JP2020052027A

JP2020052027A - 光学検出設備

Info

Publication number: JP2020052027A
Application number: JP2018239427A
Authority: JP
Inventors: 陳世宗; shi zong Chen; ▲蔡▼知典; Zhi Dian Cai; 徐健銘; Jian Ming Xu
Original assignee: TEST RESEARCH Inc
Current assignee: TEST RESEARCH Inc
Priority date: 2018-09-26
Filing date: 2018-12-21
Publication date: 2020-04-02
Anticipated expiration: 2038-12-21
Also published as: TW202012908A; JP6706313B2; TWI704336B

Abstract

【課題】光学検出設備を提供する。【解決手段】光走査装置１１０と、光走査装置に設けられる少なくとも１つの反射型センサ１２０と、被検物１９０を伝送するためのトランスミッション部品１３０と、光走査装置、反射型センサとトランスミッション部品に電気的に接続され、反射型センサが被検物を感知した後で、トランスミッション部品が被検物に対する伝送を一時中止するように制御することで、光走査装置が被検物に対して光走査を行うようにするプロセッサー１４０と、を含む光学検出設備１００。【選択図】図１

Description

本発明は、検出設備に関し、特に、光学検出設備に関する。

光学検出は、マシンビジョンをテスト標準技術として使用し、従来の人力で光学機器を使用する検出の欠点を改良する。

従来の自動Ｘ線検出機械は、何れもプレート供給時にコンベアにおけるコントラストセンサを主とする。しかし、実際の適用において、被検物のプレート厚さが異なることで、コントラストセンサが統一な閾値を使用できなく、操作者は、異なるプレート厚さによってセンサ閾値を調整する必要がある。且つコントラストセンサは、指向角に制限があるので、コンベアの異なるプレート広さでの平坦度に対する要求も高い。

しかしながら、従来のコンベアにおけるコントラストセンサをプレート停止の検知とし、被検物が薄くなると、光遮蔽の範囲が小さくなり、被検物が正確な位置に停止できないため、検出に異常が発生する。

本発明は、背景技術の問題を解決する光学検出設備を提出する。

本発明の一実施例において、本発明は、光走査装置と、光走査装置に設けられる少なくとも１つの反射型センサと、被検物を伝送するためのトランスミッション部品と、光走査装置、反射型センサとトランスミッション部品に電気的に接続され、反射型センサが被検物を感知した後で、トランスミッション部品が被検物に対する伝送を一時中止するように制御することで、光走査装置が被検物に対して光走査を行うようにするプロセッサーと、を含む光学検出設備を提供する。

本発明の一実施例において、光走査装置は、トランスミッション部品の一方に位置し、Ｘ線の発生に用いられるＸ線発生器と、トランスミッション部品の他方に位置し、Ｘ線発生器から発生して被検物を通過するＸ線を検出するためのＸ線検出器と、を含む。

本発明の一実施例において、反射型センサは、Ｘ線発生器とＸ線検出器の少なくとも一方に設けられる。

本発明の一実施例において、反射型センサは、Ｘ線発生器に設けられ、被検物を感知すると、プロセッサーによりトランスミッション部品が被検物を減速して伝送するように制御される第１の反射型センサと、Ｘ線発生器に設けられ、第１の反射型センサと互いに離隔され、被検物を感知すると、プロセッサーによりトランスミッション部品が被検物に対する伝送を一時中止するように制御される第２の反射型センサと、を含む。

本発明の一実施例において、Ｘ線発生器にＸ線出力ポートがあり、第１の反射型センサと第２の反射型センサはそれぞれＸ線出力ポートの対向する両側に設けられる。

本発明の一実施例において、反射型センサは、Ｘ線発生器に設けられ、被検物を感知すると、プロセッサーによりトランスミッション部品が被検物を減速して伝送するように制御される第１の反射型センサと、Ｘ線検出器に設けられ、第１の反射型センサと互いに離隔され、被検物を感知すると、プロセッサーによりトランスミッション部品が被検物に対する伝送を一時中止するように制御される第２の反射型センサと、を含む。

本発明の一実施例において、反射型センサは、Ｘ線検出器に設けられ、被検物を感知すると、プロセッサーによりトランスミッション部品が被検物を減速して伝送するように制御される第１の反射型センサと、Ｘ線発生器に設けられ、第１の反射型センサと互いに離隔され、被検物を感知すると、プロセッサーによりトランスミッション部品が被検物に対する伝送を一時中止するように制御される第２の反射型センサと、を含む。

本発明の一実施例において、反射型センサは、Ｘ線検出器に設けられ、被検物を感知すると、プロセッサーによりトランスミッション部品が被検物を減速して伝送するように制御される第１の反射型センサと、Ｘ線検出器に設けられ、第１の反射型センサと互いに離隔され、被検物を感知すると、プロセッサーによりトランスミッション部品が被検物に対する伝送を一時中止するように制御される第２の反射型センサと、を含む。

本発明の一実施例において、反射型センサは、単一の反射型センサであり、単一の反射型センサがＸ線発生器又はＸ線検出器に設けられ、単一の反射型センサが被検物を感知すると、プロセッサーは、トランスミッション部品の伝動速度により停止時点を予測し、更に停止時点にトランスミッション部品が被検物に対する伝送を一時中止させるようにする。

本発明の一実施例において、被検物は、回路基板である。

要するに、本発明の技術的解決策は、背景技術よりも明らかな利点及び有利な効果を有する。本発明の技術的解決策により、光走査装置における反射型センサのプレート停止方式（即ち、被検物の伝送を停止する）は、プロセッサーによってソフトウェアでプレート停止位置を設定し、プレート停止安定性を向上させることができ、且つ操作者がハードウェア設定を変える必要はない。

以下、実施形態によって上記説明を詳しく描き、本発明の技術的解決策を更に解釈する。

添付図面についての説明は、本発明の上記及び他の目的、特徴、メリット及び実施例をより分かりやすくするためのものである。
本発明の一実施例による光学検出設備を示す前面模式図である。本発明の他の一実施例による光学検出設備を示す側面模式図である。本発明の他の一実施例による光学検出設備を示す側面模式図である。本発明の他の一実施例による光学検出設備を示す側面模式図である。本発明の他の一実施例による光学検出設備を示す側面模式図である。本発明の他の一実施例による光学検出設備を示す側面模式図である。本発明の他の一実施例による光学検出設備を示す側面模式図である。

本発明の記述をより詳細化し充実させるためには、添付図面及び下記の様々な実施例を参照されたい。図面において、同じ番号は、同じ又は類似の素子を示す。一方、本発明を必要以上に制限しないように、周知の素子と工程は、実施例に記述されていない。

実施形態と特許請求の範囲において、「接続」に関する説明は、１つの素子が他の素子によって間接的に他の素子に結合され、又は１つの素子が他の素子によらずに直接他の素子に結合されることを総括して指してもよい。

実施形態と特許請求の範囲において、「電気的接続」に関する説明は、１つの素子が他の素子によって間接的に他の素子に電気的に結合され、又は１つの素子が他の素子によらずに他の素子に物理的に接続されることを総括して指してもよい。

実施形態と特許請求の範囲において、正文で冠詞を特別に限定しない限り、「一」と「前記」は、単一又は複数を総括して指してもよい。

図１は、本発明の一実施例による光学検出設備１００を示す前面模式図である。図１に示すように、光学検出設備１００は、光走査装置１１０、少なくとも１つの反射型センサ１２０、トランスミッション部品１３０及びプロセッサー１４０を含む。構造上、反射型センサ１２０が光走査装置１１０に設けられ、プロセッサー１４０が光走査装置１１０、反射型センサ１２０とトランスミッション部品１３０に電気的に接続される。例として、トランスミッション部品１３０は、ステッピングモータ、コンベヤベルト等の素子を含むコンベアであってよい。プロセッサー１４０は、中央プロセッサー、コントローラ又は他の処理回路であってよい。

動作時に、トランスミッション部品１３０は、被検物１９０の伝送に用いられる。反射型センサ１２０が被検物１９０を感知した後で、プロセッサー１４０によりトランスミッション部品１３０が被検物１９０に対する伝送を一時中止するように制御されることで、光走査装置１１０が被検物１９０に対して光走査を行うことができる。例として、被検物１９０は、回路基板、半導体ウエハ、ディスプレイパネル又は他の物であってよい。

図１において、光走査装置１１０は、Ｘ線発生器１１２とＸ線検出器１１４を含む。構造上、Ｘ線発生器１１２がトランスミッション部品１３０の一方に位置し、Ｘ線検出器１１４がトランスミッション部品１３０の他方に位置する。動作時に、Ｘ線発生器１１２はＸ線の発生に用いられ、Ｘ線検出器１１４はＸ線発生器から発生して被検物１９０を通過するＸ線を検出することに用いられる。本実施例において、Ｘ線発生器１１２がトランスミッション部品１３０の上方に位置し、Ｘ線検出器１１４がトランスミッション部品１３０の下方に位置するが、これは本発明を限定しない。他の実施例において、Ｘ線発生器１１２がトランスミッション部品１３０の下方に位置し、Ｘ線検出器１１４がトランスミッション部品１３０の上方に位置してもよい。当業者により、当時の要求に応じて、柔軟に選択できる。

理解すべきなのは、図１には、反射型センサ１２０がＸ線発生器１１２に置かれ、例として、Ｘ線発生器１１２のＸ線出力ポート１１３の側辺に設けられるように示されるが、本発明はこれらに限定されない。実作上、反射型センサ１２０はＸ線発生器１１２とＸ線検出器１１４の少なくとも一方に設けられる。例として、反射型センサ１２０は、Ｘ線発生器１１２とＸ線検出器１１４に干渉しないように、赤色光センサ、青色光センサ、不可視光センサ（例えば、赤外線センサ）、レーザー光センサ又は他の非Ｘ線センサであってよい。

上記の反射型センサ１２０を更に説明するために、図２〜図７をそれぞれ参照されたい。図２〜図７は、本発明の複数の実施例による光学検出設備２００、３００、４００、５００、６００、７００を示す側面模式図である。

図２において、反射型センサ１２０は、第１の反射型センサ２１０及び第２の反射型センサ２２０を含む。構造上、第１の反射型センサ２１０がＸ線発生器１１２に設けられ、第２の反射型センサ２２０がＸ線発生器１１２に設けられ、第１の反射型センサ２１０と第２の反射型センサ２２０とが互いに離隔される。具体的に、Ｘ線発生器１１２にＸ線出力ポート１１３がある。スペースを節約するために、第１の反射型センサ２１０と第２の反射型センサ２２０とがそれぞれＸ線出力ポート１１３の対向する両側に設けられる。

動作時に、被検物１９０がトランスミッション部品１３０により伝送され、まず第１の反射型センサ２１０を通過してから、第２の反射型センサ２２０を通過する。第１の反射型センサ２１０が被検物１９０を感知すると、プロセッサー１４０は、トランスミッション部品１３０が被検物１９０を減速して伝送するように制御する。次に、第２の反射型センサ２２０が被検物１９０を感知すると、プロセッサー１４０は、トランスミッション部品１３０の被検物１９０に対する伝送を一時中止するように制御することで、Ｘ線発生器１１２がＸ線を発生し、Ｘ線検出器１１４がＸ線発生器１１２から発生して被検物１９０を通過するＸ線を検出するようにする。これにより、Ｘ線発生器１１２とＸ線検出器１１４は被検物１９０に対して光走査を行うことができる。

又は、光走査を行う前に、例として、プロセッサー１４０は、Ｘ線発生器１１２とＸ線検出器１１４によって被検物１９０の実際停止位置と目標位置（例えば、システムデフォルト値）との間のオフセット量を確認することができる。プロセッサー１４０は、トランスミッション部品１３０によって被検物１９０の位置を微調整し又はＸ線発生器１１２と／又はＸ線検出器１１４を移動して、前記オフセット量の影響を除き、光学検出設備２００の光走査をより正確にすることができる。

図３において、反射型センサ１２０は、第１の反射型センサ３１０及び第２の反射型センサ３２０を含む。構造上、第１の反射型センサ３１０がＸ線発生器１１２に設けられ、第２の反射型センサ３２０がＸ線検出器１１４に設けられ、第１の反射型センサ３１０及び第２の反射型センサ３２０が垂直投影において互いにオフセットされ、第１の反射型センサ３１０がＸ線出力ポート１１３の被検物１９０の前進方向に一番近い側に設けられる。

動作時に、被検物１９０がトランスミッション部品１３０により伝送され、まず第１の反射型センサ３１０を通過してから、第２の反射型センサ３２０を通過する。第１の反射型センサ３１０が被検物１９０を感知すると、プロセッサー１４０により、トランスミッション部品１３０が被検物１９０を減速して伝送するように制御される。そして、第２の反射型センサ３２０が被検物１９０を感知すると、プロセッサー１４０によりトランスミッション部品１３０が被検物１９０に対する伝送を一時中止するように制御されることで、Ｘ線発生器１１２がＸ線を発生し、Ｘ線検出器１１４がＸ線発生器１１２から発生して被検物１９０を通過するＸ線を検出する。これにより、Ｘ線発生器１１２とＸ線検出器１１４は被検物１９０に対して光走査を行うことができる。

又は、光走査を行う前に、例として、プロセッサー１４０は、Ｘ線発生器１１２とＸ線検出器１１４によって被検物１９０の実際停止位置と目標位置（例えば、システムデフォルト値）との間のオフセット量を確認することができる。プロセッサー１４０は、トランスミッション部品１３０によって被検物１９０の位置を微調整し又はＸ線発生器１１２と／又はＸ線検出器１１４を移動して、前記オフセット量の影響を除き、光学検出設備３００の光走査をより正確にすることができる。

図４において、反射型センサ１２０は、第１の反射型センサ４１０及び第２の反射型センサ４２０を含む。構造上、第１の反射型センサ４１０がＸ線検出器１１４に設けられ、第２の反射型センサ４２０がＸ線発生器１１２に設けられ、第１の反射型センサ４１０及び第２の反射型センサ４２０が垂直投影において互いにオフセットされ、第２の反射型センサ４２０がＸ線出力ポート１１３の被検物１９０の前進方向に一番遠い側に設けられる。

動作時に、被検物１９０がトランスミッション部品１３０により伝送され、まず第１の反射型センサ４１０を通過してから、第２の反射型センサ４２０を通過する。第１の反射型センサ４１０が被検物１９０を感知すると、プロセッサー１４０により、トランスミッション部品１３０が被検物１９０を減速して伝送するように制御される。そして、第２の反射型センサ４２０が被検物１９０を感知すると、プロセッサー１４０によりトランスミッション部品１３０が被検物１９０に対する伝送を一時中止するように制御されることで、Ｘ線発生器１１２がＸ線を発生し、Ｘ線検出器１１４がＸ線発生器１１２から発生して被検物１９０を通過するＸ線を検出する。これにより、Ｘ線発生器１１２とＸ線検出器１１４は被検物１９０に対して光走査を行うことができる。

又は、光走査を行う前に、例として、プロセッサー１４０は、Ｘ線発生器１１２とＸ線検出器１１４によって被検物１９０の実際停止位置と目標位置（例えば、システムデフォルト値）との間のオフセット量を確認することができる。プロセッサー１４０は、トランスミッション部品１３０によって被検物１９０の位置を微調整し又はＸ線発生器１１２と／又はＸ線検出器１１４を移動して、前記オフセット量の影響を除き、光学検出設備４００の光走査をより正確にすることができる。

図５において、反射型センサ１２０は、第１の反射型センサ５１０及び第２の反射型センサ５２０を含む。構造上、第１の反射型センサ５１０がＸ線検出器１１４に設けられ、第２の反射型センサ５２０がＸ線検出器１１４に設けられ、第１の反射型センサ５１０と第２の反射型センサ５２０とが互いに離隔される。具体的に、第１の反射型センサ５１０は、第２の反射型センサ５２０よりも被検物１９０の前進方向に近い。

動作時に、被検物１９０がトランスミッション部品１３０により伝送され、まず第１の反射型センサ５１０を通過してから、第２の反射型センサ５２０を通過する。第１の反射型センサ５１０が被検物１９０を感知すると、プロセッサー１４０により、トランスミッション部品１３０が被検物１９０を減速して伝送するように制御される。そして、第２の反射型センサ５２０が被検物１９０を感知すると、プロセッサー１４０によりトランスミッション部品１３０が被検物１９０に対する伝送を一時中止するように制御されることで、Ｘ線発生器１１２がＸ線を発生し、Ｘ線検出器１１４がＸ線発生器１１２から発生して被検物１９０を通過するＸ線を検出する。これにより、Ｘ線発生器１１２とＸ線検出器１１４は被検物１９０に対して光走査を行うことができる。

又は、光走査を行う前に、例として、プロセッサー１４０は、Ｘ線発生器１１２とＸ線検出器１１４によって被検物１９０の実際停止位置と目標位置（例えば、システムデフォルト値）との間のオフセット量を確認することができる。プロセッサー１４０は、トランスミッション部品１３０によって被検物１９０の位置を微調整し又はＸ線発生器１１２と／又はＸ線検出器１１４を移動して、前記オフセット量の影響を除き、光学検出設備５００の光走査をより正確にすることができる。

図６において、反射型センサ１２０は、単一の反射型センサ６１０を含む。構造上、反射型センサ６１０がＸ線発生器１１２に設けられる。具体的に、反射型センサ６１０は、Ｘ線出力ポート１１３の被検物１９０の前進方向に一番近い側に設けられてよい。

動作時に、被検物１９０は、トランスミッション部品１３０により伝送される。反射型センサ６１０が被検物１９０を感知すると、プロセッサー１４０は、トランスミッション部品１３０の伝動速度により停止時点を予測し、更に前記停止時点にトランスミッション部品１３０の被検物１９０に対する伝送を一時中止するように制御することで、Ｘ線発生器１１２がＸ線を発生し、Ｘ線検出器１１４がＸ線発生器１１２から発生して被検物１９０を通過するＸ線を検出するようにする。これにより、Ｘ線発生器１１２とＸ線検出器１１４は被検物１９０に対して光走査を行うことができる。

又は、光走査を行う前に、例として、プロセッサー１４０は、Ｘ線発生器１１２とＸ線検出器１１４によって被検物１９０の実際停止位置と目標位置（例えば、システムデフォルト値）との間のオフセット量を確認することができる。プロセッサー１４０は、トランスミッション部品１３０によって被検物１９０の位置を微調整し又はＸ線発生器１１２と／又はＸ線検出器１１４を移動して、前記オフセット量の影響を除き、光学検出設備６００の光走査をより正確にすることができる。

図７において、反射型センサ１２０は、単一の反射型センサ７１０を含む。構造上、反射型センサ７１０がＸ線検出器１１４に設けられる。

動作時に、被検物１９０はトランスミッション部品１３０により伝送される。反射型センサ７１０が被検物１９０を感知すると、プロセッサー１４０は、トランスミッション部品１３０の伝動速度により停止時点を予測し、更に前記停止時点にトランスミッション部品１３０の被検物１９０に対する伝送を一時中止するように制御することで、Ｘ線発生器１１２がＸ線を発生し、Ｘ線検出器１１４がＸ線発生器１１２から発生して被検物１９０を通過するＸ線を検出するようにする。これにより、Ｘ線発生器１１２とＸ線検出器１１４は被検物１９０に対して光走査を行うことができる。

又は、光走査を行う前に、例として、プロセッサー１４０は、Ｘ線発生器１１２とＸ線検出器１１４によって被検物１９０の実際停止位置と目標位置（例えば、システムデフォルト値）との間のオフセット量を確認することができる。プロセッサー１４０は、トランスミッション部品１３０によって被検物１９０の位置を微調整し又はＸ線発生器１１２と／又はＸ線検出器１１４を移動して、前記オフセット量の影響を除き、光学検出設備７００の光走査をより正確にすることができる。

本発明の実施形態を前述の通りに開示したが、これは、本発明を限定するものではなく、当業者であれば、本発明の精神と範囲から逸脱しない限り、多様の変更や修飾を加えてもよく、したがって、本発明の保護範囲は、後の特許請求の範囲で指定した内容を基準とするものである。

下記の添付符号についての説明は、本発明の上記及び他の目的、特徴、メリット及び実施例をより分かりやすくするためのものである。
１００、２００、３００、４００、５００、６００、７００光学検出設備
１１０光走査装置
１１２Ｘ線発生器
１１３Ｘ線出力ポート
１１４Ｘ線検出器
１２０反射型センサ
１３０トランスミッション部品
１４０プロセッサー
１９０被検物
２１０、３１０、４１０、５１０第１の反射型センサ
２２０、３２０、４２０、５２０第２の反射型センサ
６１０、７１０反射型センサ

Claims

光走査装置と、
前記光走査装置に設けられる少なくとも１つの反射型センサと、
被検物を伝送するためのトランスミッション部品と、
前記光走査装置、前記反射型センサと前記トランスミッション部品に電気的に接続され、前記反射型センサが前記被検物を感知した後で、前記トランスミッション部品が前記被検物に対する伝送を一時中止するように制御することで、前記光走査装置が前記被検物に対して光走査を行うようにするプロセッサーと、
を含む光学検出設備。
前記光走査装置は、
前記トランスミッション部品の一方に位置し、Ｘ線の発生に用いられるＸ線発生器と、
前記トランスミッション部品の他方に位置し、前記Ｘ線発生器から発生し前記被検物を通過する前記Ｘ線を検出するためのＸ線検出器と、
を含む請求項１に記載の光学検出設備。
前記反射型センサは、前記Ｘ線発生器と前記Ｘ線検出器の少なくとも一方に設けられる請求項２に記載の光学検出設備。
前記反射型センサは、
前記Ｘ線発生器に設けられ、前記被検物を感知すると、前記プロセッサーにより前記トランスミッション部品が前記被検物を減速して伝送するように制御される第１の反射型センサと、
前記Ｘ線発生器に設けられ、前記第１の反射型センサと互いに離隔され、前記被検物を感知すると、前記プロセッサーにより前記トランスミッション部品が前記被検物に対する伝送を一時中止するように制御される第２の反射型センサと、
を含む請求項３に記載の光学検出設備。
前記Ｘ線発生器にＸ線出力ポートがあり、前記第１の反射型センサと前記第２の反射型センサはそれぞれ前記Ｘ線出力ポートの対向する両側に設けられる請求項４に記載の光学検出設備。
前記反射型センサは、
前記Ｘ線発生器に設けられ、前記被検物を感知すると、前記プロセッサーにより前記トランスミッション部品が前記被検物を減速して伝送するように制御される第１の反射型センサと、
前記Ｘ線検出器に設けられ、前記第１の反射型センサと互いに離隔され、前記被検物を感知すると、前記プロセッサーにより前記トランスミッション部品が前記被検物に対する伝送を一時中止するように制御される第２の反射型センサと、
を含む請求項３に記載の光学検出設備。
前記反射型センサは、
前記Ｘ線検出器に設けられ、前記被検物を感知すると、前記プロセッサーにより前記トランスミッション部品が前記被検物を減速して伝送するように制御される第１の反射型センサと、
前記Ｘ線発生器に設けられ、前記第１の反射型センサと互いに離隔され、前記被検物を感知すると、前記プロセッサーにより前記トランスミッション部品が前記被検物に対する伝送を一時中止するように制御される第２の反射型センサと、
を含む請求項３に記載の光学検出設備。
前記反射型センサは、
前記Ｘ線検出器に設けられ、前記被検物を感知すると、前記プロセッサーにより前記トランスミッション部品が前記被検物を減速して伝送するように制御される第１の反射型センサと、
前記Ｘ線検出器に設けられ、前記第１の反射型センサと互いに離隔され、前記被検物を感知すると、前記プロセッサーにより前記トランスミッション部品が前記被検物に対する伝送を一時中止するように制御される第２の反射型センサと、
を含む請求項３に記載の光学検出設備。
前記反射型センサは、単一の反射型センサであり、前記単一の反射型センサが前記Ｘ線発生器又は前記Ｘ線検出器に設けられ、前記単一の反射型センサが前記被検物を感知すると、前記プロセッサーは、前記トランスミッション部品の伝動速度により停止時点を予測し、更に前記停止時点に前記トランスミッション部品が前記被検物に対する伝送を一時中止させるようにする請求項３に記載の光学検出設備。
前記被検物は、回路基板である請求項１に記載の光学検出設備。