JP2020077675A - 基板処理方法及び基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
10 液処理ユニット
11 スピンチャック
12 保持部材
14 基板保持部
16 回転駆動部
18 カップ体
20 ノズル
30 昇華性物質溶液ノズル
30c 昇華性物質溶液管路
31 タンク
40 回収タンク
41 連結管
41a 加熱ヒータ
41b IPA供給管
42 戻りライン
46 三方弁
47 ドレイン管
50 循環ライン
60 ホットプレートユニット
65 排気管
66 気液分離器
70 追加回収タンク
71 追加循環ライン
100 パターン
101 パターンの凸状部
102 パターンの凹部
Claims (11)
- 基板を保持して回転させる基板保持回転部と、
前記基板保持回転部に保持された前記基板に昇華性物質の溶液を供給する昇華性物質溶液ノズルと、
前記基板保持回転部に保持された前記基板を囲むカップ体と、
前記カップ体に連結管を介して接続され、前記カップ体からの前記昇華性物質の溶液を回収する回収タンクと、
前記回収タンクと前記昇華性物質溶液ノズルとを接続する戻りラインとを備えた、基板処理装置。 - 前記回収タンクに前記昇華性物質の溶液を循環させる循環ラインを連結した、請求項1記載の基板処理装置。
- 前記戻りラインまたは前記循環ラインの少なくとも一方に、前記昇華性物質の溶液の濃度を測定する濃度計を設けた、請求項2記載の基板処理装置。
- 前記連結管に、この連結管から分岐するドレイン管をバルブを介して連結した、請求項1乃至3のいずれか記載の基板処理装置。
- 前記戻りラインまたは前記回収タンクの少なくとも一方に、前記昇華性物質の溶液の濃度調整を行う濃度調整機構を設けた、請求項1乃至4のいずれか記載の基板処理装置。
- 前記連結管に加熱ヒータを設けて、前記昇華性物質の溶液の固化を防止する、請求項1乃至5のいずれか記載の基板処理装置。
- 前記基板を前記昇華性物質の昇華温度より高い温度まで加熱して前記基板から前記昇華性物質を昇華させる昇華ユニットと、
前記昇華ユニットに排気ラインを介して接続され、前記昇華ユニットからの排気を受けるとともに、前記排気に対して冷却溶剤を噴霧して、排気用気体と前記昇華性物質の溶液とに分離する気液分離器と、
前記気液分離器に追加連結管を介して接続され、前記気液分離器からの前記昇華性物質の溶液を回収する追加回収タンクとを更に備えた、請求項1乃至6のいずれか記載の基板処理装置。 - 前記追加回収タンクに前記昇華性物質の溶液を循環させる追加循環ラインを連結した、請求項7記載の基板処理装置。
- 前記追加循環ラインに、前記昇華性物質の溶液の濃度を測定する濃度計を設けた、請求項8記載の基板処理装置。
- 請求項1記載の基板処理装置を用いた基板処理方法において、
前記基板保持回転部で保持された基板上に前記回収タンクで回収された前記昇華性物質の溶液を前記昇華性物質溶液ノズルから供給する工程と、
次に前記昇華性物質の溶液の供給を停止して、新たな昇華性物質の溶液を前記昇華性物質溶液ノズルから前記基板上に供給する工程とを備えた、基板処理方法。 - 請求項7記載の基板処理装置を用いた基板処理方法において、
前記基板保持回転部で保持された基板上に前記回収タンクで回収された前記昇華性物質の溶液を前記昇華性物質溶液ノズルから供給する工程と、
次に前記昇華性物質の溶液の供給を停止して、新たな昇華性物質の溶液を前記昇華性物質溶液ノズルから前記基板上に供給する工程とを備え、
前記追加回収タンクから回収された前記昇華性物質の溶液を前記基板へ前記昇華性物質溶液ノズルから供給する、基板処理方法。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000124185A (ja) * | 1998-10-13 | 2000-04-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2017037985A (ja) * | 2015-08-11 | 2017-02-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および昇華性物質の析出防止方法 |
JP2017175049A (ja) * | 2016-03-25 | 2017-09-28 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法 |
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2018
- 2018-11-05 JP JP2018208439A patent/JP7170506B2/ja active Active
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