KR20150003164A - 노광 묘화 장치, 프로그램을 기록한 기록 매체, 및 노광 묘화 방법 - Google Patents

Abstract

제 1 면 및 상기 제 1 면에 대향하는 제 2 면을 갖는 피노광 기판을 노광함으로써 회로 패턴을 묘화하는 노광 수단을 구비한 노광 묘화 장치에 있어서의 노광 묘화 방법으로서, 피노광 기판의 제 2 면의 미리 정해진 위치에 노광 위치의 기준으로 하는 제 1 마크를 형성함과 아울러, 제 1 마크에 대한 상대 위치를 피노광 기판마다 다르게 함으로써 상기 상대 위치에 의해 피노광 기판을 식별하는 식별 정보를 나타내는 제 2 마크를 형성하는 마크 형성 수단과, 피노광 기판에 회로 패턴이 묘화하는 노광 수단을 제어하는 제어 수단과, 상대 위치에 의해 나타내어지는 식별 정보에 대응시켜서 제 1 면의 노광에 관한 정보를 기억하는 기억 수단에 기억하는 스텝을 행한다.

Description

노광 묘화 장치, 프로그램을 기록한 기록 매체, 및 노광 묘화 방법{EXPOSURE DRAWING DEVICE, RECORDING MEDIUM IN WHICH PROGRAM IS RECORDED, AND EXPOSURE DRAWING METHOD}

본 발명은 노광 묘화 장치, 프로그램을 기록한 기록 매체, 및 노광 묘화 방법에 관한 것이다. 본 발명은, 특히 기판에 대하여 화상을 묘화하는 노광 묘화 장치, 상기 노광 묘화 장치에 의해 실행되는 프로그램을 기록한 기록 매체, 및 기판에 대하여 화상을 묘화하는 노광 묘화 방법에 관한 것이다.

노광 묘화 장치를 사용해서 피노광 기판에 대하여 노광 처리를 행할 때에 묘화되는 회로 패턴의 묘화 위치를 조정하기 위해서 피노광 기판에는 얼라인먼트용 마크가 형성되어 있다. 노광 묘화 장치에서는 피노광 기판을 카메라 등의 촬영부에 의해 촬영함으로써 이 얼라인먼트용 마크의 위치를 검출하고, 검출한 위치에 의거하여 묘화 영역의 위치 맞춤을 행하고 있다.

이것에 관한 기술로서, 일본 특허 공개 2011-227363호 공보에는 얼라인먼트용 마크의 위치의 검출에 필요로 하는 시간을 단축할 수 있는 노광 묘화 장치가 개시되어 있다. 이 노광 묘화 장치는 촬영부에 의해 얻어지는 화상의 범위 내에 얼라인먼트용 마크가 존재하지 않을 경우, 화상의 범위 내에 존재하는 탐색용 마크 및 미리 기억된 얼라인먼트용 마크와 탐색용 마크의 위치 관계에 의거하여 얼라인먼트용 마크의 좌표가 산출되고, 산출된 좌표에 의거하여 촬영부를 이동시킨다. 이 구성에 의해, 얼라인먼트 마크의 위치의 검출 정밀도를 저하시키는 일 없이 얼라인먼트 마크의 위치의 검출에 필요로 하는 시간을 단축할 수 있다.

또한, 노광 묘화 장치를 사용해서 피노광 기판에 대하여 노광 처리를 행할 때에 각각의 피노광 기판을 식별하기 위한 식별용 마크를 형성하는 방법이 제안되어 있다. 예를 들면, 일본 특허 공개 평 4-82650호 공보에는 피노광 기판의 일단 가장자리를 따라 미리 정해진 약속에 따라 정렬하는 복수의 식별용 마크를 형성하는 방법이 개시되어 있다. 이 방법에서는 피노광 기판의 일단 가장자리에 홈을 형성함으로써 식별용 마크가 형성된다.

피노광 기판에 회로 패턴을 묘화할 때에 피노광 기판에 잘못된 회로 패턴이 묘화되거나 잘못된 노광 조건으로 회로 패턴이 묘화되거나 함으로써 불량품이 발생하는 것을 방지하기 위해서 노광 처리에 있어서 각각의 피노광 기판을 식별할 수 있는 것이 요망되고 있었다.

상기 일본 특허 공개 평 4-82650호 공보에 개시되어 있는 노광 묘화 장치에서는 각각의 피노광 기판을 식별할 수 있지만, 노광 처리를 행하기 위해서 필요한 구성과는 별개로 식별용 마크를 형성하기 위한 전용의 장치가 필요하게 된다. 노광 묘화 장치에 구비되어 있는 구성, 예를 들면 상기 일본 특허 공개 2011-227363호 공보에 개시되어 있는 얼라인먼트용 마크 등을 이용해서 각각의 피노광 기판을 식별할 수 있는 것이 바람직하다.

본 발명은 노광 처리를 행할 때에 각각의 피노광 기판을 간이하게 식별할 수 있는 노광 묘화 장치, 프로그램을 기록한 기록 매체, 및 노광 묘화 방법을 제공한다.

본 발명의 제 1 실시형태는 노광 묘화 장치로서, 제 1 면 및 상기 제 1 면에 대향하는 제 2 면을 갖는 피노광 기판을 노광함으로써 회로 패턴을 묘화하는 노광 수단과, 피노광 기판의 미리 정해진 위치에 노광 위치의 기준으로 하는 제 1 마크를 형성함과 아울러, 제 1 마크에 대한 상대 위치를 피노광 기판마다 다르게 함으로써 상기 상대 위치에 의해 피노광 기판을 식별하는 식별 정보를 나타내는 제 2 마크를 형성하는 마크 형성 수단과, 피노광 기판에 회로 패턴이 묘화되도록 노광 수단을 제어하는 제어 수단과, 상대 위치에 의해 나타내어지는 식별 정보에 대응시켜서 노광에 관한 정보를 기억하는 기억 수단을 구비하고 있다.

본 발명의 제 1 실시형태의 노광 묘화 장치에 의하면 노광 수단에 의해 제 1 면 및 상기 제 1 면에 대향하는 제 2 면을 갖는 피노광 기판을 노광함으로써 회로 패턴이 묘화된다.

여기에서, 본 발명의 제 1 실시형태에서는 마크 형성 수단에 의해 피노광 기판의 제 2 면의 미리 정해진 위치에 노광 위치의 기준으로 하는 제 1 마크가 형성됨과 아울러, 제 1 마크에 대한 상대 위치를 피노광 기판마다 다르게 함으로써 상기 상대 위치에 의해 피노광 기판을 식별하는 식별 정보를 나타내는 제 2 마크가 형성되고, 제어 수단에 의해 피노광 기판에 회로 패턴이 묘화되도록 노광 수단이 제어되고, 기억 수단에 의해 상대 위치에 의해 나타내어지는 식별 정보에 대응시켜서 노광에 관한 정보가 기억된다.

이와 같이 본 발명의 제 1 실시형태의 노광 묘화 장치에 의하면 제 1 면 및 제 2 면에 회로 패턴이 묘화되는 피노광 기판에 대하여 제 1 마크 및 제 2 마크를 형성하고, 피노광 기판의 식별 정보로서 제 1 마크에 대한 제 2 마크의 상대 위치를 사용함으로써 노광 처리를 행할 때에 각각의 피노광 기판을 간이하게 식별할 수 있다.

또한, 본 발명의 제 2 실시형태는 상기 제 1 실시형태에 있어서, 마크 형성 수단에 의해 형성된 제 1 마크 및 제 2 마크의 위치를 검출하는 검출 수단과, 검출 수단에 의해 검출된 위치에 의거하여 제 1 마크에 대한 제 2 마크의 상대 위치를 도출하는 도출 수단을 구비하고, 제어 수단은 제 1 면에 회로 패턴이 묘화되도록 노광 수단을 제어함과 아울러, 기억 수단으로부터 도출 수단에 의해 도출된 상대 위치에서 나타내어지는 식별 정보에 대응하는 제 1 면의 노광에 관한 정보를 취득하고, 상기 정보가 제 1 면의 노광이 정상적으로 행해진 것을 나타내고 있을 경우에 검출 수단에 의해 검출된 제 1 마크의 위치에 의거하여 결정되는 제 2 면의 노광 위치에 의거하여 제 2 면에 회로 패턴이 묘화되도록 노광 수단을 제어해도 좋다. 이것에 의해 본 발명의 제 2 실시형태는 제 2 면을 노광할 때에 제 1 면의 노광에 관한 정보에 의거하여 노광 조건을 결정할 수 있는 결과, 잘못된 노광 조건으로 노광되어서 불량품이 발생하는 것을 방지할 수 있다.

또한, 본 발명의 제 3 실시형태는 상기 제 1 실시형태에 있어서, 마크 형성 수단에 의해 형성된 제 1 마크 및 제 2 마크의 위치를 검출하는 검출 수단과, 검출 수단에 의해 검출된 위치에 의거하여 제 1 마크에 대한 제 2 마크의 상대 위치를 도출하는 도출 수단을 구비하고, 제어 수단은 제 1 면에 회로 패턴이 묘화되도록 노광 수단을 제어함과 아울러, 기억 수단으로부터 도출 수단에 의해 도출된 상대 위치에서 나타내어지는 식별 정보에 대응하는 제 1 면의 노광에 관한 정보를 취득하고, 상기 정보가 제 1 면의 노광이 정상적으로 행해지지 않은 것을 나타내고 있을 경우에 제 2 면에 회로 패턴이 묘화되지 않도록 노광 수단을 제어해도 좋다. 이것에 의해, 본 발명의 제 3 실시형태는 제 1 면의 노광이 정상적으로 행해지고 있지 않은 것을 알아차리지 못하고 제 2 면의 노광을 행해버리는 것을 방지할 수 있다.

또한, 본 발명의 제 4 실시형태는 상기 실시형태에 있어서, 노광에 관한 정보는 제 1 면의 노광이 정상적으로 행해졌는지의 여부를 나타내는 정보, 제 1 면의 노광에 관한 정보에 배율의 정보, 제 1 면에 묘화된 회로 패턴을 나타내는 정보, 및 피노광 기판의 노광 순서를 나타내는 정보 중 적어도 하나를 포함하고 있어도 좋다. 이것에 의해, 본 발명의 제 4 실시형태는 제 1 면의 노광 조건과 제 2 면의 노광 조건을 대응시킬 수 있는 결과, 불량품의 발생을 방지할 수 있다.

또한, 본 발명의 제 5 실시형태는 상기 실시형태에 있어서, 제 1 마크 및 제 2 마크를 동일한 형상으로 해도 좋다. 이것에 의해, 제 1 마크를 형성하는 장치 또는 제 1 마크를 형성하는 장치와 마찬가지의 구성을 갖는 장치를 사용해서 제 1 마크 및 제 2 마크를 형성할 수 있다.

또한, 본 발명의 제 6 실시형태는 상기 실시형태에 있어서, 검출 수단은 제 1 마크 및 제 2 마크를 촬영해서 얻어진 화상에 의거하여 제 1 마크 및 제 2 마크의 위치를 검출해도 좋다. 이것에 의해, 본 발명의 제 6 실시형태는 제 1 마크 및 제 2 마크의 위치를 간이하게 검출할 수 있다.

또한, 본 발명의 제 7 실시형태는 상기 실시형태에 있어서, 마크 형성 수단은 피노광 기판에 자외선 빔을 조사함으로써 제 1 마크 및 제 2 마크를 형성해도 좋다. 이것에 의해, 본 발명의 제 7 실시형태는 제 1 마크 및 제 2 마크를 간이하게 형성할 수 있다.

또한, 본 발명의 제 8 실시형태는 상기 실시형태에 있어서, 마크 형성 수단은 제 2 마크를 다른 위치에 복수 형성해도 좋다. 이것에 의해, 본 발명의 제 8 실시형태는 피노광 기판의 식별 가능한 수를 늘릴 수 있다.

또한, 본 발명의 제 9 실시형태는 노광 묘화 장치로서, 제 1 면 및 상기 제 1 면에 대향하는 제 2 면의 적어도 한쪽 면에 노광 위치의 기준으로 하는 제 1 마크가 미리 정해진 위치에 형성되고, 제 1 마크에 대한 상대 위치를 피노광 기판마다 다르게 함으로써 상기 상대 위치에 의해 피노광 기판을 식별하는 식별 정보를 나타내는 제 2 마크가 형성된 피노광 기판을 노광함으로써 회로 패턴을 묘화하는 노광 수단과, 마크 형성 수단에 의해 형성된 제 1 마크 및 제 2 마크의 위치를 검출하는 검출 수단과, 검출 수단에 의해 검출된 위치에 의거하여 제 1 마크에 대한 제 2 마크의 상대 위치를 도출하는 도출 수단과, 검출 수단에 의해 검출된 제 1 마크의 위치에 의거하여 결정되는 제 1 면의 노광 위치에 의거하여 제 1 면에 회로 패턴이 묘화되도록 노광 수단을 제어해서 도출 수단에 의해 도출된 상대 위치에서 나타내어지는 식별 정보에 대응시켜서 제 1 면의 노광에 관한 정보를 기억 수단에 기억시킴과 아울러, 기억 수단으로부터 도출 수단에 의해 도출된 상대 위치에서 나타내어지는 식별 정보에 대응하는 제 1 면의 노광에 관한 정보를 취득하고, 상기 정보에 의거하여 노광 조건을 결정하고, 검출 수단에 의해 검출된 제 1 마크의 위치에 의거하여 결정되는 제 2 면의 노광 위치에 의거하여 제 2 면에 회로 패턴이 묘화되도록 노광 수단을 제어하는 제어 수단을 구비하고 있다.

본 발명의 제 9 실시형태의 노광 묘화 장치에 의하면 제 2 면을 노광할 때에 제 1 면의 노광에 관한 정보에 의거하여 노광 조건을 결정할 수 있는 결과, 잘못된 노광 조건으로 노광되어서 불량품이 발생하는 것을 방지할 수 있다.

본 발명의 제 10 실시형태는 제 1 면 및 상기 제 1 면에 대향하는 제 2 면을 갖는 피노광 기판을 노광함으로써 회로 패턴을 묘화하는 노광 수단을 구비한 노광 묘화 장치에 있어서 실행되는 프로그램을 기록한 기록 매체로서, 컴퓨터를 피노광 기판의 미리 정해진 위치에 노광 위치의 기준으로 하는 제 1 마크를 형성함과 아울러, 제 1 마크에 대한 상대 위치를 피노광 기판마다 다르게 함으로써 상기 상대 위치에 의해 피노광 기판을 식별하는 식별 정보를 나타내는 제 2 마크를 형성하는 마크 형성 수단과, 피노광 기판에 회로 패턴이 묘화되도록 노광 수단을 제어하는 제어 수단과, 상대 위치에 의해 나타내어지는 식별 정보에 대응시켜서 노광에 관한 정보를 기억하는 기억 수단으로서 기능시킨다.

따라서, 본 발명의 제 10 실시형태의 프로그램을 기록한 기록 매체에 의하면 컴퓨터를 본 발명의 제 1 실시형태와 마찬가지로 작용시킬 수 있으므로 노광 처리를 행할 때에 각각의 피노광 기판을 간이하게 식별할 수 있다.

또한, 본 발명의 제 11 실시형태는 상기 제 10 실시형태에 있어서, 컴퓨터를 마크 형성 수단에 의해 형성된 제 1 마크 및 제 2 마크의 위치를 검출하는 검출 수단과, 검출 수단에 의해 검출된 위치에 의거하여 제 1 마크에 대한 제 2 마크의 상대 위치를 도출하는 도출 수단으로서 더 기능시키고, 제어 수단은 제 1 면에 회로 패턴이 묘화되도록 노광 수단을 제어하고, 제 2 면에 제 1 마크 및 제 2 마크를 형성하도록 마크 형성 수단을 제어함과 아울러, 기억 수단으로부터 도출 수단에 의해 도출된 상대 위치에서 나타내어지는 식별 정보에 대응하는 제 1 면의 노광에 관한 정보를 취득하고, 상기 정보에 의거하여 노광 조건을 결정하고, 검출 수단에 의해 검출된 제 1 마크의 위치에 의거하여 결정되는 제 2 면의 노광 위치에 의거하여 제 2 면에 회로 패턴이 묘화되도록 노광 수단을 제어해도 좋다. 이것에 의해, 본 발명의 제 11 실시형태는 본 발명의 제 2 실시형태와 마찬가지로 잘못된 노광 조건으로 노광되어서 불량품이 발생하는 것을 방지할 수 있다.

본 발명의 제 12 실시형태는 제 1 면 및 상기 제 1 면에 대향하는 제 2 면을 갖는 피노광 기판을 노광함으로써 회로 패턴을 묘화하는 노광 수단을 구비한 노광 묘화 장치에 있어서의 노광 묘화 방법으로서, 피노광 기판의 제 2 면의 미리 정해진 위치에 노광 위치의 기준으로 하는 제 1 마크를 형성함과 아울러, 제 1 마크에 대한 상대 위치를 피노광 기판마다 다르게 함으로써 상기 상대 위치에 의해 피노광 기판을 식별하는 식별 정보를 나타내는 제 2 마크를 형성하는 마크 형성 스텝과, 피노광 기판의 제 1 면에 회로 패턴이 묘화되도록 노광 수단을 제어하는 제 1 제어 스텝과, 상대 위치에 의해 나타내어지는 식별 정보에 대응시켜서 제 1 면의 노광에 관한 정보를 기억 수단에 기억하는 기억 스텝을 구비하고 있다.

따라서, 본 발명의 제 12 실시형태의 노광 묘화 방법에 의하면 본 발명의 제 1 실시형태와 마찬가지로 작용하므로 노광 처리를 행할 때에 각각의 피노광 기판을 간이하게 식별할 수 있다.

또한, 본 발명의 제 13 실시형태는 상기 제 12 실시형태에 있어서, 마크 형성 스텝에 의해 형성된 제 1 마크 및 제 2 마크의 위치를 검출하는 검출 스텝과, 검출 스텝에 의해 검출된 위치에 의거하여 제 1 마크에 대한 제 2 마크의 상대 위치를 도출하는 도출 스텝과, 기억 수단으로부터 도출 수단에 의해 도출된 상대 위치에서 나타내어지는 식별 정보에 대응하는 제 1 면의 노광에 관한 정보를 취득하고, 상기 정보에 의거하여 노광 조건을 결정하고, 검출 스텝에 의해 검출된 제 1 마크의 위치에 의거하여 결정되는 제 2 면의 노광 위치에 의거하여 제 2 면에 회로 패턴이 묘화되도록 노광 수단을 제어하는 제 2 제어 스텝을 더 행하도록 해도 좋다. 이것에 의해, 본 발명의 제 13 실시형태는 본 발명의 제 2 실시형태와 마찬가지로 잘못된 노광 조건으로 노광되어서 불량품이 발생하는 것을 방지할 수 있다.

(발명의 효과)

본 발명의 상기 실시형태에 의하면 노광 처리를 행할 때에 각각의 피노광 기판을 간이하게 식별할 수 있다.

도 1은 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템의 전체의 구성을 나타내는 구성도이다.
도 2는 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템의 기능을 나타내는 블록도이다.
도 3a는 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템의 피노광 기판의 표면에 노광을 행했을 경우의 상기 표면의 일례를 나타내는 정면도이다.
도 3b는 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 피노광 기판의 이면에 노광을 행했을 경우의 상기 이면의 일례를 나타내는 정면도이다.
도 4는 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치 및 제 2 묘화 노광 묘화 장치의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 5는 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치 및 제 2 노광 묘화 장치의 자외선 광원에 대해서 설명하기 위한 확대 단면도이다.
도 6은 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템의 반전 장치에 있어서의 반전 기구의 구성을 나타내는 개략 측정면도이다.
도 7은 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치 및 제 2 노광 묘화 장치의 전기 계통을 나타내는 구성도이다.
도 8은 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 있어서 스테이지의 이동 방향과 촬영부의 이동 방향의 관계를 나타내는 도면이다.
도 9는 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템의 제어 장치의 전기 계통의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 10은 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 의한 노광 처리를 설명하기 위한 개략도이다.
도 11은 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 전처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이다.
도 12는 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 전처리를 설명하기 위한 개략 정면도이다.
도 13은 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 제 1 노광 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이다.
도 14는 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 제 1 노광 처리를 설명하기 위한 개략 정면도이다.
도 15는 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 있어서의 노광 상태 정보의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 16은 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 제 2 노광 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이다.
도 17은 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 제 2 노광 처리를 설명하기 위한 개략 정면도이다.
도 18은 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 있어서의 얼라인먼트용 마크 및 식별용 마크의 상대 위치의 일례를 나타내는 도면이다.
도 19는 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 있어서의 얼라인먼트용 마크 및 식별용 마크의 상대 위치의 일례를 나타내는 도면이다.
도 20은 본 발명의 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 있어서의 얼라인먼트용 마크(식별용 마크)의 상대 위치의 일례를 나타내는 도면이다.
도 21a는 본 발명의 제 2 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템의 피노광 기판의 표면에 노광을 행했을 경우의 상기 표면의 일례를 나타내는 정면도이다.
도 21b는 본 발명의 제 2 예시적 실시형태에 의한 피노광 기판의 이면에 노광을 행했을 경우의 상기 이면의 일례를 나타내는 정면도이다.
도 22는 본 발명의 제 2 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 의한 노광 처리를 설명하기 위한 개략도이다.
도 23은 본 발명의 제 2 예시적 실시형태에 의한 제 1 노광 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이다.
도 24는 본 발명의 제 2 예시적 실시형태에 의한 제 2 노광 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이다.

[제 1 예시적 실시형태]

이하, 본 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 대해서 첨부 도면을 사용해서 상세하게 설명한다. 또한, 본 예시적 실시형태에서는 노광 묘화 시스템(1)으로서 프린트 배선 기판 및 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판 등의 평판 기판을 피노광 기판[후술하는 피노광 기판(C)]으로 하고, 피노광 기판(C)의 주면인 제 1 면(이하, 「표면」이라고도 한다)(C1) 및 제 1 면(C1)과 대향하는 주면인 제 2 면(이하, 「이면」이라고도 한다)(C2)의 쌍방에 대하여 노광 묘화를 행하는 시스템을 예로 해서 설명한다.

도 1은 본 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)의 전체의 구성을 나타내는 구성도이다. 또한, 도 2는 본 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)의 기능을 나타내는 블록도이다. 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이 노광 묘화 시스템(1)은 제 1 노광 묘화 장치(2), 반전 장치(3), 제 2 노광 묘화 장치(4), 제 1 반송부(5), 제 2 반송부(6), 제 3 반송부(7), 제 4 반송부(8), 및 제어 장치(9)를 구비하고 있다. 제 1 노광 묘화 장치(2)는 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)에 대하여 노광을 행함과 아울러 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에 마크[후술하는 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)]를 형성한다. 반전 장치(3)는 피노광 기판(C)의 표리를 반전한다. 제 2 노광 묘화 장치(4), 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에 대하여 노광을 행한다. 제 1 반송부(5)는 피노광 기판(C)을 제 1 노광 묘화 장치(2)로 반송한다. 제 2 반송부(6)는 피노광 기판(C)을 제 1 노광 묘화 장치(2)로부터 반전 장치(3)로 반송한다. 제 3 반송부(7)는 피노광 기판(C)을 반전 장치(3)로부터 제 2 노광 묘화 장치(4)로 반송한다. 제 4 반송부(8)는 피노광 기판(C)을 제 2 노광 묘화 장치(4)로부터 반송한다. 제어 장치(9)는 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)과 제 2 면(C2)의 노광을 서로 대응시키도록 제어한다.

도 3a는 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 있어서 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)에 노광을 행했을 경우의 상기 제 1 면(C1)의 일례를 나타내는 정면도이다. 도 3b는 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 있어서 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에 노광을 행했을 경우의 상기 제 2 면(C2)의 일례를 나타내는 정면도이다.

도 3a에 나타내는 바와 같이 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)에는 제 1 노광 묘화 장치(2)에 의해 표면용 화상(본 예시적 실시형태에서는 「F」형상의 화상)(P1)이 묘화된다. 또한, 도 3b에 나타내는 바와 같이 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에는 제 2 노광 묘화 장치(4)에 의해 이면용 화상[본 예시적 실시형태에서는 상기 제 1 면(C1)에 있어서의 「F」형상의 화상에 대응하는 제 2 면(C2)의 영역을 둘러싸는 직사각형의 프레임 형상의 화상](P2)이 제 1 면(C1)의 표면용 화상(P1)이 묘화되는 좌표계(이하, 「화상 좌표계」라고 한다)에 대응하는 화상 좌표계에서 묘화된다.

또한, 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에는 정면으로 볼 때 상부 중앙측 및 정면으로 볼 때 하부 중앙측에 제 1 노광 묘화 장치(2)에 의해 복수(본 예시적 실시형태에서는 2개)의 얼라인먼트용 마크(M1)가 각각 다른 위치에 묘화된다. 이 얼라인먼트용 마크(M1)는 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1) 및 제 2 면(C2)에 각각 묘화되는 표면용 화상(P1)의 위치와 이면용 화상(P2)의 위치를 서로 대응시키기 위한 마크이다. 피노광 기판(C)에는 위치를 특정하기 위해서 2개 이상의 얼라인먼트용 마크(M1)가 묘화된다.

또한, 제 2 면(C2)에는 정면으로 볼 때 좌부 중앙측 및 정면으로 볼 때 우부 중앙측에 제 1 노광 묘화 장치(2)에 의해 복수(본 예시적 실시형태에서는 2개)의 식별용 마크(M2)가 각각 다른 위치에 묘화된다. 이 식별용 마크(M2)는 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 상대 위치를 피노광 기판(C)마다 다르게 함으로써 그 상대 위치에 의해 피노광 기판(C)을 식별하는 식별 정보를 나타내는 마크이다. 피노광 기판(C)에는 상기 피노광 기판을 식별하기 위해서 1개 이상의 식별용 마크(M2)가 묘화된다.

본 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 있어서 피노광 기판(C)의 반송 방향의 상류측에 제 1 노광 묘화 장치(2)가 설치되어 있다. 제 1 노광 묘화 장치(2)는 제 1 반송부(5)에 의해 반송된 미노광의 피노광 기판(C)이 장치 내에 반입되면, 상술한 바와 같이 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)에 대하여 노광을 행하여 표면용 화상(P1)을 묘화함과 아울러 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)를 형성한다.

본 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)는 동일 형상, 구체적으로 φ0.5㎜~φ1㎜ 정도의 원형으로 묘화된다. 그러나, 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 사이즈나 형상은 이것에 한정되지 않고, 크기는 표면용 화상(P1) 및 이면용 화상(P2)의 묘화와 중복되지 않는 사이즈이면 좋고, 형상은 십자형의 형상이나 직사각형의 형상 등 임의로 설정되어도 좋다.

또한, 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)는 동일 사이즈, 동일형상이 아니어도 좋지만, 동일 사이즈, 동일 형상으로 함으로써 동일한 구성[본 예시적 실시형태에서는 자외선 광원(24)]을 사용해서 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2) 각각을 간이하게 묘화할 수 있다. 또한, 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)를 동일 사이즈, 동일 형상으로 함으로써 마찬가지의 방법[본 예시적 실시형태에서는 촬영부(23)에 의해 촬영하는 방법]에 의해 위치를 검출할 수 있다.

또한, 제 1 노광 묘화 장치(2)는 자외선 광원(24)의 위치에 의해 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 위치를 계측하고, 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치와, 제 1 면(C1)의 노광에 관한 정보와 대응해서 제어 장치(9)의 기억 장치[후술하는 기억부(41)]에 기억시킨다.

제 1 노광 묘화 장치(2)의 피노광 기판(C)의 반송 방향의 하류측에는 피노광 기판(C)의 표리를 반전하는 반전 장치(3)가 설치되어 있다. 반전 장치(3)는 제 1 노광 묘화 장치(2)에 의해 제 1 면(C1)이 노광되며, 또한 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)가 묘화된 피노광 기판(C)이 반입되면 다음 프로세스에서 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에 노광을 행하기 위해서 피노광 기판(C)의 표리를 반전시킨다.

반전 장치(3)의 피노광 기판(C)의 반송 방향의 하류측에는 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에 대하여 노광을 행하는 제 2 노광 묘화 장치(4)가 설치되어 있다. 제 2 노광 묘화 장치(4)는 반전 장치(3)에 의해 반전된 피노광 기판(C)이 장치 내에 반입되면 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에 대하여 노광을 행하여 이면용 화상(P2)을 묘화한다. 이때, 제 2 노광 묘화 장치(4)는 제 1 노광 묘화 장치(2)에 의해 피노광 기판(C)에 묘화된 얼라인먼트용 마크(M1)를 사용해서 위치 맞춤을 행한 후에 제 2 면(C2)에 대하여 노광을 행한다. 또한, 제 2 노광 묘화 장치(4)는 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 위치를 검출하고, 제어 장치(9)로부터 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치에 대응된 제 1 면의 노광에 관한 정보를 취득하고, 취득한 정보에 의거하여 노광 조건을 결정해서 제 2 면(C2)의 노광을 행한다.

또한, 본 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)은 제 1 반송 장치(5), 제 2 반송 장치(6), 제 3 반송 장치(7), 및 제 4 반송 장치(8)를 구비하고 있다. 제 1 반송 장치(5)는 제 1 노광 묘화 장치(2)까지 피노광 기판(C)을 반송해서 제 1 노광 묘화 장치(2)로 반입한다. 제 2 반송 장치(6)는 제 1 노광 묘화 장치(2)로부터 배출된 피노광 기판(C)을 반전 장치(3)까지 반송해서 반전 장치(3)로 반입한다. 제 3 반송 장치(7)는 반전 장치(3)로부터 배출된 피노광 기판(C)을 제 2 노광 묘화 장치(4)까지 반송해서 제 2 노광 묘화 장치(4)로 반송한다. 제 4 반송 장치(8)는 제 2 노광 묘화 장치(4)로부터 배출된 피노광 기판(C)을 반송한다.

상기 각 반송 장치는 복수의 회전 롤러와 회전 롤러를 회전하는 구동 모터를 갖고 있다. 회전 롤러는 복수개가 평행하게 부설되고, 회전 롤러의 일단에는 벨트 또는 와이어에 의해 전달되는 회전력을 받는 스프로킷 또는 활차가 부착된다. 회전 롤러를 회전하는 구동 모터의 회전력을 전달하는 수단으로서는 벨트 또는 와이어 이외에 원통형상의 마그넷에 의한 전달 방법도 채용할 수 있다.

또한, 노광 묘화 시스템(1)에는 제 1 노광 묘화 장치(2)에 의한 제 1 면(C1)의 노광과, 제 2 노광 묘화 장치(4)에 의한 제 2 면(C2)의 노광을 각각 대응시키도록 제어하는 제어 장치(9)가 설치되어 있다.

또한, 본 예시적 실시형태에서는 피노광 기판(C)의 스루풋(시간당 생산량)을 높이기 위해서 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(4)의 2대의 노광 묘화 장치를 사용해서 제 1 노광 묘화 장치(2)가 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)을 노광하고, 제 2 노광 묘화 장치(4)가 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)을 노광한다. 그러나, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 피노광 기판(C)을 제 1 면(C1)으로부터 제 2 면(C2)으로 반전하는 반전 장치(3)를 사용해서 제 1 노광 묘화 장치(2)만으로 피노광 기판(C)의 양면을 묘화하는 것도 가능하다.

이어서, 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(4)의 구성에 대해서 설명한다.

도 4은 본 예시적 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 묘화 노광 묘화 장치(4)의 구성을 나타내는 사시도이다. 여기에서는 제 1 노광 묘화 장치(2)의 구성에 대해서 설명하고, 제 2 노광 묘화 장치(4)의 구성에 관해서는 제 1 노광 묘화 장치(2)와 공통되는 구성에 대해서는 설명을 생략하고, 제 1 노광 묘화 장치(2)와의 차이에 대해서만 설명한다. 또한, 이하에서는 스테이지(10)가 이동하는 방향을 Y 방향으로 정하고, 이 Y 방향에 대하여 수평면 내에서 직교하는 방향을 X 방향으로 정하고, Y 방향으로 연직면 내에서 직교하는 방향을 Z 방향으로 정하고, 또한 Z축을 중심으로 해서 시계 방향으로 회전하는 회전 방향을 θ 방향으로 규정한다.

도 4에 나타내는 바와 같이 제 1 노광 묘화 장치(2)는 피노광 기판(C)을 고정하기 위한 평판상 스테이지(10)를 구비하고 있다. 스테이지(10)는 이동 가능하게 구성되어 있고, 스테이지(10)에 고정된 피노광 기판(C)은 스테이지(10)의 이동에 따라 피노광 기판(C)을 노광 위치까지 이동하고, 후술하는 노광부(16)에 의해 광 빔이 조사되어서 회로 패턴 등의 화상이 묘화된다.

스테이지(10)는 탁자형상의 기체(11)의 상면에 이동 가능하게 설치된 평판상의 기대(12)에 지지되어 있다. 또한, 기대(12)와 스테이지(10) 사이에 모터 등에 의해 구성된 이동 구동 기구(도시 생략)를 갖는 이동 기구부(13)가 형성되어 있고, 스테이지(10)는 이동 기구부(13)에 의해 기대(12)에 대하여 스테이지(10)에 적재된 피노광 기판(C)의 높이 방향(Z 방향)으로 평행 이동한다.

기체(11)의 상면에는 1개 또는 복수개(본 예시적 실시형태에서는 2개)의 가이드 레일(14)이 설치되어 있다. 기대(12)는 가이드 레일(14)에 의해 왕복 가능하게 이동 가능하게 지지되어 있고, 모터 등에 의해 구성된 스테이지 구동부[후술하는 스테이지 구동부(71)]에 의해 이동한다. 그리고, 스테이지(10)는 이 이동 가능한 기대(12)의 상면에 지지됨으로써 가이드 레일(14)을 따라 이동한다.

기체(11)의 상면에는 가이드 레일(14)을 넘도록 문형의 게이트(15)가 세워서 설치 되어 있고, 이 게이트(15)에는 노광부(16)가 부착되어 있다. 노광부(16)는 복수개(본 예시적 실시형태에서는 16개)의 노광 헤드(16a)로 구성되어 있고, 스테이지(10)의 이동 경로 상에 고정 배치되어 있다. 노광부(16)에는 광원 유닛(17)으로부터 인출된 광 섬유(18)와, 화상 처리 유닛(19)으로부터 인출된 신호 케이블(20)이 각각 접속되어 있다.

각 노광 헤드(16a)는 반사형의 공간 광변조 소자로서의 디지털 마이크로미러 디바이스(DMD)를 갖는다. 각 노광 헤드(16a)는 화상 처리 유닛(19)으로부터 입력되는 화상 데이터에 의거하여 DMD를 제어해서 광원 유닛(17)으로부터의 광 빔을 변조하고, 이 광 빔을 피노광 기판(C)에 조사한다. 이것에 의해, 본 예시적 실시형태에서는 제 1 노광 묘화 장치(2)에 의한 노광이 행해진다. 또한, 공간 광변조 소자로서 액정 등의 투과형의 공간 광변조 소자를 사용해도 좋다.

기체(11)의 상면에는 가이드 레일(14)을 넘도록 게이트(22)가 더 설치되어 있다. 게이트(22)에는 스테이지(10)에 적재된 피노광 기판(C)을 촬영하기 위한 1개 또는 복수개(본 예시적 실시형태에서는 3개)의 촬상부(23)가 부착되어 있다. 촬영부(23)는 1회의 발광 시간이 매우 짧은 스트로보스코프를 내장한 CCD 카메라 등이다. 각각의 촬영부(23)는 수평면 내에 있어서 스테이지(10)의 이동 방향(Y 방향)에 대하여 수직인 방향(X 방향)으로 이동 가능하게 설치되어 있다.

제 1 노광 묘화 장치(2)는 촬영부(23)에 의한 촬영 화상에 의거하여 얼라인먼트용 마크(M1)의 위치를 검출하고, 검출한 위치에 의거하여 표면용 화상(P1)의 제 1 면(C1)에 대한 노광 위치를 조정한다.

한편, 제 2 노광 묘화 장치(4)는 촬영부(23)에 의한 촬영 화상에 의거하여 얼라인먼트용 마크(M1)의 위치를 검출하고, 검출한 위치에 의거하여 이면용 화상(P2)의 제 2 면(C2)에 대한 노광 위치를 조정한다. 또한, 제 2 노광 묘화 장치(4)는 촬영부(23)에 의해 식별용 마크(M2)가 촬영된 화상으로부터 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 위치를 검출함과 아울러, 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치를 도출하고, 도출한 상대 위치에 의거하여 각각의 피노광 기판(C)을 식별한다.

또한, 촬영부(23)는 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 총 수에 따른 개수로 설치되는 것이 이상적이다. 이것에 한정되지 않고, 1개의 촬영부(23)가 설치됨과 아울러 이 촬영부(23)를 이동시킴으로써 복수의 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)를 연속적으로 촬영하도록 해도 좋다.

도 5는 본 예시적 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(4)의 자외선 광원(24)에 대해서 설명하기 위한 확대 단면도이다. 도 5에 나타내는 바와 같이 이동 기구부(13)에는 피노광 기판(C)에 대하여 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)를 묘화하기 위한 복수(본 예시적 실시형태에서는 4개) 자외선 광원(24)이 형성되어 있다. 복수의 자외선 광원(24)은 수평면상에 있어서 평행 이동하는 모터 등에 의해 구성된 이동 기구(24a)를 갖고 있고, 이동 기구(24a)에 의해 수평면상에 있어서 평행 이동한다.

한편, 스테이지(10)에는 각 변에 있어서 외주측으로부터 내주측을 향해서 연장된 슬릿상의 삽입 통과 구멍(25)이 형성되어 있다. 자외선 광원(24)으로부터 발생한 자외선 빔(UV)은 삽입 통과 구멍(25)을 통과한 후에 피노광 기판(C)에 조사된다. 이것에 의해, 피노광 기판(C)의 스테이지(10)에 접하고 있는 측의 면에 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)가 묘화된다. 자외선 빔(UV)의 조사 시간은 피노광 기판(C)에 도포되어 있는 감광 재료에 따라 각각 최적인 시간이 설정되면 좋다.

또한, 제 1 노광 묘화 장치(2)는 복수의 자외선 광원(24)을 구비하고 있지만, 제 2 노광 묘화 장치(4)는 반드시 자외선 광원(24)을 구비하고 있을 필요는 없다. 또한, 제 1 노광 묘화 장치(2)에는 복수의 자외선 광원(24)이 형성된다. 이것에 한정되지 않고, 1개의 자외선 광원(24)이 형성되고, 이 1개의 자외선 광원(24)을 이동 기구(13) 전체에 있어서 이동 가능하게 구성함으로써 단일의 자외선 광원(24)을 사용해서 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 쌍방을 포함한 모든 마크를 묘화하도록 해도 좋다.

제 1 노광 묘화 장치(2)에서는 이와 같이 동일한 구성의 자외선 광원(24)을 사용해서 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 쌍방을 묘화할 수 있기 때문에 새로운 구성을 추가하는 일 없이 피노광 기판(C)을 식별할 수 있다.

제 1 노광 묘화 장치(2)는 제 1 반송 장치(5)에 의해 반송되어 온 피노광 기판(C)을 제 1 노광 묘화 장치(2)의 내부로 반입하는 오토 캐리어 핸드(이하, AC 핸드)(26)를 구비하고 있다. AC 핸드(26)는 평판상으로 형성됨과 아울러 수평면과 평행하게 수평 방향 및 연직 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있다. 또한, AC 핸드(26)의 하면에는 에어를 흡인함으로써 피노광 기판(C)을 진공 흡착에 의해 흡착 유지하는 흡착부(27)를 갖는 흡착 기구와, 피노광 기판(C)을 하방을 향해서 압박하는 상하 이동 가능한 압박부(28)를 갖는 압박 기구가 설치되어 있다. AC 핸드(26)는 제 1 반송 장치(5)에 적재된 미노광의 피노광 기판(C)을 흡착 기구에 의해 흡착 유지함으로써 상방으로 리프팅하고, 리프팅한 피노광 기판(C)을 스테이지(10)의 상면의 미리 정해진 위치에 적재한다. 피노광 기판(C)을 적재시킬 때는 압박 기구에 의해 피노광 기판(C)을 스테이지(10)에 압박하면서 흡착부(63)에 의한 흡착을 해제함으로써 스테이지(10)의 진공 흡착이 작용하여 피노광 기판(C)은 스테이지(10)에 확실하게 고정된다.

또한, AC 핸드(26)는 스테이지(10)의 상면에 적재된 노광이 완료된 피노광 기판(C)을 흡착 기구에 의해 흡착 유지함으로써 상방으로 리프팅하고, 리프팅한 피노광 기판(C)을 흡착 유지한 상태로 제 2 반송 장치(6)까지 이동시킨 후에 흡착 기구에 의한 흡착을 해제함으로써 피노광 기판(C)을 제 2 반송 장치(6)로 이동시킨다.

도 6은 본 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)의 반전 장치(3)에 있어서의 반전 기구의 구성을 나타내는 개략측 정면도이다. 도 6에 나타내는 바와 같이 반전 장치(3)는 피노광 기판(C)을 끼우는 복수의 롤러(3a)를 갖는 롤러 유닛(3b)을 구비하고 있다. 롤러 유닛(3b)은 지지봉(4c)에 의해 지지되어 있고, 피노광 기판(C)이 끼워졌을 때 지지봉(4c)에 의해 들린 상태로 롤러 유닛(3b)의 중앙부에 설치된 회전축(3d)을 중심으로 해서 회전한다. 롤러 유닛(3b)이 180° 회전한 후에 피노광 기판(C)이 롤러 유닛(3b)으로부터 해방됨으로써 피노광 기판(C)의 표리가 반전된다. 또한, 반전 기구의 구성은 상술한 구성에 한정되지 않고, 피노광 기판(C)의 일단을 들어올려서 피노광 기판(C)을 180° 회전시켜서 피노광 기판(C)의 표리를 반전시키는 방법이나, 기타 종래 기지의 방법을 사용해도 좋다.

도 7은 본 예시적 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(4)의 전기 계통을 나타내는 구성도이다.

도 7에 나타내는 바와 같이 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(4)에는 장치 각 부에 각각 전기적으로 접속되는 시스템 제어부(30)가 형성되어 있고, 이 시스템 제어부(30)가 각 부를 통괄적으로 제어하고 있다. 시스템 제어부(30)는 AC 핸드(26)를 제어해서 피노광 기판(C) 스테이지(10)로의 반입 동작 및 배출 동작을 행하게 한다. 또한, 시스템 제어부(30)는 스테이지 구동부(31)를 제어해서 스테이지(10)의 이동을 행하게 하면서 자외선 광원(24)의 이동을 구동해서 피노광 기판(C)에 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)를 묘화시거나, 또는 촬영부(23)의 이동을 구동해서 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 촬영을 행함과 아울러 광원 유닛(17) 및 화상 처리 유닛(19)을 제어해서 노광 헤드(16a)에 노광 처리를 행하게 한다.

조작 장치(32)는 시스템 제어부(30)의 제어에 의해 정보를 표시하는 표시부와, 유저 조작에 의해 접수된 정보를 시스템 제어부(30)에 입력하는 입력부를 갖는다.

이동 제어부(33)는 시스템 제어부(30)의 제어에 의해 스테이지(10)의 이동 시에 피노광 기판(C)에 묘화된 복수의 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2) 각각이 복수의 촬영부(23) 각각의 촬영 영역의 중앙을 통과하도록 촬영부(23)의 이동 구동을 제어하고 있다. 또한, 이동 제어부(33)는 시스템 제어부(30)의 제어에 의해 이동 기구(24a)를 구동해서 각각의 자외선 광원(24)을 시스템 제어부(30)에 의해 지시된 위치까지 위치시킨다.

도 8은 본 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 있어서 스테이지(10)의 이동 방향과 촬영부(23)의 이동 방향의 관계를 나타내는 도면이다. 도 8에 나타내는 바와 같이 촬영부(23)의 이동 방향은 수평면 내에 있어서 스테이지(10)의 이동 방향(X 방향)에 대하여 수직인 방향(Y 방향)이다. 피노광 기판(C)에 묘화된 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)를 촬영부(23)로 촬영할 때에 스테이지(10)를 이동시킴으로써 X 방향의 위치를 조정하고, 촬영부(23)를 이동시킴으로써 Y 방향의 위치를 조정함으로써 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)가 촬영부(23)의 촬영 영역에 포함되도록 스테이지(10) 및 촬영부(23)의 상대 위치가 제어된다.

도 9는 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)의 제어 장치(9)의 전기 계통의 구성을 나타내는 블록도이다. 도 9에 나타내는 바와 같이 제어 장치(9)는 제어부(40), 기억부(41), 표시부(42), 입력부(43), 및 통신 인터페이스(44)를 구비하고 있다. 제어부(40)는 노광 묘화 시스템(1)에 있어서의 노광 처리를 제어한다. 기억부(41)는 제어부(40)에 의한 노광 처리에 필요한 노광 처리 프로그램이나 각종 데이터를 기억하는 ROM 및 HDD 등을 갖는다. 표시부(42)는 제어부(40)의 제어에 의거하여 데이터를 표시하는 디스플레이 등이다. 입력부(43)는 유저 조작에 의해 데이터를 입력하는 키보드 등이다. 통신 인터페이스(44)는 제어부(40)의 제어에 의거하여 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(4)에 대한 데이터의 송수신을 행한다.

여기에서, 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)에 노광한 후에 제 2 면(C2)에 노광할 때에 제 1 면(C1)의 노광 시의 노광 상태에 대응시켜서 제 2 면(C2)의 노광을 행하는 기능을 구비하고 있다.

도 10은 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 의한 노광 처리를 설명하기 위한 개략도이다. 도 10에 나타내는 바와 같이 노광 묘화 시스템(1)은 제 1 면(C1)에 대한 노광 처리 시에 제 2 면(C2)에 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)를 형성함과 아울러, 제 1 면(C1)에 표면용 화상(P1)을 묘화한다. 또한, 노광 묘화 시스템(1)은 피노광 기판(C)의 식별 정보로 하는 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치를 제 1 면(C1)의 노광에 관한 정보를 각각 대응시켜서 제어 장치(9)의 기억부(41)에 기억시킨다.

이어서, 노광 묘화 시스템(1)은 제 2 면(C2)에 대한 노광 처리 시에 제 2 면(C2)에 형성된 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 위치를 검출하고, 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치에 대응하는 제 1 면(C1)의 노광에 관한 정보를 취득한다. 또한, 노광 묘화 시스템(1)은 제 1 면(C1)에 묘화된 표면용 화상(P1)에 대하여 위치가 대응하도록 얼라인먼트용 마크(M1)의 위치에 의거하여 묘화 위치를 결정함과 아울러, 제 1 면(C1)의 노광에 관한 정보에 의거하여 노광 조건을 결정하고, 제 2 면(C2)에 이면용 화상(P2)을 묘화한다.

여기에서, 본 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 의한 처리의 흐름을 노광 전처리, 제 1 면(C1)의 제 1 노광 처리, 및 제 2 면(C2)의 제 2 노광 처리로 나누어서 설명한다.

도 11은 본 예시적 실시형태에 의한 노광 전처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이다. 상기 프로그램은 제 1 노광 묘화 장치(2)의 시스템 제어부(30)에 구비된 기록 매체인 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다. 또한, 도 12는 본 예시적 실시형태에 의한 노광 전처리를 설명하기 위한 개략 정면도이다.

제 1 노광 묘화 장치(2)의 시스템 제어부(30)는 미리 정해진 타이밍[본 예시적 실시형태에서는 피노광 기판(C)이 스테이지(10)에 적재된 타이밍]에서 상기 노광 전처리 프로그램을 실행한다.

피노광 기판(C)이 스테이지(10)에 적재되면 스텝 S101에 있어서 시스템 제어부(30)는 자외선 광원(24) 각각의 위치를 설정한다. 도 12에 나타내는 바와 같이 본 예시적 실시형태에서는 얼라인먼트용 마크(M1)를 형성하는 자외선 광원(24)이 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)의 정면으로 볼 때 상하 방향의 단부에 식별용 마크(M2)를 형성하는 자외선 광원(24)이 제 1 면(C1)의 정면으로 볼 때 좌우 방향의 단부에 각각 위치하도록 설정된다. 또한, 이때 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치가 피노광 기판(C)의 식별 정보로서 사용되기 때문에 자외선 광원(24)의 이동 정밀도 및 촬영부(23)의 이동 정밀도나 촬영 정밀도를 고려한 후에 상기 상대 위치가 피노광 기판(C)마다 고유해지도록 자외선 광원(24) 각각의 위치가 설정된다.

스텝 S103에 있어서 시스템 제어부(30)는 스텝 S101에서 설정된 위치로 자외선 광원(24) 각각을 이동시킨다. 또한, 스텝 S105에 있어서 시스템 제어부(30)는 촬영부(23)에 의한 촬영 위치에 스테이지(10)를 이동시킨다. 이때, 시스템 제어부(30)는 스테이지(10)를 가이드 레일(14)을 따라 Y 방향으로 이동시킴과 아울러 촬영부(23)에 의한 촬영 영역에 자외선 광원(24)이 포함되는 위치로 스테이지(10)를 이동시켜서 정지한다.

스텝 S107에 있어서 시스템 제어부(30)는 자외선 광원(24)의 위치를 계측한다. 이때, 시스템 제어부(30)는 촬영부(23) 각각의 촬영 영역에 자외선 광원(24) 각각이 포함되는 위치에 촬영부(23)를 이동시켜서 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)을 촬영시키고, 촬영부(23)로부터 촬영 화상을 취득한다. 시스템 제어부(30)는 취득한 촬영 화상으로부터 촬영부(23) 각각의 위치를 계측해서 노광 전처리 프로그램을 종료한다. 도 13에 나타내는 바와 같이 노광 전처리의 단계에서는 스테이지 좌표계에 있어서 미리 정해진 위치에 각각의 자외선 광원(24)이 배치된다.

제 1 노광 묘화 장치(2)의 시스템 제어부(30)는 노광 전처리가 완료된 타이밍에서 제 1 노광 처리를 실행한다. 도 13은 본 예시적 실시형태에 의한 제 1 노광 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이며, 상기 프로그램은 제 1 노광 묘화 장치(2)의 시스템 제어부(30)에 구비된 기록 매체인 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다. 또한, 도 14는 본 예시적 실시형태에 의한 제 1 노광 처리를 설명하기 위한 개략 정면도이다.

스텝 S201에 있어서 시스템 제어부(30)는 피노광 기판(C)에 대한 노광 위치에 스테이지(10)를 이동시킨다. 이때, 시스템 제어부(30)는 스테이지(10)를 가이드 레일(14)을 따라 Y 방향으로 이동시킴과 아울러 노광 헤드(16a)에 의한 노광 대상 위치가 피노광 기판(C)에 있어서 표면용 화상(P1)을 묘화할 때의 개시 위치와 일치하는 위치까지 스테이지(10)를 이동시켜서 정지시킨다.

스텝 S203에 있어서 시스템 제어부(30)는 각 노광 헤드(16a)에 의한 노광을 개시하고, 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)에 표면용 화상(P1)을 묘화한다. 또한, 스텝 S205에 있어서 시스템 제어부(20)는 자외선 광원(24)으로부터 자외선 빔(UV)을 발생시켜 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)를 묘화한다. 또한, 스텝 203의 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)에 대한 처리와 스텝 S205의 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에 대한 처리는 상호의 처리를 방해하는 것이 아니고, 동시 병행해서 행할 수 있다. 이 때문에, 스텝 S203 및 스텝 S205의 처리를 동시에 행해도 좋고, 또는 스텝 S203의 처리 전에 스텝 S205의 처리를 행해도 좋다. 도 14에 나타내는 바와 같이 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)에 표면용 화상(P1)이 묘화되고, 제 2 면(C2)에 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)가 묘화된다.

이와 같이 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)에 표면용 화상(P1)을 묘화하는 것에 있어서 제 2 면(C2)에 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)를 묘화한다. 이것에 의해, 본 예시적 실시형태는 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)를 묘화하는 처리를 별도로 행할 필요가 없다. 이것에 의해, 본 예시적 실시형태는 노광 묘화 처리의 사이클 타임에 영향을 끼치는 일 없이 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 베이킹의 홀딩 타임을 길게 확보해서 촬영 화상에 있어서의 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 콘트라스트를 향상할 수 있다.

또한, 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)는 자외선 빔(UV)이 조사되어서 베이킹됨으로써 피노광 기판(C)에 있어서 시인 가능하게 표시되기 때문에 촬영부(23)로 촬영함으로써 묘화 후 즉시 그 위치나 형상을 확인할 수 있다.

스텝 S207에 있어서 시스템 제어부(30)는 스텝 S107에 있어서 계측된 자외선 광원(24)의 위치와, 스텝 S203에 있어서의 표면용 화상(P1)의 묘화 위치의 위치 관계를 제어 장치(9)의 기억부(41)에 기억시킨다.

또한, 스텝 S209에 있어서 스텝 S107에 있어서 계측된 자외선 광원(24)의 위치 관계로부터 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치를 도출해서 이 상대 위치를 피노광 기판(C)의 식별 정보로 하고, 스텝 S203에 있어서의 묘화 시의 제 1 면(C1)의 노광에 관한 정보를 식별 정보에 대응시켜 노광 상태 정보(50)로서 제어 장치(9)의 기억부(41)에 기억시킨다.

도 15는 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 있어서의 노광 상태 정보(50)의 일례를 나타내는 모식도이다. 도 15에 나타내는 바와 같이 본 예시적 실시형태에서는 노광 상태 정보(50)에 있어서 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치를 나타내는 식별 정보(51)에 대하여 제 1 면(C1)에 노광된 화상을 나타내는 화상 정보(51), 제 1 면(C1)에 노광된 화상의 배율을 나타내는 배율 정보(52), 제 1 면(C1)의 노광에 성공했는지 실패했는지를 나타내는 결과 정보(53), 및 피노광 기판(C)의 노광 순서를 나타내는 번호를 나타내는 번호 정보(54) 등이 대응된 정보이다. 노광 상태 정보(50)는 제 2 면(C2)의 노광 시에 참조된다. 또한, 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치는 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 위치 벡터로 나타내어진다.

스텝 S211에 있어서 시스템 제어부(30)는 피노광 기판(C)의 적재 위치까지 스테이지(10)를 이동시키고, 제 1 노광 처리 프로그램을 종료한다. 스테이지(10)가 피노광 기판(C)의 적재 위치까지 이동하면 피노광 기판(C)은 AC 핸드(26)에 흡착 유지됨으로써 제 2 반송 장치(6)로 이동하고, 제 2 반송 장치(6)에 의해 반전 장치(3)로 반송되고, 반전 장치(3)에 의해 표리가 반전된 후에 제 3 반송 장치(7)에 의해 제 2 노광 묘화 장치(4)로 반송된다.

제 2 노광 묘화 장치(4)의 시스템 제어부(30)는 미리 정해진 타이밍[본 예시적 실시형태에서는 피노광 기판(C)이 스테이지(10)에 적재된 타이밍]에서 제 2 노광 처리 프로그램을 실행한다.

도 16은 본 예시적 실시형태에 의한 제 2 노광 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이며, 상기 프로그램은 제 2 노광 묘화 장치(4)의 시스템 제어부(30)에 구비된 기록 매체인 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다. 또한, 도 17은 본 예시적 실시형태에 의한 제 2 노광 처리를 설명하기 위한 개략 정면도이다.

스텝 S301에 있어서 시스템 제어부(30)는 피노광 기판(C)이 적재된 스테이지(10)를 스텝 S207에 있어서 묘화된 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2) 각각이 촬상 장치(23) 각각의 촬상 영역에 포함되는 위치로 이동시킨다. 이때, 시스템 제어부(30)는 스테이지(10)를 가이드 레일(14)을 따라 Y 방향으로 이동시켜서 정지시킨다. 또한, 촬영부(23)에 의한 촬영 영역은 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에 있어서 묘화되는 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)가 모두 포함되는 크기에 피노광 기판(C)의 설치 오차를 포함한 영역보다 큰 것으로 한다. 이것에 의해, 피노광 기판(C)의 설치 위치가 미리 설정되어 있는 설치 위치에 대하여 어긋난 경우에도 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 전체가 영역 촬영부(23)의 촬영 영역에 포함되어 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 위치를 계측할 수 있다.

스텝 S303에 있어서 시스템 제어부(30)는 촬상부(23)에 의해 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)가 촬상되어 있는 촬상 화상으로부터 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 위치를 계측한다. 또한, 스텝 S305에 있어서 시스템 제어부(30)는 스텝 S303에 있어서 계측된 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 위치로부터 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치를 도출한다.

스텝 S307에 있어서 시스템 제어부(30)는 스텝 S303에 있어서 계측된 얼라인먼트용 마크(M1)의 위치와, 스텝 S207에 있어서 기억된 자외선 광원(24)의 위치와 표면용 화상(P1)의 묘화 위치의 위치 관계에 의거하여 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에 대하여 이면용 화상(P2)을 묘화하는 위치를 결정하기 위한 화상 좌표계를 설정한다. 도 17에 나타내는 바와 같이 제 2 노광 처리의 단계에서는 제 1 면(C1)에 노광을 행할 때에 제 2 면(C2)에 묘화된 얼라인먼트용 마크(M1)의 위치에 의거하여 화상 좌표계가 설정되기 때문에 스테이지 좌표계와 화상 좌표계의 상대 위치가 제 1 노광 처리의 단계와는 다른 경우도 있다.

스텝 S309에 있어서 시스템 제어부(30)는 스텝 S307에 있어서 설정된 화상 좌표계에 의거하여 피노광 기판(C)에 대한 노광 위치로 스테이지(10)를 이동시킨다. 이때, 시스템 제어부(30)는 스테이지(10)를 가이드 레일(14)을 따라 Y 방향으로 이동시킴과 아울러 노광 헤드(16a)에 의한 노광 대상 위치가 피노광 기판(C)에 있어서 이면용 화상(P2)을 묘화할 때의 개시 위치와 일치하는 위치까지 스테이지(10)를 이동시켜서 정지시킨다.

스텝 S311에 있어서 시스템 제어부(30)는 노광 상태 정보(50)로부터 스텝 S305에 있어서 도출된 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치에 대응하는 제 1 면(C1)의 노광에 관한 정보를 취득한다.

스텝 S313에 있어서 시스템 제어부(30)는 스텝 S311에 있어서 취득한 제 1 면(C1)의 노광에 관한 정보에 대응하도록 해서 각 노광 헤드(16a)에 의한 노광을 개시하고, 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에 이면용 화상(P2)을 묘화한다. 도 17에 나타내는 바와 같이 화상 좌표계에 의거하여 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에 이면용 화상(P2)이 묘화된다. 이때, 제 1 면(C1)의 노광에 관한 정보에 의거하여 노광 순서가 잘못되어 있지 않은 것, 제 1 면(C1)의 노광에 성공하고 있는 것 등이 판정된 후에 묘화되는 회로 패턴, 묘화되는 회로 패턴의 배율 등이 결정된다. 제 1 면(C1)의 노광에 관한 정보에 포함되는 노광 순서를 나타내는 정보를 피노광 기판(C)에 묘화해도 좋다. 또한, 시스템 제어부(30)는 노광 순서가 잘못되어 있을 경우에는 제어 장치(9)의 표시부(42)에 그 취지를 표시시키는 등의 경고 처리를 행해도 좋다. 또한, 제 1 면(C1)의 노광에 실패하고 있을 경우에는 제 2 면(C2)의 노광을 행하지 않고 그 피노광 기판(C)을 제 2 노광 묘화 장치(4)의 외부에 배출하도록 해도 좋다.

스텝 S315에 있어서 시스템 제어부(30)는 피노광 기판(C)의 적재 위치까지 스테이지(10)를 이동시키고, 제 2 노광 처리 프로그램을 종료한다. 스테이지(10)가 피노광 기판(C)의 적재 위치까지 이동하면 제 1 면(C1) 및 제 2 면(C2)의 양면에 회로 패턴 등의 화상이 묘화된 피노광 기판(C)은 AC 핸드(26)에 흡착 유지됨으로써 제 4 반송 장치(8)로 이동하고, 제 4 반송 장치(8)에 의해 반송된다.

이렇게 해서 본 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 노광 처리를 행할 때에 얼라인먼트용 마크(M1)를 형성하는 자외선 광원(24)과 동일한 자외선 광원(24) 또는 동일한 구성을 갖는 자외선 광원(24)을 사용해서 피노광 기판(C) 각각을 식별하기 위한 식별용 마크(M2)를 간이하게 형성함과 아울러 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치를 식별 정보로 한다. 이 점에서 본 예시적 실시형태는 피노광 기판(C) 각각의 간이하게 식별할 수 있다.

또한, 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치를 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 위치 벡터로 하고 있다. 그러나, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다.

도 18은 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 있어서의 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치의 일례를 나타내는 도면이다. 도 18에 나타내는 바와 같이 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 상호간 거리를 각각 도출해서 도출한 상호간 거리를 상대 위치로 해도 좋다.

또한, 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 2개의 식별용 마크(M2)를 묘화하지만, 이것에 한정되지 않고, 단수의 식별용 마크(M2)를 묘화해도 좋고, 또는 3개 이상의 식별용 마크(M2)를 묘화해도 좋다. 묘화되는 식별용 마크(M2)의 개수가 많을수록 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 대향 거리의 종류가 증가하기 때문에 식별 가능한 피노광 기판(C)의 수를 늘릴 수 있다.

도 19는 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 있어서의 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치의 일례를 나타내는 도면이다. 도 19에 나타내는 바와 같이 각각의 얼라인먼트용 마크(M1)로부터 단일의 식별용 마크(M2)까지의 상호간 거리 또는 각각의 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 위치 벡터를 도출해서 상대 위치로 해도 좋다.

또한, 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 얼라인먼트용 마크(M1)와는 별개로 식별용 마크(M2)를 묘화한다. 그러나, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 식별용 마크(M2)를 묘화하지 않고, 얼라인먼트용 마크(M1)를 위치 맞춤용 및 식별용 쌍방에 사용해도 좋다. 이 경우에는 얼라인먼트용 마크(M1) 중 어느 하나가 식별용 마크(M2)로서 기능한다. 얼라인먼트용 마크(M1)의 위치를 변경할 때에 묘화되는 회로 패턴 등의 화상의 위치가 변경되지 않도록 해서[예를 들면, 복수의 얼라인먼트용 마크(M1)를 연결한 선이 동일선상이 되며, 또한 중점이 동일하게 되도록 해서] 변경한다.

도 20은 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 있어서의 얼라인먼트용 마크(M1)(식별용 마크)의 상대 위치의 일례를 나타내는 도면이다. 도 20에 나타내는 바와 같이 얼라인먼트용 마크(M1)를 제 1 면(C1) 및 제 2 면(C2)의 위치 맞춤에 사용하는 이외에 복수의 얼라인먼트용 마크(M1)의 상호간 거리를 도출해서 도출한 상호간 거리를 상대 위치로 해도 좋다. 이 경우에는 식별용 마크(M2)를 묘화하는 처리를 생략할 수 있다.

[제 2 예시적 실시형태]

이하, 제 2 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 대해서 첨부 도면을 사용해서 상세하게 설명한다. 제 2 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)은 제 1 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)과 마찬가지로 도 1, 도 4~도 9에 나타내는 구성을 갖고 있다. 또한, 제 1 예시적 실시형태와 동일한 구성에는 동일한 부호를 붙이고, 중복하는 설명을 생략한다.

제 2 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 제 1 예시적 실시형태와 마찬가지로 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)에 노광한 후에 제 2 면(C2)에 노광할 때에 제 1 면(C1)의 노광의 때의 노광 상태에 대응시켜서 제 2 면(C2)의 노광을 행하는 기능을 구비하고 있다.

도 21a는 제 2 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 있어서 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)에 노광을 행했을 경우의 상기 제 1 면(C1)의 일례를 나타내는 정면도이다. 도 21b는 제 2 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 있어서 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에 노광을 행했을 경우의 상기 제 2 면(C2)의 일례를 나타내는 정면도이다.

도 21a에 나타내는 바와 같이 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)에는 제 1 노광 묘화 장치(2)에 의해 표면용 화상(P1)이 묘화된다. 또한, 도 21b에 나타내는 바와 같이 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에는 제 2 노광 묘화 장치(4)에 의해 이면용 화상(P2)이 제 1 면(C1)의 표면용 화상(P1)이 묘화되는 좌표계(이하, 「화상 좌표계」라고 한다)에 대응하는 화상 좌표계에서 묘화된다. 또한, 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1) 및 제 2 면(C2)에는 정면으로 볼 때 상부 중앙측 및 정면으로 볼 때 하부 중앙측에 제 1 노광 묘화 장치(2)에 의해 복수(본 예시적 실시형태에서는 2개)의 얼라인먼트용 마크(M1)가 미리 묘화되어 있고, 제 1 면(C1) 및 제 2 면(C2)에는 정면으로 볼 때 좌부 중앙측 및 정면으로 볼 때 우부 중앙측에 제 1 노광 묘화 장치(2)에 의해 복수(본 예시적 실시형태에서는 2개)의 식별용 마크(M2)가 미리 묘화되어 있다.

도 22는 제 2 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 의한 노광 처리를 설명하기 위한 개략도이다. 도 22에 나타내는 바와 같이 노광 묘화 시스템(1)은 제 1 면(C1)에 대한 노광 처리 시에 제 1 면(C1)에 형성된 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 위치를 검출하고, 검출한 위치에 의거하여 위치 맞춤을 행한 후에 제 1 면(C1)에 표면용 화상(P1)을 묘화한다. 또한, 노광 묘화 시스템(1)은 피노광 기판(C)의 식별 정보로 하는 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치를 제 1 면(C1)의 노광 처리 시의 노광 상태와 각각 대응시켜서 제어 장치(9)의 기억부(41)에 기억시킨다.

이어서, 노광 묘화 시스템(1)은 제 2 면(C2)에 대한 노광 처리 시에 제 2 면(C2)에 형성된 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 위치를 검출하고, 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치에 대응하는 제 1 면(C2)의 노광에 관한 정보를 취득한다. 또한, 노광 묘화 시스템(1)은 제 1 면(C1)에 묘화된 표면용 화상(P1)의 묘화 위치와 대응하도록 얼라인먼트용 마크(M1)의 위치에 의거하여 묘화 위치를 결정한다. 이와 함께, 노광 묘화 시스템(1)은 제 1 면(C1)의 노광에 관한 정보에 의거하여 제 2 면(C2)의 노광 조건을 결정하고, 제 2 면(C2)에 이면용 화상(P2)을 묘화한다.

여기에서, 제 2 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 의한 노광 처리의 흐름을 설명한다.

제 1 노광 묘화 장치(2)의 시스템 제어부(30)는 미리 정해진 타이밍[본 예시적 실시형태에서는 피노광 기판(C)이 스테이지(10)에 적재된 타이밍]에서 노광 처리를 실행한다. 도 23은 본 예시적 실시형태에 의한 노광 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이며, 상기 프로그램은 제 1 노광 묘화 장치(2)의 시스템 제어부(30)에 구비된 기록 매체인 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다.

스텝 S401에 있어서 시스템 제어부(30)는 피노광 기판(C)이 적재된 스테이지(10)를 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)에 미리 묘화된 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2) 각각이 촬상 장치(23) 각각의 촬상 영역에 포함되는 위치로 이동시킨다. 이때, 시스템 제어부(30)는 스테이지(10)를 가이드 레일(14)을 따라 Y 방향으로 이동시켜서 정지시킨다.

스텝 S403에 있어서 시스템 제어부(30)는 촬상부(23)에 의해 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)가 촬상되어 있는 촬상 화상으로부터 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 위치를 계측한다. 또한, 스텝 S405에 있어서 시스템 제어부(30)는 스텝 S403에 있어서 계측된 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 위치로부터 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치를 도출한다.

스텝 S407에 있어서 시스템 제어부(30)는 스텝 S403에 있어서 계측된 얼라인먼트용 마크(M1)의 위치에 의거하여 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)에 대하여 표면용 화상(P1)을 묘화하는 위치를 결정하기 위한 화상 좌표계를 설정한다.

스텝 S409에 있어서 시스템 제어부(30)는 스텝 S407에 있어서 설정된 화상 좌표계에 의거하여 피노광 기판(C)에 대한 노광 위치에 스테이지(10)를 이동시킨다. 이때, 시스템 제어부(30)는 스테이지(10)를 가이드 레일(14)을 따라 Y 방향으로 이동시킴과 아울러, 노광 헤드(16a)에 의한 노광 대상 위치가 피노광 기판(C)에 있어서 이면용 화상(P2)을 묘화할 때의 개시 위치와 일치하는 위치까지 스테이지(10)를 이동시켜서 정지시킨다.

스텝 S411에 있어서 시스템 제어부(30)는 각 노광 헤드(16a)에 의한 노광을 개시하고, 피노광 기판(C)의 제 1 면(C1)에 표면용 화상(P1)을 묘화한다.

또한, 스텝 S413에 있어서 스텝 S405에 있어서 도출된 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치를 피노광 기판(C)의 식별 정보로 하고, 스텝 S411에 있어서의 묘화 시의 노광 상태를 식별 정보에 대응시키고, 노광 상태 정보(50)로서 기억부(41)에 기억한다.

스텝 S415에 있어서 시스템 제어부(30)는 스테이지(10)를 피노광 기판(C)이 적재된 위치까지 이동시키고, 제 1 노광 처리 프로그램을 종료한다. 스테이지(10)가 피노광 기판(C)이 적재된 위치까지 이동하면 피노광 기판(C)은 AC 핸드(26)에 흡착 유지됨으로써 제 2 반송 장치(6)로 이동하고, 제 2 반송 장치(6)에 의해 반전 장치(3)로 반송되고, 반전 장치(3)에 의해 표리가 반전된 후에 제 3 반송 장치(7)에 의해 제 2 노광 묘화 장치(4)로 반송된다.

제 2 노광 묘화 장치(4)의 시스템 제어부(30)는 미리 정해진 타이밍[본 예시적 실시형태에서는 피노광 기판(C)이 스테이지(10)에 적재된 타이밍]에서 제 2 노광 처리 프로그램을 실행한다.

도 24는 본 예시적 실시형태에 의한 제 2 노광 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우 차트이며, 상기 프로그램은 제 2 노광 묘화 장치(4)의 시스템 제어부(30)에 구비된 기록 매체인 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다.

스텝 S501에 있어서 시스템 제어부(30)는 피노광 기판(C)이 적재된 스테이지(10)를 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에 미리 묘화되어 있는 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2) 각각이 촬상 장치(23) 각각의 촬상 영역에 포함되는 위치로 이동시킨다. 이때, 시스템 제어부(30)는 스테이지(10)를 가이드 레일(14)을 따라 Y 방향으로 이동시켜서 정지시킨다.

스텝 S503에 있어서 시스템 제어부(30)는 촬상부(23)에 의해 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)가 촬상되어 있는 촬상 화상으로부터 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 위치를 계측한다. 또한, 스텝 S505에 있어서 시스템 제어부(30)는 스텝 S503에 있어서 계측된 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 위치로부터 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치를 도출한다.

스텝 S507에 있어서 시스템 제어부(30)는 스텝 S503에 있어서 계측된 얼라인먼트용 마크(M1)의 위치와, 스텝 S503에 있어서 계측된 얼라인먼트용 마크(M1)의 위치에 의거하여 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에 대하여 이면용 화상(P2)을 묘화하는 위치를 결정하기 위한 화상 좌표계를 설정한다.

스텝 S509에 있어서 시스템 제어부(30)는 스텝 S507에 있어서 설정된 화상 좌표계에 의거하여 스테이지(10)를 노광 위치로 이동시킨다. 이때, 시스템 제어부(30)는 스테이지(10)를 가이드 레일(14)을 따라 Y 방향으로 이동시킴과 아울러 스테이지(10)를 노광 헤드(16a)에 의한 노광 대상 위치가 피노광 기판(C)에 있어서 이면용 화상(P2)을 묘화할 때의 개시 위치와 일치하는 위치까지 스테이지(10)를 이동시켜서 정지시킨다.

스텝 S511에 있어서 시스템 제어부(30)는 노광 상태 정보(50)로부터 스텝 S505에 있어서 도출된 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치에 대응하는 제 1 면(C1)의 노광 상태를 취득한다.

스텝 S513에 있어서 시스템 제어부(30)는 스텝 S511에 있어서 취득한 제 1 면(C1)의 노광 상태에 대응하도록 하고, 각 노광 헤드(16a)에 의한 노광을 개시하여 피노광 기판(C)의 제 2 면(C2)에 이면용 화상(P2)을 묘화한다.

스텝 S515에 있어서 시스템 제어부(30)는 스테이지(10)를 피노광 기판(C)이 적재된 위치까지 이동시키고, 제 2 노광 처리 프로그램을 종료한다. 스테이지(10)가 피노광 기판(C)이 적재된 위치까지 이동하면 제 1 면(C1) 및 제 2 면(C2)의 양면에 화상이 묘화된 피노광 기판(C)은 AC 핸드(26)에 흡착 유지됨으로써 제 4 반송 장치(8)로 이동하고, 제 4 반송 장치(8)에 의해 반송된다.

이렇게 해서 제 2 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 노광 처리를 행할 때에 피노광 기판(C) 각각을 식별하기 위한 식별용 마크(M2)를 미리 형성한 피노광 기판(C)에 대하여 얼라인먼트용 마크(M1)에 대한 식별용 마크(M2)의 상대 위치를 식별 정보로 해서 제 1 면(C1)의 노광에 관한 정보를 제 2 면(C2)의 노광 시에 참조한다. 이것으로, 본 예시적 실시형태는 제 1 면(C1) 및 제 2 면(C2)의 노광 조건을 대응시킬 수 있다.

또한, 스텝 S107에 있어서 자외선 광원(24)의 위치를 계측하는 방법은 촬영부(23)에 의한 촬영 화상을 사용하는 방법에 한정되지 않는다. 자외선 광원(24)의 위치는 자외선 광원(24)의 이동 기구(24a)에 의해, 예를 들면 스테핑 모터의 펄스, 로터리 인코더에 의해 계측되어도 좋다. 또는 자외선 광원(24)의 위치를 광학식의 거리 센서 또는 초음파를 이용한 거리 센서에 의해 계측해도 좋다.

또한, 제 1 예시적 실시형태 및 제 2 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 피노광 기판(C)에 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)를 자외선 광원(24)을 사용해서 묘화한다. 그러나, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 잉크를 분사하거나 전사시키거나 함으로써 묘화해도 좋다.

또한, 제 1 예시적 실시형태 및 제 2 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 도 11, 도 13, 및 도 23에 나타내는 플로우 차트의 처리가 제 1 노광 묘화 장치(2)의 시스템 제어부(30)의 제어에 의해 행해지고, 도 16 및 도 24에 나타내는 플로우 차트의 처리가 제 2 노광 묘화 장치(4)의 시스템 제어부(30)의 제어에 의해 행해진다. 그러나, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 상기 플로우 차트의 일련의 처리가 제어 장치(9)의 제어부(40)의 제어에 의해 행해져도 좋다.

또한, 제 2 예시적 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 제 1 면(C1) 및 제 2 면(C2)의 쌍방에 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)가 묘화되어 있다. 그러나, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 어느 한쪽 면에 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)가 묘화되어 있어도 좋다. 이 경우에는 제 1 노광 묘화 장치(2) 또는 제 2 노광 묘화 장치(4)에 있어서, 예를 들면 촬영부(23)가 스테이지(10)의 하방에도 형성되어 있는 등 스테이지(10)에 적재된 피노광 기판(C)의 표면 및 하면의 쌍방의 얼라인먼트용 마크(M1) 및 식별용 마크(M2)의 위치를 검출할 수 있도록 구성된다.

일본 출원 2012-082562의 개시는 그 전체가 참조에 의해 본 명세서에 도입된다.

본 명세서에 기재된 모든 문헌, 특허 출원, 및 기술 규격은 각각의 문헌, 특허 출원, 및 기술 규격이 참조에 의해 도입되는 것이 구체적이며 또한 각각에 기재된 경우와 같은 정도로 본 명세서 중에 참조에 의해 도입된다.

Claims (13)

1. 제 1 면 및 그 제 1 면에 대향하는 제 2 면을 갖는 피노광 기판을 노광함으로써 회로 패턴을 묘화하는 노광 수단과,
   상기 피노광 기판의 상기 제 2 면의 미리 정해진 위치에 노광 위치의 기준으로 하는 제 1 마크를 형성함과 아울러, 상기 제 1 마크에 대한 상대 위치를 상기 피노광 기판마다 다르게 함으로써 그 상대 위치에 의해 상기 피노광 기판을 식별하는 식별 정보를 나타내는 제 2 마크를 형성하는 마크 형성 수단과,
   상기 피노광 기판에 회로 패턴이 묘화되도록 상기 노광 수단을 제어하는 제어 수단과,
   상기 상대 위치에 의해 나타내어지는 식별 정보에 대응시켜서 상기 노광에 관한 정보를 기억하는 기억 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 마크 형성 수단에 의해 형성된 상기 제 1 마크 및 상기 제 2 마크의 위치를 검출하는 검출 수단과,
   상기 검출 수단에 의해 검출된 상기 위치에 의거하여 상기 제 1 마크에 대한 상기 제 2 마크의 상대 위치를 도출하는 도출 수단을 구비하고,
   상기 제어 수단은 상기 제 1 면에 회로 패턴이 묘화되도록 상기 노광 수단을 제어함과 아울러, 상기 기억 수단으로부터 상기 도출 수단에 의해 도출된 상대 위치에서 나타내어지는 식별 정보에 대응하는 상기 제 1 면의 노광에 관한 정보를 취득하고, 그 정보가 상기 제 1 면의 노광이 정상적으로 행해진 것을 나타내고 있을 경우에 상기 검출 수단에 의해 검출된 상기 제 1 마크의 위치에 의거하여 결정되는 상기 제 2 면의 노광 위치에 의거하여 상기 제 2 면에 회로 패턴이 묘화되도록 상기 노광 수단을 제어하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
3. 제 1 항에 있어서,
   상기 마크 형성 수단에 의해 형성된 상기 제 1 마크 및 상기 제 2 마크의 위치를 검출하는 검출 수단과,
   상기 검출 수단에 의해 검출된 상기 위치에 의거하여 상기 제 1 마크에 대한 상기 제 2 마크의 상대 위치를 도출하는 도출 수단을 구비하고,
   상기 제어 수단은 상기 제 1 면에 회로 패턴이 묘화되도록 상기 노광 수단을 제어함과 아울러, 상기 기억 수단으로부터 상기 도출 수단에 의해 도출된 상대 위치에서 나타내어지는 식별 정보에 대응하는 상기 제 1 면의 노광에 관한 정보를 취득하고, 그 정보가 상기 제 1 면의 노광이 정상적으로 행해지지 않은 것을 나타내고 있을 경우에 상기 제 2 면에 회로 패턴이 묘화되지 않도록 상기 노광 수단을 제어하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 노광에 관한 정보는 상기 제 1 면의 노광이 정상적으로 행해진 것인지의 여부를 나타내는 정보, 상기 제 1 면의 노광에 관한 정보에 상기 배율의 정보, 상기 제 1 면에 묘화된 회로 패턴을 나타내는 정보, 및 상기 피노광 기판의 노광 순서를 나타내는 정보 중 적어도 하나를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
5. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 제 1 마크 및 상기 제 2 마크를 동일한 형상으로 한 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
6. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 검출 수단은 상기 제 1 마크 및 상기 제 2 마크를 촬영해서 얻어진 화상에 의거하여 상기 제 1 마크 및 상기 제 2 마크의 위치를 검출하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
7. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 마크 형성 수단은 상기 피노광 기판에 자외선 빔을 조사함으로써 상기 제 1 마크 및 상기 제 2 마크를 형성하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
8. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 마크 형성 수단은 상기 제 2 마크를 다른 위치에 복수 형성하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
9. 제 1 면 및 그 제 1 면에 대향하는 제 2 면의 적어도 한쪽 면에 노광 위치의 기준으로 하는 제 1 마크가 미리 정해진 위치에 형성되고, 상기 제 1 마크에 대한 상대 위치를 상기 피노광 기판마다 다르게 함으로써 그 상대 위치에 의해 상기 피노광 기판을 식별하는 식별 정보를 나타내는 제 2 마크가 형성된 피노광 기판을 노광함으로써 회로 패턴을 묘화하는 노광 수단과,
   상기 마크 형성 수단에 의해 형성된 상기 제 1 마크 및 제 2 마크의 위치를 검출하는 검출 수단과,
   상기 검출 수단에 의해 검출된 상기 위치에 의거하여 상기 제 1 마크에 대한 상기 제 2 마크의 상대 위치를 도출하는 도출 수단과,
   상기 검출 수단에 의해 검출된 상기 제 1 마크의 위치에 의거하여 결정되는 상기 제 1 면의 노광 위치에 의거하여 상기 제 1 면에 회로 패턴이 묘화되도록 상기 노광 수단을 제어하고, 상기 도출 수단에 의해 도출된 상대 위치에서 나타내어지는 식별 정보에 대응시켜서 상기 제 1 면의 노광에 관한 정보를 기억 수단에 기억시킴과 아울러, 상기 기억 수단으로부터 상기 도출 수단에 의해 도출된 상대 위치에서 나타내어지는 식별 정보에 대응하는 상기 제 1 면의 노광에 관한 정보를 취득하고, 그 정보에 의거하여 노광 조건을 결정하고, 상기 검출 수단에 의해 검출된 상기 제 1 마크의 위치에 의거하여 결정되는 상기 제 2 면의 노광 위치에 의거하여 상기 제 2 면에 회로 패턴이 묘화되도록 상기 노광 수단을 제어하는 제어 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.
10. 제 1 면 및 그 제 1 면에 대향하는 제 2 면을 갖는 피노광 기판을 노광함으로써 회로 패턴을 묘화하는 노광 수단을 구비한 노광 묘화 장치에 있어서의 노광 묘화 방법으로서,
    상기 피노광 기판의 상기 제 2 면의 미리 정해진 위치에 노광 위치의 기준으로 하는 제 1 마크를 형성함과 아울러, 상기 제 1 마크에 대한 상대 위치를 상기 피노광 기판마다 다르게 함으로써 그 상대 위치에 의해 상기 피노광 기판을 식별하는 식별 정보를 나타내는 제 2 마크를 형성하는 마크 형성 스텝과,
    상기 피노광 기판의 상기 제 1 면에 회로 패턴이 묘화되도록 상기 노광 수단을 제어하는 제 1 제어 스텝과,
    상기 상대 위치에 의해 나타내어지는 식별 정보에 대응시켜서 상기 제 1 면의 노광에 관한 정보를 기억 수단에 기억하는 기억 스텝을 행하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 방법.
11. 제 10 항에 있어서,
    상기 마크 형성 스텝에 의해 형성된 상기 제 1 마크 및 상기 제 2 마크의 위치를 검출하는 검출 스텝과,
    상기 검출 스텝에 의해 검출된 상기 위치에 의거하여 상기 제 1 마크에 대한 상기 제 2 마크의 상대 위치를 도출하는 도출 스텝과,
    상기 기억 수단으로부터 상기 도출 수단에 의해 도출된 상대 위치에서 나타내어지는 식별 정보에 대응하는 상기 제 1 면의 노광에 관한 정보를 취득하고, 그 정보에 의거하여 노광 조건을 결정하고, 상기 검출 스텝에 의해 검출된 상기 제 1 마크의 위치에 의거하여 결정되는 상기 제 2 면의 노광 위치에 의거하여 상기 제 2 면에 회로 패턴이 묘화되도록 상기 노광 수단을 제어하는 제 2 제어 스텝을 더 행하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 방법.
12. 제 1 면 및 그 제 1 면에 대향하는 제 2 면을 갖는 피노광 기판을 노광함으로써 회로 패턴을 묘화하는 노광 수단을 구비한 노광 묘화 장치에 있어서 실행되는 프로그램으로서,
    컴퓨터를,
    상기 피노광 기판의 상기 제 2 면의 미리 정해진 위치에 노광 위치의 기준으로 하는 제 1 마크를 형성함과 아울러, 상기 제 1 마크에 대한 상대 위치를 상기 피노광 기판마다 다르게 함으로써 그 상대 위치에 의해 상기 피노광 기판을 식별하는 식별 정보를 나타내는 제 2 마크를 형성하는 마크 형성 수단과,
    상기 피노광 기판에 회로 패턴이 묘화되도록 상기 노광 수단을 제어하는 제어 수단과,
    상기 상대 위치에 의해 나타내어지는 식별 정보에 대응시켜서 상기 노광에 관한 정보를 기억하는 기억 수단으로 기능시키는 것을 특징으로 하는 프로그램을 기록한 기록 매체.
13. 제 12 항에 있어서,
    컴퓨터를,
    상기 마크 형성 수단에 의해 형성된 상기 제 1 마크 및 상기 제 2 마크의 위치를 검출하는 검출 수단과,
    상기 검출 수단에 의해 검출된 상기 위치에 의거하여 상기 제 1 마크에 대한 상기 제 2 마크의 상대 위치를 도출하는 도출 수단으로서 더 기능시키고,
    상기 제어 수단은 상기 제 1 면에 회로 패턴이 묘화되도록 상기 노광 수단을 제어함과 아울러, 상기 기억 수단으로부터 상기 도출 수단에 의해 도출된 상대 위치에서 나타내어지는 식별 정보에 대응하는 상기 제 1 면의 노광에 관한 정보를 취득하고, 그 정보에 의거하여 노광 조건을 결정하고, 상기 검출 수단에 의해 검출된 상기 제 1 마크의 위치에 의거하여 결정되는 상기 제 2 면의 노광 위치에 의거하여 상기 제 2 면에 회로 패턴이 묘화되도록 상기 노광 수단을 제어하는 것을 특징으로 하는 프로그램을 기록한 기록 매체.

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