JP2020128539A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2020128539A5
JP2020128539A5 JP2020071965A JP2020071965A JP2020128539A5 JP 2020128539 A5 JP2020128539 A5 JP 2020128539A5 JP 2020071965 A JP2020071965 A JP 2020071965A JP 2020071965 A JP2020071965 A JP 2020071965A JP 2020128539 A5 JP2020128539 A5 JP 2020128539A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass substrate
particle size
polishing
polishing liquid
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020071965A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2020128539A (ja
JP7201639B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JP2020128539A publication Critical patent/JP2020128539A/ja
Publication of JP2020128539A5 publication Critical patent/JP2020128539A5/ja
Priority to JP2022205494A priority Critical patent/JP7547449B2/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7201639B2 publication Critical patent/JP7201639B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2020071965A 2017-10-31 2020-04-13 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 Active JP7201639B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022205494A JP7547449B2 (ja) 2017-10-31 2022-12-22 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017210817 2017-10-31
JP2017210817 2017-10-31

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019550479A Division JP6692006B2 (ja) 2017-10-31 2018-10-31 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022205494A Division JP7547449B2 (ja) 2017-10-31 2022-12-22 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2020128539A JP2020128539A (ja) 2020-08-27
JP2020128539A5 true JP2020128539A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) 2022-03-28
JP7201639B2 JP7201639B2 (ja) 2023-01-10

Family

ID=66331926

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019550479A Active JP6692006B2 (ja) 2017-10-31 2018-10-31 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法
JP2020071965A Active JP7201639B2 (ja) 2017-10-31 2020-04-13 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法
JP2022205494A Active JP7547449B2 (ja) 2017-10-31 2022-12-22 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019550479A Active JP6692006B2 (ja) 2017-10-31 2018-10-31 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022205494A Active JP7547449B2 (ja) 2017-10-31 2022-12-22 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (3) US11214713B2 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP (3) JP6692006B2 (cg-RX-API-DMAC7.html)
CN (2) CN113913156B (cg-RX-API-DMAC7.html)
SG (1) SG11202001636RA (cg-RX-API-DMAC7.html)
WO (1) WO2019088209A1 (cg-RX-API-DMAC7.html)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019088209A1 (ja) 2017-10-31 2019-05-09 Hoya株式会社 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法
CN112266729A (zh) * 2020-11-17 2021-01-26 云南光电辅料有限公司 一种超低色散玻璃镜片用抛光液及其制备方法
CN114800055A (zh) * 2022-04-28 2022-07-29 浙江美迪凯光学半导体有限公司 一种方形片的抛光工艺

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1243633A4 (en) 2000-10-02 2009-05-27 Mitsui Mining & Smelting Co CERIUM-SUSPENDED ABRASIVE AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
JP4885352B2 (ja) * 2000-12-12 2012-02-29 昭和電工株式会社 研磨材スラリー及び研磨微粉
JP4807905B2 (ja) 2001-04-05 2011-11-02 昭和電工株式会社 研磨材スラリー及び研磨微粉
JP2002371267A (ja) * 2001-06-15 2002-12-26 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd セリウム系研摩材粒子の製造方法及びセリウム系研摩材粒子
JP4033440B2 (ja) * 2001-09-17 2008-01-16 三井金属鉱業株式会社 セリウム系研摩材スラリー及びセリウム系研摩材スラリーの製造方法
JP5256832B2 (ja) 2007-04-17 2013-08-07 日立化成株式会社 研磨剤及びその製造方法
CN102265339B (zh) * 2008-12-22 2014-11-19 花王株式会社 磁盘基板用研磨液组合物
CN101486879A (zh) * 2009-02-20 2009-07-22 包头迅博新材料有限公司 一种稀土精细抛光材料及其制造工艺
JP2011110637A (ja) * 2009-11-25 2011-06-09 Asahi Glass Co Ltd 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
CN102079950A (zh) * 2009-11-27 2011-06-01 东莞市卓越研磨材料有限公司 单分散稀土抛光粉制备方法
PL2534113T3 (pl) * 2010-02-10 2018-05-30 Saint-Gobain Ceramics & Plastics Inc. Cząstki ceramiczne i sposób ich wytwarzania
JP5736681B2 (ja) 2010-07-15 2015-06-17 旭硝子株式会社 研磨液及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
WO2012043214A1 (ja) * 2010-09-30 2012-04-05 コニカミノルタオプト株式会社 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および情報記録媒体
US8421536B2 (en) * 2011-09-21 2013-04-16 Analog Devices, Inc. Apparatus and methods for electronic amplification
WO2013069720A1 (ja) * 2011-11-09 2013-05-16 Ｄｏｗａエコシステム株式会社 研磨剤リサイクル方法
WO2013146090A1 (ja) * 2012-03-30 2013-10-03 Hoya株式会社 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
MY170711A (en) * 2012-08-29 2019-08-27 Hoya Corp Magnetic-disk glass substrate and magnetic disk
SG11201507820WA (en) * 2013-04-09 2015-10-29 Dowa Eco System Co Ltd Method for manufacturing regenerated cerium oxide-based abrasive particles, and regenerated particles
US20160239913A1 (en) 2013-08-13 2016-08-18 Cfph, Llc Foreign exchange trading
JP6063611B2 (ja) 2014-06-30 2017-01-18 Hoya株式会社 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
TW201817835A (zh) 2015-01-12 2018-05-16 美商慧盛材料美國責任有限公司 用於化學機械平坦化組合物之複合研磨粒及其使用方法
CN106479371A (zh) * 2016-08-15 2017-03-08 惠州市米特仑科技有限公司 一种高精度复合抛光液及其制备方法
WO2019088209A1 (ja) * 2017-10-31 2019-05-09 Hoya株式会社 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2020128539A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
TW524836B (en) Composition and method for planarizing surfaces
CN106103615B (zh) 用于化学机械平坦化的金属氧化物-聚合物复合颗粒
TWI593004B (zh) 拋光藍寶石表面的方法
TWI596202B (zh) 用於鎳-磷記憶碟之拋光組合物
CN105189043B (zh) 抛光蓝宝石表面的方法
KR102045256B1 (ko) 연마지립, 그 제조 방법, 그것을 포함하는 연마 슬러리 및 그것을 이용하는 연마 방법
JP2010541204A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
TWI653325B (zh) 硏磨劑組合物及磁碟基板之硏磨法
JP2014179160A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
CN103624665A (zh) 一种蓝宝石触摸面板两面抛光方法
JP2017155242A (ja) コロイダルシリカ研磨材
JPWO2011162265A1 (ja) 炭化珪素基板研磨用組成物及び炭化珪素基板の研磨方法
TW201542788A (zh) 硏磨劑組合物及磁碟基板之硏磨法
TW201103084A (en) Chemical mechanical fabrication (CMF) for forming tilted surface features
CN110869166B (zh) 包括适形涂层的磨料制品和由其形成的抛光系统
JP2012248594A (ja) 研磨剤
JP2023052035A (ja) 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法
JP5394861B2 (ja) 磁気ディスク基板用研磨液組成物
JP4414292B2 (ja) 研磨速度向上方法
MY186418A (en) Polishing composition and method for producing magnetic disk substrate
JP2009509784A (ja) 研磨スラリー及び当該研磨スラリーを利用する方法
JP5906823B2 (ja) 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP7414062B2 (ja) 酸化ガリウム基板の製造方法
CN105518780B (zh) 二氧化硅磨粒、二氧化硅磨粒的制造方法和磁盘用玻璃基板的制造方法