JP2020077730A - 圧粉磁心 - Google Patents
圧粉磁心 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020077730A JP2020077730A JP2018209543A JP2018209543A JP2020077730A JP 2020077730 A JP2020077730 A JP 2020077730A JP 2018209543 A JP2018209543 A JP 2018209543A JP 2018209543 A JP2018209543 A JP 2018209543A JP 2020077730 A JP2020077730 A JP 2020077730A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- iron
- soft magnetic
- ferrite
- based soft
- particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Powder Metallurgy (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Abstract
【課題】圧粉磁心の透磁率及び抵抗率をバランスよく向上させる。【解決手段】圧粉磁心１は、鉄基軟磁性粒子３の表面にフェライト６が存在する複合粒子を複数含有する。鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径は、２．０μｍ以上１００μｍ以下である。そして、鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径をＤａμｍとした場合に、圧粉磁心１の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第１視野で観察した際に次のような構成とされている。すなわち、第１視野を画する正方形の一辺１１上で、フェライト６が存在する場所を始点として、正方形の一辺と対向する辺１３までフェライト６が連続して形成され、互いに相違する５以上の連続層２１を有する。連続層２１の、一辺１１から対向する辺１３までの経路の平均長さが１１．５Ｄａμｍ以上である。連続層２１には、Ｐ、Ｓｉ、及びＡｌからなる群より選択される１種以上が含有されている。【選択図】図１
Description
本発明は、圧粉磁心に関する。
形状自由度の高さと、高周波帯域への適用可能性から圧粉磁心材料の開発が盛んに行われている。圧粉磁心は、リン酸やシリカ等の絶縁性物質で被覆した軟磁性金属粒子をプレス成形したコアである。
特許文献１では、軟磁性金属粒子の粒子間を高抵抗軟磁性物質で構成した複合軟磁性材料が開示されている。この文献には、複合軟磁性材料における軟磁性金属粒子の断面積比率等を特定の範囲とすることで、実用となる磁界で十分に磁束密度Ｂｍが高くなり、コアロスＰｃｖが良くなる旨の記載がある。
また、特許文献２には、表面にフェライト原料が付着した軟磁性金属粒子を加圧成形して成形体とし、この成形体を熱処理（焼鈍）する技術が開示されている。この文献には、熱処理により、軟磁性金属粒子の表面にフェライト膜が形成され、比抵抗及び磁束密度が向上する旨の記載がある。
また、特許文献３には、フェライト結晶粒からなるフェライト膜で被覆した軟磁性金属粒子が開示されている。この文献では、フェライト結晶粒により、フェライト膜の強度が向上するから、圧粉成形時の高い応力をかけてもフェライト膜の破損が抑制される旨の記載がある。
特許文献１では、軟磁性金属粒子の粒子間を高抵抗軟磁性物質で構成した複合軟磁性材料が開示されている。この文献には、複合軟磁性材料における軟磁性金属粒子の断面積比率等を特定の範囲とすることで、実用となる磁界で十分に磁束密度Ｂｍが高くなり、コアロスＰｃｖが良くなる旨の記載がある。
また、特許文献２には、表面にフェライト原料が付着した軟磁性金属粒子を加圧成形して成形体とし、この成形体を熱処理（焼鈍）する技術が開示されている。この文献には、熱処理により、軟磁性金属粒子の表面にフェライト膜が形成され、比抵抗及び磁束密度が向上する旨の記載がある。
また、特許文献３には、フェライト結晶粒からなるフェライト膜で被覆した軟磁性金属粒子が開示されている。この文献では、フェライト結晶粒により、フェライト膜の強度が向上するから、圧粉成形時の高い応力をかけてもフェライト膜の破損が抑制される旨の記載がある。
ところで、低鉄損な圧粉磁心を得るためには、透磁率及び抵抗率をバランスよく向上させる必要がある。
しかし、上記のいずれの技術を適用しても、透磁率及び抵抗率のバランスは必ずしも十分とは言えず、両者をバランスよく向上させる新たな技術が切望されていた。
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、透磁率及び抵抗率をバランスよく向上させることを目的とする。本発明は、以下の形態として実現することが可能である。
しかし、上記のいずれの技術を適用しても、透磁率及び抵抗率のバランスは必ずしも十分とは言えず、両者をバランスよく向上させる新たな技術が切望されていた。
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、透磁率及び抵抗率をバランスよく向上させることを目的とする。本発明は、以下の形態として実現することが可能である。
〔１〕複数の鉄基軟磁性粒子と、前記鉄基軟磁性粒子の表面に形成されるフェライトとを有する圧粉磁心であって、
前記鉄基軟磁性粒子の平均粒子径は、２．０μｍ以上１００μｍ以下であり、
前記鉄基軟磁性粒子の平均粒子径をＤａμｍとした場合に、前記圧粉磁心の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第１視野で観察した際に、前記第１視野を画する正方形の一辺上で、フェライトが存在する場所を始点として、正方形の一辺と対向する辺までフェライトが連続して形成され、互いに相違する５以上の連続層を有し、
前記連続層の、前記一辺から前記対向する辺までの経路の平均長さが１１．５Ｄａμｍ以上であり、
前記連続層には、Ｐ、Ｓｉ、及びＡｌからなる群より選択される１種以上が含有されていることを特徴とする圧粉磁心。
前記鉄基軟磁性粒子の平均粒子径は、２．０μｍ以上１００μｍ以下であり、
前記鉄基軟磁性粒子の平均粒子径をＤａμｍとした場合に、前記圧粉磁心の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第１視野で観察した際に、前記第１視野を画する正方形の一辺上で、フェライトが存在する場所を始点として、正方形の一辺と対向する辺までフェライトが連続して形成され、互いに相違する５以上の連続層を有し、
前記連続層の、前記一辺から前記対向する辺までの経路の平均長さが１１．５Ｄａμｍ以上であり、
前記連続層には、Ｐ、Ｓｉ、及びＡｌからなる群より選択される１種以上が含有されていることを特徴とする圧粉磁心。
〔２〕前記圧粉磁心の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第２視野で観察した場合に、フェライトで取り囲まれた状態で存在する気孔の面積割合は、前記第２視野の１０％以下であることを特徴とする〔１〕に記載の圧粉磁心。
〔３〕前記圧粉磁心の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第３視野で観察した場合に、
前記第３視野中に欠けることなく観察でき、かつ長軸が最大である前記鉄基軟磁性粒子を特定粒子とし、
前記鉄基軟磁性粒子のうち、前記特定粒子の隣りの前記鉄基軟磁性粒子を隣接粒子Ｐｎ（但し、ｎは１以上の整数）とし、
前記特定粒子の長軸を直径とした円の中心をＣ０とし、前記隣接粒子Ｐｎの長軸を直径とした円の中心をＣｎ（但し、ｎは１以上の整数）とした場合に、
前記Ｃ０と前記Ｃｎ（但し、ｎは１以上の整数）を結ぶ直線が、前記特定粒子の外縁と交わる点Ａｎ（但し、ｎは１以上の整数）と、前記隣接粒子Ｐｎの外縁と交わる点Ｂｎ（但し、ｎは１以上の整数）とを求め、前記点Ａｎと前記点Ｂｎとの距離を、前記特定粒子と前記隣接粒子Ｐｎの粒子間距離と定義し、
ｎ＝１のときの前記粒子間距離が、２０ｎｍ〜１０００ｎｍである、又は、
前記特定粒子と各々の前記隣接粒子Ｐｎ（但し、ｎは２以上の整数）との前記粒子間距離を求め、それらを平均した平均粒子間距離が、２０ｎｍ〜１０００ｎｍであり、
前記隣接粒子Ｐｎ（但し、ｎは１以上の整数）のうちの少なくとも１つについて、前記点Ａｎと前記点Ｂｎとを結ぶ線分ＡｎＢｎは、前記連続層を横断しており、
前記線分ＡｎＢｎを３等分した中央に位置する線分Ｆｎ（但し、ｎは１以上の整数）の部位に存在する前記連続層は、３等分した残りの線分Ｇｎ（但し、ｎは１以上の整数）及び線分Ｈｎ（但し、ｎは１以上の整数）の部位に存在する前記連続層よりも、炭素、アルカリ金属、及びＳｉの少なくとも１つの元素濃度が高くなっていることを特徴とする〔１〕又は〔２〕に記載の圧粉磁心。
前記第３視野中に欠けることなく観察でき、かつ長軸が最大である前記鉄基軟磁性粒子を特定粒子とし、
前記鉄基軟磁性粒子のうち、前記特定粒子の隣りの前記鉄基軟磁性粒子を隣接粒子Ｐｎ（但し、ｎは１以上の整数）とし、
前記特定粒子の長軸を直径とした円の中心をＣ０とし、前記隣接粒子Ｐｎの長軸を直径とした円の中心をＣｎ（但し、ｎは１以上の整数）とした場合に、
前記Ｃ０と前記Ｃｎ（但し、ｎは１以上の整数）を結ぶ直線が、前記特定粒子の外縁と交わる点Ａｎ（但し、ｎは１以上の整数）と、前記隣接粒子Ｐｎの外縁と交わる点Ｂｎ（但し、ｎは１以上の整数）とを求め、前記点Ａｎと前記点Ｂｎとの距離を、前記特定粒子と前記隣接粒子Ｐｎの粒子間距離と定義し、
ｎ＝１のときの前記粒子間距離が、２０ｎｍ〜１０００ｎｍである、又は、
前記特定粒子と各々の前記隣接粒子Ｐｎ（但し、ｎは２以上の整数）との前記粒子間距離を求め、それらを平均した平均粒子間距離が、２０ｎｍ〜１０００ｎｍであり、
前記隣接粒子Ｐｎ（但し、ｎは１以上の整数）のうちの少なくとも１つについて、前記点Ａｎと前記点Ｂｎとを結ぶ線分ＡｎＢｎは、前記連続層を横断しており、
前記線分ＡｎＢｎを３等分した中央に位置する線分Ｆｎ（但し、ｎは１以上の整数）の部位に存在する前記連続層は、３等分した残りの線分Ｇｎ（但し、ｎは１以上の整数）及び線分Ｈｎ（但し、ｎは１以上の整数）の部位に存在する前記連続層よりも、炭素、アルカリ金属、及びＳｉの少なくとも１つの元素濃度が高くなっていることを特徴とする〔１〕又は〔２〕に記載の圧粉磁心。
〔４〕前記鉄基軟磁性粒子のアスペクト比は、１．２５以上２．５以下であり、
前記圧粉磁心の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第４視野で観察した場合に、フェライトで取り囲まれた状態で存在する気孔の面積割合は、前記第４視野の５％以下であることを特徴とする〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の圧粉磁心。
前記圧粉磁心の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第４視野で観察した場合に、フェライトで取り囲まれた状態で存在する気孔の面積割合は、前記第４視野の５％以下であることを特徴とする〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の圧粉磁心。
上記〔１〕の発明によれば、圧粉磁心の透磁率及び抵抗率のバランスがよい。
上記〔２〕の発明によれば、圧粉磁心の透磁率が更に向上する。
上記〔３〕の発明によれば、連続層（フェライト層）の中央１／３の部分には結合剤として使用しているバインダー分が残存しており、連続層は接着剤としても発揮する。また、このような高濃度部分があることで、抵抗値変化率が小さくなる。
上記〔４〕の発明によれば、充填性が向上して圧粉磁心を高密度化できる。その結果、圧粉磁心の透磁率、及び抵抗率が向上し、抵抗値変化率がより小さくなる。
上記〔２〕の発明によれば、圧粉磁心の透磁率が更に向上する。
上記〔３〕の発明によれば、連続層（フェライト層）の中央１／３の部分には結合剤として使用しているバインダー分が残存しており、連続層は接着剤としても発揮する。また、このような高濃度部分があることで、抵抗値変化率が小さくなる。
上記〔４〕の発明によれば、充填性が向上して圧粉磁心を高密度化できる。その結果、圧粉磁心の透磁率、及び抵抗率が向上し、抵抗値変化率がより小さくなる。
以下、本発明を詳しく説明する。なお、本明細書において、数値範囲について「〜」を用いた記載では、特に断りがない限り、下限値及び上限値を含むものとする。例えば、「１０〜２０」という記載では、下限値である「１０」、上限値である「２０」のいずれも含むものとする。すなわち、「１０〜２０」は、「１０以上２０以下」と同じ意味である。
１．圧粉磁心１の構成
圧粉磁心１は、図１の右図（断面図）に示すように、複数の鉄基軟磁性粒子３を有する。フェライト６は、後述する連続層２１（２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄ，２１Ｅ）を形成している。なお、図１におけるハッチング（平行線）は、鉄基軟磁性粒子３を示している。また、図１等の点描は、フェライト６を示している。なお、点描で示される圧粉磁心１におけるフェライト６は、０．１重量％以下のバインダー由来の成分を含有していてもよい。
圧粉磁心１は、図２に示す、表面にフェライト５を有する鉄基軟磁性粒子３である複合粒子７から構成されている。複数の複合粒子７をプレス成形すると、図１に示す圧粉磁心１となる。
本実施形態では、鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径は、２．０μｍ以上１００μｍ以下である。
そして、圧粉磁心１は、鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径をＤａμｍとし、圧粉磁心１の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第１視野で観察した際に、次の構成とされている。すなわち、第１視野を画する正方形の一辺１１上で、フェライト６が存在する場所を始点Ｓとして、正方形の一辺１１と対向する辺１３までフェライト６が連続して形成され、互いに相違する５以上の連続層２１を有する。これら連続層２１の、一辺１１から対向する辺１３までの経路の平均長さは、１１．５Ｄａμｍ以上である。連続層２１には、Ｐ、Ｓｉ、及びＡｌからなる群より選択される１種以上が含有されている。
以下、本発明の圧粉磁心１の実施形態を詳細に説明する。
圧粉磁心１は、図１の右図（断面図）に示すように、複数の鉄基軟磁性粒子３を有する。フェライト６は、後述する連続層２１（２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄ，２１Ｅ）を形成している。なお、図１におけるハッチング（平行線）は、鉄基軟磁性粒子３を示している。また、図１等の点描は、フェライト６を示している。なお、点描で示される圧粉磁心１におけるフェライト６は、０．１重量％以下のバインダー由来の成分を含有していてもよい。
圧粉磁心１は、図２に示す、表面にフェライト５を有する鉄基軟磁性粒子３である複合粒子７から構成されている。複数の複合粒子７をプレス成形すると、図１に示す圧粉磁心１となる。
本実施形態では、鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径は、２．０μｍ以上１００μｍ以下である。
そして、圧粉磁心１は、鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径をＤａμｍとし、圧粉磁心１の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第１視野で観察した際に、次の構成とされている。すなわち、第１視野を画する正方形の一辺１１上で、フェライト６が存在する場所を始点Ｓとして、正方形の一辺１１と対向する辺１３までフェライト６が連続して形成され、互いに相違する５以上の連続層２１を有する。これら連続層２１の、一辺１１から対向する辺１３までの経路の平均長さは、１１．５Ｄａμｍ以上である。連続層２１には、Ｐ、Ｓｉ、及びＡｌからなる群より選択される１種以上が含有されている。
以下、本発明の圧粉磁心１の実施形態を詳細に説明する。
図１では、トロイダル形状の圧粉磁心１を例として挙げる。なお、圧粉磁心１の形状は、特に限定されない。
図１は、圧粉磁心１を、その軸方向に沿って切断した断面を示している。
図１は、圧粉磁心１を、その軸方向に沿って切断した断面を示している。
（１）鉄基軟磁性粒子３
鉄基軟磁性粒子３としては、軟磁性である純鉄、鉄基合金の粒子を幅広く用いることができる。鉄基合金としては、Ｆｅ−Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金、Ｎｉ−Ｆｅ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ基アモルファス合金等を好適に用いることができる。特に、組成中にＣｒやＡｌを含む合金は、表面に金属酸化物層を形成しているため、より好ましい。ＣｒやＡｌを含まない金属を用いる場合には、予めめっき処理等により金属表面にＣｒやＡｌの層を形成させる必要がある。
Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｒ合金を用いる場合には、例えば、Ｓｉ：０．１〜１０質量％、Ｃｒ：０．１〜１０質量％、残部：Ｆｅ及び不可避的不純物の組成の合金とすることができる。
鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径は、２．０μｍ以上１００μｍ以下であり、５．０μｍ以上８０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以上６０μｍ以下がより好ましい。鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径は、使用する周波数帯域によって適宜変更することができる。特に１００ｋＨｚを超える高周波帯域での使用を想定した場合は５μｍ以上６０μｍ以下であることがより好ましい。なお、鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径は、圧粉磁心１の断面をＦＥ−ＳＥＭ ＪＳＭ−６３３０Ｆによって観察した粒子面積から面積円相当径を算出し、平均粒子径とした。
鉄基軟磁性粒子３としては、軟磁性である純鉄、鉄基合金の粒子を幅広く用いることができる。鉄基合金としては、Ｆｅ−Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金、Ｎｉ−Ｆｅ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ基アモルファス合金等を好適に用いることができる。特に、組成中にＣｒやＡｌを含む合金は、表面に金属酸化物層を形成しているため、より好ましい。ＣｒやＡｌを含まない金属を用いる場合には、予めめっき処理等により金属表面にＣｒやＡｌの層を形成させる必要がある。
Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｒ合金を用いる場合には、例えば、Ｓｉ：０．１〜１０質量％、Ｃｒ：０．１〜１０質量％、残部：Ｆｅ及び不可避的不純物の組成の合金とすることができる。
鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径は、２．０μｍ以上１００μｍ以下であり、５．０μｍ以上８０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以上６０μｍ以下がより好ましい。鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径は、使用する周波数帯域によって適宜変更することができる。特に１００ｋＨｚを超える高周波帯域での使用を想定した場合は５μｍ以上６０μｍ以下であることがより好ましい。なお、鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径は、圧粉磁心１の断面をＦＥ−ＳＥＭ ＪＳＭ−６３３０Ｆによって観察した粒子面積から面積円相当径を算出し、平均粒子径とした。
鉄基軟磁性粒子３は、表面に金属酸化物層（不動態被膜）を備えていてもよい。金属酸化物層を、表面に備えることによって、焼鈍（熱処理）を行った際、鉄基軟磁性粒子３とフェライト５間の金属原子の拡散反応を抑制することができる。
金属酸化物層を構成する金属酸化物は特に限定されない。例えば、酸化クロム、酸化アルミニウム、酸化モリブデン、及び酸化タングステンからなる群より選ばれた１種以上の金属酸化物が好ましい。特に、金属酸化物に、酸化クロム及び酸化アルミニウムのうちの少なくとも１つを含むことが好ましい。これらの好ましい金属酸化物を用いることで、上述の金属原子の拡散が効果的に抑制される。
なお、鉄基軟磁性粒子３として、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｒ合金の粒子を用いた場合には、金属原子拡散の抑制効果を有する金属酸化物層を容易に形成することができる。すなわち、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｒ合金中のＣｒが酸化することにより鉄基軟磁性粒子３の外縁部に金属酸化物層が形成される。
また、金属酸化物層の厚みは、特に限定されない。厚みは、好ましくは１ｎｍ〜２０ｎｍとすることができる。なお、金属酸化物層の厚みは、ＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）を用いて測定できる。
金属酸化物層を構成する金属酸化物は特に限定されない。例えば、酸化クロム、酸化アルミニウム、酸化モリブデン、及び酸化タングステンからなる群より選ばれた１種以上の金属酸化物が好ましい。特に、金属酸化物に、酸化クロム及び酸化アルミニウムのうちの少なくとも１つを含むことが好ましい。これらの好ましい金属酸化物を用いることで、上述の金属原子の拡散が効果的に抑制される。
なお、鉄基軟磁性粒子３として、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｒ合金の粒子を用いた場合には、金属原子拡散の抑制効果を有する金属酸化物層を容易に形成することができる。すなわち、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｒ合金中のＣｒが酸化することにより鉄基軟磁性粒子３の外縁部に金属酸化物層が形成される。
また、金属酸化物層の厚みは、特に限定されない。厚みは、好ましくは１ｎｍ〜２０ｎｍとすることができる。なお、金属酸化物層の厚みは、ＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）を用いて測定できる。
（２）フェライト６
（２．１）フェライト６の構成
本実施形態の圧粉磁心１には、フェライト６（軟磁性フェライト）が連続して形成された連続層２１が形成されている。
フェライト６の材料は、特に限定されない。フェライト６の材料は、マグネタイト、Ｎｉフェライト、Ｚｎフェライト、Ｍｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト、Ｍｎ−Ｚｎフェライト、及びＮｉ−Ｚｎ−Ｃｕフェライトからなる群より選ばれた１種以上が好ましい。更には電気抵抗率が１０４Ω・ｃｍ以上のフェライトを用いることが好ましい。そのため、Ｎｉフェライト、Ｚｎフェライト、Ｍｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト、Ｍｎ−Ｚｎフェライト、及びＮｉ−Ｚｎ−Ｃｕフェライトからなる群より選ばれた１種以上がより好ましい。
フェライト６としては、例えば、下記式〔１〕又は〔２〕の軟磁性フェライトを好適に用いることができる。
〔１〕 Ｆｅ３Ｏ４
〔２〕 Ｍｘ−Ｚｎｙ−Ｆｅ（３−ｘ−ｙ）Ｏ４
（但し、式中、Ｍは、Ｎｉ又はＭｎであり、０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１である。）
（２．１）フェライト６の構成
本実施形態の圧粉磁心１には、フェライト６（軟磁性フェライト）が連続して形成された連続層２１が形成されている。
フェライト６の材料は、特に限定されない。フェライト６の材料は、マグネタイト、Ｎｉフェライト、Ｚｎフェライト、Ｍｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト、Ｍｎ−Ｚｎフェライト、及びＮｉ−Ｚｎ−Ｃｕフェライトからなる群より選ばれた１種以上が好ましい。更には電気抵抗率が１０４Ω・ｃｍ以上のフェライトを用いることが好ましい。そのため、Ｎｉフェライト、Ｚｎフェライト、Ｍｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト、Ｍｎ−Ｚｎフェライト、及びＮｉ−Ｚｎ−Ｃｕフェライトからなる群より選ばれた１種以上がより好ましい。
フェライト６としては、例えば、下記式〔１〕又は〔２〕の軟磁性フェライトを好適に用いることができる。
〔１〕 Ｆｅ３Ｏ４
〔２〕 Ｍｘ−Ｚｎｙ−Ｆｅ（３−ｘ−ｙ）Ｏ４
（但し、式中、Ｍは、Ｎｉ又はＭｎであり、０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１である。）
（２．２）連続層２１
本実施形態の圧粉磁心１では、フェライト６が連続して形成された連続層２１は、次の第１〜３要件を全て満たしている。
なお、第１〜３要件は、圧粉磁心１の断面構造を観察した際に、後述する１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野を複数観察して、そのうちの少なくとも１つの視野において満たしていればよい。
本実施形態の圧粉磁心１では、フェライト６が連続して形成された連続層２１は、次の第１〜３要件を全て満たしている。
なお、第１〜３要件は、圧粉磁心１の断面構造を観察した際に、後述する１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野を複数観察して、そのうちの少なくとも１つの視野において満たしていればよい。
（２．２．１）第１要件
まず、第１要件を説明する。図１の右図は、圧粉磁心１の断面構造を観察した際の、１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第１視野を模式図に示している。ここで、「１０Ｄａμｍ」とは、鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径Ｄａμｍの１０倍を意味する（以下、同様である）。例えば、鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径が１０μｍの場合には、１０Ｄａμｍ＝１０×１０μｍ＝１００μｍを意味する。このように、第１視野の一辺の長さは、鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径と比例関係にある。
第１視野を画する正方形の一辺１１上で、フェライト６が存在する場所を始点Ｓとする。一辺１１上の始点Ｓから、正方形の一辺１１と対向する辺１３までフェライト６が連続しているところを辿っていくと、互いに相違する５以上ルート（経路）が存在していることが第１要件である。すなわち、互いに相違する５以上の連続層２１が存在していることが第１要件である。なお、途中で、分岐点にさしかかったときには、対向する辺１３に辿り着くために最短となるルートを選択する。また、互いに相違するルートは５以上であれば、ルート数の上限値はないが、通常の上限値は３０である。
図１は、一辺１１上の５つの異なる始点Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５から始まり、それぞれ異なる終点Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３，Ｅ４，Ｅ５で終わる５つの相違する連続層２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄ，２１Ｅが存在する例を示している。
この第１要件を満たすと、圧粉磁心１内に多くの連続層２１が存在することになり、隣り合う鉄基軟磁性粒子３同士が、フェライト６によって、効果的に絶縁され耐電圧特性が高くなる。また、フェライト６の連続層２１が、鉄基軟磁性粒子３同士を結着させて、圧粉磁心１の機械的強度が向上する。
まず、第１要件を説明する。図１の右図は、圧粉磁心１の断面構造を観察した際の、１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第１視野を模式図に示している。ここで、「１０Ｄａμｍ」とは、鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径Ｄａμｍの１０倍を意味する（以下、同様である）。例えば、鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径が１０μｍの場合には、１０Ｄａμｍ＝１０×１０μｍ＝１００μｍを意味する。このように、第１視野の一辺の長さは、鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径と比例関係にある。
第１視野を画する正方形の一辺１１上で、フェライト６が存在する場所を始点Ｓとする。一辺１１上の始点Ｓから、正方形の一辺１１と対向する辺１３までフェライト６が連続しているところを辿っていくと、互いに相違する５以上ルート（経路）が存在していることが第１要件である。すなわち、互いに相違する５以上の連続層２１が存在していることが第１要件である。なお、途中で、分岐点にさしかかったときには、対向する辺１３に辿り着くために最短となるルートを選択する。また、互いに相違するルートは５以上であれば、ルート数の上限値はないが、通常の上限値は３０である。
図１は、一辺１１上の５つの異なる始点Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５から始まり、それぞれ異なる終点Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３，Ｅ４，Ｅ５で終わる５つの相違する連続層２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄ，２１Ｅが存在する例を示している。
この第１要件を満たすと、圧粉磁心１内に多くの連続層２１が存在することになり、隣り合う鉄基軟磁性粒子３同士が、フェライト６によって、効果的に絶縁され耐電圧特性が高くなる。また、フェライト６の連続層２１が、鉄基軟磁性粒子３同士を結着させて、圧粉磁心１の機械的強度が向上する。
（２．２．２）第２要件
次に、第２要件を説明する。第２要件は、連続層２１の、一辺１１から対向する辺１３までの経路の平均長さが１１．５Ｄａμｍ以上という要件である。例えば、鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径が１０μｍの場合には、１１．５Ｄａμｍ＝１１．５×１０μｍ＝１１５μｍであるから、この要件は、１１５μｍ以上を意味する。
連続層２１の経路の平均長さは１２．０Ｄａμｍ以上がより好ましく、１２．５Ｄａμｍ以上が更に好ましい。連続層２１の経路の平均長さの上限値は、１５Ｄａμｍである。
図１の例では、この第２要件は、連続層２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄ，２１Ｅの経路の平均長さが１１．５Ｄａμｍ以上という要件となる。
この第２要件を満たすと、連続層２１の平均長さが、第１視野の一辺の長さ１０Ｄａμｍよりも長くなる。すなわち、連続層２１は、一辺１１から対向する辺１３までの経路までの間で、蛇行していることになる。連続層２１が直線状の場合と比べて、連続層２１が蛇行していると、連続層２１が鉄基軟磁性粒子３に接触する面積が多くなる。よって、フェライト６の連続層２１による、鉄基軟磁性粒子３同士の結着効果が高くなる。また、この要件を満たすと、連続層２１が鉄基軟磁性粒子３間に蛇行してより多く入り込むことに繋がるから、鉄基軟磁性粒子３同士が、効果的に絶縁され耐電圧特性が高くなる。
なお、連続層２１の平均長さは、後述するプレス成形時のプレス圧力等によって制御される。プレス圧力を５００ＭＰａ以上とすることで粒子が入り組み、蛇行した構造になる。
次に、第２要件を説明する。第２要件は、連続層２１の、一辺１１から対向する辺１３までの経路の平均長さが１１．５Ｄａμｍ以上という要件である。例えば、鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径が１０μｍの場合には、１１．５Ｄａμｍ＝１１．５×１０μｍ＝１１５μｍであるから、この要件は、１１５μｍ以上を意味する。
連続層２１の経路の平均長さは１２．０Ｄａμｍ以上がより好ましく、１２．５Ｄａμｍ以上が更に好ましい。連続層２１の経路の平均長さの上限値は、１５Ｄａμｍである。
図１の例では、この第２要件は、連続層２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄ，２１Ｅの経路の平均長さが１１．５Ｄａμｍ以上という要件となる。
この第２要件を満たすと、連続層２１の平均長さが、第１視野の一辺の長さ１０Ｄａμｍよりも長くなる。すなわち、連続層２１は、一辺１１から対向する辺１３までの経路までの間で、蛇行していることになる。連続層２１が直線状の場合と比べて、連続層２１が蛇行していると、連続層２１が鉄基軟磁性粒子３に接触する面積が多くなる。よって、フェライト６の連続層２１による、鉄基軟磁性粒子３同士の結着効果が高くなる。また、この要件を満たすと、連続層２１が鉄基軟磁性粒子３間に蛇行してより多く入り込むことに繋がるから、鉄基軟磁性粒子３同士が、効果的に絶縁され耐電圧特性が高くなる。
なお、連続層２１の平均長さは、後述するプレス成形時のプレス圧力等によって制御される。プレス圧力を５００ＭＰａ以上とすることで粒子が入り組み、蛇行した構造になる。
（２．２．３）第３要件
次に、第３要件を説明する。第３要件は、連続層２１には、Ｐ（リン）、Ｓｉ（ケイ素）、及びＡｌ（アルミニウム）からなる群より選択される１種以上が含有されているという要件である。
この第３要件を満たすと、連続層２１の鉄基軟磁性粒子３への結着性が高くなるから、鉄基軟磁性粒子３同士をより強固に結着させて、圧粉磁心１の強度が向上する。
次に、第３要件を説明する。第３要件は、連続層２１には、Ｐ（リン）、Ｓｉ（ケイ素）、及びＡｌ（アルミニウム）からなる群より選択される１種以上が含有されているという要件である。
この第３要件を満たすと、連続層２１の鉄基軟磁性粒子３への結着性が高くなるから、鉄基軟磁性粒子３同士をより強固に結着させて、圧粉磁心１の強度が向上する。
（２．２．４）連続層２１における特定部位の特定元素濃度等の要件
連続層２１において、特定元素の元素濃度は、次の要件を満たすことが好ましい。
この特定元素の元素濃度について図４，５を参照して説明する。
図４に模式的に示されるように、圧粉磁心１の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第３視野で観察した場合に、第３視野中に欠けることなく観察でき、かつ長軸が最大である鉄基軟磁性粒子３を特定粒子３１とする。また、鉄基軟磁性粒子３のうち、特定粒子３１の隣りの鉄基軟磁性粒子３を隣接粒子Ｐｎ（図４の場合には、Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６，Ｐ７，Ｐ８）とする。そして、特定粒子３１の長軸を直径とした円の中心をＣ０とし、隣接粒子Ｐｎの長軸を直径とした円の中心をＣｎ（Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３，Ｃ４，Ｃ５，Ｃ６，Ｃ７，Ｃ８）として、Ｃ０とＣｎを結ぶ直線を引く。直線が、特定粒子３１の外縁と交わる点Ａｎと、隣接粒子Ｐｎの外縁と交わる点Ｂｎとを求め、点Ａｎと点Ｂｎとの距離を、特定粒子３１と隣接粒子Ｐｎの粒子間距離Ｌｎと定義する。図５では、特定粒子３１と隣接粒子Ｐ１の粒子間距離Ｌ１が例示されている。
この際、ｎ＝１のときの粒子間距離Ｌ１は、２０ｎｍ〜１０００ｎｍが好ましく、２５ｎｍ〜６００ｎｍがより好ましく、３０ｎｍ〜３００ｎｍが更に好ましい。
ｎが２以上の整数のときは、特定粒子３１と各々の隣接粒子Ｐｎとの粒子間距離Ｌｎをそれぞれ求め、それらを平均した平均粒子間距離は、２０ｎｍ〜１０００ｎｍが好ましく、２５ｎｍ〜６００ｎｍがより好ましく、３０ｎｍ〜３００ｎｍが更に好ましい。
隣接粒子Ｐｎ（但し、ｎは１以上の整数）のうちの少なくとも１つについて、点Ａｎと点Ｂｎとを結ぶ線分ＡｎＢｎは、連続層２１を横断している。図４，５では、隣接粒子Ｐ１に着目して、点Ａ１と点Ｂ１とを結ぶ線分Ａ１Ｂ１が、連続層２１を横断している例を示している。
隣接粒子Ｐｎ（但し、ｎは１以上の整数）のうちの少なくとも１つについて、線分ＡｎＢｎを３等分した中央に位置する線分Ｆｎの部位に存在する連続層２１は、３等分した残りの線分Ｇｎ及び線分Ｈｎの部位に存在する連続層２１よりも、炭素、アルカリ金属（Ｌｉ（リチウム），Ｎａ（ナトリウム），Ｋ（カリウム）等）、及びＳｉの少なくとも１つの元素濃度が高くなっていることが元素濃度の要件（「特定の濃度要件」ともいう）である。図４，５では、隣接粒子Ｐ１に着目して、線分Ａ１Ｂ１を３等分した中央に位置する線分Ｆ１の部位に存在する連続層２１が、３等分した残りの線分Ｇ１及び線分Ｈ１の部位に存在する連続層２１よりも、炭素、アルカリ金属，Ｎａ，Ｋ等）、及びＳｉの少なくとも１つの元素濃度が高くなっている例を示している。
この（２．２．４）の欄に記載した要件を満たすと、連続層２１の鉄基軟磁性粒子３への結着性が高くなるから、鉄基軟磁性粒子３同士をより強固に結着させて、圧粉磁心１の強度が向上する。
なお、中央に位置する線分Ｆｎの部位に存在する連続層２１における特定元素の元素濃度が高くなっていることの確認は、ＴＯＦ−ＳＩＭＳによる測定で行うことができる。
また、線分Ｆｎの部位に存在する連続層２１における元素濃度が一定でない場合には、線分Ｆｎの部位に存在する連続層２１の平均濃度を採用する。同様に、線分Ｇｎ、線分Ｈｎの部位に存在する連続層２１における元素濃度が一定でない場合には、線分Ｇｎ、線分Ｈｎの部位にそれぞれ存在する連続層２１の平均濃度を採用する。
なお、この欄に記載された元素濃度の要件は、圧粉磁心１の断面構造を観察した際に、１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野を複数観察して、そのうちの少なくとも１つの視野において満たしていればよい。
上記説明では、隣接粒子Ｐ１に着目して、線分Ａ１Ｂ１が連続層２１を横断しており、かつ、Ａ１Ｂ１を３等分した中央に位置する線分Ｆ１の部位に存在する連続層２１が特定の濃度要件を満たしている例を示した。この例に限定されず、隣接粒子Ｐｎのいずれか１つに着目した場合に、線分ＡｎＢｎが連続層２１を横断しており、かつ、ＡｎＢｎを３等分した中央に位置する線分Ｆｎの部位に存在する連続層２１が特定の濃度要件を満たしていれば、（２．２．４）の欄に記載した要件を満たしていることになる。
連続層２１において、特定元素の元素濃度は、次の要件を満たすことが好ましい。
この特定元素の元素濃度について図４，５を参照して説明する。
図４に模式的に示されるように、圧粉磁心１の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第３視野で観察した場合に、第３視野中に欠けることなく観察でき、かつ長軸が最大である鉄基軟磁性粒子３を特定粒子３１とする。また、鉄基軟磁性粒子３のうち、特定粒子３１の隣りの鉄基軟磁性粒子３を隣接粒子Ｐｎ（図４の場合には、Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６，Ｐ７，Ｐ８）とする。そして、特定粒子３１の長軸を直径とした円の中心をＣ０とし、隣接粒子Ｐｎの長軸を直径とした円の中心をＣｎ（Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３，Ｃ４，Ｃ５，Ｃ６，Ｃ７，Ｃ８）として、Ｃ０とＣｎを結ぶ直線を引く。直線が、特定粒子３１の外縁と交わる点Ａｎと、隣接粒子Ｐｎの外縁と交わる点Ｂｎとを求め、点Ａｎと点Ｂｎとの距離を、特定粒子３１と隣接粒子Ｐｎの粒子間距離Ｌｎと定義する。図５では、特定粒子３１と隣接粒子Ｐ１の粒子間距離Ｌ１が例示されている。
この際、ｎ＝１のときの粒子間距離Ｌ１は、２０ｎｍ〜１０００ｎｍが好ましく、２５ｎｍ〜６００ｎｍがより好ましく、３０ｎｍ〜３００ｎｍが更に好ましい。
ｎが２以上の整数のときは、特定粒子３１と各々の隣接粒子Ｐｎとの粒子間距離Ｌｎをそれぞれ求め、それらを平均した平均粒子間距離は、２０ｎｍ〜１０００ｎｍが好ましく、２５ｎｍ〜６００ｎｍがより好ましく、３０ｎｍ〜３００ｎｍが更に好ましい。
隣接粒子Ｐｎ（但し、ｎは１以上の整数）のうちの少なくとも１つについて、点Ａｎと点Ｂｎとを結ぶ線分ＡｎＢｎは、連続層２１を横断している。図４，５では、隣接粒子Ｐ１に着目して、点Ａ１と点Ｂ１とを結ぶ線分Ａ１Ｂ１が、連続層２１を横断している例を示している。
隣接粒子Ｐｎ（但し、ｎは１以上の整数）のうちの少なくとも１つについて、線分ＡｎＢｎを３等分した中央に位置する線分Ｆｎの部位に存在する連続層２１は、３等分した残りの線分Ｇｎ及び線分Ｈｎの部位に存在する連続層２１よりも、炭素、アルカリ金属（Ｌｉ（リチウム），Ｎａ（ナトリウム），Ｋ（カリウム）等）、及びＳｉの少なくとも１つの元素濃度が高くなっていることが元素濃度の要件（「特定の濃度要件」ともいう）である。図４，５では、隣接粒子Ｐ１に着目して、線分Ａ１Ｂ１を３等分した中央に位置する線分Ｆ１の部位に存在する連続層２１が、３等分した残りの線分Ｇ１及び線分Ｈ１の部位に存在する連続層２１よりも、炭素、アルカリ金属，Ｎａ，Ｋ等）、及びＳｉの少なくとも１つの元素濃度が高くなっている例を示している。
この（２．２．４）の欄に記載した要件を満たすと、連続層２１の鉄基軟磁性粒子３への結着性が高くなるから、鉄基軟磁性粒子３同士をより強固に結着させて、圧粉磁心１の強度が向上する。
なお、中央に位置する線分Ｆｎの部位に存在する連続層２１における特定元素の元素濃度が高くなっていることの確認は、ＴＯＦ−ＳＩＭＳによる測定で行うことができる。
また、線分Ｆｎの部位に存在する連続層２１における元素濃度が一定でない場合には、線分Ｆｎの部位に存在する連続層２１の平均濃度を採用する。同様に、線分Ｇｎ、線分Ｈｎの部位に存在する連続層２１における元素濃度が一定でない場合には、線分Ｇｎ、線分Ｈｎの部位にそれぞれ存在する連続層２１の平均濃度を採用する。
なお、この欄に記載された元素濃度の要件は、圧粉磁心１の断面構造を観察した際に、１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野を複数観察して、そのうちの少なくとも１つの視野において満たしていればよい。
上記説明では、隣接粒子Ｐ１に着目して、線分Ａ１Ｂ１が連続層２１を横断しており、かつ、Ａ１Ｂ１を３等分した中央に位置する線分Ｆ１の部位に存在する連続層２１が特定の濃度要件を満たしている例を示した。この例に限定されず、隣接粒子Ｐｎのいずれか１つに着目した場合に、線分ＡｎＢｎが連続層２１を横断しており、かつ、ＡｎＢｎを３等分した中央に位置する線分Ｆｎの部位に存在する連続層２１が特定の濃度要件を満たしていれば、（２．２．４）の欄に記載した要件を満たしていることになる。
（２．３）フェライトの形成方法
連続層２１を構成するフェライト６は、既述のように複合粒子７のフェライト５に由来している。複合粒子７のフェライト５の形成方法は、特に限定されない。ここでは、その形成方法の一例を説明する。
例えば、金属酸化物層が表面に存在する鉄基軟磁性粒子３を超音波励起フェライトめっき装置を用いてめっき反応させる。この反応は、水溶液中でＦｅ２＋→Ｆｅ３＋の酸化反応を利用し、めっき溶液中の金属イオンと水分子を反応させることでスピネル型フェライトを基板や粒子等の表面に堆積させる手法である。この手法では、めっき条件、めっき時間の調整により、金属酸化物層の表面をフェライト５によって被覆することができる。なお、めっき時間の調整によってフェライト５の厚さを調整することができる。
通常、被めっき物に酸化クロムや酸化アルミニウムといった金属酸化物層が存在する場合、めっきの反応速度が著しく低下するため、フェライト５を形成させることはできない。金属酸化物層の表面に徽密に（例えば金属酸化物層の表面の８０％以上を）被覆するためには、めっき液のｐＨを細かく調整する必要がある。被覆するフェライト５のｐＨ−酸化還元電位図において、フェライト生成条件の高ｐＨ側にめっき液のｐＨを調節する必要がある。この条件はめっきするフェライト５の組成によって変化するが、例えばＭｎ−ＺｎフェライトではｐＨ＝１０〜１１が好ましく、Ｎｉ−ＺｎフェライトではｐＨ＝１１〜１２が好ましい。
連続層２１を構成するフェライト６は、既述のように複合粒子７のフェライト５に由来している。複合粒子７のフェライト５の形成方法は、特に限定されない。ここでは、その形成方法の一例を説明する。
例えば、金属酸化物層が表面に存在する鉄基軟磁性粒子３を超音波励起フェライトめっき装置を用いてめっき反応させる。この反応は、水溶液中でＦｅ２＋→Ｆｅ３＋の酸化反応を利用し、めっき溶液中の金属イオンと水分子を反応させることでスピネル型フェライトを基板や粒子等の表面に堆積させる手法である。この手法では、めっき条件、めっき時間の調整により、金属酸化物層の表面をフェライト５によって被覆することができる。なお、めっき時間の調整によってフェライト５の厚さを調整することができる。
通常、被めっき物に酸化クロムや酸化アルミニウムといった金属酸化物層が存在する場合、めっきの反応速度が著しく低下するため、フェライト５を形成させることはできない。金属酸化物層の表面に徽密に（例えば金属酸化物層の表面の８０％以上を）被覆するためには、めっき液のｐＨを細かく調整する必要がある。被覆するフェライト５のｐＨ−酸化還元電位図において、フェライト生成条件の高ｐＨ側にめっき液のｐＨを調節する必要がある。この条件はめっきするフェライト５の組成によって変化するが、例えばＭｎ−ＺｎフェライトではｐＨ＝１０〜１１が好ましく、Ｎｉ−ＺｎフェライトではｐＨ＝１１〜１２が好ましい。
被めっき物である鉄基軟磁性粒子３を、目的のｐＨに調整した緩衝液中に添加し、そこへ原料となる金属イオンを溶解させた反応液と酸化液を徐々に添加することでフェライト５が堆積した堆積部が形成される。超音波ホーンにより、鉄基軟磁性粒子３は発熱を伴いながら激しく分散され、恒温槽からの加熱と併せてフェライト生成反応は加速される。また、下の反応式から分かるように、反応の進行と共にプロトンが生成されるため、めっき槽内のｐＨは徐々に酸性に変化する。ｐＨの変動はフェライト生成に大きく影響するため、めっき槽内のｐＨを常に一定に保つ必要がある。めっき条件の最適化により、金属酸化物層によるめっき反応の抑制を最小限に抑えることができる。
３Ｆｅ２＋＋４Ｈ２Ｏ→Ｆｅ３Ｏ４＋８Ｈ＋＋２ｅ−
フェライト５により被覆された鉄基軟磁性粒子３の製造方法の一例を以下に示す。水に金属イオンが含まれた反応液を用意する。水に酸化剤が溶解した酸化液を用意する。金属酸化物層を表面に有する鉄基軟磁性粒子３を所定のｐＨに調製した緩衝液中に分散させる。そして、超音波を印加しながら、鉄基軟磁性粒子３が分散した緩衝溶液に、反応液及び酸化液を滴下すると、金属酸化物層の上にフェライト５が形成される。緩衝液のｐＨは、Ｎｉ−Ｚｎフェライトの場合には、上述のように、好ましくは１１〜１２である。緩衝液の種類は特に限定されない。
なお、鉄基軟磁性粒子３の表面に、フェライト５が形成するメカニズムは解明されていないが以下のように推測される。具体的には、鉄基軟磁性粒子３の表面の水酸基から反応が開始し、フェライト５の形成が始まるものと推測される。
このようにして、フェライト５により被覆された鉄基軟磁性粒子３を製造することができる。この鉄基軟磁性粒子３をプレス成形し、焼鈍することによって、フェライトを備えた圧粉磁心１が製造される。
なお、反応時間等で鉄基軟磁性粒子３に被覆するフェライト５量を制御できる。そして、被覆するフェライト５の量を制御することで、圧粉磁心１内のフェライト６からなる連続層２１の厚みを調整できる。鉄基軟磁性粒子３の表面にフェライト５を形成する反応時間は、好ましくは、１分以上６０分以下であり、より好ましくは１分以上２５分以下である。使用する鉄基軟磁性粒子３の組成によって反応速度が異なるため、反応時間は鉄基軟磁性粒子３の種類に応じて適宜変更すればよい。
３Ｆｅ２＋＋４Ｈ２Ｏ→Ｆｅ３Ｏ４＋８Ｈ＋＋２ｅ−
フェライト５により被覆された鉄基軟磁性粒子３の製造方法の一例を以下に示す。水に金属イオンが含まれた反応液を用意する。水に酸化剤が溶解した酸化液を用意する。金属酸化物層を表面に有する鉄基軟磁性粒子３を所定のｐＨに調製した緩衝液中に分散させる。そして、超音波を印加しながら、鉄基軟磁性粒子３が分散した緩衝溶液に、反応液及び酸化液を滴下すると、金属酸化物層の上にフェライト５が形成される。緩衝液のｐＨは、Ｎｉ−Ｚｎフェライトの場合には、上述のように、好ましくは１１〜１２である。緩衝液の種類は特に限定されない。
なお、鉄基軟磁性粒子３の表面に、フェライト５が形成するメカニズムは解明されていないが以下のように推測される。具体的には、鉄基軟磁性粒子３の表面の水酸基から反応が開始し、フェライト５の形成が始まるものと推測される。
このようにして、フェライト５により被覆された鉄基軟磁性粒子３を製造することができる。この鉄基軟磁性粒子３をプレス成形し、焼鈍することによって、フェライトを備えた圧粉磁心１が製造される。
なお、反応時間等で鉄基軟磁性粒子３に被覆するフェライト５量を制御できる。そして、被覆するフェライト５の量を制御することで、圧粉磁心１内のフェライト６からなる連続層２１の厚みを調整できる。鉄基軟磁性粒子３の表面にフェライト５を形成する反応時間は、好ましくは、１分以上６０分以下であり、より好ましくは１分以上２５分以下である。使用する鉄基軟磁性粒子３の組成によって反応速度が異なるため、反応時間は鉄基軟磁性粒子３の種類に応じて適宜変更すればよい。
２．圧粉磁心１の製造方法
（１）プレス成形
圧粉磁心１の形状を作るためには、通常、プレス成形が用いられる。プレス成形の際の成形圧は５００ＭＰａ〜２０００ＭＰａが好ましく、高密度の成形体を得るためには高圧でプレスした方がよい。また、プレス成形時に５０℃〜２００℃の範囲で金型を加熱してもよい。金型を加熱することで鉄基軟磁性粒子３が塑性変形しやすくなり、高密度の成形体を得る事ができる。他方、２００℃を超える温度でのプレス成形は、鉄基軟磁性粒子３の酸化が問題となりあまり好ましくない。
（１）プレス成形
圧粉磁心１の形状を作るためには、通常、プレス成形が用いられる。プレス成形の際の成形圧は５００ＭＰａ〜２０００ＭＰａが好ましく、高密度の成形体を得るためには高圧でプレスした方がよい。また、プレス成形時に５０℃〜２００℃の範囲で金型を加熱してもよい。金型を加熱することで鉄基軟磁性粒子３が塑性変形しやすくなり、高密度の成形体を得る事ができる。他方、２００℃を超える温度でのプレス成形は、鉄基軟磁性粒子３の酸化が問題となりあまり好ましくない。
（２）焼鈍
上記で得られた成形体について、プレス成形の際に加えられた歪みを開放するため、焼鈍することが好ましい。焼鈍温度は、５００℃以上であることが好ましい。また、焼鈍雰囲気は、アルゴンや窒素等の不活性雰囲気や、水素等の還元雰囲気が好ましく、真空中で焼鈍してもよい。焼鈍の条件は、使用する鉄基軟磁性粒子３やフェライト５の種類によって適宜変更される。
上記で得られた成形体について、プレス成形の際に加えられた歪みを開放するため、焼鈍することが好ましい。焼鈍温度は、５００℃以上であることが好ましい。また、焼鈍雰囲気は、アルゴンや窒素等の不活性雰囲気や、水素等の還元雰囲気が好ましく、真空中で焼鈍してもよい。焼鈍の条件は、使用する鉄基軟磁性粒子３やフェライト５の種類によって適宜変更される。
３．圧粉磁心１の気孔３５の面積割合
圧粉磁心１の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第２視野で観察した場合に、フェライトで取り囲まれた状態で存在する気孔３５の面積割合は、第２視野の１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％以下であることが更に好ましい。この範囲では、気孔３５が少なく、圧粉磁心１の透磁率が更に向上する。
図３は、第２視野を示している。図３では、気孔３５が観察される様子が模式的に示されている。
なお、気孔３５の面積割合は、画像処理等によって算出できる。
また、この欄に記載された気孔３５の面積割合の要件は、圧粉磁心１の断面構造を観察した際に、１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野を複数観察して、そのうちの少なくとも１つの視野において満たしていればよい。
圧粉磁心１の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第２視野で観察した場合に、フェライトで取り囲まれた状態で存在する気孔３５の面積割合は、第２視野の１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％以下であることが更に好ましい。この範囲では、気孔３５が少なく、圧粉磁心１の透磁率が更に向上する。
図３は、第２視野を示している。図３では、気孔３５が観察される様子が模式的に示されている。
なお、気孔３５の面積割合は、画像処理等によって算出できる。
また、この欄に記載された気孔３５の面積割合の要件は、圧粉磁心１の断面構造を観察した際に、１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野を複数観察して、そのうちの少なくとも１つの視野において満たしていればよい。
４．鉄基軟磁性粒子３の好ましいアスペクト比と、圧粉磁心１の好ましい気孔３５の面積割合
鉄基軟磁性粒子３のアスペクト比は、１．２５以上２．５以下であり、かつ、圧粉磁心１の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第４視野で観察した場合に、フェライト６で取り囲まれた状態で存在する気孔３５の面積割合は、第４視野の５％以下であることが好ましい。この範囲では、充填性が向上して圧粉磁心１を高密度化でき、その結果、圧粉磁心１の透磁率が向上する。
鉄基軟磁性粒子３のアスペクト比は、１．３０以上２．３以下であることがより好ましく、１．３５以上２．１以下であることが更に好ましい。第４視野で観察した場合に、フェライト６で取り囲まれた状態で存在する気孔３５の面積割合は、第４視野の４％以下であることがより好ましく、３％以下であることが更に好ましい。
図６は、第４視野を示しており、気孔３５が観察されている様子が模式的に記載されている。
鉄基軟磁性粒子３のアスペクト比は、ＦＥ−ＳＥＭによって測定できる。また、気孔３５の面積割合は、ＳＥＭ画像の画像処理等によって算出できる。
また、この欄に記載された気孔３５の面積割合の要件は、圧粉磁心１の断面構造を観察した際に、１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野を複数観察して、そのうちの少なくとも１つの視野において満たしていればよい。
鉄基軟磁性粒子３のアスペクト比は、１．２５以上２．５以下であり、かつ、圧粉磁心１の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第４視野で観察した場合に、フェライト６で取り囲まれた状態で存在する気孔３５の面積割合は、第４視野の５％以下であることが好ましい。この範囲では、充填性が向上して圧粉磁心１を高密度化でき、その結果、圧粉磁心１の透磁率が向上する。
鉄基軟磁性粒子３のアスペクト比は、１．３０以上２．３以下であることがより好ましく、１．３５以上２．１以下であることが更に好ましい。第４視野で観察した場合に、フェライト６で取り囲まれた状態で存在する気孔３５の面積割合は、第４視野の４％以下であることがより好ましく、３％以下であることが更に好ましい。
図６は、第４視野を示しており、気孔３５が観察されている様子が模式的に記載されている。
鉄基軟磁性粒子３のアスペクト比は、ＦＥ−ＳＥＭによって測定できる。また、気孔３５の面積割合は、ＳＥＭ画像の画像処理等によって算出できる。
また、この欄に記載された気孔３５の面積割合の要件は、圧粉磁心１の断面構造を観察した際に、１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野を複数観察して、そのうちの少なくとも１つの視野において満たしていればよい。
５．本実施形態の圧粉磁心１の作用効果
本実施形態の圧粉磁心１は、耐電圧特性が良好で、強度が高い。更に、この構成によれば、圧粉磁心１の透磁率が向上し、かつ圧粉磁心１の電気抵抗が上昇する。
第２視野で観察した場合に、所定の気孔３５の面積割合が、第２視野の１０％以下である場合は、圧粉磁心１の透磁率が更に向上する。
連続層２１における線分ＡｎＢｎを３等分した中央に位置する線分Ｆｎの部位に存在する連続層２１が、３等分した残りの線分Ｇｎ及び線分Ｈｎの部位に存在する連続層２１よりも、特定の元素濃度が高くなっている場合には、以下の効果を有する。すなわち、この場合には、連続層２１の線分Ｆｎの部位は結合剤として使用しているバインダー分が残存しており、接着剤としての効果を発揮する。このように、高濃度部分があることにより抵抗値変動が小さくなる。
鉄基軟磁性粒子３のアスペクト比が、１．２５以上２．５以下であり、かつ、圧粉磁心１の断面構造を第４視野で観察した場合に、所定の気孔３５の面積割合が、第４視野の５％以下であると、充填性が向上して圧粉磁心１を高密度化でき、その結果、圧粉磁心１の透磁率が向上する。
本実施形態の圧粉磁心１は、耐電圧特性が良好で、強度が高い。更に、この構成によれば、圧粉磁心１の透磁率が向上し、かつ圧粉磁心１の電気抵抗が上昇する。
第２視野で観察した場合に、所定の気孔３５の面積割合が、第２視野の１０％以下である場合は、圧粉磁心１の透磁率が更に向上する。
連続層２１における線分ＡｎＢｎを３等分した中央に位置する線分Ｆｎの部位に存在する連続層２１が、３等分した残りの線分Ｇｎ及び線分Ｈｎの部位に存在する連続層２１よりも、特定の元素濃度が高くなっている場合には、以下の効果を有する。すなわち、この場合には、連続層２１の線分Ｆｎの部位は結合剤として使用しているバインダー分が残存しており、接着剤としての効果を発揮する。このように、高濃度部分があることにより抵抗値変動が小さくなる。
鉄基軟磁性粒子３のアスペクト比が、１．２５以上２．５以下であり、かつ、圧粉磁心１の断面構造を第４視野で観察した場合に、所定の気孔３５の面積割合が、第４視野の５％以下であると、充填性が向上して圧粉磁心１を高密度化でき、その結果、圧粉磁心１の透磁率が向上する。
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する。
なお、実験例１〜２３は実施例であり、実験例２４〜３１は比較例である。
表において、実験例を「ｎｏ．」を用いて示す。また、表において「２４＊」のように、「＊」が付されている場合には、比較例であることを示している。
なお、実験例１〜２３は実施例であり、実験例２４〜３１は比較例である。
表において、実験例を「ｎｏ．」を用いて示す。また、表において「２４＊」のように、「＊」が付されている場合には、比較例であることを示している。
１．圧粉磁心の作製
（１）実験例１（ｎｏ．１）
鉄基軟磁性粒子（原料粉末）には、水アトマイズ法によって作製したＦｅ−５．５質量％Ｓｉ−４．０質量％Ｃｒ粒子（平均粒子径：１０μｍ）を使用した。
鉄基軟磁性粒子１０ｇを１００ｍｌの酢酸カリウム水溶液に分散させ、水酸化カリウムによってｐＨ＝１１に調整した。また、純水１００ｍｌに所定量の塩化ニッケル、塩化鉄（ＩＩ）を添加し、十分に溶解させた後、反応液とした。同様に純水１００ｍｌに酸化剤としての亜硝酸カリウムを加えて酸化液とした。
得られためっき溶液（鉄基軟磁性粒子３が分散された溶液）に窒素を流しながら、めっき溶液を７０℃に加熱した。めっき溶液を撹拌しながら、めっき溶液に反応液と酸化液を滴下してフェライト膜を形成させた。反応は２５分間行い、鉄基軟磁性粒子は、純水で洗浄した後、磁石にて回収した。この後、鉄基軟磁性粒子を乾燥させ、粉砕と篩通しを行った。このようにして、フェライトにより被覆された鉄基軟磁性粒子（複合粒子）を得た。
得られた複合粒子に０．３ｗｔ％の割合で、水に分散させたアルミナゾルを添加し、ボルテックスミキサーで１０分間混合した。この後、複合粒子を乾燥させ、粉砕と篩通しを行って、アルミナゾルを被覆した複合粒子を得た。
成形は得られた複合粒子を、金型に充填し、１６００ＭＰａの圧力でトロイダル形状（外径：８ｍｍ，内径：４．５ｍｍ，高さ：１ｍｍ）にプレス成形を行った。得られたプレス体を、Ａｒ雰囲気下にて７００℃１５分の熱処理を行い、実験例１に係る圧粉磁心とした。
（１）実験例１（ｎｏ．１）
鉄基軟磁性粒子（原料粉末）には、水アトマイズ法によって作製したＦｅ−５．５質量％Ｓｉ−４．０質量％Ｃｒ粒子（平均粒子径：１０μｍ）を使用した。
鉄基軟磁性粒子１０ｇを１００ｍｌの酢酸カリウム水溶液に分散させ、水酸化カリウムによってｐＨ＝１１に調整した。また、純水１００ｍｌに所定量の塩化ニッケル、塩化鉄（ＩＩ）を添加し、十分に溶解させた後、反応液とした。同様に純水１００ｍｌに酸化剤としての亜硝酸カリウムを加えて酸化液とした。
得られためっき溶液（鉄基軟磁性粒子３が分散された溶液）に窒素を流しながら、めっき溶液を７０℃に加熱した。めっき溶液を撹拌しながら、めっき溶液に反応液と酸化液を滴下してフェライト膜を形成させた。反応は２５分間行い、鉄基軟磁性粒子は、純水で洗浄した後、磁石にて回収した。この後、鉄基軟磁性粒子を乾燥させ、粉砕と篩通しを行った。このようにして、フェライトにより被覆された鉄基軟磁性粒子（複合粒子）を得た。
得られた複合粒子に０．３ｗｔ％の割合で、水に分散させたアルミナゾルを添加し、ボルテックスミキサーで１０分間混合した。この後、複合粒子を乾燥させ、粉砕と篩通しを行って、アルミナゾルを被覆した複合粒子を得た。
成形は得られた複合粒子を、金型に充填し、１６００ＭＰａの圧力でトロイダル形状（外径：８ｍｍ，内径：４．５ｍｍ，高さ：１ｍｍ）にプレス成形を行った。得られたプレス体を、Ａｒ雰囲気下にて７００℃１５分の熱処理を行い、実験例１に係る圧粉磁心とした。
（２）実験例２〜３１（ｎｏ．２〜３１）
実験例２〜３１では、実験例１の「Ｆｅ−５．５質量％Ｓｉ−４．０質量％Ｃｒ粒子」、「塩化ニッケル、塩化鉄（ＩＩ）」、「アルミナゾル」に代えて、表１，２に記載された「鉄基軟磁性粒子」、「反応液に溶解させた塩」、及び「成形の際に使用した添加剤（バインダー）」を用いた。これらを用いたこと以外は、実験例１と同様にして圧粉磁心を得た。
なお、表１には、実験例１における「鉄基軟磁性粒子」、「反応液に溶解させた塩」、及び「成形の際に使用した添加剤（バインダー）」も記載されている。また、表において、「↑」の記号は、直上と同じであることを示している。
実験例２〜３１では、実験例１の「Ｆｅ−５．５質量％Ｓｉ−４．０質量％Ｃｒ粒子」、「塩化ニッケル、塩化鉄（ＩＩ）」、「アルミナゾル」に代えて、表１，２に記載された「鉄基軟磁性粒子」、「反応液に溶解させた塩」、及び「成形の際に使用した添加剤（バインダー）」を用いた。これらを用いたこと以外は、実験例１と同様にして圧粉磁心を得た。
なお、表１には、実験例１における「鉄基軟磁性粒子」、「反応液に溶解させた塩」、及び「成形の際に使用した添加剤（バインダー）」も記載されている。また、表において、「↑」の記号は、直上と同じであることを示している。
２．評価方法
（１）ＦＥ−ＳＥＭ観察
焼鈍後の圧粉磁心の断面観察を行った。圧粉磁心をダイシング装置（切断装置）で半分に切断し、エポキシ樹脂中で硬化させ、ダイシング切断面を鏡面加工することによって評価サンプルを得た。評価サンプルをＦＥ−ＳＥＭにより観察した。
鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径を求めるに際しては、１００μｍ×１００μｍの正方形の視野を用いて行った。観察された鉄基軟磁性粒子３の粒子面積から面積円相当径を算出し、平均粒子径とした。
（１）ＦＥ−ＳＥＭ観察
焼鈍後の圧粉磁心の断面観察を行った。圧粉磁心をダイシング装置（切断装置）で半分に切断し、エポキシ樹脂中で硬化させ、ダイシング切断面を鏡面加工することによって評価サンプルを得た。評価サンプルをＦＥ−ＳＥＭにより観察した。
鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径を求めるに際しては、１００μｍ×１００μｍの正方形の視野を用いて行った。観察された鉄基軟磁性粒子３の粒子面積から面積円相当径を算出し、平均粒子径とした。
（１．１）鉄基軟磁性粒子のアスペクト比
鉄基軟磁性粒子３のアスペクト比は、上記ＦＥ−ＳＥＭによる観察から求めた。観察は、鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径（表では「粒子径」と記載している）をＤａμｍとして、１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野で行った。例えば、鉄基軟磁性粒子の平均粒径が１０μｍの場合には、１００μｍ×１００μｍの正方形の視野を採用した。
アスペクト比は圧粉磁心の断面観察から算出した。断面画像にて確認できる鉄基軟磁性粒子３の長辺と短辺の比から計算した。これを３０個の粒子に対して行い、平均値をアスペクト比とした。
鉄基軟磁性粒子３のアスペクト比は、上記ＦＥ−ＳＥＭによる観察から求めた。観察は、鉄基軟磁性粒子３の平均粒子径（表では「粒子径」と記載している）をＤａμｍとして、１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野で行った。例えば、鉄基軟磁性粒子の平均粒径が１０μｍの場合には、１００μｍ×１００μｍの正方形の視野を採用した。
アスペクト比は圧粉磁心の断面観察から算出した。断面画像にて確認できる鉄基軟磁性粒子３の長辺と短辺の比から計算した。これを３０個の粒子に対して行い、平均値をアスペクト比とした。
（１．２）フェライト膜
フェライト膜の組成は、上記視野内に観察されるフェライト膜についてＴＯＦ−ＳＩＭＳを用いて測定した。フェライト膜に含有される元素と、その濃度は、ＴＯＦ−ＳＩＭＳを用いて測定した。
フェライト膜の厚みは、圧粉磁心１の断面をＦＥ−ＳＥＭを用いて観察することにより求めた。なお、この際、上記１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野のうちの５μｍ×５μｍの正方形の視野を拡大して観察した。
連続層の本数は、上記１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野を用いて、「（２．２．１）第１要件」に記載の方法で数えた。観察された各連続層の経路の長さを求め、それらの平均を計算して平均長さとした。
連続層の特定部位において、特定元素の元素濃度が高濃度となっていることは、「（２．２．４）連続層２１における特定部位の特定元素濃度等の要件」に記載の方法で、３等分した中央の線分Ｆｎ、残りの線分Ｇｎ及び線分Ｈｎを特定して、ＴＯＦ−ＳＩＭＳを用いて求めた。なお、特定元素の元素濃度の測定においては、上記１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野のうちで、線分Ｆｎ、線分Ｇｎ及び線分Ｈｎが全て含まれる３Ｄａ×３Ｄａの正方形の視野を切り出し、拡大して観察した。
フェライト膜の組成は、上記視野内に観察されるフェライト膜についてＴＯＦ−ＳＩＭＳを用いて測定した。フェライト膜に含有される元素と、その濃度は、ＴＯＦ−ＳＩＭＳを用いて測定した。
フェライト膜の厚みは、圧粉磁心１の断面をＦＥ−ＳＥＭを用いて観察することにより求めた。なお、この際、上記１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野のうちの５μｍ×５μｍの正方形の視野を拡大して観察した。
連続層の本数は、上記１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野を用いて、「（２．２．１）第１要件」に記載の方法で数えた。観察された各連続層の経路の長さを求め、それらの平均を計算して平均長さとした。
連続層の特定部位において、特定元素の元素濃度が高濃度となっていることは、「（２．２．４）連続層２１における特定部位の特定元素濃度等の要件」に記載の方法で、３等分した中央の線分Ｆｎ、残りの線分Ｇｎ及び線分Ｈｎを特定して、ＴＯＦ−ＳＩＭＳを用いて求めた。なお、特定元素の元素濃度の測定においては、上記１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野のうちで、線分Ｆｎ、線分Ｇｎ及び線分Ｈｎが全て含まれる３Ｄａ×３Ｄａの正方形の視野を切り出し、拡大して観察した。
（１．３）圧粉磁心の気孔の面積割合
圧粉磁心の気孔の面積割合は、上記１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野を用いて、「３．圧粉磁心１の気孔の面積割合」に記載の方法で求めた。このようにして求めた気孔の面積割合を「気孔率（％）」として表示する。
圧粉磁心の気孔の面積割合は、上記１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の視野を用いて、「３．圧粉磁心１の気孔の面積割合」に記載の方法で求めた。このようにして求めた気孔の面積割合を「気孔率（％）」として表示する。
（１．４）視野について
本試験における視野を用いた観察では、同一の視野を用いた。すなわち、圧粉磁心の断面構造の同一場所を、全ての測定で共通採用した。
本試験における視野を用いた観察では、同一の視野を用いた。すなわち、圧粉磁心の断面構造の同一場所を、全ての測定で共通採用した。
（２）圧粉磁心の性能評価
（２．１）複素透磁率
圧粉磁心の複素透磁率（単に「透磁率」ともいう）の測定は、アジレントテクノロジー製インピーダンスアナライザＥ−４９９１Ａを使用し、周波数１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの範囲で測定した。透磁率の値は、１０ＭＨｚにおける値で比較した。
（２．１）複素透磁率
圧粉磁心の複素透磁率（単に「透磁率」ともいう）の測定は、アジレントテクノロジー製インピーダンスアナライザＥ−４９９１Ａを使用し、周波数１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの範囲で測定した。透磁率の値は、１０ＭＨｚにおける値で比較した。
（２．２）抵抗率
圧粉磁心の電気抵抗率（単に「抵抗率」ともいう）について、三菱ケミカルアナリテック製ロレスターＧＸを用いて４端芯法にて測定した。抵抗率の変化は、印加電流１μＡの条件で、印加電圧１Ｖと９０Ｖにおける抵抗率から算出した。具体的には、印加電圧１Ｖの抵抗率を基準（１００％）とし、この基準と比較した印加電圧９０Ｖの抵抗率の変化割合を求めた。抵抗変化率は、小さい方が望ましい。
圧粉磁心の電気抵抗率（単に「抵抗率」ともいう）について、三菱ケミカルアナリテック製ロレスターＧＸを用いて４端芯法にて測定した。抵抗率の変化は、印加電流１μＡの条件で、印加電圧１Ｖと９０Ｖにおける抵抗率から算出した。具体的には、印加電圧１Ｖの抵抗率を基準（１００％）とし、この基準と比較した印加電圧９０Ｖの抵抗率の変化割合を求めた。抵抗変化率は、小さい方が望ましい。
３．評価結果
評価結果を表３，４に示す。
なお、表３，４においては、フェライト膜の含有元素が示されている。フェライト膜は連続層を構成しているから、フェライト膜の含有元素は、連続層にも当然に含まれていることになる。すなわち、表３，４におけるフェライト膜の含有元素は、連続層の含有元素を意味している。
また、表３，４において、「高濃度」の欄は次の事項を意味する。この欄の「○」は、上記（２．２．４）の欄で説明した、線分Ｆｎの部位に存在する連続層が、線分Ｇｎ及び線分Ｈｎの部位に存在する連続層よりも、炭素、アルカリ金属、及びＳｉの少なくとも１つの元素濃度が高くなっていることを意味する。他方、この欄の「×」は、線分Ｆｎの部位に存在する連続層と、線分Ｇｎ及び線分Ｈｎの部位に存在する連続層とは、炭素、アルカリ金属、及びＳｉの元素濃度が同じであることを意味する。
評価結果を表３，４に示す。
なお、表３，４においては、フェライト膜の含有元素が示されている。フェライト膜は連続層を構成しているから、フェライト膜の含有元素は、連続層にも当然に含まれていることになる。すなわち、表３，４におけるフェライト膜の含有元素は、連続層の含有元素を意味している。
また、表３，４において、「高濃度」の欄は次の事項を意味する。この欄の「○」は、上記（２．２．４）の欄で説明した、線分Ｆｎの部位に存在する連続層が、線分Ｇｎ及び線分Ｈｎの部位に存在する連続層よりも、炭素、アルカリ金属、及びＳｉの少なくとも１つの元素濃度が高くなっていることを意味する。他方、この欄の「×」は、線分Ｆｎの部位に存在する連続層と、線分Ｇｎ及び線分Ｈｎの部位に存在する連続層とは、炭素、アルカリ金属、及びＳｉの元素濃度が同じであることを意味する。
実施例である実験例１〜２３は、上記（２．２．１）の欄に記載の連続層の本数に関する第１要件、上記（２．２．２）の欄に記載の連続層の平均長さに関する第２要件、上記（２．２．３）の欄に記載の含有元素に関する第３要件、及び鉄基軟磁性粒子の平均粒子径が２．０μｍ以上１００μｍ以下である要件（以下「第４要件」という）をいずれも満たしている。
これに対して、比較例である実験例２４〜３１は以下の要件を満たしていない。
実験例２４では、第２要件及び第３要件を満たしてない。
実験例２５では、第１要件及び第２要件を満たしてない。
実験例２６では、第１要件及び第２要件を満たしてない。
実験例２７では、第１要件を満たしてない。
実験例２８では、第１要件を満たしてない。
実験例２９では、第１要件、第２要件及び第４要件を満たしてない。
実験例３０では、第１要件及び第４要件を満たしてない。
実験例３１では、第４要件を満たしてない。
これに対して、比較例である実験例２４〜３１は以下の要件を満たしていない。
実験例２４では、第２要件及び第３要件を満たしてない。
実験例２５では、第１要件及び第２要件を満たしてない。
実験例２６では、第１要件及び第２要件を満たしてない。
実験例２７では、第１要件を満たしてない。
実験例２８では、第１要件を満たしてない。
実験例２９では、第１要件、第２要件及び第４要件を満たしてない。
実験例３０では、第１要件及び第４要件を満たしてない。
実験例３１では、第４要件を満たしてない。
実施例である実験例１〜２３は、比較例である実験例２４〜３１と比較して、透磁率及び抵抗率がバランス良く優れていた。
比較例である実験例２４〜３１は、透磁率及び抵抗率の少なくとも一方が悪く、性能バランスが良くなかった。詳細に説明すると、以下の通りである。
実験例２４では、抵抗率は良いものの、透磁率が悪かった。
実験例２５では、透磁率及び抵抗率が共に悪かった。
実験例２６では、透磁率及び抵抗率が共に悪かった。
実験例２７では、透磁率及び抵抗率が共に悪かった。
実験例２８では、抵抗率は良いものの、透磁率が悪かった。
実験例２９では、抵抗率は良いものの、透磁率が悪かった。
実験例３０では、透磁率は良いものの、抵抗率が悪かった。
実験例３１では、透磁率は良いものの、抵抗率が悪かった。
比較例である実験例２４〜３１は、透磁率及び抵抗率の少なくとも一方が悪く、性能バランスが良くなかった。詳細に説明すると、以下の通りである。
実験例２４では、抵抗率は良いものの、透磁率が悪かった。
実験例２５では、透磁率及び抵抗率が共に悪かった。
実験例２６では、透磁率及び抵抗率が共に悪かった。
実験例２７では、透磁率及び抵抗率が共に悪かった。
実験例２８では、抵抗率は良いものの、透磁率が悪かった。
実験例２９では、抵抗率は良いものの、透磁率が悪かった。
実験例３０では、透磁率は良いものの、抵抗率が悪かった。
実験例３１では、透磁率は良いものの、抵抗率が悪かった。
また、実施例である実験例１〜２３のうち、気孔率が１０％以下である実験例５〜２３は、実験例１〜４と比較して、透磁率がより優れていた。
また、実施例である実験例１〜２３のうち、「高濃度」と表記された実験例１０〜２３は、実験例１〜９と比較して、抵抗値変化率がより小さくなった。
また、実施例である実験例１〜２３のうち、鉄基軟磁性粒子のアスペクト比が１．２５以上２．５以下であり、しかも気孔率が５％以下である実験例１５〜２３は、実験例１〜１４と比較して、透磁率、及び抵抗率が向上し、抵抗値変化率がより小さくなった。
４．実施例の効果
本実施例の圧粉磁心は、透磁率及び抵抗率のバランスがよい。
本実施例の圧粉磁心は、透磁率及び抵抗率のバランスがよい。
本発明は上記で詳述した実施形態に限定されず、本発明の請求項に示した範囲で様々な変形又は変更が可能である。
なお、本発明では、圧粉磁心の断面構造の同一場所を、第１〜４の視野のうちの２以上の視野に共通して採用できる。また、視野毎に、互いに相違する場所を採用してもよい。
なお、本発明では、圧粉磁心の断面構造の同一場所を、第１〜４の視野のうちの２以上の視野に共通して採用できる。また、視野毎に、互いに相違する場所を採用してもよい。
本発明の圧粉磁心は、モーターコア、トランス、チョークコイル、ノイズ吸収体等の用途に特に好適に使用される。
１ …圧粉磁心
３ …鉄基軟磁性粒子
５ …フェライト
６ …フェライト
７ …複合粒子
１１ …一辺
１３ …対向する辺
２１ …連続層
３１ …特定粒子
Ｐｎ（Ｐ１〜Ｐ８）…隣接粒子
３５ …気孔
Ｓ（Ｓ１〜Ｓ５） …始点
Ｅ（Ｅ１〜Ｅ５） …終点
Ｌｎ …粒子間距離
３ …鉄基軟磁性粒子
５ …フェライト
６ …フェライト
７ …複合粒子
１１ …一辺
１３ …対向する辺
２１ …連続層
３１ …特定粒子
Ｐｎ（Ｐ１〜Ｐ８）…隣接粒子
３５ …気孔
Ｓ（Ｓ１〜Ｓ５） …始点
Ｅ（Ｅ１〜Ｅ５） …終点
Ｌｎ …粒子間距離
Claims (4)
- 複数の鉄基軟磁性粒子と、前記鉄基軟磁性粒子の表面に形成されるフェライトとを有する圧粉磁心であって、
前記鉄基軟磁性粒子の平均粒子径は、２．０μｍ以上１００μｍ以下であり、
前記鉄基軟磁性粒子の平均粒子径をＤａμｍとした場合に、前記圧粉磁心の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第１視野で観察した際に、前記第１視野を画する正方形の一辺上で、フェライトが存在する場所を始点として、正方形の一辺と対向する辺までフェライトが連続して形成され、互いに相違する５以上の連続層を有し、
前記連続層の、前記一辺から前記対向する辺までの経路の平均長さが１１．５Ｄａμｍ以上であり、
前記連続層には、Ｐ、Ｓｉ、及びＡｌからなる群より選択される１種以上が含有されていることを特徴とする圧粉磁心。 - 前記圧粉磁心の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第２視野で観察した場合に、フェライトで取り囲まれた状態で存在する気孔の面積割合は、前記第２視野の１０％以下であることを特徴とする請求項１に記載の圧粉磁心。
- 前記圧粉磁心の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第３視野で観察した場合に、
前記第３視野中に欠けることなく観察でき、かつ長軸が最大である前記鉄基軟磁性粒子を特定粒子とし、
前記鉄基軟磁性粒子のうち、前記特定粒子の隣りの前記鉄基軟磁性粒子を隣接粒子Ｐｎ（但し、ｎは１以上の整数）とし、
前記特定粒子の長軸を直径とした円の中心をＣ０とし、前記隣接粒子Ｐｎの長軸を直径とした円の中心をＣｎ（但し、ｎは１以上の整数）とした場合に、
前記Ｃ０と前記Ｃｎ（但し、ｎは１以上の整数）を結ぶ直線が、前記特定粒子の外縁と交わる点Ａｎ（但し、ｎは１以上の整数）と、前記隣接粒子Ｐｎの外縁と交わる点Ｂｎ（但し、ｎは１以上の整数）とを求め、前記点Ａｎと前記点Ｂｎとの距離を、前記特定粒子と前記隣接粒子Ｐｎの粒子間距離と定義し、
ｎ＝１のときの前記粒子間距離が、２０ｎｍ〜１０００ｎｍである、又は、
前記特定粒子と各々の前記隣接粒子Ｐｎ（但し、ｎは２以上の整数）との前記粒子間距離を求め、それらを平均した平均粒子間距離が、２０ｎｍ〜１０００ｎｍであり、
前記隣接粒子Ｐｎ（但し、ｎは１以上の整数）のうちの少なくとも１つについて、前記点Ａｎと前記点Ｂｎとを結ぶ線分ＡｎＢｎは、前記連続層を横断しており、
前記線分ＡｎＢｎを３等分した中央に位置する線分Ｆｎ（但し、ｎは１以上の整数）の部位に存在する前記連続層は、３等分した残りの線分Ｇｎ（但し、ｎは１以上の整数）及び線分Ｈｎ（但し、ｎは１以上の整数）の部位に存在する前記連続層よりも、炭素、アルカリ金属、及びＳｉの少なくとも１つの元素濃度が高くなっていることを特徴とする請求項１又は２に記載の圧粉磁心。 - 前記鉄基軟磁性粒子のアスペクト比は、１．２５以上２．５以下であり、
前記圧粉磁心の断面構造を１０Ｄａμｍ×１０Ｄａμｍの正方形の第４視野で観察した場合に、フェライトで取り囲まれた状態で存在する気孔の面積割合は、前記第４視野の５％以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の圧粉磁心。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018209543A JP7227736B2 (ja) | 2018-11-07 | 2018-11-07 | 圧粉磁心 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018209543A JP7227736B2 (ja) | 2018-11-07 | 2018-11-07 | 圧粉磁心 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2020077730A true JP2020077730A (ja) | 2020-05-21 |
| JP7227736B2 JP7227736B2 (ja) | 2023-02-22 |
Family
ID=70724391
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018209543A Active JP7227736B2 (ja) | 2018-11-07 | 2018-11-07 | 圧粉磁心 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7227736B2 (ja) |
Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0421739A (ja) * | 1989-06-09 | 1992-01-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 複合材料及びその製造方法 |
| JPH04323806A (ja) * | 1991-04-23 | 1992-11-13 | Hitachi Ferrite Ltd | 耐熱衝撃フェライト材料 |
| WO2003015109A1 (en) * | 2001-08-09 | 2003-02-20 | The Circle For The Promotion Of Science And Engineering | Composite magnetic material prepared by compression forming of ferrite-coated metal particles and method for preparation thereof |
| JP2003272909A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-09-26 | Daido Steel Co Ltd | 圧粉磁心 |
| JP2004143554A (ja) * | 2002-10-25 | 2004-05-20 | Jfe Steel Kk | 被覆鉄基粉末 |
| JP2005068526A (ja) * | 2003-08-27 | 2005-03-17 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 複合磁性粒子粉末成形体の製造方法 |
| JP2005317679A (ja) * | 2004-04-27 | 2005-11-10 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 磁気部品およびその製造方法 |
| JP2008244023A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Seiko Epson Corp | 軟磁性粉末、軟磁性粉末の製造方法、圧粉磁心および磁性素子 |
| JP2010177271A (ja) * | 2009-01-27 | 2010-08-12 | Nissan Motor Co Ltd | 圧粉磁心材料およびその製造方法 |
| JP2013213247A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-17 | Seiko Epson Corp | 軟磁性粉末、圧粉磁心および磁性素子 |
| JP2014143286A (ja) * | 2013-01-23 | 2014-08-07 | Tdk Corp | 軟磁性体組成物およびその製造方法、磁芯、並びに、コイル型電子部品 |
| JP2016157753A (ja) * | 2015-02-24 | 2016-09-01 | 株式会社豊田中央研究所 | 圧粉磁心およびその製造方法 |
| JP2017119908A (ja) * | 2015-12-24 | 2017-07-06 | 株式会社デンソー | 圧粉磁心用粉末およびその製造方法ならびに圧粉磁心およびその製造方法 |
-
2018
- 2018-11-07 JP JP2018209543A patent/JP7227736B2/ja active Active
Patent Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0421739A (ja) * | 1989-06-09 | 1992-01-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 複合材料及びその製造方法 |
| JPH04323806A (ja) * | 1991-04-23 | 1992-11-13 | Hitachi Ferrite Ltd | 耐熱衝撃フェライト材料 |
| WO2003015109A1 (en) * | 2001-08-09 | 2003-02-20 | The Circle For The Promotion Of Science And Engineering | Composite magnetic material prepared by compression forming of ferrite-coated metal particles and method for preparation thereof |
| JP2003272909A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-09-26 | Daido Steel Co Ltd | 圧粉磁心 |
| JP2004143554A (ja) * | 2002-10-25 | 2004-05-20 | Jfe Steel Kk | 被覆鉄基粉末 |
| JP2005068526A (ja) * | 2003-08-27 | 2005-03-17 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 複合磁性粒子粉末成形体の製造方法 |
| JP2005317679A (ja) * | 2004-04-27 | 2005-11-10 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 磁気部品およびその製造方法 |
| JP2008244023A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Seiko Epson Corp | 軟磁性粉末、軟磁性粉末の製造方法、圧粉磁心および磁性素子 |
| JP2010177271A (ja) * | 2009-01-27 | 2010-08-12 | Nissan Motor Co Ltd | 圧粉磁心材料およびその製造方法 |
| JP2013213247A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-17 | Seiko Epson Corp | 軟磁性粉末、圧粉磁心および磁性素子 |
| JP2014143286A (ja) * | 2013-01-23 | 2014-08-07 | Tdk Corp | 軟磁性体組成物およびその製造方法、磁芯、並びに、コイル型電子部品 |
| JP2016157753A (ja) * | 2015-02-24 | 2016-09-01 | 株式会社豊田中央研究所 | 圧粉磁心およびその製造方法 |
| JP2017119908A (ja) * | 2015-12-24 | 2017-07-06 | 株式会社デンソー | 圧粉磁心用粉末およびその製造方法ならびに圧粉磁心およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP7227736B2 (ja) | 2023-02-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102165131B1 (ko) | 연자성 합금 분말, 압분 자심 및 자성 부품 | |
| KR102165133B1 (ko) | 연자성 금속 분말, 압분 자심 및 자성 부품 | |
| JP6867965B2 (ja) | 軟磁性合金粉末、圧粉磁心および磁性部品 | |
| JP2008109080A (ja) | 圧粉磁心及びその製造方法 | |
| JP2012238842A (ja) | 磁性材料及びコイル部品 | |
| KR102375078B1 (ko) | 압분 자심 | |
| JP2020072183A (ja) | 磁性体コアおよびコイル部品 | |
| KR20210129246A (ko) | Fe-기반 연 자성 합금 | |
| JP2019160942A (ja) | 軟磁性金属粉末、圧粉磁心および磁性部品 | |
| JP6504289B1 (ja) | 軟磁性金属粉末、圧粉磁心および磁性部品 | |
| JP7133381B2 (ja) | 圧粉磁心 | |
| JP6429055B1 (ja) | 軟磁性金属粉末、圧粉磁心および磁性部品 | |
| JP7222664B2 (ja) | 圧粉磁心 | |
| JP2019096747A (ja) | 圧粉磁心 | |
| JP7227736B2 (ja) | 圧粉磁心 | |
| JP7277193B2 (ja) | 圧粉磁心 | |
| JP2020077732A (ja) | 圧粉磁心 | |
| JP2021089999A (ja) | 圧粉磁心 | |
| JPS6370503A (ja) | 磁性合金粉末とそれを用いた磁心 | |
| JP7277194B2 (ja) | 圧粉磁心 | |
| JP7222771B2 (ja) | 圧粉磁心 | |
| JP7291507B2 (ja) | 圧粉磁心 | |
| JP7291508B2 (ja) | 圧粉磁心 | |
| US20230178275A1 (en) | Soft magnetic metal powder, dust core, magnetic component, and electronic component | |
| JP2020155672A (ja) | 圧粉磁心 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211012 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220817 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220823 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221020 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230131 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230210 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7227736 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |