JP2020069459A - 膜パターン形成方法 - Google Patents
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Abstract
Description
10 ステージ
21 インクジェットヘッド部
31a ノズル
L 着弾位置
P 液滴
R 膜形成領域
R1 塗布開始端部
R2 塗布終了端部
W 基材
Claims (1)
- 基材上の膜形成領域にインクジェット法により液滴を行って膜パターンを形成する膜パターン形成方法であって、
前記膜形成領域の塗布開始端部の位置情報に基づいて当該塗布開始端部に液滴を吐出する塗布開始工程と、
基材とこの基材を載置するステージとを相対的に搬送させる搬送装置の駆動パルス信号に応じて液滴を吐出する本塗布工程と、
がこの順で行われ、
前記本塗布工程は、形成する膜パターンの膜厚に応じて、前記駆動パルス信号毎に液滴の吐出の要否が設定されることにより、前記駆動パルス信号の周期に対して間欠的に一定周期で液滴が吐出される間欠周期塗布工程と、
前記膜形成領域の塗布終了端部の位置情報に基づいて、前記間欠周期塗布工程の吐出周期にかかわらず、前記塗布終了端部に液滴を吐出する塗布終了工程とを有していることを特徴とする膜パターン形成方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2022149610A (ja) * | 2021-03-25 | 2022-10-07 | 東レエンジニアリング株式会社 | インクジェット塗布装置 |
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2018
- 2018-11-02 JP JP2018207543A patent/JP7090011B2/ja active Active
Patent Citations (4)
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