JP2020167290A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2020167290A
JP2020167290A JP2019066998A JP2019066998A JP2020167290A JP 2020167290 A JP2020167290 A JP 2020167290A JP 2019066998 A JP2019066998 A JP 2019066998A JP 2019066998 A JP2019066998 A JP 2019066998A JP 2020167290 A JP2020167290 A JP 2020167290A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor element
heat radiating
electrode
radiating plate
conductor member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019066998A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7095641B2 (ja
Inventor
彰平 西村
Shohei Nishimura
彰平 西村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Denso Corp filed Critical Denso Corp
Priority to JP2019066998A priority Critical patent/JP7095641B2/ja
Publication of JP2020167290A publication Critical patent/JP2020167290A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7095641B2 publication Critical patent/JP7095641B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/33Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of a plurality of layer connectors
    • H01L2224/331Disposition
    • H01L2224/3318Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
    • H01L2224/33181On opposite sides of the body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73253Bump and layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

【課題】半導体装置の製造品質を向上し得る技術を提供する。【解決手段】本明細書が開示する半導体装置は、一方の表面に第1電極と第2電極とを有する半導体素子と、第1電極に接合層を介して接合された第1導体部材と、第2電極に接合層を介して接合された第2導体部材とを備える。第1電極には、各々が第1導体部材に向かって突出するとともに、第1導体部材に接する少なくとも三つの第1突出部が設けられている。第2電極には、第2導体部材に向かって突出する第2突出部が設けられている。第2導体部材には、第2突出部を受け入れる凹部が設けられている。第2突出部の頂部は、凹部の内部に位置するとともに、凹部の底面から離間している。【選択図】図3

Description

本明細書が開示する技術は、半導体装置に関する。
特許文献1に、半導体装置が開示されている。この半導体装置は、一方の表面に第1電極と第2電極とを有する半導体素子と、第1電極に接合層を介して接合された第1導体部材と、第2電極に接合層を介して接合された第2導体部材とを備える。
特開平11−040728号公報
上記した半導体装置の製造時には、第1導体部材と第2導体部材とが一体の部品で用意され、半導体素子上に二つの部材を同時に接合するといった手法が用いられることがある。しかしながら、二つの導体部材を半導体素子に同時に接合すると、各々の導体部材と半導体素子とを正しい姿勢や位置で接合できないことがある。この場合、それらの間の接合不良だけでなく、例えば半導体素子における短絡や絶縁不良といった不具合を招くおそれがある。本明細書では、このような課題を解決又は少なくとも低減し得る技術を提供する。
本明細書が開示する半導体装置は、一方の表面に第1電極と第2電極とを有する半導体素子と、第1電極に接合層を介して接合された第1導体部材と、第2電極に接合層を介して接合された第2導体部材とを備える。第1電極には、各々が第1導体部材に向かって突出するとともに、第1導体部材に接する少なくとも三つの第1突出部が設けられている。第2電極には、第2導体部材に向かって突出する第2突出部が設けられている。第2導体部材には、第2突出部を受け入れる凹部が設けられている。第2突出部の頂部は、凹部の内部に位置するとともに、凹部の底面から離間している。
上記した半導体装置では、半導体素子の一方の表面に、第1電極及び第2電極が設けられている。従って、半導体装置の製造段階では、第1導体部材及び第2導体部材を一体の部材で用意し、それらを半導体素子の第1電極及び第2電極へ同時に接合することができる。このとき、第1電極に設けられた複数の第1突出部が、第1導体部材に対して接することによって、第1導体部材及び第2導体部材に対する半導体素子の姿勢が定まる。さらに、第2電極に設けられた第2突出部が、第2導体部材に設けられた凹部に受け入れられることで、第1導体部材及び第2導体部材に対する半導体素子の位置も定まる。なお、第2突出部の頂部は、凹部の底面から離間しており、第2導体部材の底面と直接的に接することがない。このような構成によると、第2突出部と第2導体部材との間の接触によって、第1電極の第1突出部と第1導体部材との間の接触が阻害され、半導体素子の姿勢が乱されるといったことがない。
実施例の半導体装置10の外観を示す平面図。 半導体装置10の内部構造を示す平面図。内部構造を明確に示すために、封止体20は破線で示す。 図1のIII−III線における断面図であって、半導体装置10の内部構造を示す。 図3のIV部における拡大図。信号パッド12c及び第2突出部16の構成を明確に示すために、封止体20及び信号端子26の図示は省略する。 リードフレーム2と半導体素子12とを用意する工程を示す図。 リードフレーム2と半導体素子12とをはんだ付けする工程を示す図。
図面を参照して、実施例の半導体装置10及びその製造方法について説明する。半導体装置10は、電力制御装置に採用され、例えばインバータやコンバータといった電力変換回路の一部を構成することができる。ここでいう電力制御装置は、例えば電気自動車、ハイブリッド自動車、燃料電池車等に搭載される。
図1〜3に示すように、半導体装置10は、半導体素子12、下側放熱板22、上側放熱板24、複数の電力端子23、25、複数の信号端子26及び封止体20を備える。半導体素子12は、封止体20の内部に封止されている。封止体20は、例えばエポキシ樹脂といった絶縁性を有する材料を用いて構成されている。信号端子26は、封止体20から外部に向かって突出して延びている。複数の電力端子23、25及び複数の信号端子26は、封止体20の内部において、半導体素子12と電気的に接続されている。
半導体素子12は、パワー半導体素子であって、例えば、MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor)又はIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)である。但し、半導体素子の数や種類については、特に限定されない。半導体素子12を構成する材料には、例えばケイ素(Si)、炭化ケイ素(SiC)又は窒化ガリウム(GaN)又は他の種類の半導体材料を採用することができる。
半導体素子12は、一対の主電極12a、12bと、複数の信号パッド12cを有する。一対の主電極12a、12bには、第1主電極12aと第2主電極12bとが含まれている。第1主電極12a及び信号パッド12cは、半導体素子12の一方の表面に位置しており、第2主電極12bは、半導体素子12の他方の表面に位置している。信号パッド12cは、第1主電極12aに対して比較的に小さいサイズで設けられている。信号パッド12cの数に応じて、複数の信号端子26が設けられており、信号パッド12cは信号端子26に接続されている。ここで、第1主電極12aは、本明細書が開示する技術における第1電極の一例であり、信号パッド12cは、本明細書が開示する技術における第2電極の一例である。
また、第1主電極12aには、複数の第1突出部14が設けられている。各々の第1突出部14は、上側放熱板24に向かって突出しており、上側放熱板24に接している。複数の第1突出部14が上側放熱板24に接することで、半導体素子12と上側放熱板24との相対的な姿勢が安定する。一方、各々の信号パッド12cには、第2突出部16がそれぞれ設けられている。第2突出部16は、信号端子26に向かって突出する。なお、第1突出部14及び第2突出部16の具体的な形状は特に限定されない。ここで、上側放熱板24は、本明細書が開示する技術における第1導体部材の一例であり、信号端子26は、本明細書が開示する技術における第2導体部材の一例である。
一対の主電極12a、12bと、信号パッド12cと、第1突出部14及び第2突出部16とは、ニッケル系又は他の金属といった導体材料を用いて構成されている。ここでいうニッケル系金属は、純ニッケル又はニッケルを主成分とした合金を示す。但し、第1突出部14及び第2突出部16を構成する材料は、これに限定されない。特に、第1突出部14及び第2突出部16を構成する材料は、接合材(本実施例では、はんだ)を構成する材料の融点より高い材料を含む。第1突出部14及び第2突出部16は、第1主電極12a及び信号パッド12cと同一の材料を用いて構成されていてもよいし、異なる材料を用いて構成されていてもよい。
半導体装置10は、下側放熱板22と上側放熱板24を備える。放熱板22,24は、概して直方体形状の部材であり、例えば、銅又は他の金属といった導体材料を用いて構成されている。下側放熱板22は、第1主表面22aと、第1主表面22aの反対側に位置する第2主表面22bを有する。下側放熱板22の第1主表面22aは、半導体素子12の第2主電極12bにはんだ層32を介して接合される。従って、下側放熱板22は、半導体素子12と電気的に接続される。下側放熱板22の第2主表面22bは、封止体20の一方の面において露出される。
上側放熱板24も、下側放熱板22と同様に、第1主表面24aと、第1主表面24aの反対側に位置する第2主表面24bを有する。上側放熱板24には、第2主表面24bから突出するスペーサ部24cが設けられている。この点に関して、上側放熱板24は、下側放熱板22とは異なる。上側放熱板24の第2主表面24bは、半導体素子12の第1主電極12aにはんだ層34を介して接合される。従って、上側放熱板24は、半導体素子12と電気的に接続される。上側放熱板24の第1主表面24aは、封止体20の他方の面において露出される。以上より、下側放熱板22及び上側放熱板24は、半導体素子12で発生する熱を放出する放熱板として機能する。ここで、はんだ層32は、本明細書が開示する技術における接合層の一例である。但し、接合層ははんだ層に限定されず、他の導電性を有する接合層であってよい。同様に、はんだ層34についても、はんだ層に限定されず、他の導電性を有する接合層であってよい。
上側放熱板24は、上記したものに限定されない。例えば、上側放熱板24は、スペーサ部24cを必ずしも必要としない。この場合、半導体装置10は、上側放熱板24のスペーサ部24cに代えて、上側放熱板24と半導体素子12との間に、別体の導体スペーサを有してもよい。上側放熱板24のスペーサ部24c又は導体スペーサによって、上側放熱板24と半導体素子12との間に、信号端子26を信号パッド12cに接合するスペースを必要に応じて設けることができる。
なお、下側放熱板22には第1電力端子23が電気的に接続されており、上側放熱板24には第2電力端子25が電気的に接続されている。第1電力端子23及び第2電力端子25は、例えば銅又は他の金属を用いて構成されている。下側放熱板22及び第1電力端子23との間、且つ、上側放熱板24及び第2電力端子25との間は、例えば溶接等によって接続されている。
信号端子26は、概して細長い板形状の部材である。信号端子26は、一端26aと、信号端子26の長手方向において一端26aの反対側に位置する他端26bを有する。信号端子26は、信号パッド12cと部分的に対向している。信号端子26は、例えば銅又は他の金属といった導体材料を用いて構成されており、信号パッド12cの第2突出部16とはんだ層36を介して接合されている。特に、本実施例の信号端子26の一端26aには、信号パッド12cの第2突出部16に対向して凹部26cが設けられている。この凹部26cは、信号パッド12cの第2突出部16を受け入れるように構成されている。従って、信号端子26の凹部26cは、第2突出部16とはんだ層36を介して接合されている。このとき、第2突出部16の頂部16cは、凹部26cの底面26dから離間している。ここで、はんだ層36は、本明細書が開示する技術における接合層の一例である。接合層は、はんだ層に限定されず、他の導電性を有する接合層であってよい。
上記した半導体装置10では、半導体素子12の一方の表面に、第1主電極12a及び信号パッド12cが設けられている。従って、半導体装置10の製造段階では、上側放熱板24及び複数の信号端子26を一体の部材(例えば、リードフレーム)で用意し、それらを半導体素子12の第1主電極12a及び信号パッド12cへ同時に接合することができる。しかしながら、このように複数の導体部材を半導体素子12に同時に接合する場合に、各々の導体部材と半導体素子12とを正しい姿勢や位置で接合できないことがある。この場合、それらの間の接合不良だけでなく、例えば半導体素子12における短絡や絶縁不良といった不具合を招くおそれがある。
本実施例の半導体装置10では、第1主電極12aに設けられた複数の第1突出部14が、上側放熱板24に対して接することによって、上側放熱板24及び複数の信号端子26に対する半導体素子12の姿勢が定まる。さらに、信号パッド12cに設けられた第2突出部16が、信号端子26に設けられた凹部26cに受け入れられることで、上側放熱板24及び信号端子26に対する半導体素子12の位置も定まる。なお、第2突出部16の頂部16cは、凹部26cの底面26dから離間しており、信号端子26の底面と直接的に接することがない。このような構成によると、第2突出部16と信号端子26との間の接触によって、第1主電極12aの第1突出部14と上側放熱板24との間の接触が阻害され、半導体素子12の姿勢が乱されるといったことがない。これにより、第1主電極12aと上側放熱板24との間には、はんだ層34が意図された厚みで均一に形成され、半導体装置10の製造品質は向上する。
なお、図4に示すように、信号パッド12cは、半導体素子12の一方の表面に設けられている。それに加えて、半導体素子12は、一方の表面に保護膜18も備えている。保護膜18は絶縁性を有する樹脂材料であって、例えばポリイミドなどを用いて構成される。保護膜18は、半導体素子12の耐圧を維持する機能、及び半導体素子12に異物が接触することを防止する機能を有する。保護膜18は、半導体素子12の外周縁に沿って枠状に伸びており、第1主電極12a及び複数の信号パッド12cの周囲を取り囲んでいる。第2突出部16は、この保護膜18に取り囲まれた信号パッド12c上に設けられている。
第2突出部16は、第1の金属16aを用いて構成されている。第1の金属16aを構成する材料は特に限定されないが、第1の金属16aを構成する材料の融点は、半導体素子12に信号端子26を接合する接合材(本実施例でははんだ)の融点よりも高い。また、第2突出部16は、第1の金属16aに加え、第1の金属16aを覆う第2の金属16bを用いて構成されていてもよい。この場合、第2の金属16bを構成する材料の融点は、半導体素子12に信号端子26を接合する接合材(本実施例でははんだ)の融点以下であってもよい。半導体素子12に信号端子26を接合する時に、第1の金属16aは溶融しないため、第2突出部16が大きく変形することはない。なお、第1突出部14についても、第2突出部16と同様に構成されている。第1突出部14は、第3の金属を用いて構成されている。第3の金属を構成する材料は、半導体素子12に上側放熱板24を接合する接合材(本実施例でははんだ)の融点よりも高い。これに加えて、第3の金属を覆う第4の金属を用いて構成されていてもよい。第3の金属を構成する材料の融点は、半導体素子12に上側放熱板24を接合する接合材(本実施例でははんだ)の融点以下であってもよい。
図5、6を参照して、半導体装置10の製造方法について説明する。特に、ここでは、半導体素子12を上側放熱板24及び信号端子26に組み付ける工程について述べる。先ず、図5に示すように、第1主電極12aに複数の第1突出部14が設けられており、信号パッド12cに第2突出部16が設けられた半導体素子12を用意する。それと併せて、上側放熱板24及び信号端子26も用意する。ここで、上側放熱板24及び信号端子26は、各々が一体に形成された一つの部品(リードフレーム2)として用意されていてもよい。
次いで、用意した半導体素子12をリードフレーム2上の所定の位置に配置する。このとき、第1主電極12aに設けられた複数の第1突出部14が、上側放熱板24に対して接することによって、上側放熱板24及び複数の信号端子26に対する半導体素子12の姿勢が定まる。さらに、信号パッド12cに設けられた第2突出部16が、信号端子26に設けられた凹部26cに受け入れられることで、上側放熱板24及び信号端子26に対する半導体素子12の位置も定まる。従って、半導体素子12の表面に平行な方向及び、半導体素子12の厚み方向において、上側放熱板24及び信号端子26に対する半導体素子12が正確に位置決めされる。上側放熱板24の第2主表面24bと半導体素子12の第1主電極12aとの間、及び信号端子26の凹部26cと半導体素子12の信号パッド12cとの間には、例えばシート形状のはんだが介挿される。なお、ここで用意された上側放熱板24及び信号端子26上には、予備はんだが溶融して配置されていてもよい。
図6に示すように、各構成部材を配置した後、半導体素子12をリードフレーム2にはんだ付けする。リードフレーム2と半導体素子12上に介挿されたはんだは、例えばリフロー炉等によって、加熱し、溶融される。これにより、半導体素子12の主電極12aが、上側放熱板24の第2主表面24bにはんだ層34を介して接合され、半導体素子12の信号パッド12cの第2突出部16が、信号端子26の凹部26cにはんだ層36を介して接合される。
なお、リードフレーム2と、半導体素子12の第1突出部14及び第2突出部16とは、下式の関係を満たすように構成されている(図5参照)。ここで、第1突出部14の高さ寸法に対する第2突出部16の高さ寸法の差分をHaとする。また、信号端子26から見た上側放熱板24の第2主表面24bの高さ位置をHb、信号端子26の凹部26cの深さ寸法をHcとする。
Hb < Ha < Hb+Hc
このような関係が満たされると、半導体素子12とリードフレーム2とを接合する際に、第2突出部16の頂部16cは、凹部26c内へ確実に配置される一方で、凹部26cの底面26dからは離間する。即ち、第2突出部16の頂部16cが、信号端子26の底面と直接的に接することがない。これにより、第2突出部16と信号端子26との間の接触によって、第1主電極12aの第1突出部14と上側放熱板24との間の接触が阻害され、半導体素子12の姿勢が乱されるといった事態を避けることができる。
以上の工程により、リードフレーム2に半導体素子12が組み付けされる。上記の製造方法により、リードフレーム2に対して半導体素子12を正しい姿勢や位置で接合することができる。リードフレーム2と半導体素子12との間には、はんだ層34、36が意図された厚みや形状で正しく形成されるので、半導体装置10の製造品質が向上する。但し、この製造方法は一例であり、特別に限定されるものではない。なお、他の製造工程については、従来の技術を用いて製造することができる。
本実施例の半導体装置10では、半導体素子12の第1主電極12aは、四つの第1突出部14を有している。但し、これに限定されず、半導体素子12の第1主電極12aは、三又は五以上の第1突出部14を有していてもよい。半導体素子12と上側放熱板24との相対的な姿勢は、同一直線上に位置しない三つの第1突出部14によって定めることができる。従って、半導体素子12の第1主電極12aには、少なくとも三つの第1突出部14が設けられているとよい。
以上、本明細書が開示する技術の具体例を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。本明細書、又は、図面に説明した技術要素は、単独で、あるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時の請求項に記載の組合せに限定されるものではない。本明細書又は図面に例示した技術は、複数の目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
10:半導体装置
12:半導体素子
12a、12b:主電極
12c:信号パッド
14:第1突出部
16:第2突出部
16a:第1の金属
16b:第2の金属
16c:頂部
22、24:放熱板
23、25:電力端子
26:信号端子
26a:一端
26b:他端
26c:凹部
26d:底面
20:封止体
32、34、36:はんだ層

Claims (1)

  1. 一方の表面に第1電極と第2電極とを有する半導体素子と、
    前記第1電極に接合層を介して接合された第1導体部材と、
    前記第2電極に接合層を介して接合された第2導体部材と、
    を備え、
    前記第1電極には、各々が前記第1導体部材に向かって突出するとともに、前記第1導体部材に接する少なくとも三つの第1突出部が設けられており、
    前記第2電極には、前記第2導体部材に向かって突出する第2突出部が設けられており、
    前記第2導体部材には、前記第2突出部を受け入れる凹部が設けられており、
    前記第2突出部の頂部は、前記凹部の内部に位置するとともに、前記凹部の底面から離間している、
    半導体装置。
JP2019066998A 2019-03-29 2019-03-29 半導体装置 Active JP7095641B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019066998A JP7095641B2 (ja) 2019-03-29 2019-03-29 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019066998A JP7095641B2 (ja) 2019-03-29 2019-03-29 半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020167290A true JP2020167290A (ja) 2020-10-08
JP7095641B2 JP7095641B2 (ja) 2022-07-05

Family

ID=72717443

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019066998A Active JP7095641B2 (ja) 2019-03-29 2019-03-29 半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7095641B2 (ja)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005050961A (ja) * 2003-07-31 2005-02-24 Renesas Technology Corp 半導体装置およびその製造方法
US20120164793A1 (en) * 2010-12-28 2012-06-28 Lei Shi Power Semiconductor Device Package Method
JP2013016623A (ja) * 2011-07-04 2013-01-24 Denso Corp 半導体装置
JP2013065758A (ja) * 2011-09-20 2013-04-11 Toshiba Corp 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP2014007366A (ja) * 2012-05-28 2014-01-16 Toyota Industries Corp 半導体装置及び半導体装置の製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005050961A (ja) * 2003-07-31 2005-02-24 Renesas Technology Corp 半導体装置およびその製造方法
US20120164793A1 (en) * 2010-12-28 2012-06-28 Lei Shi Power Semiconductor Device Package Method
JP2013016623A (ja) * 2011-07-04 2013-01-24 Denso Corp 半導体装置
JP2013065758A (ja) * 2011-09-20 2013-04-11 Toshiba Corp 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP2014007366A (ja) * 2012-05-28 2014-01-16 Toyota Industries Corp 半導体装置及び半導体装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP7095641B2 (ja) 2022-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9673118B2 (en) Power module and method of manufacturing power module
JP5607829B2 (ja) 半導体装置
JP2002110893A (ja) 半導体装置
JP2007184525A (ja) 電子機器装置
JP6269458B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP5869285B2 (ja) 半導体装置
CN112331632B (zh) 半导体装置
JP7107199B2 (ja) 半導体装置
JP7095641B2 (ja) 半導体装置
JP7322467B2 (ja) 半導体装置
JP7528867B2 (ja) 半導体装置とその製造方法
CN111354709B (zh) 半导体装置及其制造方法
JP7156172B2 (ja) 半導体装置
JP7147186B2 (ja) 半導体装置
WO2020235122A1 (ja) 半導体装置
JP2021097113A (ja) 半導体装置
US20200266130A1 (en) Semiconductor device
US20230066154A1 (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same
US12080621B2 (en) Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device
JP7218564B2 (ja) 半導体装置
JP7106891B2 (ja) 半導体装置
JP7069848B2 (ja) 半導体装置
JP2021027241A (ja) 半導体装置
JP2021057543A (ja) 半導体モジュール及び半導体モジュールの製造方法
JP2023179843A (ja) 半導体装置及び半導体装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20200720

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210720

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220516

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220524

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220606

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7095641

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151