JP2020047841A - Mounting device and manufacturing method for semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
本開示は実装装置に関し、例えば二台の実装ヘッドが互いに異なる動作を行う実装装置に適用可能である。 The present disclosure relates to a mounting device, and is applicable, for example, to a mounting device in which two mounting heads perform operations different from each other.
従来の部品実装装置として、部品を保持する複数の吸着ノズルが装備された実装ヘッドと、基板の表面沿いの方向であるX方向に沿って移動可能に実装ヘッドを支持するXビームと、X方向と直交するY方向に移動可能にXビームの両端部を支持する二本のYビームとを備えたものが知られている。このような構成の部品実装装置では、それぞれのYビームに両端部が支持された状態のXビームがY方向に移動されるとともに、Xビームに支持されている実装ヘッドがX方向に移動されることにより、基板の実装位置に対して実装ヘッドが位置合わせされて、基板上に部品が実装される。 As a conventional component mounting apparatus, a mounting head equipped with a plurality of suction nozzles for holding components, an X beam that supports the mounting head movably along an X direction that is a direction along the surface of the substrate, and an X direction And two Y beams that support both ends of the X beam so as to be movable in the Y direction orthogonal to the X axis. In the component mounting apparatus having such a configuration, the X beam having both ends supported by the respective Y beams is moved in the Y direction, and the mounting head supported by the X beam is moved in the X direction. Thus, the mounting head is aligned with the mounting position of the substrate, and the components are mounted on the substrate.
また、このような部品実装装置において、二本のYビームの間に、二本のXビームを支持させて、それぞれのXビームに移動可能に支持される二台の実装ヘッドを用いて、効率的な部品実装を実現するような装置構成が採用されている。近年、部品実装における生産性の向上に加えて、部品実装精度の向上を図ることが強く求められている。 Further, in such a component mounting apparatus, two X beams are supported between two Y beams, and two mounting heads movably supported by the respective X beams are used. An apparatus configuration that implements efficient component mounting is employed. In recent years, there has been a strong demand for improving component mounting accuracy in addition to improving productivity in component mounting.
このような部品実装装置では、部品実装における生産性向上のために、二台の実装ヘッドは異なる動作を並行して行う場合が多い。例えば、一方の実装ヘッドが基板上への部品実装動作を行っている間に、他方の実装ヘッドが部品供給部にて部品取り出し動作を行う場合などがある。 In such a component mounting apparatus, two mounting heads often perform different operations in parallel in order to improve productivity in component mounting. For example, there is a case where one mounting head is performing a component mounting operation on a substrate while the other mounting head is performing a component removing operation at a component supply unit.
このように二台の実装ヘッドが互いに異なる動作を並行して行うような場合に、部品実装装置では、一方の実装ヘッドおよびXビームの動作により生じた振動がYビームに伝達され、この振動がさらに他方のXビームおよび実装ヘッドに伝達されてしまう。このような振動の伝達は、部品の位置認識や実装動作などの精度に悪影響を与えるおそれがある。このような振動の伝達による影響を回避するためには、二台の実装ヘッド相互間における動作を制限する必要があり、部品実装における生産性の向上が阻害される。
本開示の課題は、実装ヘッドの振動を低減する実装装置を提供することである。
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
In the case where the two mounting heads perform mutually different operations in parallel in this manner, in the component mounting apparatus, the vibration generated by the operation of one of the mounting head and the X beam is transmitted to the Y beam, and this vibration is Further, it is transmitted to the other X beam and the mounting head. Such transmission of vibration may adversely affect the accuracy of component position recognition and mounting operation. In order to avoid the influence of such vibration transmission, it is necessary to restrict the operation between the two mounting heads, which hinders an improvement in productivity in component mounting.
An object of the present disclosure is to provide a mounting device that reduces vibration of a mounting head.
Other problems and novel features will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
本開示のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記の通りである。
すなわち、実装装置は、ダイを搬送する第一実装ヘッドと、前記第一実装ヘッドとは動作タイミングが異なり、ダイを搬送する第二実装ヘッドと、前記第一実装ヘッドを第一方向に自在に移動させる第一駆動部と、前記第二実装ヘッドを前記第一方向に自在に移動させる第二駆動部と、前記第一駆動部および前記第二駆動部を制御する制御部と、を備える。前記制御部は前記第一実装ヘッドを移動させる際に発生する加振力を指令値から算出し、または予め測定して登録してある振動波形として、前記加振力の逆方向に打ち消す推力相当分をフィードフォワード成分として前記第二実装ヘッドの制御量に加えるよう構成される。
The outline of a typical one of the present disclosure will be briefly described as follows.
That is, the mounting apparatus has a first mounting head that transports the die, and an operation timing different from that of the first mounting head, and the second mounting head that transports the die, and the first mounting head can freely move in the first direction. A first drive unit for moving the second mounting head; a second drive unit for freely moving the second mounting head in the first direction; and a control unit for controlling the first drive unit and the second drive unit. The control unit calculates a vibration force generated when the first mounting head is moved from a command value, or as a vibration waveform measured and registered in advance, the thrust equivalent to canceling the vibration force in the opposite direction. A feedforward component to the control amount of the second mounting head.
上記実装装置によれば、実装ヘッドの振動を低減することができる。 According to the mounting device, the vibration of the mounting head can be reduced.
以下、実施形態および実施例について、図面を用いて説明する。ただし、以下の説明において、同一構成要素には同一符号を付し繰り返しの説明を省略することがある。なお、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。 Hereinafter, embodiments and examples will be described with reference to the drawings. However, in the following description, the same components will be denoted by the same reference symbols, and repeated description may be omitted. In addition, in order to make the description clearer, the width, thickness, shape, and the like of each part may be schematically illustrated in comparison with an actual embodiment, but this is merely an example, and the interpretation of the present invention is not described. It is not limited.
まず、実施形態の実装装置の構成について図1〜3を用いて説明する。図1は実施形態の実装装置を模式的に示す上面図である。図2は図1の実装装置を模式的に示す側面図である。 First, the configuration of the mounting apparatus according to the embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a top view schematically showing the mounting device of the embodiment. FIG. 2 is a side view schematically showing the mounting device of FIG.
実施形態の実装装置100は、部品供給部(図示せず)から部品300をワーク200の上方にまで搬送し、搬送した部品300をワーク200に取り付ける(実装する)装置である。実装装置100は、架台110と、架台110の上に支持される実装ステージ120と、架台110の上に設けられるX支持台131a,131bと、X支持台131a,131bの上に支持されるYビーム140a,140bと、Yビーム140a,140bに支持される実装ヘッド150a,150bと、実装ヘッド150a,150bをY軸方向およびZ軸方向に駆動する駆動部160a,160bと、を備えている。なお、X軸方向、Y軸方向は水平面上で互いに直交する方向であり、本実施形態では、図1に示すようにYビーム140a,140bが伸びる方向をY軸方向(第二方向)、これと直交する方向をX軸方向(第一方向)、として説明する。また、Z軸方向(第三方向)は、XY面に垂直な上下方向である。なお、背景技術の欄に記載したX方向およびY方向とは異なる。
The
実装ヘッド150a,150bは、部品300を着脱自在に保持する保持手段を有する装置であり、Y軸方向に往復動自在にYビーム140a,140bに取り付けられている。
The mounting heads 150a and 150b are devices having holding means for holding the
本実施形態の場合、実装ヘッド150a,150bをそれぞれ三本備えており、各実装ヘッド150a,150bは、真空吸着により部品300を保持するノズルを有する保持手段151aを備えている。なお、実装ヘッド150bの保持手段は図示していない。また、駆動部160a,160bは、三本の実装ヘッド150a,150bをそれぞれ独立にZ軸方向に昇降させることができる。実装ヘッド150a,150bは部品300を保持して搬送し、実装ステージ120に吸着固定されたワーク200上に部品300を取り付ける機能を備えている。
In the case of the present embodiment, three mounting
X支持台131a,131bの上に設けられたガイド132a,132bは、Yビーム140a,140bをX軸方向に摺動自在に案内する部材である。本実施形態の場合、二本のX支持台131a,131bが平行に配置されており、各X支持台131a,131bは、架台110にX軸方向に伸びた状態で固定されている。X支持台131a,131bは、架台110と一体に形成されるものでもよい。X支持台131a,131bおよびガイド132a,132bをXビーム130a,130bという。また、Xビーム130a,130bをX1軸、X2軸ともいう。また、Yビーム140a,140bをY1軸、Y2軸ともいう。
図2に示すように、ガイド132a,132bの上にはスライダ143a,143bがX軸方向に移動自在に取り付けられている。そして、二つのガイド132a,132bの各スライダ143a,143bの上には、それぞれYビーム140a,140bの各脚部142aa,142ba,142ab,142bbが取り付けられている。つまり、Yビーム140a,140bの主梁部141a,141bは、実装ステージ120の上を跨るようにY軸方向に伸び、両端の各脚部142aa,142ba,142ab,142bbはスライダ143a,143bに取り付けられてX支持台131a,131bに取り付けられたガイド132a,132bによってX軸方向に移動自在に支持されている。脚部142aa,142ba,142ab,142bbにはYビーム140a,140bをX軸方向に駆動するモータ等の駆動部144aa,144ba,144ab,144bbを備える。なお、主梁部141a,141bの底面と脚部142aa,142ba,142ab,142bbの底面(スライダ143a,143bの上面)は同一面上に位置するので、主梁部141a,141bはX支持台131a,131bからそれほど高くない位置に設けられている。
As shown in FIG. 2,
図1に示すように、Yビーム140a,140bは、Y軸方向に伸びて配置され、実装ヘッド150a,150bのY軸方向の往復動を案内する部材であり、駆動部でもある。
As shown in FIG. 1, the Y beams 140a and 140b are members that extend in the Y-axis direction, guide the reciprocating movement of the mounting
次に、Yビームおよび実装ヘッドの振動について図3を用いて説明する。図3は図1の実装装置の課題を説明する模式的な正面図であり、図3(a)は対向二軸が独立して動作することを説明する図であり、図3(b)は一方の軸が動作し他方の軸が停止している場合を説明する図であり、図3(c)はフレームの振動変形を説明する図であり、図3(d)は他方の軸の振動を説明する図である。 Next, vibration of the Y beam and the mounting head will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic front view for explaining the problem of the mounting device of FIG. 1, FIG. 3A is a diagram for explaining that the opposed two axes operate independently, and FIG. FIG. 3C is a diagram illustrating a case where one axis is operating and the other axis is stopped, FIG. 3C is a diagram illustrating the vibration deformation of the frame, and FIG. 3D is a diagram illustrating the vibration of the other axis. FIG.
実装装置100では、部品実装における生産性向上のために、図3(a)に示すように、2台の実装ヘッド150a,150bは異なる動作を並行して行う場合が多い。例えば、一方の実装ヘッド150bが基板上への部品実装動作を行っている間に、他方の実装ヘッド150aがX方向に移動する動作を行う場合がある。
In the mounting
図3(b)に示すように、Y1軸であるYビーム140aがX軸方向に動作すると、図3(c)に示すように、加減速時に実装ヘッド150aおよびYビーム140aの質量(Ma)と加速度(A)を掛けた反力(Fr=Ma・A)が架台(フレーム)110に伝わり、架台110が加振され、二点破線のように振動変形する。ここで、架台110の振動加速度をA’とする。架台110が振動した際、図3(d)に示すように、もう一方の実装ヘッド150bに、実装ヘッド150bおよびYビーム140bの質量(Mb)と振動加速度(A’)を掛けた慣性力(Fi=Mb・A’)が架台110の振動の逆方向に加わる。この慣性力が、もう一方の実装ヘッド150bおよびYビーム140bを保持する駆動部144abと144bbのモータに外力として加わり、位置決め精度を低下させる要因となる。
As shown in FIG. 3B, when the
対向二軸などの構成の場合、Y1軸であるYビーム140aが動作時、Y2軸であるYビーム140bがたとえ停止していても、Y1軸の加減速の振動がフレームを伝わり、Y2軸を振動させる要因となり、数μm〜十数μm程度の位置ずれを発生する。本実施形態のようなガントリー構造だけでなく、同一方向に駆動する軸を有する別々の駆動系で構成され、一方が他方の動作振動の影響を受けるような機構構成の場合に本課題は発生する。
In the case of a configuration such as opposed two axes, when the
次に、上記の課題を解決する実施形態について図4〜10を用いて説明する。図4は実施形態の実装装置を模式的に示す正面図であり、図4(a)は振動測定器を有さない場合の図であり、図4(b)は振動測定器を有する場合の図である。図5Aは図4(a)の実装装置の移動軸の動作により相手軸に加わる慣性力と発生する偏差を説明する図である。図5Bは図4(b)の実装装置の移動軸の動作により相手軸に加わる慣性力と発生する偏差を説明する図である。図6Aは長距離動作の場合の相手軸の推力の算出を説明する図である。図6Bは短距離動作の場合の相手軸の推力の算出を説明する図である。図7Aは比較例の実装装置の制御系のブロック線図である。図7Bは実装装置の制御系のブロック線図である。図8Aは装置が強靭な床に設置された場合の装置の振動モデル図である。図8Bは装置が強靭でない床に設置された場合の装置の振動モデル図である。図9は長距離動作の場合の動作軸の加加加速度から算出する推力および振動波形から算出する推力を説明する図である。図10は短距離動作の場合の動作軸の加加加速度から算出する推力および振動波形から算出する推力を説明する図である。 Next, an embodiment for solving the above-described problem will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a front view schematically showing the mounting device of the embodiment, FIG. 4A is a diagram without a vibration measuring device, and FIG. 4B is a diagram with a vibration measuring device. FIG. FIG. 5A is a diagram for explaining the inertia force applied to the mating shaft and the deviation generated by the operation of the moving shaft of the mounting apparatus of FIG. 4A. FIG. 5B is a diagram illustrating the inertia force applied to the mating shaft and the deviation generated due to the operation of the moving shaft of the mounting device of FIG. 4B. FIG. 6A is a diagram illustrating calculation of the thrust of the partner shaft in the case of long-distance operation. FIG. 6B is a diagram illustrating calculation of the thrust of the partner shaft in the case of short-distance operation. FIG. 7A is a block diagram of a control system of the mounting device of the comparative example. FIG. 7B is a block diagram of a control system of the mounting apparatus. FIG. 8A is a vibration model diagram of the device when the device is installed on a strong floor. FIG. 8B is a vibration model diagram of the device when the device is installed on a floor that is not strong. FIG. 9 is a diagram for explaining the thrust calculated from the jerk of the operation axis and the thrust calculated from the vibration waveform in the case of long-distance operation. FIG. 10 is a diagram for explaining the thrust calculated from the jerk of the motion axis and the thrust calculated from the vibration waveform in the case of the short distance operation.
図4(a)に示すように、Y1軸であるYビーム140aの動作時にY2軸であるYビーム140bに発生する慣性力(Fi)を相殺する推力(Fp)をY2軸へ加えることで、Y2軸の振動を低減する。具体的には、図5Aに示すように、Y1軸を動作させることにより発生する加振力(加加速度(J))で架台が振動し、架台110の振動によって相手軸に慣性力が加わり、この慣性力を起点とする振動が相手軸に発生し偏差として現れる。この振動は架台110とY軸駆動軸が構成する振動系の剛性、周波数特性により決まり、振動振幅、周波数、減衰特性などは各々の装置構成により異なる。振動の起点は動作軸の加速減速の開始点となるので、そこを起点に架台と駆動部の軸構成による振動特性に見合った推力補償波形を求め、相手軸の推力に加えることで振動を抑制する。例えば、図6A、6Bに示すように、動作する軸が発生する加振力は指令動作速度(V)を微分した加速度(A)を微分して算出した加加速度(J)とし、その逆方向に打ち消す推力相当分(図の推力補償の実線)をY2軸の制御値にフィードフォワード成分として同時に加えることで加振力を相殺し、振動を抑制する。
As shown in FIG. 4A, by applying a thrust (Fp) to the Y2 axis to cancel the inertial force (Fi) generated in the
また、図4(b)に示すように、動作軸に加振され振動する架台の振動は図5Bに示すような動作軸の加加速度(J)を起点とした振動波形となり、この振動が相手軸に加わることで相手軸に余分な偏差として現れ、相手軸のモータ制御部はこの偏差を検出、偏差を打ち消すようにフィードバックがかかり、推力指令を出して目標位置に戻ろうとする。そこで架台の振動を架台に設置した振動測定器170にて測定し、図5Bに示すように架台110の振動から相手軸に加わる加振力を算出し、相手軸に加わる振動を打ち消す推力相当分をY2軸の制御値にフィードフォワード成分として動作軸動作と同時に加えることで加振力を相殺し、振動を抑制することもできる。この振動測定器170は加速度ピックアップやジャイロセンサといった変位、速度、加速度などが測定可能なデバイスであればよい。
Further, as shown in FIG. 4B, the vibration of the gantry vibrated by being vibrated on the operation axis has a vibration waveform starting from the jerk (J) of the operation axis as shown in FIG. 5B. When it is applied to the shaft, it appears as an extra deviation in the partner shaft, and the motor control unit of the partner shaft detects this deviation, gives feedback to cancel the deviation, issues a thrust command, and tries to return to the target position. Therefore, the vibration of the gantry is measured by a
図7Aに示すように、比較例の駆動部のモータ(M)の制御において、Y1軸では、位置制御部71aは動作指令とモータ75aの位置情報に基づいて速度制御部72aに速度指令を出力する。速度制御部72aは速度指令とモータ75aの速度情報に基づいて電流制御情報を出力する。電流制御部73aは増幅器(AMP)74aの情報と電流制御情報に基づいて増幅器74aを制御する。Y2軸はY1軸と同様に制御される。このように、比較例の制御方法では動作軸と相手軸はそれぞれ独立して制御されており、動作軸が動作することにより発生する振動の影響を相手軸は外乱(外力振動)として受けることになる。
As shown in FIG. 7A, in the control of the motor (M) of the drive unit of the comparative example, for the Y1 axis, the
そこで、図7Bに示すように、実施形態では、推力補償部76a、76bは動作軸(例えばY1軸)の動作指令から相手軸(例えばY2軸)に加わる加振力を推定し推力補償として相手軸の推力フィードフォワード成分を電流制御部73a、73bへ加減算する。これにより、動作軸が動作すると同時に、相手軸に対し振動発生前に踏ん張る方向の力を発生させ、架台110と振動影響を受ける相手軸との相対ずれ(偏差)を抑制し、相手軸への振動影響の低減と精度向上を図ることができる。
Therefore, as shown in FIG. 7B, in the embodiment, the
なお、強靭な床に設置された装置を想定した場合、図8Aに示すような3自由度振動系(Xa、Xb、Xframe)を想定すればよい。ここでMaはY1軸全体の質量、XaはY1軸のX方向位置、XamはY1軸をX方向に動作させるモータ等駆動部の位置決め位置、VxamはY1軸に加える動作指令、MbはY2軸全体の質量、XbはY2軸のX方向位置、XbmはY2軸をX方向に動作させるモータ等駆動部の位置決め位置、Mframeは架台全体の質量、Xframeは架台の変位である。この場合はY1軸の変動に起因するXframeの挙動(架台の振動加速度(A’))から質量がMbのY2軸の慣性力と振動を計算すればよい。この場合は装置メーカーの組立調整段階で印加する補償推力も算出、設定が容易である。しかし、装置の動作により床の振動が発生するような床剛性に問題がある場合は、図8Bに示すようなモデル(4自由度振動系(Xa、Xb、Xframe、Xfloor))で表され、3自由度の場合と異なる波形の振動が相手軸に加わる。ここでXfloorは床の変位である。床の変位、特性は設置環境それぞれで異なり、これによりY1軸動作による架台の振動はあらかじめ想定することが困難になり、装置設置先での調整が必要となる。この場合は設置場所にて動作軸を動作させ、相手軸の静止トルクや偏差波形より得られる振動波形を架台110または実装ヘッド150a,150b等に設置した振動測定器170と同様な振動測定器で測定、抽出し、その波形から推力補償波形を算出して、後述する制御装置の記憶装置に保存しておくことで対応可能である。
When a device installed on a strong floor is assumed, a three-degree-of-freedom vibration system (Xa, Xb, Xframe) as shown in FIG. 8A may be assumed. Here, Ma is the mass of the entire Y1 axis, Xa is the position in the X direction of the Y1 axis, Xam is the positioning position of a drive unit such as a motor that moves the Y1 axis in the X direction, Vxam is an operation command applied to the Y1 axis, and Mb is the Y2 axis. The total mass, Xb is the position of the Y2 axis in the X direction, Xbm is the positioning position of a drive unit such as a motor that moves the Y2 axis in the X direction, Mframe is the total mass of the gantry, and Xframe is the displacement of the gantry. In this case, the inertial force and vibration of the Y2 axis having a mass of Mb may be calculated from the behavior of the Xframe (vibration acceleration (A ') of the gantry) caused by the fluctuation of the Y1 axis. In this case, it is easy to calculate and set the compensation thrust applied in the assembly adjustment stage of the device maker. However, when there is a problem with the floor rigidity that causes floor vibration due to the operation of the device, it is represented by a model (four-degree-of-freedom vibration system (Xa, Xb, Xframe, Xfloor)) as shown in FIG. Vibration having a waveform different from that in the case of three degrees of freedom is applied to the partner shaft. Where Xfloor is the floor displacement. The displacement and characteristics of the floor differ depending on the installation environment. This makes it difficult to anticipate the vibration of the gantry due to the Y1-axis operation in advance, and requires adjustment at the installation location of the apparatus. In this case, the operating shaft is operated at the installation location, and the vibration waveform obtained from the static torque and the deviation waveform of the mating shaft is measured by a vibration measuring device similar to the
また、定期的に動作軸を動かし、相手軸の振動波形を架台110または実装ヘッド150a,150b等に設置した振動測定器170と同様な振動測定器で測定して後述する制御装置の記憶装置に登録し、補正することで、装置の経時変化に対しても補正することが可能となる。これは装置の生産中に発生する基板搬入出待ちといった待ち時間を活用し、自動で測定、登録するといったことも可能である。
Further, the operation axis is periodically moved, and the vibration waveform of the mating axis is measured by a vibration measuring instrument similar to the
上述した実施形態では動作軸(例えばY1軸)の指令速度から算出した加加速度から相手軸(例えばY2軸)の推力を算出しているが、図9に示すように動作軸(例えばY1軸)の指令速度から算出した加加速度を微分して算出された加加加速度((a)Y1軸加加加速度)から加加速度の立ち上がりを算出し、相手軸(例えばY2軸)の推力としてもよい。また、図9に示すように、あらかじめ装置の特性(振動波形)を架台110または実装ヘッド150a,150b等に設置した振動測定器170と同様な振動測定器で測定し、相手軸の偏差や推力といった振動波形((b)Y2軸推力)から、これを相殺する相殺波形形状を後述する制御装置の記憶装置に登録しておいてこれを相手軸の推力としてもよい。この場合はY1軸を動作させ、Y2軸の偏差や推力を観察しながら最適な相殺波形を生成し、登録する。
In the above-described embodiment, the thrust of the partner axis (for example, the Y2 axis) is calculated from the jerk calculated from the command speed of the operation axis (for example, the Y1 axis). However, as shown in FIG. The jerk acceleration may be calculated from the jerk ((a) Y1-axis jerk) calculated by differentiating the jerk calculated from the command speed of (i), and used as the thrust of the partner axis (for example, the Y2-axis). Further, as shown in FIG. 9, the characteristics (vibration waveform) of the device are measured in advance by a vibration measuring device similar to the
図10に示すように、移動距離が短い場合も、動作軸(例えばY1軸)の指令速度から算出した加加速度を微分して算出された加加加速度((a)Y1軸加加加速度)から加加速度の立ち上がりを算出し、相手軸(例えばY2軸)の推力としてもよい。また、図10に示すように、あらかじめ装置の特性(振動波形)を架台110または実装ヘッド150a,150b等に設置した振動測定器170と同様な振動測定器で測定し、相手軸の偏差や推力といった振動波形((b)Y2軸推力)から、これを相殺する相殺波形形状を後述する制御装置の記憶装置に登録しておいてこれを相手軸の推力としてもよい。
As shown in FIG. 10, even when the moving distance is short, the jerk ((a) the Y1-axis jerk) calculated by differentiating the jerk calculated from the command speed of the operation axis (for example, the Y1-axis) is obtained. The rise of the jerk may be calculated and used as the thrust of the partner axis (for example, the Y2 axis). Further, as shown in FIG. 10, the characteristics (vibration waveform) of the device are measured in advance by a vibration measuring device similar to the
以下、上述の実施形態の実装装置の一例であるフリップチップボンダに適用した例について説明する。なお、フリップチップボンダは、例えばチップ面積を超える広い領域に再配線層を形成するパッケージであるファンアウト型ウェハレベルパッケージ(Fan Out Wafer Level Package:FOWLP)等の製造に用いられる。 Hereinafter, an example in which the present invention is applied to a flip chip bonder which is an example of the mounting apparatus of the above-described embodiment will be described. The flip chip bonder is used, for example, for manufacturing a fan-out type wafer level package (FOWLP), which is a package for forming a rewiring layer in a wide area exceeding the chip area.
図11は第一実施例のフリップチップボンダの概略を示す上面図である。図12は図11のダイ供給部の主要部を示す概略断面図である。
フリップチップボンダ10は、大別して、ダイ供給部1と、ピックアップ部2、トランスファ部8a,8bと、中間ステージ部3a,3bと、ボンディング部4a,4bと、搬送部5と、基板供給部6Kと、基板搬出部6Hと、各部の動作を監視し制御する制御装置7と、を有する。
FIG. 11 is a top view schematically showing the flip chip bonder of the first embodiment. FIG. 12 is a schematic sectional view showing a main part of the die supply unit of FIG.
The
まず、ダイ供給部1は、基板等の基板Pに実装するダイDを供給する。ダイ供給部1は、分割されたウェハ11を保持するウェハ保持台12と、ウェハ11からダイDを突き上げる点線で示す突上げユニット13と、を有する。ダイ供給部1は、図示しない駆動手段によってXY方向に移動し、ピックアップするダイDを突上げユニット13の位置に移動させる。ダイ供給部1は、所望のダイDをウェハリング14からピックアップできるように、ピックアップポイントに、ウェハリング14を移動する。ウェハリング14は、ウェハ11が固定され、ダイ供給部1に取り付け可能な治具である。
First, the
ピックアップ部2は、ダイDをピックアップして反転するピックアップフリップヘッド21と、コレット22を昇降、回転、反転及びX軸方向に移動させる図示しない各駆動部と、を有する。このような構成によって、ピックアップフリップヘッド21は、ダイDをピックアップし、ピックアップフリップヘッド21を180度回転させ、ダイDのバンプを反転させて下面に向け、ダイDをトランスファヘッド81a,81bに渡す姿勢にする。
The
トランスファ部8a,8bは、反転したダイDをピックアップフリップヘッド21から受けとり、中間ステージ31a,31bに載置する。トランスファ部8a,8bは、ピックアップフリップヘッド21と同様にダイDを先端に吸着保持するコレット82a,82bを備えるトランスファヘッド81a,81bと、トランスファヘッド81a,81bをX軸方向に移動させるX駆動部83a,83bと、を有する。
The
中間ステージ部3a,3bは、ダイDを一時的に載置する中間ステージ31a,31bおよびステージ認識カメラ34a,34bを有する。中間ステージ31a,31bは図示しない駆動部によりY軸方向に移動可能である。
The
ボンディング部4a,4bは、中間ステージ31a,31bからダイDをピックアップし、搬送されてくる基板P上にボンディングする。ボンディング部4a,4bは、ピックアップフリップヘッド21と同様にダイDを先端に吸着保持するコレット42a,42bを備えるボンディングヘッド41a,41bと、ボンディングヘッド41a,41bをY軸方向に移動させるYビーム43a,43bと、基板Pの位置認識マーク(図示せず)を撮像し、ボンディング位置を認識する基板認識カメラ44a,44bと、X支持台451a,451bと、を有する。
このような構成によって、ボンディングヘッド41a,41bは、中間ステージ31a,31bからダイDをピックアップし、基板認識カメラ44a,44bの撮像データに基づいて基板PにダイDをボンディングする。
The
With such a configuration, the bonding heads 41a and 41b pick up the die D from the
搬送部5は、基板PがX方向に移動する搬送レール51,52を備える。搬送レール51,52は平行に設けられる。このような構成によって、基板供給部6Kから基板Pを搬出し、搬送レール51,52に沿ってボンディング位置まで移動し、ボンディング後基板搬出部6Hまで移動して、基板搬出部6Hに基板Pを渡す。基板PにダイDをボンディング中に、基板供給部6Kは新たな基板Pを搬出し、搬送レール51,52上で待機する。
The
制御装置7は、フリップチップボンダ10の各部の動作を監視し制御するプログラム(ソフトウェア)やデータを格納する記憶装置(メモリ)と、メモリに格納されたプログラムを実行する中央処理装置(CPU)と、を備える。
The
図12に示すように、ダイ供給部1は、ウェハリング14を保持するエキスパンドリング15と、ウェハリング14に保持され複数のダイDが粘着されたダイシングテープ16を水平に位置決めする支持リング17と、ダイDを上方に突き上げるための突上げユニット13と、を有する。所定のダイDをピックアップするために、突上げユニット13は、図示しない駆動機構によって上下方向に移動し、ダイ供給部1は水平方向には移動するようになっている。
As shown in FIG. 12, a
ボンディング部について実施形態を参照しながら図2、14を用いて説明する。図14はボンディング部4の主要部を示す概略側面図である。一部の構成要素は透視して示されている。なお、図14の側面図は図2の側面図に対応している。以下、ボンディング部4のYビーム43a側を中心に説明するが、Yビーム43bはYビーム43aと対称な構成である。
The bonding portion will be described with reference to FIGS. FIG. 14 is a schematic side view showing a main part of the bonding section 4. Some components are shown in perspective. The side view of FIG. 14 corresponds to the side view of FIG. Hereinafter, the description will be made focusing on the
ボンディング部4は、架台53(架台110)の上に支持されるボンディングステージBS(実装ステージ120)と、搬送レール51,52の近傍に設けられるX支持台451a(X支持台131a)と、X支持台451aの上に支持されるYビーム43a(Yビーム140a)と、Yビーム43aに支持されるボンディングヘッド41a(実装ヘッド150a)と、ボンディングヘッド41aをY軸方向およびZ軸方向に駆動する駆動部46a(駆動部160a)と、を備えている。
The bonding section 4 includes a bonding stage BS (mounting stage 120) supported on the gantry 53 (gantry 110), an
ボンディングヘッド41aは、ダイD(部品300)を着脱自在に保持するコレット42a(保持手段151a)を有する装置であり、Y軸方向に往復動自在にYビーム43aに取り付けられている。
The
本実施例の場合、ボンディングヘッド41aを一本備えており、ボンディングヘッド41aは、真空吸着によりダイDを保持するコレット42aを備えている。また、駆動部46aは、ボンディングヘッド41aをZ軸方向に昇降させることができる。ボンディングヘッド41aは中間ステージ31aからピックアップしたダイDを保持して搬送し、ボンディングステージBSに吸着固定された基板P(ワーク200)上にダイDを取り付ける機能を備えている。
In the case of this embodiment, one
X支持台451a,451bの上に設けられたガイド452a,452bは、Yビーム43aをX軸方向に摺動自在に案内する部材である。本実施例の場合、二本のX支持台451a,451bが平行に配置されており、各X支持台451a,451bは、搬送レール51,52上にX軸方向に伸びた状態で固定されている。X支持台451a,451bは、搬送レール51,52と一体に形成されるものでもよい。
図11、図14に示すように、ガイド452a,452bの上にはスライダ433a,433bがX軸方向に移動自在に取り付けられている。そして、2つのガイド452の各スライダ433a,433bの上には、それぞれYビーム43aの両端部が取り付けられている。つまり、Yビーム43aは、ボンディングステージBSの上を跨るようにY軸方向に伸び、両端部はスライダ433a,433bに取り付けられてX支持台451a,451bに取り付けられたガイド452a,452bによってX軸方向に移動自在に支持されている。なお、Yビーム43aの底面とスライダ433a,433bの上面は同一面上に位置するので、Yビーム43aはX支持台451a,451bからそれほど高くない位置に設けられている。
As shown in FIGS. 11 and 14,
第一実施例のYビーム43aは実施形態のYビーム140aと基本的には同様な構成である。ただし、Yビーム43aは図面上右側の支持台451aよりも右側に大きく延伸している。これは、ボンディングヘッド41aが中間ステージ31aからダイDをピックアップすることを可能とするためである。なお、ボンディングヘッド41aが支持台451aよりも右側に移動する場合は、コレット42aがガイド452aよりも高くなるようにボンディングヘッド41aが上昇する。
The
次に、第一実施例のフリップチップボンダにおいて実施されるボンディング方法(半導体装置の製造方法)について図14を用いて説明する。図15は第一実施例のフリップチップボンダで実施されるボンディング方法を示すフローチャートである。Yビーム43a側を中心に説明するが、Yビーム43b側も同様である。ただし、Yビーム43b側はYビーム43a側とはお互いに異なるタイミングで動作するが、同時に同じ動作をする場合もある。
Next, a bonding method (a method of manufacturing a semiconductor device) performed in the flip chip bonder of the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 15 is a flowchart showing a bonding method performed by the flip chip bonder of the first embodiment. The following description will focus on the
ステップS1:制御装置7はピックアップするダイDが突上げユニット13の真上に位置するようにウェハ保持台12を移動し、剥離対象ダイを突上げユニット13とコレット22に位置決めする。ダイシングテープ16の裏面に突上げユニット13の上面が接触するように突上げユニット13を移動する。このとき、制御装置7は、ダイシングテープ16を突上げユニット13の上面に吸着する。制御装置7は、コレット22を真空引きしながら下降させ、剥離対象のダイDの上に着地させ、ダイDを吸着する。制御装置7はコレット22を上昇させ、ダイDをダイシングテープ16から剥離する。これにより、ダイDはピックアップフリップヘッド21によりピックアップされる。
Step S <b> 1: The
ステップS2:制御装置7はピックアップフリップヘッド21を移動させる。
Step S2: The
ステップS3:制御装置7はピックアップフリップヘッド21を180度回転させ、ダイDのバンプ面(表面)を反転させて下面に向け、ダイDのバンプ(表面)を反転させて下面に向け、ダイDをトランスファヘッド81aに渡す姿勢にする。
Step S3: The
ステップS4:制御装置7はピックアップフリップヘッド21のコレット22からトランスファヘッド81aのコレット82aによりダイDをピックアップして、ダイDの受渡しが行われる。
Step S4: The
ステップS5:制御装置7は、ピックアップフリップヘッド21を反転し、コレット22の吸着面を下に向ける。
Step S5: The
ステップS6:ステップS5の前または並行して、制御装置7はトランスファヘッド81aを中間ステージ31aに移動する。
Step S6: Before or in parallel with step S5, the
ステップS7:制御装置7はトランスファヘッド81aに保持しているダイDを中間ステージ31aに載置する。
Step S7: The
ステップS8:制御装置7はトランスファヘッド81aをダイDの受渡し位置に移動させる。
Step S8: The
ステップS9:ステップS8の後または並行して、制御装置7は中間ステージ31aをボンディングヘッド41aとの受渡し位置に移動させる。
Step S9: After or concurrently with step S8, the
ステップSA:制御装置7は中間ステージ31aからボンディングヘッド41aのコレット42aによりダイDをピックアップして、ダイDの受渡しが行われる。
Step SA: The
ステップSB:制御装置7は中間ステージ31aをトランスファヘッド81aとの受渡し位置に移動させる。
Step SB: The
ステップSC:制御装置7は、ボンディングヘッド41aのコレット42aが保持しているダイDを基板P上に移動する。このとき、Yビーム43aはX軸方向に移動すると共にボンディングヘッド41aはY軸方向に移動する。
Step SC: The
ステップSD:制御装置7は、中間ステージ31aからボンディングヘッド41aのコレット42aでピックアップしたダイDを基板P上に載置する。
Step SD: The
Yビーム43a,43bはお互いに異なるタイミングで移動するので、ボンディングヘッド41aがダイDを基板Pに載置するタイミングでボンディングヘッド41bが移動する。そこで、制御装置7は、図7Bに示すように、駆動部のモータ(M)の位置決め制御において、Yビーム43b(動作軸)の動作指令からYビーム43a(相手軸)に加わる加振力を推定し推力補償として相手軸の推力フィードフォワードへ加減算する。
Since the Y beams 43a and 43b move at mutually different timings, the
ステップSE:制御装置7はボンディングヘッド41aを中間ステージ31aとの受渡し位置に移動させる。
Step SE: The
以下、上述の実施形態の実装装置の一例である半導体チップ(ダイ)を基板等にボンディングするダイボンダにも適用した例について説明する。 Hereinafter, an example in which the present invention is applied to a die bonder that bonds a semiconductor chip (die) to a substrate or the like, which is an example of the mounting apparatus of the above-described embodiment, will be described.
図16は第二実施例のダイボンダの概略上面図である。 FIG. 16 is a schematic top view of the die bonder of the second embodiment.
第二実施例のダイボンダ10Aは、大別して、基板Pに実装するダイDを供給するダイ供給部1と、ダイ供給部1からダイをピックアップするピックアップ部2A,2Bと、ピックアップされたダイDを中間的に一度載置する中間ステージ部3A,3Bと、中間ステージ部3A,3BのダイDをピックアップし基板P又は既にボンディングされたダイDの上にボンディングするボンディング部4A,4Bと、基板Pを実装位置に搬送する搬送部5、搬送部5に基板を供給する基板供給部6Kと、実装された基板Pを受け取る基板搬出部6Hと、各部の動作を監視し制御する制御装置7と、を有する。
The die bonder 10A of the second embodiment is roughly divided into a
まず、ダイ供給部1は、複数のダイDを有するウェハ11を保持するウェハ保持台12とウェハ11からダイDを突き上げる点線で示す突上げユニット13とを有する。ダイ供給部1は図示しない駆動手段によってXY軸方向に移動し、ピックアップするダイDを突上げユニット13の位置に移動させる。
First, the
ピックアップ部2A,2Bは、突上げユニット13で突き上げられたダイDを先端に吸着保持するコレット22A,22Bを有し、ダイDをピックアップし、中間ステージ部3A,3Bに載置するピックアップヘッド21A,21Bと、ピックアップヘッド21A,21BをX軸方向に移動させるピックアップヘッドのX駆動部23A,23Bと、を有する。なお、ピックアップヘッド21A,21Bは、コレット22A,22Bを昇降、回転及びX方向移動させる図示しない各駆動部を有する。ピックアップヘッド21Aは、ウェハ11からダイDをピックアップし、X軸方向の左側に移動して、ボンディングヘッド41Aとの軌道の交点に設けられた中間ステージ31AにダイDを載置する。ピックアップヘッド21Bは、ウェハ11からダイDをピックアップし、X軸方向の右側に移動して、ボンディングヘッド41Bとの軌道の交点に設けられた中間ステージ31BにダイDを載置する。ピックアップヘッド21A,21Bはお互いに反対方向に異なるタイミングで移動する。
The
中間ステージ部3A,3Bは、ダイDを一時的に載置する中間ステージ31A,31Bと、中間ステージ31A,31B上のダイDを認識する為のステージ認識カメラ34A,34Bと、を有する。
The
ボンディング部4A,4Bは、ピックアップヘッドと同じ構造を有し、中間ステージ31A,31BからダイDをピックアップし、搬送されてきた基板Pにボンディングするボンディングヘッド41A,41Bと、ボンディングヘッド41A,41Bの先端に装着されダイDを吸着保持するコレット42A,42Bと、ボンディングヘッド41A,41BをY軸方向に移動させるY駆動部43A,43Bと、搬送されてきた基板Pの位置認識マーク(図示せず)を撮像し、ボンディングすべきダイDのボンディング位置を認識する基板認識カメラ44A,44Bと、を有する。搬送レール51側にボンディングステージBS1,BS3が位置し、搬送レール52側にボンディングステージBS2が位置する。
The
このような構成によって、ボンディングヘッド41A,41Bは、ステージ認識カメラ34A,34Bの撮像データに基づいてピックアップ位置・姿勢を補正し、中間ステージ31A,31BからダイDをピックアップし、基板認識カメラ44A,44Bの撮像データに基づいて基板PにダイDをボンディングする。
With such a configuration, the bonding heads 41A and 41B correct the pickup position and attitude based on the image data of the
搬送部5は、一枚又は複数枚の基板P(図1では十五枚)を載置した基板搬送パレット91,93を二本の搬送シュートを備える搬送レール51および基板搬送パレット92を二本の搬送シュートを備える搬送レール52を有する。例えば、基板搬送パレット91,92,93は二本搬送シュートに設けられた図示しない搬送ベルトで移動する。
The
このような構成によって、基板搬送パレット91,92,93は、基板供給部6Kで基板Pを載置され、搬送シュートに沿ってボンディング位置まで移動し、ボンディング後基板搬出部6Hまで移動し基板Pを渡す。
With such a configuration, the
制御装置7は、ダイボンダ10Aの各部の動作を監視し制御するプログラム(ソフトウェア)やデータを格納する記憶装置(メモリ)と、メモリに格納されたプログラムを実行する中央処理装置(CPU)と、を備える。
The
ボンディングヘッド41A,41Bはお互いに異なるタイミングで移動するので、ボンディングヘッド41BがダイDを基板Pに載置するタイミングでボンディングヘッド41Aが移動する。そこで、制御装置7は、図7Bに示すように、駆動部のモータ(M)の位置決め制御において、Y駆動部43A(動作軸)の動作指令からY駆動部43B(相手軸)に加わる加振力を推定し推力補償として相手軸の推力フィードフォワードへ加減算する。
Since the bonding heads 41A and 41B move at different timings from each other, the
以上、本発明者によってなされた発明を実施形態および実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、上記実施形態および実施例に限定されるものではなく、種々変更可能であることはいうまでもない。 As described above, the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment and the example. However, the present invention is not limited to the above embodiment and the example, and it can be variously modified. Not even.
また、実施例ではボンディングヘッド(実装ヘッド)が一つの例を説明したが、これに限定されるものではなく、実施形態と同様に複数のボンディングヘッドであってもよい。 In the embodiment, one example of the bonding head (mounting head) has been described. However, the present invention is not limited to this, and a plurality of bonding heads may be used as in the embodiment.
また、実施例では反転機構をピックアップフリップヘッドに設けて、トランスファヘッドでピックアップフリップヘッドからダイを受け取り中間ステージに載置し、中間ステージを移動する例を説明したが、これに限定されるものではなく、ダイをピックアップして反転したピックアップフリップヘッドを移動するようにしてもよいし、ダイの表裏を回転できるステージユニットにピックアップしたダイDを載置し、ステージユニットを移動するようにしてもよい。 Further, in the embodiment, the example in which the reversing mechanism is provided in the pickup flip head, the transfer head receives the die from the pickup flip head, mounts the die on the intermediate stage, and moves the intermediate stage, but is not limited thereto. Instead, the die may be picked up and the inverted flip-flop head may be moved, or the picked-up die D may be placed on a stage unit that can rotate the front and back of the die, and the stage unit may be moved. .
また、実施例では、フリップチップボンダおよび半導体チップ(ダイ)を基板等にボンディングするダイボンダに適用した例について説明するが、これに限定されるものではなく、パッケージされた半導体装置等を基板に実装するチップマウンタ(表面実装機)等にも適用することができる。 Further, in the embodiment, an example in which a flip chip bonder and a die bonder for bonding a semiconductor chip (die) to a substrate or the like will be described. However, the present invention is not limited to this, and a packaged semiconductor device or the like is mounted on the substrate. The present invention can also be applied to a chip mounter (surface mounter) or the like that performs the above.
100:実装装置
110:架台
120:実装ステージ
130a,130b:Xビーム
131a,131b:X支持台
132a,132b:ガイド
140a,140b:Yビーム
150a,150b:実装ヘッド
160a,160b:駆動部
170:振動測定器
200:ワーク
300:部品
100: mounting apparatus 110: mount 120: mounting
Claims (14)
前記第一実装ヘッドとは動作タイミングが異なり、ダイを搬送する第二実装ヘッドと、
前記第一実装ヘッドを第一方向に自在に移動させる第一駆動部と、
前記第二実装ヘッドを前記第一方向に自在に移動させる第二駆動部と、
前記第一駆動部および前記第二駆動部を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は前記第一実装ヘッドを移動させる際に発生する加振力を指令値から算出し、または予め測定して登録してある振動波形として、前記加振力の逆方向に打ち消す推力相当分をフィードフォワード成分として前記第二実装ヘッドの制御量に加えるよう構成される実装装置。 A first mounting head that transports the die,
The operation timing is different from the first mounting head, and a second mounting head for transporting a die,
A first drive unit that freely moves the first mounting head in a first direction,
A second drive unit that freely moves the second mounting head in the first direction,
A control unit that controls the first drive unit and the second drive unit,
With
The control unit calculates a vibration force generated when the first mounting head is moved from a command value, or as a vibration waveform measured and registered in advance, the thrust corresponding to canceling the vibration force in a direction opposite to the vibration force. A mounting device configured to add a component as a feedforward component to a control amount of the second mounting head.
前記加振力は前記第一実装ヘッドへの指令動作速度から微分して算出された加加速度である実装装置。 The mounting device according to claim 1,
The mounting apparatus, wherein the exciting force is an jerk calculated by differentiating the command operation speed to the first mounting head.
前記加振力は前記第一実装ヘッドへの指令動作速度から微分して算出された加加加速度である実装装置。 The mounting device according to claim 1,
The mounting apparatus, wherein the exciting force is an applied acceleration calculated by differentiating from a command operation speed to the first mounting head.
前記加振力は前記第一実装ヘッドの予め測定された加加加速度に相当する振動波形である実装装置。 The mounting device according to claim 1,
The mounting apparatus, wherein the exciting force is a vibration waveform corresponding to a previously measured jerk of the first mounting head.
実装ステージが取り付けられる架台と、
前記架台に設置した振動測定器と、
を備え、
前記制御部は、前記振動測定器によって振動波形を測定し、前記第二実装ヘッドに加わる振動成分を前記振動波形に基づいて計算して、保存し、前記振動成分に基づいて前記第二実装ヘッドの制御量を補正する実装装置。 The mounting device according to claim 1, further comprising:
A base on which the mounting stage is mounted,
A vibration measuring instrument installed on the gantry,
With
The control unit measures a vibration waveform by the vibration measuring device, calculates a vibration component applied to the second mounting head based on the vibration waveform, stores and stores the vibration component, and the second mounting head based on the vibration component. Mounting device that corrects the control amount of
さらに、前記第二実装ヘッドに搭載した振動測定器を備え、
前記制御部は、前記振動測定器によって振動波形を測定し、前記第二実装ヘッドに加わる振動成分を前記振動波形に基づいて計算して、保存し、前記振動成分に基づいて前記第二実装ヘッドの制御量を補正する実装装置。 The mounting device according to claim 1,
Further, a vibration measuring device mounted on the second mounting head,
The control unit measures a vibration waveform by the vibration measuring device, calculates a vibration component applied to the second mounting head based on the vibration waveform, stores and stores the vibration component, and the second mounting head based on the vibration component. Mounting device that corrects the control amount of
さらに、振動測定器を備え、
前記制御部は、当該実装装置が生産場所の床に設置された状態で前記第一実装ヘッドを移動して、振動させて前記第二実装ヘッドの振動波形を前記振動測定器で測定し、前記振動波形に基づいて前記第二実装ヘッドの推力補正波形を調整する実装装置。 The mounting device according to claim 1,
In addition, equipped with a vibration measuring device,
The control unit moves the first mounting head in a state where the mounting apparatus is installed on the floor of a production place, measures the vibration waveform of the second mounting head by vibrating the vibration measuring device, A mounting device for adjusting a thrust correction waveform of the second mounting head based on a vibration waveform.
さらに、振動測定器を備え、
前記制御部は、当該実装装置の動作中にある待機時間または待ち時間に前記第一実装ヘッドを移動して、振動させて前記第二実装ヘッドの振動波形を前記振動測定器で測定して、保存し、前記振動波形に基づいて前記第二実装ヘッドの振動補償波形を補正する実装装置。 The mounting device according to claim 1,
In addition, equipped with a vibration measuring device,
The control unit moves the first mounting head during a standby time or a standby time during the operation of the mounting apparatus, measures the vibration waveform of the second mounting head by vibrating the vibration measuring device, A mounting device that stores and corrects a vibration compensation waveform of the second mounting head based on the vibration waveform.
前記制御部は、前記振動測定器によって前記第二駆動部のモータドライバの推力または偏差波形を取得し、前記推力または偏差波形に基づいて前記第二実装ヘッドの推力補正波形を計算して、保存する実装装置。 The mounting apparatus according to claim 8,
The control unit obtains a thrust or a deviation waveform of the motor driver of the second driving unit by the vibration measuring device, calculates a thrust correction waveform of the second mounting head based on the thrust or the deviation waveform, and stores the waveform. Mounting equipment.
実装ステージが取り付けられる架台と、
前記架台の上を渡るように前記第一方向に伸びてその両端がそれぞれ第二方向に移動自在に前記架台の上に支持されると第一ビームと、
前記架台の上を渡るように前記第一方向に伸びてその両端がそれぞれ前記第二方向に移動自在に前記架台の上に支持される第二ビームと、
を備え、
前記第一実装ヘッドは前記第二方向に移動自在に前記第一ビームに支持され、
前記第二実装ヘッドは前記第二方向に移動自在に前記第二ビームに支持され、
前記制御部は、前記第一駆動部により前記第一ビームを前記第一方向に移動させ、前記第二駆動部により前記第二ビームを前記第一方向に移動させるよう構成される実装装置。 The mounting device according to claim 1, further comprising:
A base on which the mounting stage is mounted,
A first beam extending in the first direction so as to cross over the gantry and both ends thereof are supported on the gantry so as to be movable in the second direction, respectively;
A second beam extending in the first direction so as to cross over the gantry, and both ends of which are supported on the gantry movably in the second direction,
With
The first mounting head is supported by the first beam movably in the second direction,
The second mounting head is supported by the second beam movably in the second direction,
The mounting device, wherein the control unit is configured to move the first beam in the first direction by the first drive unit and move the second beam in the first direction by the second drive unit.
ダイ供給部からダイをピックアップして反転するフリップピックアップヘッドと、
前記第一方向に自在に移動可能であって前記フリップピックアップヘッドでピックアップした前記ダイをピックアップする第一トランスファヘッドと、
前記第一方向に自在に移動可能であって前記フリップピックアップヘッドでピックアップした前記ダイをピックアップする第二トランスファヘッドと、
前記第二方向に自在に移動可能であって前記第一トランスファヘッドがピックアップした前記ダイが載置される第一中間ステージと、
前記第二方向に自在に移動可能であって前記第一トランスファヘッドがピックアップした前記ダイが載置される第二中間ステージと、
を備え、
前記第一実装ヘッドは前記第一中間ステージに載置された前記ダイをピックアップし、
前記第二実装ヘッドは前記第二中間ステージに載置された前記ダイをピックアップする実装装置。 The mounting device according to claim 10, further comprising:
A flip pickup head that picks up a die from a die supply unit and inverts the die,
A first transfer head that is freely movable in the first direction and picks up the die picked up by the flip pickup head,
A second transfer head that is freely movable in the first direction and picks up the die picked up by the flip pickup head,
A first intermediate stage on which the die that can be freely moved in the second direction and is picked up by the first transfer head is placed;
A second intermediate stage that can be freely moved in the second direction and on which the die picked up by the first transfer head is mounted,
With
The first mounting head picks up the die mounted on the first intermediate stage,
The mounting device for picking up the die mounted on the second intermediate stage, wherein the second mounting head is used.
第二方向に自在に移動可能であってダイ供給からダイをピックアップする第一ピックアップヘッドと、
前記第二方向に自在に移動可能であって前記ダイ供給からダイをピックアップする第二ピックアップヘッドと、
前記第一ピックアップヘッドがピックアップした前記ダイが載置される第一中間ステージと、
前記第二ピックアップヘッドがピックアップした前記ダイが載置される第二中間ステージと、
を備え、
前記第一実装ヘッドは前記第一中間ステージに載置された前記ダイをピックアップし、
前記第二実装ヘッドは前記第二中間ステージに載置された前記ダイをピックアップする実装装置。 The mounting device according to claim 1, further comprising:
A first pickup head that is freely movable in a second direction and picks up a die from a die supply;
A second pickup head that is freely movable in the second direction and picks up a die from the die supply;
A first intermediate stage on which the die picked up by the first pickup head is mounted,
A second intermediate stage on which the die picked up by the second pickup head is mounted,
With
The first mounting head picks up the die mounted on the first intermediate stage,
The mounting device for picking up the die mounted on the second intermediate stage, wherein the second mounting head is used.
基板を準備する工程と、
ダイ供給部から前記ダイをピックアップする工程と、
ピックアップされた前記ダイを反転する工程と、
反転された前記ダイをピックアップして前記基板に載置する工程と、
を備える半導体装置の製造方法。 Preparing a mounting device according to any one of claims 1 to 11,
Preparing a substrate;
Picking up the die from a die supply unit;
Inverting the die that has been picked up;
Picking up the inverted die and placing it on the substrate;
A method for manufacturing a semiconductor device comprising:
基板を準備する工程と、
ダイ供給部から前記ダイをピックアップする工程と、
ピックアップされた前記ダイをピックアップして前記基板に載置する工程と、
を備える半導体装置の製造方法。 Preparing a mounting device according to any one of claims 1 to 9 and 12,
Preparing a substrate;
Picking up the die from a die supply unit;
Picking up the die and mounting it on the substrate;
A method for manufacturing a semiconductor device comprising:
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007095737A (en) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Shibaura Mechatronics Corp | Mounting device of electronic component |
JP2009206399A (en) * | 2008-02-29 | 2009-09-10 | Sony Corp | Component mounting apparatus, vibration controlling apparatus, and vibration controlling method |
JP2015173551A (en) * | 2014-03-12 | 2015-10-01 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | Semiconductor manufacturing method and die bonder |
JP2015228532A (en) * | 2015-09-24 | 2015-12-17 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | Die bonder and die bonding method |
JP2018056169A (en) * | 2016-09-26 | 2018-04-05 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | Flip chip bonder and semiconductor device manufacturing method |
Family Cites Families (8)
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KR20110040217A (en) * | 2009-10-13 | 2011-04-20 | 주식회사 나래나노텍 | A damping device and method for reducing external oscillation used for a coating apparatus and a coating apparatus having the same |
JP2011187468A (en) | 2010-03-04 | 2011-09-22 | Panasonic Corp | Component mounter and vibration suppressing method in the component mounter |
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JP6630500B2 (en) * | 2015-06-23 | 2020-01-15 | 株式会社Fuji | Working device and control method thereof |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007095737A (en) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Shibaura Mechatronics Corp | Mounting device of electronic component |
JP2009206399A (en) * | 2008-02-29 | 2009-09-10 | Sony Corp | Component mounting apparatus, vibration controlling apparatus, and vibration controlling method |
JP2015173551A (en) * | 2014-03-12 | 2015-10-01 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | Semiconductor manufacturing method and die bonder |
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