JP2020119944A - アンダーフィル材、半導体パッケージ及び半導体パッケージの製造方法 - Google Patents
アンダーフィル材、半導体パッケージ及び半導体パッケージの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020119944A JP2020119944A JP2019008064A JP2019008064A JP2020119944A JP 2020119944 A JP2020119944 A JP 2020119944A JP 2019008064 A JP2019008064 A JP 2019008064A JP 2019008064 A JP2019008064 A JP 2019008064A JP 2020119944 A JP2020119944 A JP 2020119944A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- underfill material
- mass
- epoxy resin
- cured product
- inorganic filler
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 125
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 81
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 112
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 112
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 50
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims abstract description 44
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims abstract description 44
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims abstract description 31
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 claims abstract description 5
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 30
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 22
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 13
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 9
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 9
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 description 33
- -1 Aromatic amine compounds Chemical class 0.000 description 31
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 19
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 16
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 15
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 15
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 15
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 13
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 11
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 10
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 10
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 10
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 8
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 8
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 4
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 4
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- CSJDCSCTVDEHRN-UHFFFAOYSA-N methane;molecular oxygen Chemical compound C.O=O CSJDCSCTVDEHRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PISLZQACAJMAIO-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethyl-6-methylbenzene-1,3-diamine Chemical compound CCC1=CC(C)=C(N)C(CC)=C1N PISLZQACAJMAIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N Beryllium oxide Chemical compound O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N o-toluidine Chemical compound CC1=CC=CC=C1N RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920006294 polydialkylsiloxane Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UVMLJTNJURWGQW-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris[3-(oxiran-2-yl)propyl]-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CCCC2OC2)C(=O)N(CCCC2OC2)C(=O)N1CCCC1CO1 UVMLJTNJURWGQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHKSKVKCKMGRDU-UHFFFAOYSA-N 2-(3-aminopropylamino)ethanol Chemical compound NCCCNCCO GHKSKVKCKMGRDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NC=CN1 PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUPKCFBHJFNUEW-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NCCN1 QUPKCFBHJFNUEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUOZJYASZOSONT-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yl-1h-imidazole Chemical compound CC(C)C1=NC=CN1 FUOZJYASZOSONT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005376 alkyl siloxane group Chemical group 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical class OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002462 imidazolines Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- GLTDLAUASUFHNK-UHFFFAOYSA-N n-silylaniline Chemical compound [SiH3]NC1=CC=CC=C1 GLTDLAUASUFHNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N phenylsilane Chemical compound [SiH3]C1=CC=CC=C1 PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- CASUWPDYGGAUQV-UHFFFAOYSA-M potassium;methanol;hydroxide Chemical compound [OH-].[K+].OC CASUWPDYGGAUQV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003918 potentiometric titration Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- IYMSIPPWHNIMGE-UHFFFAOYSA-N silylurea Chemical compound NC(=O)N[SiH3] IYMSIPPWHNIMGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 1
- TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N sulfanylsilane Chemical compound S[SiH3] TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000005382 thermal cycling Methods 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N trizinc;diborate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
Description
例えば、従来のアンダーフィル材では、これを用いて半導体素子が封止された半導体パッケージを、低温下から高温下及び高温下から低温下(以下、「低温〜高温間」と称す)へ繰り返し配置すると、アンダーフィル材からなる硬化物にクラックが発生することがあった。そのため、パワー半導体の封止材として求められる性能として、半導体パッケージを低温〜高温間に繰り返し配置されたときに生じるクラックを抑制することが求められている。特に、半導体素子のサイズが大きい(例えば、15mm角以上の半導体素子を含む)半導体パッケージである場合、半導体素子のサイズが大きい分、低温〜高温間に繰り返し配置されたときに生じるクラックを抑制することは、より困難であった。
硬化剤と、
無機充填材と、
ゴム粒子と、を含有するアンダーフィル材。
前記基板の上に配置された半導体素子と、
前記半導体素子を封止している前記[1]〜[5]のいずれか1項に記載のアンダーフィル材の硬化物と、
を備える、半導体パッケージ。
前記アンダーフィル材を硬化する工程と、
を含む、半導体パッケージの製造方法。
本開示において「〜」を用いて示された数値範囲には、「〜」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
本開示において各成分に該当する粒子は複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、各成分の粒子径は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
本開示において「ゴム」とは、常温(25℃)にてゴム弾性を有する高分子化合物をいう。
本開示のアンダーフィル材は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、無機充填材と、ゴム粒子と、を含有する。本開示のアンダーフィル材は、その他の材料を含んでいてもよい。
本開示のアンダーフィル材は、アンダーフィル材を硬化してなる硬化物を、175℃の環境下に1000時間配置したときに、硬化物の全質量から無機充填材の質量を差し引いた成分(以下、「硬化物における無機充填材以外の成分」とも称す)の質量減少率が、2.00質量%以下であることが好ましい。
本開示のアンダーフィル材は、高温下に長時間配置したときの質量減少率を2.00質量%以下に調整することで、樹脂自体の分解が抑制される傾向にある。そのため、175℃の環境下に1000時間配置したときにおいても、クラックが抑制されると考えられる。
m0:175℃、1000時間処理前の硬化物の質量(mg)
mB:175℃、1000時間処理後の硬化物の質量(mg)
mF:無機充填材の質量(mg)
質量測定済みのΦ30mmのシャーレに、測定試料(20mm角、厚み500μmの硬化物)を入れ、シャーレと測定試料との合計質量を測定し、前記合計質量からシャーレの質量を差し引いた質量を「175℃、1000時間処理前の硬化物の質量(m0)」とする。次いで、175℃に保温された乾燥機に、測定試料入りのシャーレを入れ、これを175℃の温度環境下で1000時間配置する。その後、測定試料入りのシャーレを乾燥機から出し、室温(25℃)にまで放冷する。その後、シャーレと測定試料との合計質量を測定し、前記合計質量からシャーレの質量を差し引いた質量を「175℃、1000時間処理後の硬化物の質量(mB)」とする。
本開示のアンダーフィル材はエポキシ樹脂を含む。
エポキシ樹脂の種類は、特に制限されない。
常温で液状のビスフェノール型エポキシ樹脂は、合成品であっても市販品であってもよい。例えば、常温で液状のビスフェノールF型エポキシ樹脂の市販品としては、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社の商品名「エポトート YDF−8170C」が挙げられる。
エポキシ樹脂は、クラックをより良好に抑制する観点から、エポキシ基及びイソシアヌレート環を有するエポキシ樹脂(以下、「イソシアヌレート環含有エポキシ樹脂」とも称す)を含むことが好ましい。
イソシアヌレート環は、高温下でも優れた耐熱性を有し、熱分解し難いと考えられる。そのため、エポキシ基及びイソシアヌレート環を有するエポキシ樹脂を用いると、硬化物の靭性が向上し、クラックがより効果的に抑制される傾向にある。
前記鎖式炭化水素基は、アンダーフィル材が液状となり易く取扱い性に優れる観点から、炭素数2以上の鎖式炭化水素基であることが好ましい。
直鎖状の炭化水素基としては、例えば、炭素数1以上の直鎖アルキレン基が挙げられ、炭素数1〜5の直鎖アルキレン基であることが好ましく、炭素数2〜4の直鎖アルキレン基であることがより好ましく、炭素数2又は3の直鎖アルキレン基であることがさらに好ましい。
分岐鎖状の炭化水素基としては、例えば、炭素数3〜5の分岐アルキレン基が挙げられる。
炭素数1以上の鎖式炭化水素基における置換基としては、フェニル基、ヒドロキシ基等が挙げられる。
例えば、イソシアヌレート環含有エポキシ樹脂が2つのエポキシ基を有する2官能エポキシ樹脂である場合、分子内の2つのエポキシ基が炭素数1以上の鎖式炭化水素基によって連結されていることが好ましい。
例えば、イソシアヌレート環含有エポキシ樹脂が3つのエポキシ基を有する3官能エポキシ樹脂である場合、分子内の2つ以上のエポキシ基、より好ましくは3つのエポキシ基が、炭素数1以上の鎖式炭化水素基によってイソシアヌレート環と連結されていることが好ましい。
ビスフェノール型エポキシ樹脂とイソシアヌレート環含有エポキシ樹脂の配合比(ビスフェノール型エポキシ樹脂:イソシアヌレート環含有エポキシ樹脂)は、例えば、90:10〜25:75であることが好ましく、90:10〜40:60であることがより好ましい。
本開示のアンダーフィル材は硬化剤を含む。
硬化剤の種類は特に制限されず、アンダーフィル材の所望の特性等に応じて選択してよい。硬化剤の種類としては、アミン硬化剤、フェノール硬化剤、酸無水物硬化剤、ポリメルカプタン硬化剤、ポリアミノアミド硬化剤、イソシアネート硬化剤、ブロックイソシアネート硬化剤等が挙げられる。硬化剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本開示のアンダーフィル材は無機充填材を含む。
無機充填材の種類は、特に制限されない。具体的には、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、ケイ酸ジルコニウム、ケイ酸カルシウム、窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア、タルク、クレー、マイカ等の無機材料が挙げられる。上記無機充填材の中でも、熱膨張率低減の観点からはシリカが好ましく、熱伝導性向上の観点からはアルミナが好ましい。
本開示のアンダーフィル材は、難燃効果を有する無機充填材を用いてもよい。難燃効果を有する無機充填材としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、マグネシウムと亜鉛の複合水酸化物等の複合金属水酸化物、硼酸亜鉛などが挙げられる。
硬化後の熱膨張率を低減し、クラックをより効果的に抑制する観点からは、無機充填材の含有率は多いほど好ましい。例えば、無機充填材の含有率は、アンダーフィル材の総量に対して40質量%以上であることが好ましく、55質量%以上であることがより好ましく、60質量%以上であることがさらに好ましく、65質量%以上であることが特に好ましい。
一方、粘度上昇を抑制する観点からは、無機充填材の含有率は、少ないほど好ましい。例えば、無機充填材の含有率は、アンダーフィル材の総量に対して80質量%以下であることが好ましい。
無機充填材の平均粒子径は、例えば、平均粒子径が0.05μm〜20μmであることが好ましく、0.1μm〜15μmであることがより好ましい。
無機充填材の平均粒子径が0.05μm以上であると、アンダーフィル材の粘度の上昇がより抑制される傾向にある。一方、無機充填材の平均粒子径が20μm以下であると、狭い隙間への充填性がより向上する傾向にある。
無機充填材の平均粒子径は、レーザー散乱回折法粒度分布測定装置により得られる体積基準の粒度分布において小径側からの体積の累積が50%となるときの粒子径(体積平均粒子径、D50)として測定することができる。
本開示のアンダーフィル材は、ゴム粒子を含む。
アンダーフィル材に含まれるゴム粒子は、特に制限されない。ゴム粒子におけるゴムの成分として具体的には、熱可塑性エラストマー、NR(天然ゴム)、NBR(アクリロニトリル−ブタジエンゴム)、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム等が挙げられる。ゴム粒子は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記構成のコアシェル型ゴム粒子において、コア部に含まれるポリシロキサンは特に制限されない。例えば、ポリアルキルハイドロジェンシロキサン、ポリジアルキルシロキサン、ポリアリールハイドロジェンシロキサン、ポリジアリールシロキサン、ポリアルキルアリールシロキサン、及びこれらの共重合体が挙げられる。なかでも、直鎖状のポリシロキサンはポリジアルキルシロキサンを含むことが好ましく、ポリジC1−5アルキルシロキサンを含むことがより好ましく、ポリジメチルシロキサンを含むことがさらに好ましい。
ゴム粒子の含有量は、アンダーフィル材における樹脂成分(エポキシ樹脂及び硬化剤を含む場合はその合計)100質量部に対して0.1質量部〜30質量部であることが好ましく、1質量部〜20質量部であることがより好ましく、2質量部〜15質量部であることが更に好ましい。
ゴム粒子の含有量が、アンダーフィル材における樹脂成分(エポキシ樹脂及び硬化剤を含む場合はその合計)100質量部に対して0.1質量部以上であると、硬化物の弾性がより高まる傾向にある。その結果、20mm角の半導体素子をアンダーフィル材で封止してなる半導体パッケージを低温〜高温サイクル条件下としたときに、硬化物のクラックがより抑制されると考えられる。
本開示のアンダーフィル材は、上述の成分に加えて、硬化促進剤、応力緩和剤、カップリング剤、着色剤等の各種添加剤を含んでもよい。アンダーフィル材は、以下に例示する添加剤以外にも必要に応じて当技術分野で周知の各種添加剤を含んでもよい。
本開示のアンダーフィル材は、硬化促進剤を含んでもよい。硬化促進剤の種類は特に制限されず、エポキシ樹脂及び硬化剤の種類、アンダーフィル材の所望の特性等に応じて選択できる。
本開示のアンダーフィル材は、応力緩和剤を含んでもよい。応力緩和剤としては、熱可塑性エラストマー、NR(天然ゴム)、NBR(アクリロニトリル−ブタジエンゴム)、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム等の粒子などが挙げられる。応力緩和剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本開示のアンダーフィル材は、カップリング剤を含んでもよい。カップリング剤としては、エポキシシラン、フェニルシラン、メルカプトシラン、アミノシラン、フェニルアミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン等のシラン化合物、チタン化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウム/ジルコニウム化合物などが挙げられる。これらの中でもシラン化合物(シランカップリング剤)が好ましい。カップリング剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本開示のアンダーフィル材は、着色剤を含んでもよい。着色剤としては、カーボンブラック、有機染料、有機顔料、鉛丹、ベンガラ等が挙げられる。着色剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本開示のアンダーフィル材は、基板と半導体素子との間の空隙を充填する際の粘度が充分に低いことが好ましい。具体的には、110℃における粘度が1.0Pa・s以下であることが好ましく、0.75Pa・s以下であることがより好ましく、0.50Pa・s以下であることがさらに好ましい。本開示においてアンダーフィル材の110℃における粘度は、レオメーター(例えば、ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン株式会社製の「AR2000」)により、40mmのパラレルプレートにて、せん断速度:32.5/secの条件で測定される値である。
本開示のアンダーフィル材は、種々の実装技術に用いることができる。本開示のアンダーフィル材は、特に、フリップチップ型実装技術に用いるアンダーフィル材として好適に用いることができる。より具体的に例えば、バンプ等で接合された半導体素子と基板の間の隙間を充填する用途に好適に用いることができる。
本開示の半導体パッケージは、基板と、前記基板上に配置された半導体素子と、前記半導体素子を封止している上述したアンダーフィル材の硬化物と、を備える。
本開示の半導体パッケージの製造方法は、本開示のアンダーフィル材を用いた方法であれば特に限定されない。例えば、半導体パッケージの製造方法は、基板と前記基板上に配置された半導体素子との間の空隙を上述したアンダーフィル材で充填する工程と、前記アンダーフィル材を硬化する工程と、を含むことが好ましい。
各例のアンダーフィル材を、表1に示す材料及び量(質量部)で混合し、調製した。各材料の詳細は下記の通りである。
エポキシ樹脂2…1,3,5−トリス(4,5−エポキシペンチル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、エポキシ当量:135g/eq、商品名「TEPIC−VL」、日産化学工業株式会社
硬化剤2…3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、商品名「カヤハード A−A」、活性水素当量:63g/eq、日本化薬株式会社
下記に示す基板、半導体素子及び条件を用いて、基板と基板の上に配置された半導体素子との間の空隙を、各例のアンダーフィル材で充填し、アンダーフィル材を硬化することで、評価用の半導体パッケージを作製した。
半導体素子:縦20mm、横20mm、厚み725μm
バンプ:高さ45μm銅+高さ15μm鉛フリーはんだ、バンプピッチは200μm
基板:縦45mm、横45mm、厚み0.82mmのE−705G(日立化成株式会社製)
ソルダーレジスト:SR7300G(日立化成株式会社製)
各例のアンダーフィル材を165℃で120分間硬化させ、20mm×20mm×0.5mmの試験片を作製した。各例の試験片について、175℃で1000時間の熱履歴を経た硬化物の全質量から無機充填材の質量を差し引いた成分(硬化物における無機充填材以外の成分)の質量減少率(質量%)を、先述の方法により求めた。結果を表1に示す。
AEC(Automotive Electronics Council)規格におけるAEC-Q100 Grade 0の基準に従って、−65℃〜150℃で2000サイクルの熱履歴を経た、各例の半導体パッケージにおける硬化物の全周を、金属顕微鏡(オリンパス株式会社製)で50倍にして観察し、以下の基準でひび割れ(クラック)の有無を判定した。結果を表1に示す。
クラック「有」:試験片における観察面に、クラックが2つ以上観測された。
クラック「無」:試験片における観察面に、クラックが1つ観測された、又は、クラックが観測されなかった。
AEC(Automotive Electronics Council)規格におけるAEC-Q100 Grade 0の基準に従って、175℃で1000時間の熱履歴を経た、各例の半導体パッケージにおける硬化物の全周を、金属顕微鏡(オリンパス株式会社製)で50倍にして観察し、以下の基準で、ひび割れ(クラック)の有無を判定した。結果を表1に示す。
クラック「有」:試験片における観察面に、クラックが2つ以上観測された。
クラック「無」:試験片における観察面に、クラックが1つ観測された、又は、クラックが観測されなかった。
Claims (7)
- エポキシ樹脂と、
硬化剤と、
無機充填材と、
ゴム粒子と、を含有するアンダーフィル材。 - アンダーフィル材を硬化してなる硬化物を、175℃の環境下に1000時間配置したときに、前記硬化物の全質量から前記無機充填材の質量を差し引いた成分の質量減少率が2.00質量%以下である、請求項1に記載のアンダーフィル材。
- 前記無機充填材の含有率がアンダーフィル材の総量に対して55質量%以上である、請求項1又は請求項2に記載のアンダーフィル材。
- 前記エポキシ樹脂がエポキシ基及びイソシアヌレート環を有するエポキシ樹脂を含む、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のアンダーフィル材。
- パワー半導体用である請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のアンダーフィル材。
- 基板と、
前記基板の上に配置された半導体素子と、
前記半導体素子を封止している請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載のアンダーフィル材の硬化物と、
を備える、半導体パッケージ。 - 基板と前記基板の上に配置された半導体素子との間の空隙を請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載のアンダーフィル材で充填する工程と、
前記アンダーフィル材を硬化する工程と、
を含む、半導体パッケージの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019008064A JP2020119944A (ja) | 2019-01-21 | 2019-01-21 | アンダーフィル材、半導体パッケージ及び半導体パッケージの製造方法 |
JP2023088253A JP2023105031A (ja) | 2019-01-21 | 2023-05-29 | アンダーフィル材、半導体パッケージ及び半導体パッケージの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019008064A JP2020119944A (ja) | 2019-01-21 | 2019-01-21 | アンダーフィル材、半導体パッケージ及び半導体パッケージの製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023088253A Division JP2023105031A (ja) | 2019-01-21 | 2023-05-29 | アンダーフィル材、半導体パッケージ及び半導体パッケージの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020119944A true JP2020119944A (ja) | 2020-08-06 |
Family
ID=71891191
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019008064A Pending JP2020119944A (ja) | 2019-01-21 | 2019-01-21 | アンダーフィル材、半導体パッケージ及び半導体パッケージの製造方法 |
JP2023088253A Pending JP2023105031A (ja) | 2019-01-21 | 2023-05-29 | アンダーフィル材、半導体パッケージ及び半導体パッケージの製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023088253A Pending JP2023105031A (ja) | 2019-01-21 | 2023-05-29 | アンダーフィル材、半導体パッケージ及び半導体パッケージの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP2020119944A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024055946A1 (zh) * | 2022-09-15 | 2024-03-21 | 华为技术有限公司 | 树脂组合物及其制备方法和应用 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006335796A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Dainippon Ink & Chem Inc | エポキシ樹脂組成物、その硬化物、新規ヒドロキシ化合物、新規エポキシ樹脂及びそれらの製造方法 |
JP2011063664A (ja) * | 2009-09-15 | 2011-03-31 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | アンダーフィル材組成物及び光半導体装置 |
JP2014028932A (ja) * | 2012-06-26 | 2014-02-13 | Nippon Shokubai Co Ltd | 低弾性樹脂組成物 |
JP2015054898A (ja) * | 2013-09-11 | 2015-03-23 | パナソニック株式会社 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物および半導体装置 |
JP2015067618A (ja) * | 2013-09-26 | 2015-04-13 | 株式会社日本触媒 | 硬化性樹脂組成物及びその用途 |
JP2015071792A (ja) * | 2011-12-27 | 2015-04-16 | 日立化成株式会社 | 電子部品用液状樹脂組成物及びその製造方法、並びに電子部品装置 |
JP2015081268A (ja) * | 2013-10-21 | 2015-04-27 | 信越化学工業株式会社 | Ledリフレクター用白色熱硬化性エポキシ・シリコーンハイブリッド樹脂組成物、及び該樹脂組成物の成形硬化物から成るプレモールドパッケージ |
JP2016037507A (ja) * | 2014-08-05 | 2016-03-22 | 日本化薬株式会社 | エポキシ樹脂組成物およびその硬化物 |
WO2017188286A1 (ja) * | 2016-04-28 | 2017-11-02 | 日立化成株式会社 | 封止用液状エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 |
JP2017206631A (ja) * | 2016-05-19 | 2017-11-24 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 封止用樹脂組成物、その硬化物、及び半導体装置 |
JP2018070679A (ja) * | 2016-10-25 | 2018-05-10 | 日立化成株式会社 | アンダーフィル材用樹脂組成物及びこれを用いた電子部品装置とその製造方法 |
-
2019
- 2019-01-21 JP JP2019008064A patent/JP2020119944A/ja active Pending
-
2023
- 2023-05-29 JP JP2023088253A patent/JP2023105031A/ja active Pending
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006335796A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Dainippon Ink & Chem Inc | エポキシ樹脂組成物、その硬化物、新規ヒドロキシ化合物、新規エポキシ樹脂及びそれらの製造方法 |
JP2011063664A (ja) * | 2009-09-15 | 2011-03-31 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | アンダーフィル材組成物及び光半導体装置 |
JP2015071792A (ja) * | 2011-12-27 | 2015-04-16 | 日立化成株式会社 | 電子部品用液状樹脂組成物及びその製造方法、並びに電子部品装置 |
JP2014028932A (ja) * | 2012-06-26 | 2014-02-13 | Nippon Shokubai Co Ltd | 低弾性樹脂組成物 |
JP2015054898A (ja) * | 2013-09-11 | 2015-03-23 | パナソニック株式会社 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物および半導体装置 |
JP2015067618A (ja) * | 2013-09-26 | 2015-04-13 | 株式会社日本触媒 | 硬化性樹脂組成物及びその用途 |
JP2015081268A (ja) * | 2013-10-21 | 2015-04-27 | 信越化学工業株式会社 | Ledリフレクター用白色熱硬化性エポキシ・シリコーンハイブリッド樹脂組成物、及び該樹脂組成物の成形硬化物から成るプレモールドパッケージ |
JP2016037507A (ja) * | 2014-08-05 | 2016-03-22 | 日本化薬株式会社 | エポキシ樹脂組成物およびその硬化物 |
WO2017188286A1 (ja) * | 2016-04-28 | 2017-11-02 | 日立化成株式会社 | 封止用液状エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 |
JP2017206631A (ja) * | 2016-05-19 | 2017-11-24 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 封止用樹脂組成物、その硬化物、及び半導体装置 |
JP2018070679A (ja) * | 2016-10-25 | 2018-05-10 | 日立化成株式会社 | アンダーフィル材用樹脂組成物及びこれを用いた電子部品装置とその製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024055946A1 (zh) * | 2022-09-15 | 2024-03-21 | 华为技术有限公司 | 树脂组合物及其制备方法和应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2023105031A (ja) | 2023-07-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6573679B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物、その製造方法、及び該組成物の用途 | |
US7981977B2 (en) | Sealant for electronics of epoxy resin, aromatic amine, accelerator and inorganic filler | |
JP5277537B2 (ja) | 電子部品用液状樹脂組成物及びこれを用いた電子部品装置 | |
JP6656792B2 (ja) | 電子部品用液状樹脂組成物及び電子部品装置 | |
KR20170008210A (ko) | 액상 봉지재, 그것을 사용한 전자부품 | |
CN108192293B (zh) | 电子部件用液体状树脂组合物及电子部件装置 | |
JP5114935B2 (ja) | 電子部品用液状樹脂組成物、及びこれを用いた電子部品装置 | |
JP6789495B2 (ja) | アンダーフィル用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 | |
JP2007182562A (ja) | 電子部品用液状樹脂組成物及び電子部品装置 | |
JP2008127577A (ja) | マルチチップパッケージ封止用エポキシ樹脂組成物、及びこれを用いたマルチチップパッケージ | |
JP5692212B2 (ja) | 電子部品用液状樹脂組成物及びこれを用いた電子部品装置 | |
JP7528985B2 (ja) | アンダーフィル材、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 | |
KR20100130966A (ko) | 반도체 밀봉용 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용한 반도체 장치 | |
JP2023105031A (ja) | アンダーフィル材、半導体パッケージ及び半導体パッケージの製造方法 | |
JP5682470B2 (ja) | 電子部品用樹脂組成物及び電子部品装置 | |
JP2019083225A (ja) | アンダーフィル用液状樹脂組成物、電子部品装置、及び電子部品装置の製造方法 | |
JPWO2018198992A1 (ja) | 液状封止樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 | |
JP6825643B2 (ja) | 電子部品用液状樹脂組成物及び電子部品装置 | |
JP7400714B2 (ja) | アンダーフィル材、半導体パッケージ及び半導体パッケージの製造方法 | |
JP2017028050A (ja) | アンダーフィル材及びそれを用いた電子部品装置 | |
JP7000698B2 (ja) | アンダーフィル用樹脂組成物、半導体装置の製造方法及び半導体装置 | |
JP7216878B2 (ja) | アンダーフィル用樹脂組成物並びに電子部品装置及びその製造方法 | |
JP7095724B2 (ja) | アンダーフィル用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 | |
JP7455017B2 (ja) | アンダーフィル材、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 | |
JP2018070679A (ja) | アンダーフィル材用樹脂組成物及びこれを用いた電子部品装置とその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211209 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220930 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221004 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221201 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20230228 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230529 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20230606 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230822 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20231222 |