JP2020202343A - 配線基板及び配線基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
し、以下に説明する各図において相互に対応する部分については同一符号を付し、重複部分においては後述での説明を適宜省略する。また、各図面は説明を容易にするために適宜誇張して表現している。
すると感光性材料であることが望ましい。
次に図4(a)から(e)と、図5(f)から(i)と、図6(j)から(l)と、図7(m)から(o)と、図8(p)から(r)と、図9(s)から(t)と、図10(u)から(v)と、図11(w)と順を追って、本発明の一実施形態に係るインターポーザ3を備えた配線基板100と配線基板100に半導体チップを搭載した半導体装置1000を形成するときに必要な支持体・はんだ層付き配線基板(インターポーザ)90の製造工程の一例を説明する。
ility Preservative 水溶性プレフラックスによる表面処理)、無電解スズめっき、無電解Ni/Auめっきなどから適宜用途に応じて選択しても良い。更に、表面処理層19に、はんだバンプ20を形成し、支持体・はんだ層付き配線基板(インターポーザ)90を得る。
図3(a)から図11(w)の手順にて支持体・はんだ層付き配線基板(インターポーザ)90を作製した。配線上の保護膜層は配線形成性に優れた感光性絶縁樹脂Aを用いて、線幅を2.5μmで形成し、十分に配線層を被覆した。樹脂層には、絶縁信頼性に優れた感光性絶縁樹脂Bを用いた。
実施例1に対し、保護膜層を導入せずに、樹脂層は、実施例1と同一材料の絶縁信頼性に優れた感光性絶縁樹脂Bを用いた。
実施例1に対し、保護膜層を導入せずに、樹脂層は、実施例1の保護膜層と同一材料の配線形成性に優れた感光性絶縁樹脂Aを用いた。
実施例1、比較例1と2で得られたそれぞれの配線基板を用いて、バイアスHAST(Highly Accelerated stress test)による絶縁信頼性を評価した。線間の絶縁信頼性は、図11(w)の43L(L/S=2μm/2μm)にて評価し、層間の絶縁信頼性は、図11(w)の43L/45L間(層間厚2.5μm)にて評価した。
規格:JESD22−A110
・温度:130℃
・湿度:85%RH
・電圧:3.3V
・時間:96時間
上記実施例、比較例1、比較例2のL/S=2μm/2μm配線形成性と絶縁信頼性の結果を表1に示した
表1に示す実施例1、比較例1、比較例2結果から、本発明に係る保護膜層の導入と、樹脂層の絶縁信頼性に優れた樹脂の選択により、配線形成性と絶縁信頼性が両立できることが示された。
2・・・アンダーフィル
3・・・配線基板(インターポーザ)
4・・・半導体チップ
5・・・支持体
6・・・剥離層
7・・・配線保護層
11、12、13、14、15・・・樹脂層(絶縁層)
11a・・・樹脂層開口部
16・・・ソルダーレジスト層
16a・・・ソルダーレジスト層開口部
19・・・表面処理層
20・・・はんだ層
24・・・金バンプ接合部
26・・・レーザ光
31・・・銅ピラー
32・・・アンダーフィル
41P、47P・・・電解銅めっきパターン(ビア接続)
42V、44V、46V・・・電解銅めっきパターン(ビア)
43R、45R・・・電解銅めっきパターン(ビア接続配線)
43L、45L・・・電解銅めっきパターン(配線)
51、52、53、54、56・・・シード層
63、65・・・保護膜層
71、73・・・レジスト層
71a・・・レジスト層開口部
73a、73b、73c・・・レジスト層開口部
90・・・支持体・はんだ層付き配線基板(インターポーザ)
100・・・配線基板
1000・・・半導体装置
Claims (3)
- シード層と、このシード層の上に配置された電解銅めっきパターンと、この電解銅めっきパターンの側面を被覆する保護膜層とを、有することを特徴とする配線基板。
- 前記保護膜層は、感光性絶縁樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の配線基板。
- 請求項1または2のいずれかに記載の配線基板の製造方法であって、
シード層を形成する工程と、
レジストを塗工する工程と、
レジスト層に開口部を形成する工程と、
シード層を下地にもつレジスト層開口部に電解銅めっきパターンを形成する工程と、
レジスト層を除去する工程と、
電解銅めっきパターン下以外のシード層を除去する工程と、
樹脂層を形成する工程と、
樹脂層で、電解銅めっきパターン上の一部に開口部を形成する工程と、
電解銅めっきパターンとシード層を保護膜層で埋没する工程と、
電解銅めっきパターン側壁と上面への保護膜層形成工程と、
電解銅めっきパターン下以外のところで、シード層を露出する工程と、
樹脂層表面を研磨し、電解銅めっきパターンと保護膜層を露出させる工程と、
を含むことを特徴とする配線基板の製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022210598A1 (ja) * | 2021-03-29 | 2022-10-06 | 味の素株式会社 | 回路基板の製造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06252529A (ja) * | 1993-03-02 | 1994-09-09 | Nec Corp | プリント配線板の製造方法 |
JPH07231151A (ja) * | 1994-02-16 | 1995-08-29 | Toshiba Corp | 配線基板 |
JPH07283544A (ja) * | 1994-04-14 | 1995-10-27 | Hitachi Ltd | 配線構造体とその製造法 |
JP2003078234A (ja) * | 2001-08-31 | 2003-03-14 | Toppan Printing Co Ltd | プリント配線板およびその製造方法 |
JP2015037181A (ja) * | 2013-08-12 | 2015-02-23 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | 印刷回路基板およびその製造方法 |
JP2016111297A (ja) * | 2014-12-10 | 2016-06-20 | 新光電気工業株式会社 | 配線基板、半導体装置及び配線基板の製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010118631A (ja) | 2008-10-14 | 2010-05-27 | Shinko Electric Ind Co Ltd | フリップチップ用基板及びその製造方法 |
JP5619439B2 (ja) | 2010-03-16 | 2014-11-05 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 実装構造体、電気光学装置、実装部品および実装構造体の製造方法 |
JP2017050464A (ja) | 2015-09-03 | 2017-03-09 | 凸版印刷株式会社 | 配線基板積層体、その製造方法及び半導体装置の製造方法 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06252529A (ja) * | 1993-03-02 | 1994-09-09 | Nec Corp | プリント配線板の製造方法 |
JPH07231151A (ja) * | 1994-02-16 | 1995-08-29 | Toshiba Corp | 配線基板 |
JPH07283544A (ja) * | 1994-04-14 | 1995-10-27 | Hitachi Ltd | 配線構造体とその製造法 |
JP2003078234A (ja) * | 2001-08-31 | 2003-03-14 | Toppan Printing Co Ltd | プリント配線板およびその製造方法 |
JP2015037181A (ja) * | 2013-08-12 | 2015-02-23 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | 印刷回路基板およびその製造方法 |
JP2016111297A (ja) * | 2014-12-10 | 2016-06-20 | 新光電気工業株式会社 | 配線基板、半導体装置及び配線基板の製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022210598A1 (ja) * | 2021-03-29 | 2022-10-06 | 味の素株式会社 | 回路基板の製造方法 |
JPWO2022210598A1 (ja) * | 2021-03-29 | 2022-10-06 | ||
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