JP2020147714A - 重合体の製造方法 - Google Patents
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 129
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 67
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 claims abstract description 65
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 15
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 13
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 9
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 4
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 claims 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 43
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 3
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 3
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229920000592 inorganic polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N methoxycyclopentane Chemical compound COC1CCCC1 SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(1-methoxy-2-methyl-1-oxopropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanoate Chemical compound COC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)OC ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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Abstract
【課題】重合体が溶媒に溶解している重合体溶液から、効率よく溶媒を除去して、残存溶媒量が低減された重合体を製造する方法を提供すること。【解決手段】重合体が溶媒に溶解している重合体溶液から、残存溶媒量が低減された重合体を製造する方法であって、前記重合体溶液を含む系の気圧を１ｋＰａ以下にまで減圧して溶媒を留去する工程、続いて、０℃での状態が気体である物質を前記系に導入して、前記系の気圧を１０ｋＰａ以上にまで上昇させる工程、及び、その後、前記系の気圧を１ｋＰａ以下にまで減圧して重合体中の残存溶媒量を低減する工程を含み、前記残存溶媒量が低減された重合体の２３℃での粘度が０．１Ｐａ・ｓ〜３００Ｐａ・ｓである。【選択図】なし
Description
本発明は、重合体の製造方法に関する。
重合体は、多くの場合、溶媒中でモノマーを重合することにより製造される。製造後の重合体を含む溶液から溶媒を除去し、残存溶媒量が低い重合体を回収するには、通常、重合体を含む溶液を加熱・減圧下に置くことで、溶媒を揮発させて留去する方法が採用されている。
しかし、重合体は粘度が高い場合が多く、残存溶媒量を十分に低減しようとすると、揮発に要する時間を長時間にしたり、揮発時の温度を上昇させたり、気圧を下げる必要が生じ、生産時間やユーティリティコストの点で問題があった。また、以上のように厳しい揮発条件を採用すると、重合体が劣化してしまう懸念もあった。
特許文献１では、反応性二重結合を有する化合物中に含まれる揮発分を減圧状態で除去することによる脱揮方法が開示されているが、重合体の脱揮については開示されていない。
本発明は、上記現状に鑑み、重合体が溶媒に溶解している重合体溶液から、効率よく溶媒を除去して、残存溶媒量が低減された重合体を製造する方法を提供することを目的とする。
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、重合体溶液から減圧下で溶媒を留去した後、ガス状物質を系に導入して気圧を上昇させ、その後、再度減圧することで、重合体中の残存溶媒量を効率よく低減できることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明は、重合体が溶媒に溶解している重合体溶液から、残存溶媒量が低減された重合体を製造する方法であって、前記重合体溶液を含む系の気圧を１ｋＰａ以下にまで減圧して溶媒を留去する工程、続いて、０℃での状態が気体である物質を前記系に導入して、前記系の気圧を１０ｋＰａ以上にまで上昇させる工程、及び、その後、前記系の気圧を１ｋＰａ以下にまで減圧して重合体中の残存溶媒量を低減する工程を含み、前記残存溶媒量が低減された重合体の２３℃での粘度が０．１Ｐａ・ｓ〜３００Ｐａ・ｓである、重合体の製造方法に関する。
好ましくは、前記残存溶媒量が低減された重合体中の残存溶媒量が、当該重合体全体に対して２０００ｐｐｍ以下、より好ましくは１０００ｐｐｍ以下である。好ましくは、前記０℃での状態が気体である物質が、不活性ガスである。好ましくは、前記溶媒を留去する工程時の系の温度が、前記溶媒の１０１ｋＰａでの沸点±２０℃である。好ましくは、前記溶媒を留去する工程時の系の温度が、前記溶媒の１０１ｋＰａでの沸点よりも低い。好ましくは、前記溶媒が、アルコール系溶媒である。好ましくは、前記重合体が、（メタ）アクリル酸エステル系重合体を含む。好ましくは、前記重合体が、反応性シリル基を有する（メタ）アクリル酸エステル系重合体を含む。好ましくは、前記溶媒が、前記重合体を形成するための重合反応で使用された溶媒を含む。
本発明の製造方法においては、前記残存溶媒量を低減する工程の後、再度、０℃での状態が気体である物質を前記系に導入して、前記系の気圧を１０ｋＰａ以上にまで上昇させる工程、及び、その後、前記系の気圧を１ｋＰａ以下にまで減圧して重合体中の残存溶媒量をさらに低減する工程を実施することができる。
本発明によれば、重合体が溶媒に溶解している重合体溶液から、効率よく溶媒を除去して、残存溶媒量が低減された重合体を製造することができる。これによって、溶媒を揮発させるために重合体溶液を減圧下に置く時間を短くしたり、減圧時の温度を低く、あるいは気圧を高くしても、十分に残存溶媒量が低減された重合体を製造することが可能になる。
以下に本発明の実施形態を詳細に説明する。
本発明による重合体の製造方法は、重合体が溶媒に溶解している重合体溶液から溶媒を留去して、残存溶媒量が低減された重合体を製造する方法に関するものである。
本発明を適用可能な重合体としては、特に限定されず、有機重合体、無機重合体のいずれであってもよい。有機重合体としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル系重合体、ポリオキシアルキレン系重合体、ポリオレフィン系重合体、ポリエステル系重合体などが挙げられ、無機重合体としては、例えば、ポリオルガノシロキサンなどが挙げられる。本発明で使用する重合体は、１種類の重合体であってもよいし、２種以上の重合体の混合物であってもよい。２種以上の重合体の混合物としては、同じ主鎖系から構成される２種以上の重合体の混合物でもよいし、異なる主鎖系から構成される２種以上の重合体の混合物でも良い。異なる主鎖系から構成される２種以上の重合体の混合物の場合は、具体的には、（メタ）アクリル酸エステル系重合体とポリオキシアルキレン系重合体の混合物が挙げられる。
有機重合体のなかでも、特に（メタ）アクリル酸エステル系重合体は、その重合体溶液から溶媒を揮発させて、溶媒を実質的に含まない重合体を取得することが困難であるため、本発明を適用して効率よく残存溶媒量を低減することが好ましい。
本発明では、溶媒などに希釈しなくても重合体単体で流動性を示す重合体を用いることが好ましい。このような重合体を用いると、本発明によって効率よく残存溶媒量を低減することが可能になる。
前述した（メタ）アクリル酸エステル系重合体は、反応性官能基を含むものであっても良い。反応性官能基としては特に限定されないが、好ましい反応性官能基として、ケイ素原子上にアルコキシ基等を有し、加水分解・脱水縮合反応によって互いに結合し得る、反応性シリル基や、ヒドロキシ基、エポキシ基、イソシアネート基を挙げることができる。特に、反応性シリル基が好ましい。一般に、反応性シリル基を有する重合体から溶媒を留去する際には、その時の加熱条件や、減圧下での水分混入を原因として不必要に反応性シリル基の縮合反応が進行してしまう場合があるが、本発明によると、そのような縮合反応の進行を抑制しつつ、重合体の残存溶媒量を低減することができる。
本発明によって除去する溶媒としては、重合体を溶解させる溶媒であれば特に限定されない。例えば、トルエン、キシレン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素類、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール等のアルコール系溶媒、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ジエチルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン（ＴＨＰ）、ｔ−ブチルメチルエーテル（ＭＴＢＥ）、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、１，２−ジメトキシエタン（グライム）などのエーテル類などが挙げられる。これらのうち１種類のみを用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
なかでも、アルコール系溶媒は、蒸発速度が低く、揮発させることが難しい溶媒として知られている。アルコール系溶媒のなかでも、イソブチルアルコール等の炭素数３〜４のアルコール系溶媒は、同程度の領域の沸点を示す他の溶媒と比べて蒸発速度が低く、揮発して除去することが困難な溶媒である。特に、（メタ）アクリル酸エステル系重合体がアルコール系溶媒に溶解している重合体溶液からは、従来、アルコール系溶媒を留去して、残存溶媒量を低減することが難しかった。しかし、本発明によると、このように残存溶媒量の低減が従来困難であった重合体溶液からも、効率よく残存溶媒量を低減することが可能である。
本発明によって除去する溶媒は、前記重合体を形成するための重合反応で使用された溶媒であってもよい。すなわち、溶媒の存在下でモノマーの重合を行って、前記重合体を含む溶液を得た後、当該溶液から溶媒を留去するために本発明を適用してもよい。すなわち、本発明の製造方法は、溶媒を低減する工程の前に、溶媒の存在下でモノマーの重合を行って、重合体溶液を得る工程を実施してもよく、重合工程で得られた反応液に対して直接、次に説明する溶媒を留去する工程を実施すればよい。この態様によると、溶媒の存在下で重合を行って得られた反応液から効率よく溶媒を除去して、残存溶媒量が低減された重合体を取得することが可能になる。
重合工程から連続的に溶媒を留去する工程を実施する場合、重合時の反応温度を維持して、その温度で、溶媒を留去する工程を実施してもよい。このようにすると、系の温度制御が簡素になり好ましい。
重合方法としては、その重合体を形成するための重合方法であれば特に限定されないが、例えば重合体が（メタ）アクリル酸エステル系重合体である場合、ラジカル重合法を使用することができ、フリーラジカル重合法、リビングラジカル重合法いずれでもあってもよい。
本発明を適用可能な重合体溶液の重合体濃度としては特に限定されない。例えば、０．１〜８０重量％程度の重合体濃度であってもよい。
本発明によると、まず、重合体溶液を含む系の気圧を１ｋＰａ以下にまで減圧して溶媒を留去する工程（以下、１回目の減圧工程ともいう）を実施する。この工程を実施することにより、重合体の残存溶媒量をある程度まで減少させる。この工程で達成すべき残存溶媒量は特に限定されるものではないが、１０００００ｐｐｍ以下が好ましく、１００００ｐｐｍ以下がより好ましく、５０００ｐｐｍ以下がさらに好ましく、３０００ｐｐｍ以下がより更に好ましい。
この工程で達成される残存溶媒量の下限は、重合体の粘度や溶媒の種類、あるいは当該工程の条件によるため特に限定されないが、ゼロになることはない。通常、この１回目の減圧工程のみで達成できる残存溶媒量には限界があり、ある程度の残存溶媒量に達すると更なる低減は困難になることが多い。具体的には、通常、１０００ｐｐｍ以上であり、また、２０００ｐｐｍ以上であり得る。
１回目の減圧工程は常法によって実施することができるが、後述する２回目の減圧工程を実施するため、この１回目の減圧工程における温度や減圧度、減圧時間は、比較的緩い条件を採用してもよく、すなわち、比較的低い温度、比較的高い気圧、比較的短い減圧時間であってもよい。
具体的には、１回目の減圧工程における系の温度は、その減圧度における溶媒の沸点を考慮して適宜設定することができ、特に限定されない。しかし、１回目の減圧工程における系の温度は、比較的低温であってもよく、前記溶媒の１０１ｋＰａ（大気圧）での沸点±２０℃の範囲にあることが好ましく、また、前記溶媒の１０１ｋＰａでの沸点よりも低いことが好ましい。具体的には、前記系の温度は、５０〜１５０℃程度が好ましい。比較的低温で減圧工程を実施すると、重合体の劣化を回避できるため好ましい。
また、１回目の減圧工程における系の気圧は、１ｋＰａ以下にまで減圧すればよく、その下限は通常の真空装置で達成できる値であれば特に限定されない。
１回目の減圧工程における減圧時間についても特に限定されず、当業者は適宜設定することができるが、この１回目の減圧工程を長時間行っても、重合体の残存溶媒量が大きく低減されるわけではないので、比較的短時間であってよい。短時間で減圧工程を行うと、生産性を高めることができるため好ましい。重合体溶液の容積や濃度にもよるが、具体的には、１回目の減圧工程における減圧時間は３００分以下であってよく、また、２００分以下であってよく、１５０分以下であってもよく、１００分以下であってもよい。下限も特に限定されないが、１０分以上が好ましく、３０分以上がより好ましい。
以上述べた１回目の減圧工程の後、０℃での状態が気体である物質（以下、ガス状物質ともいう）を前記系に導入して、前記系の気圧を１０ｋＰａ以上にまで上昇させる工程（以下、ガス状物質の導入工程ともいう）を実施する。このガス状物質の導入工程を行った後に、次の２回目の減圧工程を実施することで、効率よく重合体の残存溶媒量を低減することが可能になる。
本工程で用いるガス状物質としては、次の２回目の減圧工程によって容易に除去され得る物質であればよく、特に限定されない。例えば、空気や酸素ガスであってもよく、メタン等の炭化水素系ガスであってもよい。しかし、重合体を劣化させたり、重合体が有する反応性官能基と反応することを回避するため、ガス状物質は、不活性ガスであることが好ましい。このような不活性ガスとしては、取り扱いの容易さから、例えば、窒素ガス、アルゴン、ヘリウム、ネオンが好ましく、窒素ガスが特に好ましい。
前記ガス状物質を系に導入する方法としては、特に限定されないが、例えば、系の気相部にガス状物質を気体として供給してもよいし、重合体中にガス状物質をバブリングさせてもよい。
前記ガス状物質を系に導入することで、１回目の減圧工程で減圧した系の気圧を、１０ｋＰａ以上にまで上昇させる。このように系の気圧を一旦上昇させることで、次の２回目の減圧工程での効率的な残存溶媒量の低減が可能になる。上昇後の気圧は、５０ｋＰａ以上が好ましく、８０ｋＰａ以上がより好ましい。また、操作が簡便になり残存溶媒量の低減も効果的であることから、１０１ｋＰａ（大気圧）にまで上昇させてもよい。更に、１０１ｋＰａを超える加圧条件にしてもよい。
前記ガス状物質を系に導入する際の系の温度は特に限定されないが、１回目の減圧工程を実施する際の系の温度が維持されてもよく、この場合、プロセスが簡便となり、好ましい。
以上のように系の気圧を一旦上昇させた後、再度、前記系の気圧を１ｋＰａ以下にまで減圧して溶媒を低減する工程（以下、２回目の減圧工程ともいう）を実施する。この工程を実施することによって、残存溶媒量が低減された重合体を取得することができる。本発明の好ましい態様によると、１回の減圧工程を長時間実施しても達成できないほどの低い残存溶媒量を示す重合体を取得することが可能になる。
２回目の減圧工程も、１回目の減圧工程と同様に、常法によって実施することができる。この２回目の減圧工程における温度や減圧度、減圧時間も、比較的緩い条件であってよく、すなわち、比較的低い温度、比較的高い気圧、比較的短い減圧時間であってもよい。１回目の減圧工程に関して詳述した温度、気圧、減圧時間を、２回目の減圧工程にも適用することができる。２回目の減圧工程における温度や気圧は、１回目の減圧工程における温度や気圧と同じであってもよい。特に、温度は、１回目の減圧工程、ガス状物質の導入工程、及び２回目の減圧工程を通じて同じ温度であってよく、この場合、プロセスが簡便となり、好ましい。また、２回目の減圧工程における減圧時間は、１回目の減圧工程における減圧時間よりも短くてもよく、例えば８０分以下であってもよく、６０分以下であってもよく、３０分以下であってもよい。
本発明によると、１回目の減圧工程、ガス状物質の導入工程、及び２回目の減圧工程を同一の容器内で実施できる利点がある。同一の容器内で実施すると、簡便に、重合体溶液から、残存溶媒量が低減された重合体を取得することができるため極めて好ましい。また、重合工程で得られた反応液に対して直接、本発明を適用する態様の場合には、同一の容器内で、重合工程、１回目の減圧工程、ガス状物質の導入工程、及び２回目の減圧工程を連続的に実施することができる。この場合、溶媒中で重合を行った容器から、溶媒を実質的に含まない重合体を回収することが可能になる。
本発明は、以上述べた１回目の減圧工程、ガス状物質の導入工程、及び２回目の減圧工程から構成されるものであってよいが、２回目の減圧工程を実施した後に、さらに、２回目のガス状物質の導入工程、及び３回目の減圧工程を実施してもよい。これにより、重合体の残存溶媒量を更に低減することが可能になる。２回目のガス状物質の導入工程、及び３回目の減圧工程の具体的な条件は、最初のガス状物質の導入工程、及び２回目の減圧工程の条件に準ずることができる。また、さらに続けて、３回目以降のガス状物質の導入工程、及び４回目以降の減圧工程を実施してもよい。
本発明の好ましい態様によると、各減圧工程それぞれに要する時間が短くても、重合体の残存溶媒量を効率的に低減することが可能になり、また、複数回にわたる減圧工程に要する合計時間を短くすることもできる。このように減圧に要する合計時間が短いにも関わらず、１回のみの減圧工程によって到達し得る残存溶媒量よりも低い残存溶媒量を達成することが可能であり、生産性の観点から極めて好ましい。
本発明によって得られる、残存溶媒量が低減された重合体は、２３℃での粘度が０．１Ｐａ．ｓ〜３００Ｐａ．ｓのものである。本発明によると、このような粘度を示す重合体を効率よく製造することができる。粘度が前記範囲よりも低い重合体に対しては本発明を適用する意義が小さく、粘度が前記範囲よりも高い重合体からは溶媒を留去することが困難となる。前記粘度は、好ましくは１Ｐａ．ｓ〜２００Ｐａ．ｓであり、より好ましくは５Ｐａ．ｓ〜１５０Ｐａ．ｓである。
また本発明によると、製造される重合体中の残存溶媒量は、限定されるものではないが、好ましい態様によると、重合体全体に対して２０００ｐｐｍ以下を達成することができ、更には、１０００ｐｐｍ以下を達成することもできる。このように低い残存溶媒量は、一回の溶媒留去工程を行うだけでは達成することが困難であったが、本発明によって達成が可能となった。
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
（合成例）
フラスコにイソブチルアルコール（１０１ｋＰａでの沸点：１０７℃）７７重量部を添加し、１０５℃に加熱して窒素置換を行った。その後、攪拌しながら、窒素雰囲気下で、モノマーとしてメタクリル酸メチル３．０重量部、アクリル酸ブチル７３．２重量部、メタクリル酸３−（トリメトキシシリル）プロピル１．９重量部、メタクリル酸３−（メチルジメトキシシリリル）プロピル１．９重量部、アクリル酸２−エチルヘキシル２０重量部と、重合開始剤としてジメチル ２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）２．６重量部、イソブチルアルコール１３重量部の溶液を５時間かけて滴下し、その後２時間重合を行った。以上により、重量平均分子量８，６００の反応性ケイ素基を有する（メタ）アクリル酸エステル系重合体のイソブチルアルコール溶液を得た。
フラスコにイソブチルアルコール（１０１ｋＰａでの沸点：１０７℃）７７重量部を添加し、１０５℃に加熱して窒素置換を行った。その後、攪拌しながら、窒素雰囲気下で、モノマーとしてメタクリル酸メチル３．０重量部、アクリル酸ブチル７３．２重量部、メタクリル酸３−（トリメトキシシリル）プロピル１．９重量部、メタクリル酸３−（メチルジメトキシシリリル）プロピル１．９重量部、アクリル酸２−エチルヘキシル２０重量部と、重合開始剤としてジメチル ２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）２．６重量部、イソブチルアルコール１３重量部の溶液を５時間かけて滴下し、その後２時間重合を行った。以上により、重量平均分子量８，６００の反応性ケイ素基を有する（メタ）アクリル酸エステル系重合体のイソブチルアルコール溶液を得た。
重量平均分子量は、送液システムとして東ソー（株）製ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣを用い、カラムは東ソー（株）製ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨシリーズを用い、溶媒はＴＨＦを用いて測定したポリスチレン換算分子量である。
（実施例１〜４）
合成例で得られた反応性ケイ素基を有する（メタ）アクリル酸エステル系重合体のイソブチルアルコール溶液の温度を１０５℃に維持して、以下のとおりイソブチルアルコールの減圧脱揮を行った。
合成例で得られた反応性ケイ素基を有する（メタ）アクリル酸エステル系重合体のイソブチルアルコール溶液の温度を１０５℃に維持して、以下のとおりイソブチルアルコールの減圧脱揮を行った。
まず、１ｋＰａ未満に減圧して、表１に記載の減圧時間維持した（１回目脱揮）。その後、系に窒素ガスを５分かけて導入し、系の気圧を常圧に戻した（１回目圧戻し）。
次いで、２回目脱揮を行った。まず、表１に記載の１ｋＰａ到達までの減圧時間をかけて１ｋＰａまで減圧し、その後、１ｋＰａ未満の気圧を、表１に記載の１ｋＰａ未満での減圧時間維持した（２回目脱揮）。その後、再度、系に窒素ガスを５分かけて導入し、系の気圧を常圧に戻した（２回目圧戻し）。
続けて、３回目脱揮を行った。まず、表１に記載の１ｋＰａ到達までの減圧時間をかけて１ｋＰａまで減圧し、その後、１ｋＰａ未満の気圧を、表１に記載の１ｋＰａ未満での減圧時間維持した（３回目脱揮）。
各減圧を行った後、（メタ）アクリル酸エステル系重合体に含まれるイソブチルアルコールの含有量を定量した。イソブチルアルコールの定量は、ガスクロマトグラフィー（ＧＣシステムとしてアジレント・テクノロジー（株）製Ａｇｉｌｅｎｔ ７８９０Ａ、カラムはアジレント・テクノロジー（株）製ＨＰ−ＩＮＮＯＷＡＸを用い、測定溶媒としてアセトンを用い、ＦＩＤで検出）を用いて行った。そのイソブチルアルコールの定量結果を、残存溶媒量として表１に示した。
実施例１〜４のいずれにおいても、３回目脱揮後に、重合体中の残存溶媒量が５００ｐｐｍ前後となり、また、得られた重合体の２３℃における粘度は、いずれも約３０Ｐａ・ｓであった。
実施例１〜４の１回目の脱揮では、減圧時間の長短（５０〜１９０分）にかかわらず、いずれも残存溶媒量が２０００ｐｐｍを超える同程度の高い数値を示している。このことから、１回の脱揮では、減圧時間を長くしても、残存溶媒量を２０００ｐｐｍ未満に低下させることは難しいことが分かる。これに対し、いずれの実施例でも、１回目の脱揮の後に、ガス導入と２回目の脱揮を実施することによって、残存溶媒量を１，０００ｐｐｍ未満にまで大きく低減させることができた。以上より、１回目の脱揮の後に、ガス導入と２回目の脱揮を実施することにより、重合体中の残存溶媒量を大きく低減できることが分かる。
また、例えば、実施例２の１回目の減圧時間は１９０分で残存溶媒量が２，０００ｐｐｍ以上であったが、実施例４では、１回目の脱揮と２回目の脱揮を含む合計時間が９５分と、実施例２の１回目の減圧時間の半分であるにも関わらず、残存溶媒量が１，０００ｐｐｍ未満にまで低下している。これにより、１回目の脱揮の後に、ガス導入と２回目の脱揮を実施することにより、脱揮に要する時間を大幅に短縮しながらも、重合体中の残存溶媒量を大きく低減できることが分かる。
さらに、各実施例より、２回目の脱揮の後に、２回目のガス導入と３回目の脱揮を実施することにより、さらに、重合体中の残存溶媒量を低減できることが分かる。例えば実施例１の１回目の脱揮と、実施例４の３回目の脱揮を比較すると、要した時間はほぼ同程度であるにも関わらず、実施例４では残存溶媒量が４分の１程度にまで低下していることが分かる。
Claims (11)
- 重合体が溶媒に溶解している重合体溶液から、残存溶媒量が低減された重合体を製造する方法であって、
前記重合体溶液を含む系の気圧を１ｋＰａ以下にまで減圧して溶媒を留去する工程、
続いて、０℃での状態が気体である物質を前記系に導入して、前記系の気圧を１０ｋＰａ以上にまで上昇させる工程、及び
その後、前記系の気圧を１ｋＰａ以下にまで減圧して重合体中の残存溶媒量を低減する工程を含み、
前記残存溶媒量が低減された重合体の２３℃での粘度が０．１Ｐａ・ｓ〜３００Ｐａ・ｓである、重合体の製造方法。 - 前記残存溶媒量が低減された重合体中の残存溶媒量が、当該重合体全体に対して２０００ｐｐｍ以下である、請求項１に記載の製造方法。
- 前記残存溶媒量が低減された重合体中の残存溶媒量が、当該重合体全体に対して１０００ｐｐｍ以下である、請求項２に記載の製造方法。
- 前記０℃での状態が気体である物質が、不活性ガスである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
- 前記溶媒を留去する工程時の系の温度が、前記溶媒の１０１ｋＰａでの沸点±２０℃である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
- 前記溶媒を留去する工程時の系の温度が、前記溶媒の１０１ｋＰａでの沸点よりも低い、請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
- 前記溶媒が、アルコール系溶媒である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法。
- 前記重合体が、（メタ）アクリル酸エステル系重合体を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法。
- 前記重合体が、反応性シリル基を有する（メタ）アクリル酸エステル系重合体を含む、請求項８に記載の製造方法。
- 前記溶媒が、前記重合体を形成するための重合反応で使用された溶媒を含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法。
- 前記残存溶媒量を低減する工程の後、
再度、０℃での状態が気体である物質を前記系に導入して、前記系の気圧を１０ｋＰａ以上にまで上昇させる工程、及び
その後、前記系の気圧を１ｋＰａ以下にまで減圧して重合体中の残存溶媒量をさらに低減する工程を実施する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の製造方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Country Status (1)
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| "飽和水蒸気量", ウィキペディア, JPN6023000301, 5 December 2022 (2022-12-05), ISSN: 0004964720 * |
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