세척 또는 건조하는 단계는 당해 기술분야의 통상적인 방법에 의하여 분리하는 단계와 분리된 니켈 입자를 세척하거나 건조하는 단계일 수 있다. 구체적으로, 원심분리에 의하여 혼합액으로부터 상기 니켈 입자를 분리할 수 있고, 분리된 니켈 입자를 아세톤과 증류수를 이용하여 세척하고 진공 건조기에서 건조하여 니켈 입자를 회수할 수 있다.
본 발명은 또한 상기 니켈 입자의 제조방법에 의하여 제조된 니켈 입자에 관한 것이다.
상기 니켈 입자의 제조방법에 의하여 제조된 니켈 입자의 크기는 0.01 내지 2.5㎛, 0.05 내지 2.0㎛ 또는 0.1 내지 1.5㎛일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
상기 니켈 입자의 크기를 상기의 범위로 조절함으로써 적층 내부 전극 물질로 적용함과 동시에 적층 내부 전극의 박층화를 이룰 수 있는 효과가 있다.
상기 니켈 입자의 제조방법에 의하여 제조된 니켈 입자는 적층 세라믹 콘센트의 내부전극 재료 물질로 사용되기 위하여 균일한 입자가 요구되기 때문에 좁은 입도 분포를 가지는 것이 바람직하다.
상기 입도 분포는 당해 기술분야에서 알려진 적절한 방법에 의해 측정될 수 있다. 예컨대 적절한 방법으로는 레이저 회절법 또는 상이한 메쉬(mesh) 크기를 갖는 체로 된 컬럼들을 사용하여 측정하는 방법이 있다.
하나의 예시에서, 상기 니켈 입자의 제조방법에 의하여 제조된 니켈 입자의 입도 분포는 하기 일반식 1에 따른 1 내지 2 이하일 수 있다.
[일반식 1]
입도 분포=Y/X
상기 일반식 1에서, X는 상기 제조된 전체 니켈 입자 질량의 10％ 분율을 구성하는 작은 입자들의 크기를 나타내며, Y는 상기 제조된 전체 니켈 입자 질량의 10％ 분율을 구성하는 큰 입자들의 크기를 나타낸다.
상기 니켈 입자의 제조방법에 의하여 제조된 니켈 입자는 반응온도 및 반응시간이 감소하여 간단한 공정을 통하여 제조될 수 있고, 특히 다양하고 균일한 크기를 갖을 수 있으며, 입자 표면의 형태도 다양화할 수 있으므로 적층 세라믹 콘덴서의 내부 전극을 제조하는데 유용하게 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 니켈 입자 제조 방법은, 수산화 니켈 복합체를 중간 생성물로 도입하여 종래 니켈 입자 제조 방법에 비하여 반응온도 및 반응시간을 감소시킬 수 있어 보다 개선된 생산 공정을 통하여 니켈 입자를 제조할 수 있다. 또한, 상기 제조된 니켈 입자는 다양하고 균일한 크기를 갖고, 입자 표면의 형태도 다양하므로 적층 세라믹 콘덴서의 내부 전극을 제조하는데 유용하게 사용할 수 있다.
도 1은 실시예 1 및 실시예 2에서 관찰한 SEM(Scanning Electron Microscope) 사진을 나타낸 도이다.
도 2는 실시예 3 내지 실시예 5에서 관찰한 SEM(Scanning Electron Microscope) 사진을 나타낸 도이다.
도 3 내지 도 7은 실시예 1 내지 실시예 5에서 관찰한 SEM 사진 이미지를 근거로 나타낸 입도 분포 그래프를 나타낸 도이다.
도 2는 실시예 3 내지 실시예 5에서 관찰한 SEM(Scanning Electron Microscope) 사진을 나타낸 도이다.
도 3 내지 도 7은 실시예 1 내지 실시예 5에서 관찰한 SEM 사진 이미지를 근거로 나타낸 입도 분포 그래프를 나타낸 도이다.
이하 실시예 및 비교예를 통하여 상기 니켈 입자 제조 방법을 상세히 설명하나, 상기 니켈 입자 제조 방법의 범위가 하기 제시된 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.
실시예
1
염화니켈 3.56g, 수산화나트륨 10M 8㎖를 용매인 1-프로판올 2g 및 물 28g의 혼합용액에 첨가하고, 60℃에서 30분 동안 물중탕한다. 이 후, 환원제로서 히드라진을 1.5g 첨가하고 60℃에서 1시간 동안 교반하여 환원반응을 일으켜 니켈 입자를 제조하였다. 원심분리기를 이용하여 제조된 니켈 입자를 분리하고, 분리된 니켈 입자를 에탄올과 증류수를 이용하여 3회 세척한 후 40℃로 유지된 진공 건조기에서 3시간 동안 건조하고 니켈 입자를 수거하였다.
상기 수거된 니켈 입자를 S-4800 SEM(Scanning Electron Microscope, 주사전자현미경, HITACHI사)으로 관찰한 사진을 도 1의 A에 도시하였다. 또한, 상기 SEM 사진을 통하여 측정한 니켈 입자의 입도 분포를 도 3에 나타내었다.
도 1의 A 및 도 3에서 확인할 수 있는 바와 같이, 제조된 니켈 입자는 0.35 내지 0.55㎛의 구형의 균일한 입자임을 확인할 수 있었다.
실시예
2
염화니켈 3.56g, 수산화나트륨 10M 8㎖, Na-CMC 2g/L를 용매인 1-프로판올 2g 및 물 28g의 혼합용액에 첨가하고, 60℃에서 30분 동안 물중탕한다. 이 후, 환원제로서 히드라진을 1.5g 첨가하고 60℃에서 0.5시간 동안 교반하여 환원반응을 일으켜 니켈 입자를 제조하였다. 원심분리기를 이용하여 제조된 니켈 입자를 분리하고, 분리된 니켈 입자를 아세톤과 증류수를 이용하여 3회 세척한 후 40℃로 유지된 진공 건조기에서 3시간 동안 건조하여 니켈 입자를 수거하였다.
상기 수거된 니켈 입자를 S-4800 SEM(Scanning Electron Microscope, 주사전자현미경, HITACHI사)으로 관찰한 사진을 도 1의 B에 도시하였다. 또한, 상기 SEM 사진을 통하여 측정한 니켈 입자의 입도 분포를 도 4에 나타내었다.
도 1의 B 및 도 4에서 확인할 수 있는 바와 같이, 제조된 니켈 입자는 약 0.1㎛의 구형의 균일한 입자임을 확인할 수 있었다.
실시예
3
염화니켈 3.56g, 수산화나트륨 10M 8㎖를 용매인 1-프로판올 2g 및 물 28g의 혼합용액에 첨가하고, 60℃에서 30분 동안 물중탕한다. 이 후, 환원제로서 히드라진을 1.5g 첨가하고 75℃에서 3시간 동안 교반하여 환원반응을 일으켜 니켈 입자를 제조하였다. 원심분리기를 이용하여 제조된 니켈 입자를 분리하고, 분리된 니켈 입자를 아세톤과 증류수를 이용하여 3회 세척한 후 40℃로 유지된 진공 건조기에서 3시간 동안 건조하여 니켈 입자를 수거하였다.
상기 수거된 니켈 입자를 S-4800 SEM(Scanning Electron Microscope, 주사전자현미경, HITACHI사)으로 관찰한 사진을 도 2의 C에 도시하였다. 또한, 상기 SEM 사진을 통하여 측정한 입도 분포를 도 5에 나타내었다.
도 2의 C 및 도 5에서 확인할 수 있는 바와 같이, 제조된 니켈 입자는 0.3 내지 0.4㎛의 구형의 균일한 입자임을 확인할 수 있었다.
실시예
4
염화니켈 3.56g, 수산화나트륨 10M 8㎖, Na-CMC 2g/L를 용매인 1-프로판올 2g 및 물 28g의 혼합용액에 첨가하고, 60℃에서 30분 동안 물중탕한다. 이 후, 환원제로서 히드라진을 1.5g 첨가하고 75℃에서 3시간 동안 교반하여 환원반응을 일으켜 니켈 입자를 제조하였다. 원심분리기를 이용하여 제조된 니켈 입자를 분리하고, 분리된 니켈 입자를 아세톤과 증류수를 이용하여 3회 세척한 후 40℃로 유지된 진공 건조기에서 3시간 동안 건조하여 니켈 입자를 수거하였다.
상기 수거된 니켈 입자를 S-4800 SEM(Scanning Electron Microscope, 주사전자현미경, HITACHI사)으로 관찰한 사진을 도 2의 D에 도시하였다. 또한, 상기 SEM 사진을 통하여 측정한 입도 분포를 도 6에 나타내었다.
도 2의 D 및 도 6에서 확인할 수 있는 바와 같이, 제조된 니켈 입자는 0.2 내지 0.4㎛의 구형의 균일한 입자임을 확인할 수 있었다.
실시예
5
염화니켈 3.56g, 수산화나트륨 10M 10㎖, Na-CMC 10g/L를 용매인 1-프로판올 2g 및 물 28g의 혼합용액에 첨가하고, 60℃에서 30분 동안 물중탕한다. 이 후, 환원제로서 히드라진을 1.5g 첨가하고 75℃에서 3시간 동안 교반하여 환원반응을 일으켜 니켈 입자를 제조하였다. 원심분리기를 이용하여 제조된 니켈 입자를 분리하고, 분리된 니켈 입자를 아세톤과 증류수를 이용하여 3회 세척한 후 40℃로 유지된 진공 건조기에서 3시간 동안 건조하여 니켈 입자를 수거하였다.
상기 수거된 니켈 입자를 S-4800 SEM(Scanning Electron Microscope, 주사전자현미경, HITACHI사)으로 관찰한 사진을 도 2의 E에 도시하였다. 또한, 상기 SEM 사진을 통하여 측정한 입도 분포를 도 7에 나타내었다.
도 2의 E 및 도 7에서 확인할 수 있는 바와 같이, 제조된 니켈 입자는 1 내지 1.1㎛의 구형의 균일한 입자임을 확인할 수 있었다.
제조예
1. 적층 세라믹 콘덴서의 제조
상기 실시예 1 내지 5에 의하여 제조된 니켈 입자를 바인더에 분산시켜, 고점도의 니켈 페이스트를 제조하고, 이를 티탄산 바륨의 세라믹 유전체 층에 스크린 인쇄하여 도포하고 건조시킨 후, 이들을 여러 층으로 쌓아 압착시킨 후 환원분위기 하에서 약 1300℃에서 소성하여 제조한다.
Claims (20)
- 수산화 니켈 복합체를 환원제와 반응시켜 니켈 입자를 제조하는 단계를 포함하는 니켈 입자의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 니켈염과 염기성 화합물을 포함하는 혼합용액으로부터 수산화 니켈 복합체를 제조하는 단계를 추가적으로 포함하는 니켈 입자의 제조 방법.
- 제 2 항에 있어서, 혼합용액은 분산제를 추가적으로 포함하는 니켈 입자의 제조 방법.
- 제 2 항에 있어서, 니켈염은 염화니켈 (NiCl2), 황산니켈 (NiSO4), 질산니켈 (Ni(NO3)2). 니켈 아세테이트 (Ni(OCOCH3)2), 니켈 아세틸아세토네이트 (Ni(C5H7O2)2) 및 이들의 수화물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 니켈 입자의 제조 방법.
- 제 2 항에 있어서, 니켈염은 혼합용액에 대하여 0.05 내지 5몰의 농도로 첨가되는 니켈 입자의 제조 방법.
- 제 2 항에 있어서, 염기성 화합물은 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 인산나트륨, 인산칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨 또는 이들의 혼합물인 니켈 입자의 제조 방법.
- 제 2 항에 있어서, 염기성 화합물은 혼합용액에 대하여 0.01 내지 1몰의 농도로 첨가되는 니켈 입자의 제조 방법.
- 제 3 항에 있어서, 분산제는 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 셀룰로오즈계 유도체 및 폴리머로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 니켈 입자의 제조 방법.
- 제 3 항에 있어서, 분산제는 CTAB (cetyltrimethylammonium bromide), SDS (sodium dodecyl sulfate), Na-CMC (sodium carboxymethyl cellulose), PVP (polyvinylpyrrolidone), PVP/VA (vinylpyrrolidone/vineylacetate) 및 비닐카프로락탐/비닐피롤리돈/프로필메타아크릴아미드(vinylcaprolactam/vinylpyrrolidone/propylmethacylamide)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 니켈 입자의 제조 방법.
- 제 3 항에 있어서, 분산제는 혼합용액에 대하여 0.1 내지 200g/L의 농도로 첨가되는 니켈 입자의 제조 방법.
- 제 2 항에 있어서, 용매는 물, 알코올, 에틸렌 글리콜, 다이에틸렌글리콜, 트라이에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 또는 이들의 혼합물인 니켈 입자의 제조 방법.
- 제 2 항에 있어서, 수산화 니켈 복합체를 제조하는 단계의 반응온도는 30 내지 90℃이고, 반응시간은 0.1 내지 2시간인 니켈 입자의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 환원제는 히드라진 (N2H4), 소디움보로하이드라이드 (NaBH4) 및 아스코르빅산 (C6H8O6)으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 니켈 입자의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 환원제의 함량은 수산화 니켈 복합체 100 중량부 대비 100 내지 1,000 중량부인 니켈 입자의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 니켈 입자를 제조하는 단계의 반응온도는 25 내지 100℃이고, 반응시간은 0.1 내지 5시간인 니켈 입자의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 제조된 니켈 입자를 세척, 분리 또는 건조하는 단계를 추가적으로 포함하는 니켈 입자의 제조 방법.
- 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 따른 니켈 입자의 제조방법으로 제조된 니켈 입자.
- 제 17 항에 있어서, 니켈 입자의 입자 크기는 0.01 내지 2.5㎛인 니켈 입자.
- 제 17 항에 있어서, 니켈 입자의 입도 분포는 하기 일반식 1에 따른 1 내지 2 이하인 니켈 입자:
[일반식 1]
입도 분포=Y/X
상기 일반식 1에서, X는 상기 제조된 전체 니켈 입자 질량의 10％ 분율을 구성하는 작은 입자들의 크기를 나타내며, Y는 상기 제조된 전체 니켈 입자 질량의 10％ 분율을 구성하는 큰 입자들의 크기를 나타낸다. - 제 17 항에 따른 니켈 입자를 전극 재료로 포함하는 적층 세라믹콘덴서.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020130069908A KR101593748B1 (ko) | 2013-06-18 | 2013-06-18 | 니켈 입자의 제조 방법 및 그에 의하여 제조된 니켈 입자 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020130069908A KR101593748B1 (ko) | 2013-06-18 | 2013-06-18 | 니켈 입자의 제조 방법 및 그에 의하여 제조된 니켈 입자 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20140146928A true KR20140146928A (ko) | 2014-12-29 |
| KR101593748B1 KR101593748B1 (ko) | 2016-02-12 |
Family
ID=52675941
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020130069908A KR101593748B1 (ko) | 2013-06-18 | 2013-06-18 | 니켈 입자의 제조 방법 및 그에 의하여 제조된 니켈 입자 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101593748B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102142947B1 (ko) | 2017-06-30 | 2020-08-10 | 주식회사 엘지화학 | 산화니켈 나노입자의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 산화니켈 나노입자 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001167760A (ja) * | 1999-12-10 | 2001-06-22 | Mitsubishi Materials Corp | アルカリ２次電池用の電極活物質及びアルカリ２次電池用の電極活物質の製造方法 |
| KR20010089795A (ko) * | 1999-11-10 | 2001-10-08 | 미야무라 신페이 | 니켈 분말, 그 제조 방법 및 도전 페이스트 |
| KR20090010477A (ko) * | 2007-07-23 | 2009-01-30 | 삼성전기주식회사 | 니켈 나노입자의 제조방법 |
| JP2010185112A (ja) * | 2009-02-12 | 2010-08-26 | Noritake Co Ltd | ニッケル微粒子およびその製造方法 |
-
2013
- 2013-06-18 KR KR1020130069908A patent/KR101593748B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010089795A (ko) * | 1999-11-10 | 2001-10-08 | 미야무라 신페이 | 니켈 분말, 그 제조 방법 및 도전 페이스트 |
| JP2001167760A (ja) * | 1999-12-10 | 2001-06-22 | Mitsubishi Materials Corp | アルカリ２次電池用の電極活物質及びアルカリ２次電池用の電極活物質の製造方法 |
| KR20090010477A (ko) * | 2007-07-23 | 2009-01-30 | 삼성전기주식회사 | 니켈 나노입자의 제조방법 |
| JP2010185112A (ja) * | 2009-02-12 | 2010-08-26 | Noritake Co Ltd | ニッケル微粒子およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR101593748B1 (ko) | 2016-02-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20180096747A1 (en) | Spherical silver powder and method for producing same | |
| JP4712744B2 (ja) | ニッケルナノ粒子の製造方法 | |
| JP2006336060A (ja) | ニッケル微粒子粉末及びその製造方法 | |
| JP6212480B2 (ja) | 金属粉ペースト、及びその製造方法 | |
| SI20069A (sl) | Disperzibilni, s kovinskim oksidom prevlečeni materiali na osnovi barijevega titanata | |
| JP6135935B2 (ja) | 湿式ニッケル粉末の製造方法 | |
| JP2011122248A (ja) | ニッケルナノ粒子の製造方法 | |
| WO2017208916A1 (ja) | 電池負極用活物質、電池、電池負極用活物質の製造方法 | |
| JP2009024197A (ja) | ニッケル粉の製造方法 | |
| JP5843820B2 (ja) | 表面処理された金属粉の製造方法 | |
| KR100845688B1 (ko) | 유기 용액을 이용한 니켈 나노 입자의 표면 처리 방법 | |
| JP5862835B2 (ja) | 金属粉末の製造方法、導電性ペーストの製造方法、および積層セラミック電子部品の製造方法 | |
| JP4257981B2 (ja) | 合金ナノ粒子の製造方法 | |
| CN103050279A (zh) | 一种多层陶瓷电容器用贱金属内电极材料及其制备方法 | |
| KR101593748B1 (ko) | 니켈 입자의 제조 방법 및 그에 의하여 제조된 니켈 입자 | |
| CN113226597B (zh) | 球形银粉及其制造方法 | |
| JP2009137831A (ja) | 酸化マグネシウムナノ粒子の製造方法及び酸化マグネシウムナノゾルの製造方法 | |
| JP2015036440A (ja) | 表面処理された金属粉、及びその製造方法 | |
| CN108025358A (zh) | 导电材料用粉末、导电材料用油墨、导电糊剂以及导电材料用粉末的制造方法 | |
| JP6213301B2 (ja) | ニッケル粉末の製造方法 | |
| JP2014231643A (ja) | 金属粉末の製造方法、金属粉末及び積層セラミックコンデンサ用導電性ペースト | |
| JP5977267B2 (ja) | 表面処理された金属粉、及びその製造方法 | |
| JP6065699B2 (ja) | ニッケル粉末の製造方法 | |
| JP5869538B2 (ja) | 表面処理された金属粉の製造方法 | |
| JP2013042104A (ja) | 積層セラミックコンデンサ用の導電ペーストおよびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190116 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200116 Year of fee payment: 5 |