JP2020174069A - インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
型を用いて基板上の硬化性組成物を成形するインプリント装置であって、
前記型と前記硬化性組成物とを接触させる接触位置において前記基板の高さ分布を計測する第1の計測手段を有し、
前記第1の計測手段は、前記型よりも接触面の面積が小さい接触子が前記基板の表面に接触するように接近させ、前記基板の高さを計測する手段である、ことを特徴とする。
図1はインプリント装置の構成の一例を表す図である。
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に供給(塗布)されたインプリント材に上記のインプリント装置(インプリント方法)を用いてパターンを形成する工程と、かかる工程でパターンを形成された基板を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
3 型
4 インプリントヘッド
5 基板
6 基板ステージ
7 硬化性組成物塗布装置
8 基板高さセンサー
9 型高さセンサー
10 制御装置
13 TTMスコープ
14 硬化性組成物
15 基板ステージ定盤
16 定盤マウント
18 基板ステージ定盤の面を示す矢印
19 傾き方向への動きを示す矢印
Claims (17)
- 型を用いて基板上の硬化性組成物を成形するインプリント装置であって、
前記型と前記硬化性組成物とを接触させる接触位置において前記基板の高さ分布を計測する第1の計測手段を有し、
前記第1の計測手段は、前記型よりも接触面の面積が小さい接触子を前記基板表面に接触するように接近させて前記基板の高さを計測する手段であることを特徴とするインプリント装置。 - 前記接触位置とは異なる非接触位置において前記基板の高さ分布を計測する第2の計測手段をさらに有する請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記非接触位置は、前記型と前記硬化性組成物とを接触させる機構と干渉しないように離れた位置にある請求項2に記載のインプリント装置。
- 前記型を保持する型保持手段を有しており、該型保持手段に前記接触子を保持させる請求項1から3のいずれか一項に記載のインプリント装置。
- 接触位置の基板の高さ分布の計測時には、前記接触子を前記型保持手段に保持させ、前記硬化性組成物との接触時には、前記型を前記型保持手段に保持させることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のインプリント装置。
- 前記第1の計測手段で得られた高さ分布と、前記第2の計測手段で得られた高さ分布とに基づいて前記接触位置における前記基板の傾きを補正する補正手段を有する請求項2から5のいずれか一項に記載のインプリント装置。
- 前記補正手段は、前記非接触位置における基板の高さ分布と、前記接触位置における基板の高さ分布との差分を算出する手段を有する、ことを特徴とする請求項6に記載のインプリント装置。
- 前記接触子の先端が、半球状、円柱状、円錐状、角錐状、角柱状のいずれかの形状を有する、請求項1から7のいずれか一項に記載のインプリント装置。
- 前記第2の計測手段が、光学式の高さ計測センサーである請求項2から8のいずれか一項に記載のインプリント装置。
- 型を用いて基板上の硬化性組成物を成形するインプリント方法であって、
前記型と前記硬化性組成物とを接触させる接触位置において前記基板の面の高さ分布を計測する第1の計測工程、を有し、
前記第1の計測工程は、前記型よりも接触面の面積が小さい接触子を前記基板表面に接触するように接近させ、前記基板の高さを計測する工程であることを特徴とするインプリント方法。 - 前記接触位置とは異なる非接触位置において前記基板の面の高さ分布を計測する第2の計測工程をさらに有する請求項10に記載のインプリント方法。
- 前記非接触位置は、前記型と前記硬化性組成物とを接触させる機構と干渉しないように離れた位置にある請求項11に記載のインプリント方法。
- 前記型を保持する型保持手段に前記接触子を保持させて前記第1の計測工程を行う請求項10から12のいずれか一項に記載のインプリント方法。
- 接触位置の基板の高さ分布の計測時には、前記接触子を前記型保持手段に保持させ、前記硬化性組成物との接触時には、前記型を前記型保持手段に保持させることを特徴とする請求項10から13のいずれか一項に記載のインプリント方法。
- 前記第1の計測工程で得られた高さ分布と、前記第2の計測工程で得られた高さ分布とに基づいて前記接触位置における前記基板の傾きを補正する補正工程を有する請求項10から14のいずれか一項に記載のインプリント方法。
- 前記補正工程は、前記非接触位置における基板の高さ分布と、前記接触位置における基板の高さ分布との差分を算出する工程を有する、ことを特徴とする請求項15に記載のインプリント方法。
- 請求項10乃至16のいずれか1項に記載のインプリント方法を用いて基板上にパターンを形成する第1工程と、
前記第1工程でパターンが形成された前記基板を加工する第2工程と、を含み、
前記第2工程で加工された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
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