JP2020100804A - 紫外線吸収性不飽和単量体、紫外線吸収性紫外線吸収性ポリマー、成形用樹脂組成物および成形体 - Google Patents

Abstract

【課題】紫外線を遮断しつつ、紫外線吸収剤のマイグレーションを抑制する紫外線吸収ポリマーの提供。【解決手段】以下のエチレン性不飽和単量体を重合組成に含む紫外線吸収性ポリマー。（式中、Ｐは−Ｏ−、−Ｏ−Ｒ７−Ｏ−、Ｒ７は水酸基を有しても良いアルキレン基であり、ＱはＨもしくはメチル基）【選択図】なし

Description

本発明は、特定構造を有する紫外線吸収性不飽和単量体、およびこれを含む単量体成分を重合してなる紫外線吸収性ポリマー、およびその用途に関する。

従来から樹脂成形体（以下、成形体という）は、医薬用薬剤や化粧品等の包装材料として使用されていた。しかし、樹脂は紫外線を透過するため、内容物が、紫外線で劣化する場合があった。そのため、紫外線吸収剤を樹脂成形体に含有することが、内容物の劣化の抑制には効果的であることが知られている。
しかしながら、単に紫外線吸収剤を樹脂成形体に含有すると、紫外線吸収剤がマイグレーションする傾向にあり、医薬用薬剤や化粧品等の包装材料に使用するには不適合である。

また、塗料や粘着剤についても、従来から紫外線による劣化を防止するため紫外線吸収剤が配合されており、塗膜や粘着ラベルを通じて紫外線吸収剤がマイグレーションにより被膜内の凝集、表面への析出、または内容物への移行を起こす場合が多かった。

紫外線吸収剤のマイグレーションを抑制する方法として、紫外線吸収剤をポリマー化する方法は知られている。これは、紫外線吸収剤を紫外線吸収性不飽和単量体にして、重合によりポリマー化する方法である。
紫外線吸収性不飽和単量体としては、ベンゾトリアゾール系化合物が知られている（特許文献１、２）。しかしながら、この場合、可視光に近い３６０ｎｍ付近の紫外光を遮断することはできるものの、さらに可視光に近い紫外光は一定量透過させてしまう状況であった。
より可視光に近い紫外光を遮断するという点では、トリアジン系化合物が知られている（特許文献３、４）。しかしながら、これらに記載のものはポリマー化できる構造とはなっていない。

特開２００１−７２７２２号公報 特開２００１−１１４８４２号公報 特開２００９−１８５２９１号公報 特開２０１１−００６５１７号公報

本発明は、紫外線及び可視光の短波長領域を遮断する紫外線吸収性不飽和単量体、紫外線吸収性ポリマー、さらに、紫外線及び可視光の短波長領域を遮断しつつ、紫外線吸収剤のマイグレーションを抑制する成形用樹脂組成物の提供を目的とする。

本発明は、下記一般式（１）で表される紫外線吸収性不飽和単量体に関する。

（式中、Ｒ_１ａ、Ｒ_１ｂ、およびＲ_１ｃは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、−Ｏ−Ｒ_４、もしくは−Ｏ−Ｒ_５−ＣＯ−Ｏ−Ｒ_６で表され、Ｒ_４およびＲ_６は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基、もしくは炭素数６〜２０のアリール基で表され、上記アルキル基は環構造を形成していても良く、Ｒ_５は炭素数１〜２０のアルキレン基、もしくは炭素数６〜２０のアリーレン基で表される。
Ｒ_２ａ、Ｒ_２ｂ、およびＲ_２ｃは、それぞれ独立に、水素原子もしくは、炭素数１〜１０のアルキル基である。
Ｒ_３は、水素原子、水酸基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、−Ｏ−Ｒ_４、もしくは、−Ｏ−Ｒ_５−ＣＯ−Ｏ−Ｒ_６で表され、Ｒ_４およびＲ_６は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基、もしくは炭素数６〜２０のアリール基で表され、上記アルキル基は環構造を形成していても良く、Ｒ_５は炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基で表され、上記アルキル基は環構造を形成していても良い。
Ｐは、−Ｏ−、もしくは−Ｏ−Ｒ_７−Ｏ−で表され、Ｒ_７は、水酸基を有しても良い炭素数１〜２０のアルキレン基であり、
Ｑは、水素原子もしくはメチル基である。）

また、本発明は、上記紫外線吸収性不飽和単量体を含む単量体成分を重合してなることを特徴とする紫外線吸収性ポリマーに関する。

また、本発明は、単量体成分を１００質量％としたとき、紫外線吸収性不飽和単量体を３質量％〜４０質量％含むことを特徴とする上記紫外線吸収性ポリマーに関する。

また、本発明は、前記紫外線吸収性ポリマーが、上記紫外線吸収性不飽和単量体と下記一般式（２）で表される不飽和単量体とを含む単量体成分を共重合してなることを特徴とする上記紫外線吸収性ポリマーに関する。

（式中、Ｒ_１０９は水素原子またはシアノ基を表し、Ｒ_１１０、Ｒ_１１１はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基を表し、Ｒ_１１２は水素原子または炭化水素基を表し、Ｙ_１は酸素原子またはイミノ基を表す。）

また、本発明は、上記紫外線吸収性ポリマーを含むことを特徴とする成形用樹脂組成物に関する。

また、本発明は、さらに、ポリオレフィンを含むことを特徴とする上記成形用樹脂組成物に関する。

また、本発明は、上記成形用樹脂組成物を含む、オレフィン系成形体に関する。

上記の本発明によれば、紫外線及び可視光の短波長領域を遮断する紫外線吸収性不飽和単量体、紫外線吸収性紫外線吸収性ポリマー、さらに、紫外線を遮断しつつ、紫外線吸収剤のマイグレーションを抑制し、高い透明性を有するオレフィン系成形用樹脂組成物を提供できる。

本明細書の用語を定義する。不飽和単量体は、エチレン性不飽和基含有化合物である。

＜紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ）＞
紫外線吸収性不飽和単量体は、下記一般式（１）で表される。

（式中、Ｒ_１ａ、Ｒ_１ｂ、およびＲ_１ｃは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、−Ｏ−Ｒ_４、もしくは−Ｏ−Ｒ_５−ＣＯ−Ｏ−Ｒ_６で表され、Ｒ_４およびＲ_６は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基、もしくは炭素数６〜２０のアリール基で表され、上記アルキル基は環構造を形成していても良く、Ｒ_５は炭素数１〜２０のアルキレン基、もしくは炭素数６〜２０のアリーレン基で表される。
Ｒ_２ａ、Ｒ_２ｂ、およびＲ_２ｃは、それぞれ独立に、水素もしくは、炭素数１〜１０のアルキル基である。
Ｒ_３は、水素原子、水酸基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、−Ｏ−Ｒ_４、もしくは、−Ｏ−Ｒ_５−ＣＯ−Ｏ−Ｒ_６で表され、Ｒ_４およびＲ_６は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基、もしくは炭素数６〜２０のアリール基で表され、上記アルキル基は環構造を形成していても良く、Ｒ_５は炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基で表され、上記アルキル基は環構造を形成していても良い。
Ｐは、−Ｏ−、もしくは−Ｏ−Ｒ_７−Ｏ−で表され、Ｒ_７は、水酸基を有しても良い炭素数１〜２０のアルキレン基であり、
Ｑは水素もしくはメチル基である。）

炭素数１〜２０のアルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基等の鎖式炭化水素基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の脂環式炭化水素基が挙げられる。
炭素数１〜２０のアルキル基は、水素部位が置換された基を含む。例えば、１−ブロモメチル基、２−ブロモエチル基、２−クロロエチル基、２−ヨードエチル基、３−ブロモプロピル基、４−ブロモブチル基、１−ブロモブチル基、５−ブロモペンチル基、６−ブロモヘキシル基、７−ブロモヘプチル基、８−ブロモオクチル基、９−ブロモノニル基、１０−ブロモデシル基、１１−ブロモウンデシル基、１２−ブロモドデシル基、１３−ブロモトリデシル基、１４−ブロモテトラデシル基、１５−ブロモペンタデシル基、１６−ブロモヘキサデシル基、１７−ブロモヘプタデシル基、１８−ブロモオクタデシル基、１９−ブロモノナデシル基、２０−ブロモイコシル基等の鎖式炭化水素基；２−ブロモシクロプロピル基、２−ブロモシクロペンチル基、４−ブロモシクロヘキシル基等の脂環式炭化水素基等が挙げられる。

炭素数６〜２０のアリール基は、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基等の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
炭素数６〜２０のアリール基も、水素部位が置換されたものも含む。例えば、モノブロモフェニル基、ジブロモフェニル基、モノクロロフェニル基、モノブロモトリル基、モノブロモキシリル基、モノブロモベンジル基、モノブロモフェネチル基等の芳香族炭化水素基等が挙げられる。

炭素数１〜２０のアルキレン基は、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基等の直鎖状アルキレン基；プロピレン基、２−メチルトリメチレン基、２−メチルテトラメチレン基等の分枝鎖状アルキレン基等が挙げられる。
炭素数１〜２０のアルキレン基は、水素部位が置換されたものも含む。例えば、モノブロモメチレン基、モノブロモエチレン基、モノクロロエチレン基、モノヨードエチレン基、ジブロモエチレン基、モノブロモトリメチレン基、モノブロモテトラメチレン基、モノブロモペンタメチレン基、モノブロモヘキサメチレン基、モノブロモヘプタメチレン基、モノブロモオクタメチレン基等が挙げられる。

炭素数６〜２０のアリーレン基は、例えば、フェニレン基、トリレン基、キシリレン基等の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
炭素数６〜２０のアリーレン基は、水素部位が置換された基を含む。例えば、モノブロモフェニレン基、モノクロロフェニレン基、モノブロモトリレン基、モノブロモキシリレン基等の芳香族炭化水素基等が挙げられる。

Ｐは、−Ｏ−、もしくは−Ｏ−Ｒ_７−Ｏ−で表され、Ｒ_７は、水酸基を有しても良い炭素数１〜２０のアルキレン基である。
炭素数１〜２０のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、へキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基等が挙げられる。
Ｒ_７の構造としては、一般式（３）、（４）で示されるヒドロキシプロピレン基が挙げられる。

Ｐとしては、−Ｏ−であることが好ましい。
水酸基を有しても良い炭素数１〜２０のアルキレン基は、さらに、水素が置換された基を含む。

紫外線吸収性不飽和単量体は、例えば、以下の構造が挙げられる。

＜紫外線吸収性ポリマー＞
紫外線吸収性ポリマーは、上記の紫外線吸収性不飽和単量体を単量体成分に含み、紫外線を吸収する。また、樹脂であることで、紫外線吸収剤のマイグレーションを抑制する。

紫外線吸収性不飽和単量体は、単量体成分中に３質量％〜４０質量％含まれることが好ましい。３質量％より少ないと、紫外線を吸収する効果が少なく、４０質量％より多いと、熱可塑性樹脂との相溶性が悪くなる傾向にある。しかし、紫外線吸収性ポリマーは、紫外線吸収性不飽和単量体を重合するＡブロック、その他モノマーを重合するＢブロックを含むブロックポリマーとして合成すると、紫外線吸収性ポリマーの単量体成分中、紫外線吸収性不飽和単量体を４０質量％以上を含有しても相溶性が低下しない。なお、ブロックポリマーの単量体成分中、紫外線吸収性不飽和単量体の上限は７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。

前記紫外線吸収性ポリマーは、その単量体成分に、一般式（２）で表される不飽和単量体を含むことが好ましい。

式中、Ｒ_１０９は、水素原子またはシアノ基を表し、Ｒ_１１０、Ｒ_１１１は、それぞれ独立して水素原子またはメチル基を表し、Ｒ_１１２は水素原子または炭化水素基を表し、Ｙ_１は、酸素原子またはイミノ基を表す。

この一般式（２）で表される不飽和単量体は、光安定性をより向上させる。
一般式（２）で表される不飽和単量体の具体例としては、たとえば、４−（メタ）アクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−（メタ）アクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−（メタ）アクリロイルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−シアノ−４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−クロトノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−クロトノイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等が非限定的に挙げられ、これらは単独でも、必要により２種以上を適宜組み合わせて使用しても構わない。

一般式（２）で表される不飽和単量体は、単量体成分中に３質量％〜４０質量％含まれることがより好ましい。３質量％より少ないと、光安定性を確保する効果が少なく、４０質量％より多いと、親水性が高くなり、相溶性が悪くなる傾向にある。

紫外線吸収性ポリマーは、その単量体成分に紫外線吸収性不飽和単量体以外の不飽和単量体を含んでもよい。例えば、（メタ）アクリル酸エステル、クロトン酸エステル、ビニルエステル、マレイン酸ジエステル、フマル酸ジエステル、イタコン酸ジエステル、（メタ）アクリルアミド、ビニルエーテル、ビニルアルコールのエステル、スチレン、（メタ）アクリロニトリル、酸性基含有モノマーが挙げられる。

（メタ）アクリル酸エステルは、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−オクチル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸アセトキシエチル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−（２−メトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸β−フェノキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸ノニルフェノキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸トリフロロエチル、（メタ）アクリル酸オクタフロロペンチル、（メタ）アクリル酸パーフロロオクチルエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニルオキシエチルなどが挙げられる。

クロトン酸エステルは、例えば、クロトン酸ブチル、及びクロトン酸ヘキシル等が挙げられる。

ビニルエステルは、例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、及び安息香酸ビニルなどが挙げられる。マレイン酸ジエステルは、例えば、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、及びマレイン酸ジブチルなどが挙げられる。

フマル酸ジエステルは、例えば、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、及びフマル酸ジブチルなどが挙げられる。

イタコン酸ジエステルは、例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、及びイタコン酸ジブチルなどが挙げられる。

（メタ）アクリルアミドは、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。

ビニルエーテルは、例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、及びメトキシエチルビニルエーテルなどが挙げられる。スチレンの例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えばｔ−Ｂｏｃなど）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンなどが挙げられる。

酸性基含有モノマーは、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボン酸；マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の不飽和ジカルボン酸またはその酸無水物；３価以上の不飽和多価カルボン酸またはその酸無水物；こはく酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）、こはく酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）等の２価以上の多価カルボン酸のモノ〔（メタ）アクリロイロキシアルキル〕エステル；ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノメタクリレート等の両末端カルボキシポリマーのモノ（メタ）アクリレート類等を挙げられる。

また、後述するが、紫外線吸収性ポリマーと、ポリオレフィンとを含んで成形用樹脂組成物を作製することができる。その場合、紫外線吸収性ポリマーは、その単量体成分に、一般式（５）及び／又は（６）に表される不飽和単量体を含むことが好ましい。

一般式（５）中、Ｒ_１１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｚは、炭素数が１０以上の炭化水素基を表す。

一般式（６）中、Ｒ_１２は、水素原子又は炭素数１〜８の炭化水素基を表す。

一般式（５）で表される不飽和単量体は、ポリオレフィンとの相溶性を確保する役割を果たす。Ｚが炭素数１０以上の炭化水素基であることで、一般式（５）で表される不飽和単量体に起因して紫外線吸収性紫外線吸収性ポリマーの疎水性が高くなり、疎水性の高いポリオレフィンとの相溶性を確保する。
一般式（５）中、炭素数１０以上の炭化水素基としては、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、ドコシル基、トリコシル基、テトラコシル基等直鎖又は分枝鎖のアルキル基；シクロドデシル基等の脂環式炭化水素基；イソボルニル基、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基、アダマンチル基等の多環式炭化水素基等が挙げられる。これらの中でも、分枝鎖のアルキル基、もしくは脂環式炭化水素基であることが好ましい。

一般式（５）で表される不飽和単量体は、例えば、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、イソステアリル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートを用いることが好ましく、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートが好ましい。

この一般式（６）で表される不飽和単量体も、ポリオレフィンとの相溶性を確保する役割を果たす。

一般式（６）で表される不飽和単量体の具体例は、スチレン、ビニルトルエン等が好ましい。

一般式（５）及び／又は（６）で表される不飽和単量体は、単量体成分中に３０質量％以上９０質量％以下含まれることが好ましい。３０質量％より少ないと、相溶性を確保する効果が少ない傾向にある。

紫外線吸収性ポリマーの合成は、アニオン重合、リビングアニオン重合、カチオン重合、リビングカチオン重合、フリーラジカル重合、及びリビングラジカル重合等が挙げられる。これらの中でもフリーラジカル重合、リビングラジカル重合が好ましい。

フリーラジカル重合は、重合開始剤を使用することが好ましい。重合開始剤は、例えば、アゾ系化合物、過酸化物が好ましい。アゾ系化合物は、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、４，４’−アゾビス（４−シアノバレリック酸）、２，２’−アゾビス（２−ヒドロキシメチルプロピオニトリル）、または２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］等が挙げられる。過酸化物は、例えば、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ（２−エトキシエチル）パーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシビバレート、（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、またはジアセチルパーオキシド等が挙げられる。重合開始剤は、単独または２種類以上を併用して使用できる。反応温度は、４０〜１５０℃が好ましく、５０〜１１０℃がより好ましい。反応時間は、３〜３０時間が好ましく、５〜２０時間がより好ましい。

リビングラジカル重合は、一般的なラジカル重合に起こる副反応が抑制され、更には、重合の成長が均一に起こる為、容易にブロックポリマーや分子量の揃った樹脂を合成できる。

リビングラジカル重合は、有機ハロゲン化物、またはハロゲン化スルホニル化合物を開始剤とし、遷移金属錯体を触媒とする原子移動ラジカル重合法は、広範囲の単量体に適応できる点、既存の設備に適応可能な重合温度を採用できる点で好ましい。原子移動ラジカル重合法は、下記の参考文献１〜８等に記載された方法で行うことができる。
（参考文献１）Ｆuｋuｄaら、Ｐｒｏｇ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．２００４，２９，３２９
（参考文献２）Ｍａｔｙｊａｓｚｅｗｓｋｉら、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００１，１０１，２９２１
（参考文献３）Ｍａｔｙｊａｓｚｅｗｓｋｉら、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９５，１１７，５６１４
（参考文献４）Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ １９９５，２８，７９０１，Ｓｃｉｅｎｃｅ，１９９６，２７２，８６６
（参考文献５）国際公開第９６／０３０４２１号
（参考文献６）国際公開第９７／０１８２４７号
（参考文献７）特開平９−２０８６１６号公報
（参考文献８）特開平８−４１１１７号公報

紫外線吸収性ポリマーの合成には、有機溶剤を用いることが好ましい。有機溶剤は、例えば、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、トルエン、キシレン、アセトン、ヘキサン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、またはジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等が挙げられる。有機溶剤は、単独または２種類以上を併用して使用できる。

紫外線吸収性ポリマーの分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した重量平均分子量が１，０００〜５００，０００であることが好ましく、３，０００〜１５，０００がより好ましい。

紫外線吸収性ポリマーと、ポリオレフィンとを含むことにより、オレフィン系の成形用樹脂組成物を作製することができる。

＜ポリオレフィン＞
ポリオレフィンは、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−１、およびポリ−４−メチルペンテン、ならびにこれらの共重合体が挙げられる。
ポリエチレンは、例えば、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレンが挙げられる。
ポリプロピレンは、例えば、結晶性または非晶性ポリプロピレンが挙げられる。
これらを用いた共重合体は、例えば、エチレン−プロピレンのランダム、ブロックあるいはグラフト共重合体、α−オレフィンとエチレンあるいはプロピレンの共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体およびエチレン−アクリル酸共重合体等が挙げられる。
これらの中でも結晶性または非晶性ポリプロピレン、エチレン−プロピレンのランダム、ブロックあるいはグラフト共重合体が好ましく、プロピレン−エチレンブロック共重合体がより好ましい。また安価で、比重が小さいために成形品を軽量化できる観点からはポリプロピレン系樹脂が好ましい。

ポリオレフィン（Ａ）の数平均分子量は、３０，０００〜５００，０００程度である。

ポリオレフィンのメルトフローレイト（ＭＦＲ）は１〜１００（ｇ／１０分）が好ましい。なお、ＭＦＲはＪＩＳＫ−７２１０に準拠して求めた数値である。

紫外線吸収性ポリマーの含有量は、ポリオレフィン（Ａ）１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部が好ましい。

本明細書の成形用樹脂組成物は、ワックスを含有できる。

ワックスは、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス等が挙げられる。ワックスの融点は、５０〜１８０℃が好ましく、８０〜１７０℃がより好ましい。なお、ワックスの融点は、示差走査熱量計を用いて窒素雰囲気下で測定する。なお、ポリオレフィン（Ａ）は、融点を有さず、軟化点を有する化合物である。

ワックスの数平均分子量は、５００〜２５０００が好ましく、１０００〜１５０００がより好ましい。なお、数平均分子量はＪＩＳ Ｋ２２０７：１９９６（日本工業規格）に準拠して測定した数値である。

ワックスの含有量は、ポリオレフィン１００質量部に対して、０．１〜１０質量部が好ましい。

本明細書の成形用樹脂組成物は、たとえば、紫外線吸収性ポリマーを高濃度で配合したマスターバッチとして製造することが好ましい。マスターバッチは、例えば、紫外線吸収性ポリマーとポリオレフィンを溶融混練し、ペレタイザーを使用してペレット状に製造できる。なお、紫外線吸収性ポリマーの凝集を防ぐため、予め、紫外線吸収性ポリマーとワックスを溶融混練した分散体を作製した後、ポリオレフィンと共に、溶融混錬してマスターバッチを作製することが好ましい。ここで、分散体の作製は、ブレンドミキサーや3本ロールミルを用いることが
好ましい。

紫外線吸収性ポリマーは、成形体が含む相当量を成形時に配合するよりも、一旦、マスターバッチとして成形用樹脂組成物に予備分散した後に、希釈樹脂の熱可塑性樹脂と配合（溶融混錬）して所望の成形体を製造すると、紫外線吸収性ポリマーを成形体内に均一に分散しやすくなる。
成形用樹脂組成物をマスターバッチとして作製する場合、ポリオレフィン１００質量部に対して、紫外線吸収性ポリマーを１〜３０質量部配合することが好ましい。マスターバッチ（Ｘ）と希釈用樹脂（Ｙ）との質量比は、Ｘ／Ｙ＝１／５〜１／１００が好ましい。この範囲にすると成形品は、良好な光特性が得やすい。

希釈用樹脂は、ポリオレフィンに限定されず、ポリオレフィンと相溶性の良い熱可塑性樹脂を適宜選択して使用できる。
溶融混練は、例えば単軸混練押出機、二軸混練押出機、タンデム式二軸混練押出機等を用が好ましい。溶融混錬温度は、ポリオレフィンの種類により異なるが、通常１５０〜２５０℃程度である。

本明細書の成形用樹脂組成物は、ポリオレフィン、紫外線吸収性ポリマー以外に酸化防止剤、光安定剤、分散剤等を含むことができる。

本発明の成形用樹脂組成物は、紫外線吸収性ポリマー、およびポリオレフィン以外の熱可塑性樹脂を含有することができる。
ポリオレフィン以外の熱可塑性樹脂は、例えば、ポリカーボネート、ポリアクリル、ポリエステル、シクロオレフィン樹脂等が挙げられる。

＜ポリカーボネート＞
ポリカーボネートは、２価のフェノールとカーボネート前駆体とを公知の方法で合成した化合物である。２価のフェノールは、例えば、ハイドロキノン、レゾルシノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−ビドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、ビス（４−ビドロキシフェニル）サルファイド等が挙げられる。これらの中でビス（４−ビドロキシフェニル）アルカン系が好ましく、ビスフェノールＡと称される２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンがより好ましい。
カーボネート前駆体は、例えば、ホスゲン、ジフェニルカーボネート、２価のフェノールのジハロホルメート等が挙げられる。この中でもジフェニルカーボネートが好ましい。

２価のフェノール、およびカーボネート前駆体は、それぞれ単独または２種類以上を併用して使用できる。

＜ポリアクリル＞
ポリアクリルは、メタクリル酸メチルおよび／またはメタクリル酸エチル等のモノマーを公知の方法で重合した化合物である。例えば、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体およびエチレン−アクリル酸共重合体等が挙げられる。前記モノマーの他に、例えば、ブタジエン、α−メチルスチレン、無水マレイン酸等のモノマーを加えて重合することもでき、モノマー量と分子量によって耐熱性、流動性、衝撃性を調整することができる。

＜ポリエステル＞
ポリエステルは、分子の主鎖にエステル結合を有する樹脂であり、ジカルボン酸（その誘導体を含む）と、ジオール（２価アルコールまたは２価フェノール）とから合成した重縮合物；、ジカルボン酸（その誘導体を含む）と、環状エーテル化合物とから合成した重縮合物；、環状エーテル化合物の開環重合物等が挙げられる。ポリエステルは、ジカルボン酸とジオールでの重合体によるホモポリマー、複数の原料を使用するコポリマー、これらを混合するポリマーブレンド体が挙げられる。なお、ジカルボン酸の誘導体とは、酸無水物、エステル化物である。ジカルボン酸は、脂肪族および芳香族の２種類のジカルボン酸があるところ、耐熱性が向上する芳香族がより好ましい。

芳香族ジカルボン酸は、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、クロルフタル酸、ニトロフタル酸、ｐ−カルボキシルフェニル酢酸、ｍ−フェニレンジグリゴール酸、ｐ−フェニレンジグリコール酸、ジフェニルジ酢酸、ジフェニル−ｐ，ｐ’−ジカルボン酸、ジフェニル−４，４’−ジ酢酸、ジフェニルメタン−ｐ，ｐ’−ジカルボン酸、ジフェニルエタン−ｍ，ｍ’−ジカルボン酸、スチルベンジルカルボン酸、ジフェニルブタン−ｐ，ｐ’−ジカルボン酸、ベンゾフェノン−４，４’−ジカルボン酸、ナフタリン−１，４−ジカルボン酸、ナフタリン−１，５−ジカルボン酸、ナフタリン−２，６−ジカルボン酸、ナフタリン−２，７−ジカルボン酸、ｐ−カルボキシフェノキシ酢酸、ｐ−カルボキシフェノキシブチル酸、１，２−ジフェノキシプロパン−ｐ，ｐ’−ジカルボン酸、１，５−ジフェノキシペンタン−ｐ，ｐ’−ジカルボン酸、１，６−ジフェノキシヘキサン−ｐ，ｐ’−ジカルボン酸、ｐ−（ｐ−カルボキシフェノキシ）安息香酸、１，２−ビス（２−メトキシフェノキシ）−エタン−ｐ，ｐ’−ジカルボン酸、１，３−ビス（２−メトキシフェノキシ）プロパン−ｐ，ｐ’−ジカルボン酸、１，４−ビス（２−メトキシフェノキシ）ブタン−ｐ，ｐ’−ジカルボン酸、１，５−ビス（２−メトキシフェノキシ）−３−オキシペンタン−ｐ，ｐ’−ジカルボン酸等が挙げられる。
脂肪族ジカルボン酸は、例えば、シュウ酸、コハク酸、アジピン酸、コルク酸、マゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、ウンデカンジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸等が挙げられる。

２価アルコールは、例えば、エチレングリコール、トリメチレングリコール、ブタン−１，３−ジオール、ブタン−１，４−ジオール、２，２−ジメチルプロパン−１，４−ジオール、ｃｉｓ−２−ブテン−１，４−ジオール、テトラメチレングリコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、オクタメチレングリコール、デカメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。これらの中でもエチレングリコール、ブタン−１，４−ジオール、シクロヘキサンジメタノールが好ましい。
２価フェノールは、例えば、ヒドロキノン、レゾルシノール、ビスフェノールＡ等が挙げられる。
環状エーテル化合物は、例えばエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等が挙げられる。

ジカルボン酸や２価アルコールは、それぞれ単独または２種類以上を併用して使用できる。

＜シクロオレフィン樹脂＞
シクロオレフィン樹脂は、エチレン又はα−オレフィンと環状オレフィンとの重合体である。α−オレフィンはＣ４〜Ｃ１２のαオレフィンから誘導されるモノマーであり、例えば、１−ブテン、１−ペンテン、１−へキセン、３−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ペンテン、３−エチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−へキセン、４，４−ジメチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ペンテン、４−エチル−１−へキセン、３−エチル−１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン等が挙げられる。環状オレフィンはノルボルネンから誘導されるモノマーであり、水素基、ハロゲン原子、１価又は２価の炭化水素基の置換物が挙げられる。これらの中でも無置換のノルボルネンが好ましい。

本発明の成形用樹脂組成物は、ポリオレフィン以外の熱可塑性樹脂を使用する場合もポリオレフィンを使用する場合と同様にマスターバッチとすることが好ましい。また、マスターバッチの作製方法、任意成分等も上記同様である。

本発明の成形用樹脂組成物は、例えば、食品包装材、医薬品包装材、ディスプレイ用途に使用することが好ましい。食品包装材や医薬品包装材は、熱可塑性樹脂に、例えば、ポリエステル等を使用することが好ましい。これら成形体は、柔軟性および視認性が向上し、内容物の劣化を抑制できる。また、ディスプレイ用途（例えば、テレビ、パソコン、スマホ等）は、熱可塑性樹脂に、例えば、ポリアクリルやポリカーボネート等を使用することが好ましい。これら成形体は、バックライトに含まれる紫外線や可視光の短波長領域の光を吸収することで、目への悪影響を抑制することができ、また、太陽光に含まれる紫外線や可視光の短波長領域の光を吸収することで、ディスプレイの表示素子の劣化を抑制することができ、さらにマイグレーションによる透明性低下を抑制することができる。さらに、ディスプレイ用材料、センサー用材料、光学制御材料などの用途でも幅広く使用できる。

本明細書の成形体は、成形用組成物を成形して作製する。
成形方法は、例えば、押出成形、射出成形、ブロー成形などが挙げられる。押出成形は、例えばコンプレッション成形、パイプ押出成形、ラミネート成形、Ｔダイ成形、インフレーション成形、溶融紡糸等が挙げられる。

成形温度は、希釈樹脂の軟化点によるところ、通常１６０〜２４０℃である。

なお本発明で成型体は型に樹脂を投入し物品を得るものである。また成形体は、プラスチックフィルムなど型を使用せずに得た物品と成型体を含むものである。

本明細書の成形品は、例えば、医療用薬剤、化粧品、食品用容器および包装材、雑貨、繊維製品、医薬品用容器、各種産業用被覆材、自動車用部品、家電製品、住宅等の建材、トイレタリー用品などの用途で幅広く使用できる。

本発明の紫外線吸収性ポリマーは、粘着剤用途に使用できる。
本明細書の粘着剤は、紫外線吸収性ポリマーおよび硬化剤を含有することが好ましい。
紫外線吸収性ポリマーは、紫外線吸収性不飽和単量体、（メタ）アクリル酸エステル、ならびに酸性基含有モノマーおよび／または水酸基含有モノマー等をラジカル重合で合成するガラス転移温度−６０〜−２０℃のポリマーである。なお、ガラス転移温度は、ＦＯＸの式で求める。
水酸基含有モノマーは、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

硬化剤は、例えば、イソシアネート硬化剤、エポキシ硬化剤、アジリジン硬化剤、金属キレート硬化剤等が挙げられる。

粘着剤は、例えば、剥離シート上に塗工し、乾燥することで粘着剤層を形成し、粘着剤層上に基材を貼り合わせて粘着シートを作製できる。

本明細書の粘着シートは、ディスプレイ用途（例えば、テレビ、パソコン、スマホ等）で、ディスプレイに貼り合わせる使用することが好ましい。
粘着シートは、本発明の紫外線吸収材料を含むことで、バックライトに含まれる紫外線や可視光の短波長領域の光を吸収し、目への悪影響を抑制することができる。また、太陽光に含まれる紫外線や可視光の短波長領域の光を吸収することで、ディスプレイの表示素子の劣化を抑制することができ、さらにマイグレーションによる透明性低下を抑制することができる。

以下、本発明をさらに詳しく説明する。本発明は実施例に限定されるものではない。なお、「質量部」は「部」、「質量％」は「％」と記載する。

実施例で使用したポリオレフィン（数平均分子量３０，０００以上）を以下に示す。
（Ｃ−１）ポリエチレン（サンテックＬＤ Ｍ２２７０、ＭＦＲ＝７ｇ／１０ｍｉｎ、旭化成ケミカルズ社製）
（Ｃ−２）ポリエチレン（ノバテックＵＪ７９０、ＭＦＲ＝５０ｇ／１０ｍｉｎ、日本ポリエチレン社製）
（Ｃ−３）ポリプロピレン（ノバテックＰＰ ＦＡ３ＥＢ、ＭＦＲ＝１０．５ｇ／１０ｍｉｎ、日本ポリプロ社製）
（Ｃ−４）ポリプロピレン（プライムポリプロＪ２２６Ｔ、ＭＦＲ＝２０ｇ／１０ｍｉｎ、プライムポリマー社製）

また実施例で使用したワックスを以下に示す。
（Ｄ−１）ポリエチレンワックス（サンワックス１３１−Ｐ 数平均分子量３５００、融点１０５℃、三洋化成工業社製）
（Ｄ−２）ポリエチレンワックス（ハイワックス４０５ＭＰ 数平均分子量４５００、融点１２０℃、三井化学社製）
（Ｄ−３）ポリプロピレンワックス（ハイワックスＮＰ０５６ 数平均分子量７２００、融点１３０℃、三井化学社製）

さらに、実施例で使用したポリオレフィン以外の熱可塑性樹脂を以下に示す。
（Ｅ−１）ポリカーボネート（ユーピロンＳ３０００、ＭＦＲ＝１５ｇ／１０ｍｉｎ、三菱エンジニアリングプラスチックス社製）
（Ｅ−２）ポリメタクリル樹脂（アクリペットＭＦ、ＭＦＲ＝１４ｇ／１０ｍｉｎ、三菱レイヨン社製）
（Ｅ−３）ポリエステル（三井ペットＳＡ１３５、三井化学社製）
（Ｅ−４）シクロオレフィン樹脂（ＴＯＰＡＳ５０１３Ｌ−１０、三井化学社製）

［紫外線吸収性不飽和単量体の製造例］
（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１））

上記の中間体１について、塩化シアヌルと３−ブトキシフェノールを原料とし、特開平１１−７１３５６や特表２０１８−５０４４７９などの実施例の合成法に準じて合成を行った。
続いて、温度計、攪拌機を具備した２００ｍＬ４つ口フラスコに、テトラヒドロフランを１００ｇ、先の中間体１を２８．６ｍｍｏｌ仕込み、室温で撹拌した。その後、アクリロイルクロリドを６２．９ｍｍｏｌ、少しずつ滴下した。その後、トリエチルアミンを８５．７ｍｍｏｌ、少しずつ滴下し、室温で１時間撹拌した。一方、５００ｍＬビーカーに水を３００ｇ仕込み、先の反応液を少しずつ滴下し、加熱撹拌して紫外線吸収性不飽和単量体が析出するまでテトラヒドロフランを揮発させ、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを水３００ｇ中に戻して室温で３０分リスラリーを行い、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。４０℃で減圧乾燥を行い、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−２））
紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１）の製造において、アクリロイルクロリドの代わりにメタクリロイルクロリドを滴下した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−２）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−３））
紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１）の製造における中間体１を用いて、以下の反応を行った。温度計、攪拌機を具備した２００ｍＬ４つ口フラスコに、Ｎ−メチルピロリドンを１００ｇ、先の中間体１を２８．６ｍｍｏｌ、メチルヒドロキノンを０．０１ｍｍｏｌ仕込み、エアーをバブリングしながら１２０℃で撹拌した。その後、グリシジルメタクリレートを６２．９ｍｍｏｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンを０．６ｍｍｏｌ添加し、１２０℃で８時間撹拌した。一方、５００ｍＬビーカーに水を３００ｇ仕込み、先の反応液を少しずつ滴下し、紫外線吸収性不飽和単量体が析出させ、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを水３００ｇ中に戻して室温で３０分リスラリーを行い、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。４０℃で減圧乾燥を行い、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−３）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−４））

上記の中間体２について、塩化シアヌルと２−メチルレソルシノールと１−ブロモヘキサンを原料とし、特開平１１−７１３５６や特表２０１８−５０４４７９などの実施例の合成法に準じて合成を行った。
続いて、温度計、攪拌機を具備した２００ｍＬ４つ口フラスコに、テトラヒドロフランを１００ｇ、中間体２を２８．６ｍｍｏｌ仕込み、室温で撹拌した。その後、アクリロイルクロリドを６２．９ｍｍｏｌ、少しずつ滴下した。その後、トリエチルアミンを８５．７ｍｍｏｌ、少しずつ滴下し、室温で１時間撹拌した。一方、５００ｍＬビーカーに水を３００ｇ仕込み、先の反応液を少しずつ滴下し、加熱撹拌して紫外線吸収性不飽和単量体が析出するまでテトラヒドロフランを揮発させ、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを水３００ｇ中に戻して室温で３０分リスラリーを行い、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。４０℃で減圧乾燥を行い、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−４）を得た。

紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−４）のＮＭＲ測定を行った結果、上記構造を支持する結果が得られた。測定条件は次のとおりである。
＜測定条件＞
装置：ＢＲＵＫＥＲ ＡＶＡＮＣＥ４００
共振周波数：４００ＭＨｚ（１Ｈ−ＮＭＲ）
溶媒：テトラヒドロフラン−ｄ_８
１Ｈ−ＮＭＲの内部標準物質として、テトラメチルシランを用い、ケミカルシフト値はδ値（ｐｐｍ）、カップリング定数はＨｅｒｔｚで示した。またｓはｓｉｎｇｌｅｔ、ｄはｄｏｕｂｌｅｔ、ｄｄはｄｏｕｂｌｅｄｏｕｂｌｅｔ、ｔはｔｒｉｐｌｅｔ、ｍはｍｕｌｔｉｐｌｅｔの略とする。得られたＮＭＲスペクトルの内容は以下のとおりである。
δ＝１３．３９（ｓ，２Ｈ，−ＯＨ），８．３４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，ｐｈｅｎｙｌ−Ｈ），８．１１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，ｐｈｅｎｙｌ−Ｈ），７．１１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，ｐｈｅｎｙｌ−Ｈ），６．６７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，ｐｈｅｎｙｌ−Ｈ），６．５２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，−ＣＨ＝ＣＨＨ），６．５２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，−ＣＨ＝ＣＨＨ），５．９４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，−ＣＨ＝ＣＨＨ），４．１９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−），４．１３（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−），２．１９（ｓ，６Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ−ＣＨ_３），２．１６（ｓ，３Ｈ，ｐｈｅｎｙｌ−ＣＨ_３），１．８４−１．９４（ｍ，６Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−），１．５４−１．６２（ｍ，６Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−），１．３８−１．４７（ｍ，１２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_３），０．９５−１．００（ｍ，９Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_３）

上記の通り、本明細書では、ＮＭＲによる紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−４）の構造同定を例に説明した。他の紫外線吸収性不飽和単量体も紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−４）と同様にＮＭＲで構造同定を行ったがデータは省略する。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−５））
紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−４）の製造において、アクリロイルクロリドの代わりにメタクリロイルクロリドを滴下した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−５）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−６））
温度計、攪拌機を具備した２００ｍＬ４つ口フラスコに、Ｎ−メチルピロリドンを１００ｇ、中間体２を２８．６ｍｍｏｌ、メチルヒドロキノンを０．０１ｍｍｏｌ仕込み、エアーをバブリングしながら１２０℃で撹拌した。その後、グリシジルメタクリレートを６２．９ｍｍｏｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンを０．６ｍｍｏｌ添加し、１２０℃で８時間撹拌した。一方、５００ｍＬビーカーに水を３００ｇ仕込み、先の反応液を少しずつ滴下し、紫外線吸収性不飽和単量体が析出させ、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを水３００ｇ中に戻して室温で３０分リスラリーを行い、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。４０℃で減圧乾燥を行い、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−６）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−７））

上記の中間体３について、塩化シアヌルとレソルシノールと２−ブロモプロピオン酸と１−オクタノールを原料とし、ＷＯ２００１／０４７９００などの実施例の合成法に準じて合成を行った。
続いて、温度計、攪拌機を具備した２００ｍＬ４つ口フラスコに、テトラヒドロフランを１００ｇ、中間体３を２８．６ｍｍｏｌ仕込み、室温で撹拌した。その後、アクリロイルクロリドを６２．９ｍｍｏｌ、少しずつ滴下した。その後、トリエチルアミンを８５．７ｍｍｏｌ、少しずつ滴下し、室温で１時間撹拌した。一方、５００ｍＬビーカーに水を３００ｇ仕込み、先の反応液を少しずつ滴下し、加熱撹拌して紫外線吸収性不飽和単量体が析出するまでテトラヒドロフランを揮発させ、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを水３００ｇ中に戻して室温で３０分リスラリーを行い、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。４０℃で減圧乾燥を行い、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−７）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−８））
紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−７）の製造において、アクリロイルクロリドの代わりにメタクリロイルクロリドを滴下した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−８）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−９））
温度計、攪拌機を具備した２００ｍＬ４つ口フラスコに、Ｎ−メチルピロリドンを１００ｇ、中間体３を２８．６ｍｍｏｌ、メチルヒドロキノンを０．０１ｍｍｏｌ仕込み、エアーをバブリングしながら１２０℃で撹拌した。その後、グリシジルメタクリレートを６２．９ｍｍｏｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンを０．６ｍｍｏｌ添加し、１２０℃で８時間撹拌した。一方、５００ｍＬビーカーに水を３００ｇ仕込み、先の反応液を少しずつ滴下し、紫外線吸収性不飽和単量体が析出させ、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを水３００ｇ中に戻して室温で３０分リスラリーを行い、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。４０℃で減圧乾燥を行い、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−９）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１０））

上記の中間体４について、塩化シアヌルとレソルシノールと１−ブロモブタンを原料とし、特開平１１−７１３５６や特表２０１８−５０４４７９などの実施例の合成法に準じて合成を行った。
続いて、温度計、攪拌機を具備した２００ｍＬ４つ口フラスコに、テトラヒドロフランを１００ｇ、中間体４を２８．６ｍｍｏｌ仕込み、室温で撹拌した。その後、アクリロイルクロリドを６２．９ｍｍｏｌ、少しずつ滴下した。その後、トリエチルアミンを８５．７ｍｍｏｌ、少しずつ滴下し、室温で１時間撹拌した。一方、５００ｍＬビーカーに水を３００ｇ仕込み、先の反応液を少しずつ滴下し、加熱撹拌して紫外線吸収性不飽和単量体が析出するまでテトラヒドロフランを揮発させ、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを水３００ｇ中に戻して室温で３０分リスラリーを行い、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。４０℃で減圧乾燥を行い、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１０）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１１））
紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１０）の製造において、アクリロイルクロリドの代わりにメタクリロイルクロリドを滴下した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１１）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１２））
温度計、攪拌機を具備した２００ｍＬ４つ口フラスコに、Ｎ−メチルピロリドンを１００ｇ、中間体４を２８．６ｍｍｏｌ、メチルヒドロキノンを０．０１ｍｍｏｌ仕込み、エアーをバブリングしながら１２０℃で撹拌した。その後、グリシジルメタクリレートを６２．９ｍｍｏｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンを０．６ｍｍｏｌ添加し、１２０℃で８時間撹拌した。一方、５００ｍＬビーカーに水を３００ｇ仕込み、先の反応液を少しずつ滴下し、紫外線吸収性不飽和単量体が析出させ、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを水３００ｇ中に戻して室温で３０分リスラリーを行い、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。４０℃で減圧乾燥を行い、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１２）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１３））

上記の中間体５について、塩化シアヌルと２−メチルレソルシノールと１−ブロモブタンを原料とし、特開平１１−７１３５６や特表２０１８−５０４４７９などの実施例の合成法に準じて合成を行った。
続いて、温度計、攪拌機を具備した２００ｍＬ４つ口フラスコに、テトラヒドロフランを１００ｇ、先の中間体２を２８．６ｍｍｏｌ仕込み、室温で撹拌した。その後、アクリロイルクロリドを６２．９ｍｍｏｌ、少しずつ滴下した。その後、トリエチルアミンを８５．７ｍｍｏｌ、少しずつ滴下し、室温で１時間撹拌した。一方、５００ｍＬビーカーに水を３００ｇ仕込み、先の反応液を少しずつ滴下し、加熱撹拌して紫外線吸収性不飽和単量体が析出するまでテトラヒドロフランを揮発させ、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを水３００ｇ中に戻して室温で３０分リスラリーを行い、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。４０℃で減圧乾燥を行い、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１３）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１４））
紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１３）の製造において、アクリロイルクロリドの代わりにメタクリロイルクロリドを滴下した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１４）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１５））
紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１３）の製造における中間体５を用いて、以下の反応を行った。温度計、攪拌機を具備した２００ｍＬ４つ口フラスコに、Ｎ−メチルピロリドンを１００ｇ、中間体２を２８．６ｍｍｏｌ、メチルヒドロキノンを０．０１ｍｍｏｌ仕込み、エアーをバブリングしながら１２０℃で撹拌した。その後、グリシジルメタクリレートを６２．９ｍｍｏｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンを０．６ｍｍｏｌ添加し、１２０℃で８時間撹拌した。一方、５００ｍＬビーカーに水を３００ｇ仕込み、先の反応液を少しずつ滴下し、紫外線吸収性不飽和単量体が析出させ、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを水３００ｇ中に戻して室温で３０分リスラリーを行い、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。４０℃で減圧乾燥を行い、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１５）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１６））

上記の中間体６について、塩化シアヌルとレソルシノールと２−ブロモプロピオン酸と１−オクタノールを原料とし、ＷＯ２００１／０４７９００などの実施例の合成法に準じて合成を行った。
続いて、温度計、攪拌機を具備した２００ｍＬ４つ口フラスコに、テトラヒドロフランを１００ｇ、先の中間体３を２８．６ｍｍｏｌ仕込み、室温で撹拌した。その後、アクリロイルクロリドを６２．９ｍｍｏｌ、少しずつ滴下した。その後、トリエチルアミンを８５．７ｍｍｏｌ、少しずつ滴下し、室温で１時間撹拌した。一方、５００ｍＬビーカーに水を３００ｇ仕込み、先の反応液を少しずつ滴下し、加熱撹拌して紫外線吸収性不飽和単量体が析出するまでテトラヒドロフランを揮発させ、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを水３００ｇ中に戻して室温で３０分リスラリーを行い、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。４０℃で減圧乾燥を行い、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１６）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１７））
紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１６）の製造において、アクリロイルクロリドの代わりにメタクリロイルクロリドを滴下した以外は同様な方法で製造し、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１７）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１８））
紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１６）の製造における中間体３を用いて、以下の反応を行った。温度計、攪拌機を具備した２００ｍＬ４つ口フラスコに、Ｎ−メチルピロリドンを１００ｇ、中間体６を２８．６ｍｍｏｌ、メチルヒドロキノンを０．０１ｍｍｏｌ仕込み、エアーをバブリングしながら１２０℃で撹拌した。その後、グリシジルメタクリレートを６２．９ｍｍｏｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンを０．６ｍｍｏｌ添加し、１２０℃で８時間撹拌した。一方、５００ｍＬビーカーに水を３００ｇ仕込み、先の反応液を少しずつ滴下し、紫外線吸収性不飽和単量体が析出させ、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを水３００ｇ中に戻して室温で３０分リスラリーを行い、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。４０℃で減圧乾燥を行い、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１８）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１９））

上記の中間体７について、塩化シアヌルと３−ペンタデシルフェノールを原料とし、特開平１１−７１３５６や特表２０１８−５０４４７９などの実施例の合成法に準じて合成を行った。
続いて、温度計、攪拌機を具備した２００ｍＬ４つ口フラスコに、テトラヒドロフランを１００ｇ、先の中間体７を２８．６ｍｍｏｌ仕込み、室温で撹拌した。その後、アクリロイルクロリドを６２．９ｍｍｏｌ、少しずつ滴下した。その後、トリエチルアミンを８５．７ｍｍｏｌ、少しずつ滴下し、室温で１時間撹拌した。一方、５００ｍＬビーカーに水を３００ｇ仕込み、先の反応液を少しずつ滴下し、加熱撹拌して紫外線吸収性不飽和単量体が析出するまでテトラヒドロフランを揮発させ、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを水３００ｇ中に戻して室温で３０分リスラリーを行い、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。４０℃で減圧乾燥を行い、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１９）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−２０））

上記の中間体８について、塩化シアヌルと３−フェニルフェノールを原料とし、特開平１１−７１３５６や特表２０１８−５０４４７９などの実施例の合成法に準じて合成を行った。
続いて、温度計、攪拌機を具備した２００ｍＬ４つ口フラスコに、テトラヒドロフランを１００ｇ、先の中間体８を２８．６ｍｍｏｌ仕込み、室温で撹拌した。その後、アクリロイルクロリドを６２．９ｍｍｏｌ、少しずつ滴下した。その後、トリエチルアミンを８５．７ｍｍｏｌ、少しずつ滴下し、室温で１時間撹拌した。一方、５００ｍＬビーカーに水を３００ｇ仕込み、先の反応液を少しずつ滴下し、加熱撹拌して紫外線吸収性不飽和単量体が析出するまでテトラヒドロフランを揮発させ、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを水３００ｇ中に戻して室温で３０分リスラリーを行い、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。４０℃で減圧乾燥を行い、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−２０）を得た。

（紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−２１））

上記の中間体９について、塩化シアヌルと３−シクロヘキシル−フェノールを原料とし、特開平１１−７１３５６や特表２０１８−５０４４７９などの実施例の合成法に準じて合成を行った。
続いて、温度計、攪拌機を具備した２００ｍＬ４つ口フラスコに、テトラヒドロフランを１００ｇ、先の中間体９を２８．６ｍｍｏｌ仕込み、室温で撹拌した。その後、アクリロイルクロリドを６２．９ｍｍｏｌ、少しずつ滴下した。その後、トリエチルアミンを８５．７ｍｍｏｌ、少しずつ滴下し、室温で１時間撹拌した。一方、５００ｍＬビーカーに水を３００ｇ仕込み、先の反応液を少しずつ滴下し、加熱撹拌して紫外線吸収性不飽和単量体が析出するまでテトラヒドロフランを揮発させ、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。得られたウエットケーキを水３００ｇ中に戻して室温で３０分リスラリーを行い、ろ過した。その後、水３００ｇでふりかけ洗浄を行った。４０℃で減圧乾燥を行い、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−２１）を得た。

［紫外線吸収性ポリマーの製造例］
（紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−１））
温度計、攪拌機、蒸留管、冷却器を具備した４つ口セパラブルフラスコに、メチルエチルケトン７５．０部を仕込み窒素気流下で７５℃に昇温した。別途、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１）を１０部、ジシクロペンタニルメタクリレートを４５部、スチレンを４５部、２．２’−アゾビス（イソ酪酸メチル）を５．０部、およびメチルエチルケトン２０．０部を均一にした後、滴下ロートに仕込み、４つ口セパラブルフラスコに取り付け、２時間かけて滴下した。滴下終了２時間後、固形分から重合収率が９８％以上である事を確
認し、５０℃へ冷却した。このようにして不揮発分が５０質量％の紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−１）を得た。

（紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−２）〜（Ｂ−３２））
表１に示すように、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−１）と同様にして、（Ｂ−２）〜（Ｂ−３２）を製造した。
なお、以下の不飽和単量体も用いた。

アデカスタブＬＡ−８２（ＡＤＥＫＡ製）

＜紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−３３）＞
温度計、攪拌機、滴下ロート、冷却器を具備した４つ口セパラブルフラスコに、メチルエチルケトン９．０部、を仕込み窒素気流下で４−シアノ−４−［（ドデシルスルファニルチオカルボニル）スルファニル］ペンタン酸メチルを１．０部、一般式（Ａ−１）で示す単量体を１０．０部、を仕込み窒素気流下で７５℃に昇温した。そこに２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を０．１２部およびメチルエチルケトン５．０部を８時間かけて滴下し、Ａブロックを合成した。その後、ジシクロペンタニルメタクリレートを４５．０部、スチレンを４５．０部、メチルエチルケトン７７．５部を仕込み、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を０．１２部およびメチルエチルケトン１０．０部を８時間かけて滴下し、Ｂブロックを合成した。滴下終了後、２４時間反応を継続した。その後、サンプリングを行い重合収率が９９％以上である事を確認し、５０℃へ冷却した。このようにして不揮発分が５０質量％の紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−３３）を得た。

＜紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−３４）＞
温度計、攪拌機、滴下ロート、冷却器を具備した４つ口セパラブルフラスコに、メチルエチルケトン２１．６部、ビス（ドデシルスルファニルチオカルボニル）ジスルフィドを３．５部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を１．９部仕込み窒素気流下で７０℃に昇温し、２時間反応させた。そこに一般式（Ａ−１）で示す単量体を５０．０部仕込み窒素気流下で７５℃に昇温した。そこに２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を０．３１部およびメチルエチルケトン１０．０部を８時間かけて滴下し、Ａブロックを合成した。その後、ジシクロペンタニルメタクリレートを２５．０部、スチレンを２５．０部、メチルエチルケトン１２．５部を仕込み、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を０．３１部およびメチルエチルケトン１０．０部を８時間かけて滴下し、Ｂブロックを合成した。滴下終了後、２４時間反応を継続した。その後、サンプリングを行い重合収率が９９％以上である事を確認し、５０℃へ冷却した。このようにして不揮発分が５０質量％の紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−３４）を得た。

＜紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−３５）＞
表１に示すように、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−３４）と同様にして、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−３５）を作製した。なお、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−３３）〜（Ｂ−３５）は。ブロックポリマーである。

（実施例１）
〔マスターバッチの製造〕
ワックス（Ｄ‐１）１００質量部、および紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−１）１００質量部を混合し、３本ロールミルを使用して１６０℃で混練を行い紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−１）の分散体を得た。次いで、ポリオレフィン（Ｃ−１）１００質量部と共に得られた上記分散体１０質量部をヘンシェルミキサーで混合した。次いで、スクリュー径３０ｍｍの単軸押出機にて１８０℃で溶融混練した後、ペレタイザーを用いてペレット状にカッティングしてマスターバッチを得た。

［フィルム成形］
希釈樹脂としてポリオレフィン（Ｃ−１）１００質量部に対して、得られたマスターバッチ１０質量部を混合した。次いで、Ｔ−ダイ成形機（東洋精機製）を用いて、温度１８０℃で溶融混合し成形を行い厚さ２５０μｍのフィルムを得た。

（実施例２〜４０、比較例１）
実施例１の材料を表２に示す材料および配合量に変更した以外は、実施例１と同様にして、マスターバッチを製造し、次いで実施例２〜４０、比較例１のフィルム及びボトルをそれぞれ製造した。なお、比較例では、実施例１の紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−１）の代わりに、紫外線吸収性不飽和単量体（Ａ−１）を合成する際に用いた中間体１を用いた。

［フィルム成形］
希釈樹脂としてポリオレフィン（Ｃ−１）１００質量部に対して、得られたマスターバッチ１０質量部を混合した。次いで、Ｔ−ダイ成形機（東洋精機製）を用いて、温度１８０℃で溶融混合し成形を行い厚さ２５０μｍのフィルムを得た。

（実施例４１）
（マスターバッチの製造）
紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−１）を真空乾燥機で５０℃１２時間乾燥し、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−１）乾燥品を得た。
ポリオレフィン（Ｃ−１）１００部と紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−１）乾燥品２０部とを同じ供給口からスクリュー径３０ｍｍの二軸押出機（日本製鋼所社製）に投入し、２８０℃で溶融混錬した上で、ペレタイザーを用いてペレット状にカッティングして成形用樹脂組成物（マスターバッチ）を作製した。
（フィルム成形）
希釈樹脂のポリオレフィン（Ｃ−１）１００部に対して、得られた成形用樹脂組成物１０部を混合し、Ｔ−ダイ成形機（東洋精機製）を用いて、温度２３０℃で溶融混合し、厚さ２５０μｍのフィルムを成形した。

（実施例４２）
（マスターバッチの製造）
ポリカーボネート（Ｅ−１）１００部と紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−１）乾燥品２０部とを同じ供給口からスクリュー径３０ｍｍの二軸押出機（日本製鋼所社製）に投入し、２８０℃で溶融混錬した上で、ペレタイザーを用いてペレット状にカッティングして成形用樹脂組成物（マスターバッチ）を作製した。

［フィルム成形］
希釈樹脂のポリカーボネート（Ｅ−１）１００部に対して、得られた成形用樹脂組成物１０部を混合し、Ｔ−ダイ成形機（東洋精機製）を用いて、温度２８０℃で溶融混合し、厚さ２５０μｍのフィルムを成形した。

（実施例４３〜４７、比較例２）
実施例４２の材料を表３に示す材料および配合量に変更した以外は、実施例４２と同様にして、マスターバッチを製造し、次いで実施例４３〜４７、比較例２のフィルム及びボトルをそれぞれ製造した。
なお、表３に示す紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−２）〜（Ｂ−４）、（Ｂ−２７）、（Ｂ−３３）の乾燥品は、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−１）乾燥品と同様に、真空乾燥機で５０℃１２時間乾燥して得た。

（実施例４８）
（マスターバッチの製造）
ポリメタクリル樹脂（Ｅ−２）１００部と紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−１）乾燥品２０部とを同じ供給口からスクリュー径３０ｍｍの二軸押出機（日本製鋼所社製）に投入し、２４０℃で溶融混錬した上で、ペレタイザーを用いてペレット状にカッティングして成形用樹脂組成物（マスターバッチ）を作製した。

［フィルム成形］
希釈樹脂のメタクリル樹脂（Ｅ−２）１００部に対して、得られた成形用樹脂組成物１０部を混合し、Ｔ−ダイ成形機（東洋精機製）を用いて、温度２８０℃で溶融混合し、厚さ２５０μｍのＴ−ダイフィルムを成形した。

（実施例４９〜５３、比較例３）
実施例４８の材料を表３に示す材料および配合量に変更した以外は、実施例４６と同様にして、マスターバッチを製造し、次いで実施例４９〜５３、比較例３のフィルム及びボトルをそれぞれ製造した。

（実施例５４）
（マスターバッチの製造）
ポリエステル（Ｅ−３）１００部と紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−１）乾燥品２０部とを同じ供給口からスクリュー径３０ｍｍの二軸押出機（日本製鋼所社製）に投入し、２８０℃で溶融混錬した上で、ペレタイザーを用いてペレット状にカッティングして成形用樹脂組成物（マスターバッチ）を作製した。

（フィルム成形）
希釈樹脂のポリカーボネート（Ｅ−３）１００部に対して、得られた成形用樹脂組成物１０部を混合し、Ｔ−ダイ成形機（東洋精機製）を用いて、温度２８０℃で溶融混合し、厚さ２５０μｍのフィルムを成形した。

（実施例５５〜５９、比較例４）
実施例５４の材料を表３に示す材料および配合量に変更した以外は、実施例５２と同様にして、マスターバッチを製造し、次いで実施例５５〜５９、比較例４のフィルム及びボトルをそれぞれ製造した。

（実施例６０）
（マスターバッチの製造）
シクロオレフィン樹脂（Ｅ−４）１００部と紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−１）乾燥品２０部とを同じ供給口からスクリュー径３０ｍｍの二軸押出機（日本製鋼所社製）に投入し、２４０℃で溶融混錬した上で、ペレタイザーを用いてペレット状にカッティングして成形用樹脂組成物（マスターバッチ）を作製した。

（フィルム成形）
希釈樹脂のシクロオレフィン樹脂（Ｅ−４）１００部に対して、得られた成形用樹脂組成物１０部を混合し、Ｔ−ダイ成形機（東洋精機製）を用いて、温度２８０℃で溶融混合し、厚さ２５０μｍのＴ−ダイフィルムを成形した。

（実施例６１〜６５、比較例５）
実施例６０の材料を表３に示す材料および配合量に変更した以外は、実施例６０と同様にして、マスターバッチを製造し、次いで実施例６１〜６５、比較例５のフィルム及びボトルをそれぞれ製造した。

［紫外線吸収性］
得られたフィルムの透過率を、紫外可視近赤外分光光度計（島津製作所社製）を用いて測定した。透過率は白色標準板に対しての分光透過率を測定した。
以下の条件を満たすか否かを評価した。なお、以下、３つの光学特性を満たすと紫外線および短波長側の可視光を大きく遮断しつつ、前記波長の長波長側の可視光を透過できる。
〇：波長２８０〜３８０ｎｍの光透過率が全領域にわたって２％以下：良好
△：波長２８０〜３８０ｎｍの光透過率が一部２％以上：実用域
×：波長２８０〜３８０ｎｍの光透過率が全領域にわたって２％以上：実用不可

［透明性］
得られたフィルムの透過性を目視評価した。なお評価基準は以下のりである。
◎：濁りが全く認められない。非常に良好
〇：濁りがほとんど認められない。良好
△：濁りが若干認められる。実用域
×：明らかに濁りが認められる。実用不可

［経時品質］
得られたフィルムをキセノンウェザーメーターで、３００〜４００ｎｍが６０Ｗ／ｍ^２の照度で１５００時間暴露した。
〇：黄変が全く認められない。良好
△：黄変がわずかに認められる。実用域
×：明らかに黄変が認められる。実用不可

［マイグレーション評価］
得られたフィルムを２枚の軟質塩化ビニルシートで挟み、熱プレス機を使用して圧力１００ｇ／ｃｍ^２・温度１７０℃３０秒間の条件で加熱圧着した。次いで、直ちにフィルムを外して軟質塩化ビニルシートへのマイグレーションを紫外可視近赤外分光光度計（島津製作所社製）を用いて評価した。評価は、上記の処理を行った軟質塩化ビニルシート上の場所５点を選び、紫外領域の吸光度を測定し、その平均を算出することで行った。
○：２８０〜３８０ｎｍにおける吸光度が検出されない（０．０５未満）。良好
△：２８０〜３８０ｎｍにおける吸光度が０．０５以上０．２未満。実用域
×：２８０〜３８０ｎｍにおける吸光度が０．２以上。実用不可

（粘着性樹脂の製造例Ｆ−１）
攪拌機、還流冷却機、窒素導入管、温度計、滴下管を備えた反応装置を使用して、窒素雰囲気下にてｎ−ブチルアクリレート９６．０部と、２−ヒドロキシルエチルアクリレート４．０部の合計量のうちの５０％、及び重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチルニトリルを０．２部、溶剤として酢酸エチルを１５０部反応槽に仕込み、前記合計量の残りの５０％と適量の酢酸エチルを滴下槽に仕込んだ。次いで、加熱を開始して反応槽内での反応開始を確認してから、還流下、滴下管の内容物、及び０．０１部の２，２’−アゾビスイソブチルニトリルの酢酸エチル希釈液を滴下した。滴下終了後、還流状態を維持したまま５時間反応を行った。反応終了後、冷却し、適量の酢酸エチルを添加することで、アクリル系樹脂である粘着性樹脂の製造例Ｆ−１を得た。得られた製造例Ｅ−１の粘着剤樹脂の重量平均分子量は５０万、不揮発分は４０％、粘度は３，２００ｍＰａ・ｓであった。

（粘着性樹脂の製造例Ｆ−２）
攪拌機、還流冷却機、窒素導入管、温度計、滴下管を備えた反応装置を使用して、窒素雰囲気下にてｎ−ブチルアクリレート９６．０部と、アクリル酸４．０部の合計量のうちの５０％、及び重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチルニトリルを０．２部、溶剤として酢酸エチルを１５０部反応槽に仕込み、前記合計量の残りの５０％と適量の酢酸エチルを滴下槽に仕込んだ。次いで、加熱を開始して反応槽内での反応開始を確認してから、還流下、滴下管の内容物、及び０．０１部の２，２’−アゾビスイソブチルニトリルの酢酸エチル希釈液を滴下した。滴下終了後、還流状態を維持したまま５時間反応を行った。反応終了後、冷却し、適量の酢酸エチルを添加することで、アクリル系樹脂である粘着性樹脂の製造例Ｅ−２を得た。得られた製造例Ｆ−２の粘着剤樹脂の重量平均分子量は６０万、不揮発分は４０％、粘度は４，０００ｍＰａ・ｓであった。

（実施例６６）
粘着性樹脂として、製造例Ｆ−１の粘着性樹脂の不揮発分１００部に対して、紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−２７）２部を混合し、シランカップリング剤としてＫＢＭ−４０３（信越化学工業製）を０．１部、硬化剤（Ｄ）としてトリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体（略号：ＴＤＩ−ＴＭＰ、ＮＣＯ価＝１３．２、不揮発分＝７５％）を０．４部加え、よく攪拌し粘着剤を得た。その後、この粘着剤を厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレート基材の剥離フィルム上に、乾燥後の厚みが５０μｍになるように塗布し、１００℃の熱風オーブンで２分間乾燥させた。そして、粘着剤層側に２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを貼り合せ、この状態で室温にて７日間エージングさせ、粘着シートを得た。

（実施例６７〜７０、比較例６）
表４に示すように、実施例６６と同様に調整して、それぞれ実施例６７〜７０、比較例６の粘着シートを得た。

（粘着シートの評価）
（１）粘着力
得られた粘着シートを幅２５ｍｍ・縦１５０ｍｍの大きさに準備した。２３℃、相対湿度５０％雰囲気下、前記粘着シートから剥離性フィルムを剥がして露出した粘着剤層をガラス板に貼り付け、２ｋｇロールで１往復圧着した。２４時間放置した後に引張試験機を用いて１８０度方向に３００ｍｍ／分の速度で引き剥がす１８０°ピール試験において粘着力を測定し、下記の評価基準に基づいて評価を行った。（ＪＩＳ Ｚ０２３７：２０００に準拠）
◎：「粘着力が１５Ｎ以上であり、非常に良好。」
○：「粘着力が１０Ｎ以上１５Ｎ未満であり、良好。」
×：「粘着力が１０Ｎ未満であり、実用不可。」

（２）保持力
得られた粘着シートを幅２５ｍｍ・縦１５０ｍｍの大きさに準備した。ＪＩＳ Ｚ０２３７：２０００に準拠して前記粘着シートから剥離性シートを剥がして、研磨した幅３０ｍｍ・縦１５０ｍｍのステンレス板の下端部幅２５ｍｍ・横２５ｍｍの部分に粘着剤層を貼着し、２ｋｇロールで１往復圧着した後、４０℃雰囲気で１ｋｇの荷重をかけ、７万秒放置することで保持力を測定した。評価は、粘着シート貼付面上端部が下にずれた長さを測定した。
評価基準
○：「ずれた長さが０．５ｍｍ未満である。良好。」
×：「ずれた長さが０．５ｍｍ以上である。実用不可。」
（３）透明性
得られた粘着シートから剥離性シートを剥がして、粘着剤層の透明性を目視にて評価した。粘着剤層の外観に関しては、下記の３段階の評価 基準に基づいて評価を行った。
○：「粘着剤層は透明で良好」
△：「粘着剤層はわずかに白化しているが、実用域」
×：「粘着剤層が白化しており、実用不可である」

（４）マイグレーション性評価
得られた粘着シートを幅１００ｍｍ・縦１００ｍｍの大きさに準備した。２３℃、相対湿度５０％雰囲気下、前記粘着シートから剥離性フィルムを剥がして露出した粘着剤層をガラス板に貼り付け、２ｋｇロールで１往復圧着した。ついで、同環境下で４８時間放置し、ついで粘着シートを剥がして、ガラスへの紫外線吸収材料のマイグレーション性に関して、紫外可視近赤外分光光度計（島津製作所社製）を用いて評価した。評価は、上記の処理を行ったガラス上の場所５点を選び、紫外領域の吸光度を測定し、その平均を算出することで行った。
○：２８０〜３８０ｎｍにおける吸光度が検出されない（０．０５以下）。良好
△：２８０〜３８０ｎｍにおける吸光度が０．０５より上０．２以下。実用域
×：２８０〜３８０ｎｍにおける吸光度が０．２より上。実用不可

＜塗料＞
（実施例７１）
以下の組成で、撹拌混合を行い塗料を調整した。
紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−２７） １．０部
ポリエステル（バイロンＧＫ２５０、東洋紡社製） ９．０部
メチルエチルケトン ９０．０部

（実施例７２〜７５、比較例７〜８）
表５に示すように、実施例７１と同様に調整し、それぞれ実施例７２〜７５、比較例７〜８の塗料を得た。

（塗工物の作製）
得られた塗料を厚さ１０００μｍのガラス基板にバーコーターを用いて乾燥膜厚で６μｍとなるよう塗布し、１００℃２分で乾燥させて塗膜を形成した。
（塗工物の評価）
得られた塗工物を、以下の方法で評価した。

［光学特性］
得られた塗工物の透過率を、紫外可視近赤外分光光度計（島津製作所社製）を用いて測定した。透過率は白色標準板に対しての分光透過率を測定した。
以下の条件を満たすか否かを評価した。
〇：波長２８０〜３８０ｎｍの光透過率が全領域にわたって２％以下：良好
△：波長２８０〜３８０ｎｍの光透過率が一部２％を超え１０％以下：実用域
×：波長２８０〜３８０ｎｍの光透過率が一部１０％以上もしくは全領域にわたって２％より上：実用不可

［透明性評価］
得られた基板の透明性を目視評価した。
○：まったく濁りが認められない。良好
×：濁りが認められる。実用不可

［マイグレーション評価］
得られた塗工物の塗膜面に軟質塩化ビニルシートを載せ、熱プレス機を使用して圧力１００ｇ／ｃｍ^２・温度１７０℃３０秒間の条件で加熱圧着した。次いで、直ちにフィルムを外して軟質塩化ビニルシートへのマイグレーションを紫外可視近赤外分光光度計（島津製作所社製）を用いて評価した。評価は、上記の処理を行った軟質塩化ビニルシート上の場所５点を選び、紫外領域の吸光度を測定し、その平均を算出することで行った。
○：２８０〜３８０ｎｍにおける吸光度が検出されない（０．０５以下）。良好
△：２８０〜３８０ｎｍにおける吸光度が０．０５より上０．２以下。実用域
×：２８０〜３８０ｎｍにおける吸光度が０．２を超える。実用不可

＜光硬化性組成物＞
（実施例７６）
以下の組成で、各原料を撹拌混合し、光硬化性組成物を調整した。
紫外線吸収性ポリマー（Ｂ−２７） １０．０部
光重合性化合物（多官能アクリレート「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」日本化薬社製）
９．０部
光重合開始剤（ＩＧＭ ＲｅｓｉｎＢＶ製「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）１．０部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ８０．０部

（実施例７７〜７９、比較例９）
表６に示すように、実施例７６と同様に調整し、それぞれ実施例７７〜７９、比較例９の光硬化性組成物を得た。

（塗工物の作製）
上記の光硬化性組成物をバーコーターを用いて厚さ１ｍｍのガラス基板に乾燥膜厚で６μｍとなるよう塗布した。得られた塗布層を、１００℃１分で乾燥したのち、高圧水銀ランプで４００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して硬化し塗工物を作製した。

（塗工物の評価）
得られた塗工物を、以下の方法で評価した。

［光学特性］
得られた塗工物の透過率を、紫外可視近赤外分光光度計（島津製作所社製）を用いて測定した。透過率は白色標準板に対しての分光透過率を測定した。
以下の条件を満たすか否かを評価した。
〇：波長２８０〜３８０ｎｍの光透過率が全領域にわたって２％以下：良好
△：波長２８０〜３８０ｎｍの光透過率が２％を超え１０％以下：実用域
×：波長２８０〜３８０ｎｍの光透過率が一部１０％以上もしくは全領域にわたって２％より上：実用不可

[耐擦傷性]
塗工物を学振試験機にセットし、スチールウールを用いて、荷重２５０ｇで１０回学振させた。取り出した塗工物について、キズのつき具合を以下の５段階の目視評価に従って判断した。数値が大きいほど、硬化膜の耐擦傷性が良好であることを示す。
５：キズが全くない。
４：僅かにキズが付いている。
３：キズは付いているが、基材は見えていない。
２：キズが付き、一部硬化膜が剥がれている。
１：硬化膜が剥がれてしまい、基材が剥き出しの状態。

[鉛筆硬度]
ＪＩＳ−Ｋ５６００に準拠し、鉛筆硬度試験機（ＨＥＩＤＯＮ社製Ｓｃｒａｔｃｈｉｎｇ Ｔｅｓｔｅｒ ＨＥＩＤＯＮ−１４）を用い、鉛筆の芯の硬さを種々変えて、塗工物の硬化膜に対して荷重５００ｇにて５回試験をした。５回中、１回も傷がつかない、もしくは１回のみ傷が付く時の芯の硬さを、その硬化膜の鉛筆硬度とした。評価基準は以下の通りである。
Ａ：２Ｈ以上。
Ｂ：Ｈ。
Ｃ：Ｈより低い。

[透明性]
得られた塗工物の透明性を、目視評価した。
○：まったく濁りが認められない。良好
△：わずかに濁りが認められる。実用域
×：濁りが多く認められる。実用不可

［マイグレーション評価］
得られた塗工物を２枚の軟質塩化ビニルシートで挟み、熱プレス機を使用して圧力１００ｇ／ｃｍ^２・温度１７０℃３０秒間の条件で加熱圧着した。次いで、直ちにフィルムを外して軟質塩化ビニルシートへのマイグレーションを紫外可視近赤外分光光度計（島津製作所社製）を用いて評価した。評価は、上記の処理を行った軟質塩化ビニルシート上の場所５点を選び、紫外領域の吸光度を測定し、その平均を算出することで行った。
○：２８０〜３８０ｎｍにおける吸光度が検出されない（０．０５以下）。良好
△：２８０〜３８０ｎｍにおける吸光度が０．０５より０．２以下。実用域
×：２８０〜３８０ｎｍにおける吸光度が０．２より上。実用不可

以下、本発明をさらに詳しく説明する。本発明は実施例に限定されるものではない。なお、「質量部」は「部」、「質量％」は「％」と記載する。本明細書において下記実施例中、実施例３２、４６、５２、５８、６４、６６、６７、７１、７２、および７６は、参考例である。

Claims (7)

1. 下記一般式（１）で表される紫外線吸収性不飽和単量体。
   
   （式中、Ｒ_１ａ、Ｒ_１ｂ、およびＲ_１ｃは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、−Ｏ−Ｒ_４、もしくは−Ｏ−Ｒ_５−ＣＯ−Ｏ−Ｒ_６で表され、Ｒ_４およびＲ_６は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基、もしくは炭素数６〜２０のアリール基で表され、上記アルキル基は環構造を形成していても良く、Ｒ_５は炭素数１〜２０のアルキレン基、もしくは炭素数６〜２０のアリーレン基で表される。
   Ｒ_２ａ、Ｒ_２ｂ、およびＲ_２ｃは、それぞれ独立に、水素原子もしくは、炭素数１〜１０のアルキル基である。
   Ｒ_３は、水素原子、水酸基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、−Ｏ−Ｒ_４、もしくは、−Ｏ−Ｒ_５−ＣＯ−Ｏ−Ｒ_６で表され、Ｒ_４およびＲ_６は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基、もしくは炭素数６〜２０のアリール基で表され、上記アルキル基は環構造を形成していても良く、Ｒ_５は炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基で表され、上記アルキル基は環構造を形成していても良い。
   Ｐは、−Ｏ−、もしくは−Ｏ−Ｒ_７−Ｏ−で表され、Ｒ_７は、水酸基を有しても良い炭素数１〜２０のアルキレン基であり、
   Ｑは、水素原子もしくはメチル基である。）
2. 請求項1記載の紫外線吸収性不飽和単量体を含む単量体成分を重合してなることを
   特徴とする紫外線吸収性ポリマー。
3. 単量体成分を１００質量％としたとき、請求項１記載の紫外線吸収性不飽和単量体を３質量％〜４０質量％含むことを特徴とする請求項２に記載の紫外線吸収性ポリマー。
4. 前記紫外線吸収性ポリマーが、請求項１記載の紫外線吸収性不飽和単量体
   （Ａ）と下記一般式（２）で表される不飽和単量体とを含む単量体成分を共重合してなることを特徴とする、請求項２または３記載の紫外線吸収性ポリマー。
   
   （式中、Ｒ_１０９は水素原子またはシアノ基を表し、Ｒ_１１０、Ｒ_１１１はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基を表し、Ｒ_１１２は水素原子または炭化水素基を表し、Ｙ_１は酸素原子またはイミノ基を表す。）
5. 請求項２〜４いずれかに記載の紫外線吸収性ポリマーを含むことを特徴とする、成形用樹脂組成物。
6. さらに、熱可塑性樹脂を含むことを特徴とする、請求項５記載の成形用樹脂組成物。
7. 請求項６に記載の成形用樹脂組成物を含む、成形体。