JP2020046223A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2020046223A5
JP2020046223A5 JP2018172821A JP2018172821A JP2020046223A5 JP 2020046223 A5 JP2020046223 A5 JP 2020046223A5 JP 2018172821 A JP2018172821 A JP 2018172821A JP 2018172821 A JP2018172821 A JP 2018172821A JP 2020046223 A5 JP2020046223 A5 JP 2020046223A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
spatial frequency
scale
detector
lattice
detection device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018172821A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2020046223A (ja
JP7148337B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2018172821A priority Critical patent/JP7148337B2/ja
Priority claimed from JP2018172821A external-priority patent/JP7148337B2/ja
Priority to US16/565,590 priority patent/US11085799B2/en
Publication of JP2020046223A publication Critical patent/JP2020046223A/ja
Publication of JP2020046223A5 publication Critical patent/JP2020046223A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7148337B2 publication Critical patent/JP7148337B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2018172821A 2018-09-14 2018-09-14 位置検出装置、リソグラフィ装置、力覚センサ及び力覚センサを有する装置 Active JP7148337B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018172821A JP7148337B2 (ja) 2018-09-14 2018-09-14 位置検出装置、リソグラフィ装置、力覚センサ及び力覚センサを有する装置
US16/565,590 US11085799B2 (en) 2018-09-14 2019-09-10 Position detection apparatus that detects a position of an object by detecting light from a scale, and lithography apparatus, force sensor, and apparatus having force sensor including the position detection apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018172821A JP7148337B2 (ja) 2018-09-14 2018-09-14 位置検出装置、リソグラフィ装置、力覚センサ及び力覚センサを有する装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2020046223A JP2020046223A (ja) 2020-03-26
JP2020046223A5 true JP2020046223A5 (enExample) 2021-09-30
JP7148337B2 JP7148337B2 (ja) 2022-10-05

Family

ID=69773927

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018172821A Active JP7148337B2 (ja) 2018-09-14 2018-09-14 位置検出装置、リソグラフィ装置、力覚センサ及び力覚センサを有する装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US11085799B2 (enExample)
JP (1) JP7148337B2 (enExample)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US12163813B2 (en) 2020-05-08 2024-12-10 Canon Kabushiki Kaisha Optical encoder and control apparatus for receiving light that forms moire fringes from a grating pattern
JPWO2022097399A1 (enExample) * 2020-11-06 2022-05-12
CN113418446B (zh) * 2021-06-17 2022-04-19 上海爱科锐特控制技术有限公司 绝对位置检测光栅传感装置及其工作方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006006342A1 (ja) * 2004-07-12 2006-01-19 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha 光学式エンコーダ
JP5882590B2 (ja) 2011-02-28 2016-03-09 キヤノン株式会社 光学式エンコーダおよび光学式エンコーダを有する装置
JP5791340B2 (ja) 2011-04-14 2015-10-07 キヤノン株式会社 エンコーダ
JP5755010B2 (ja) 2011-04-14 2015-07-29 キヤノン株式会社 エンコーダ
JP6312505B2 (ja) 2014-04-08 2018-04-18 キヤノン株式会社 光学式エンコーダおよびこれを備えた装置
JP6486097B2 (ja) 2014-12-19 2019-03-20 キヤノン株式会社 位置検出装置、レンズ装置、撮像システム、工作装置、位置検出方法、プログラム、および、記憶媒体
KR102697708B1 (ko) 2015-09-09 2024-08-21 레니쇼우 피엘씨 인코더 장치
JP6400035B2 (ja) 2016-03-14 2018-10-03 キヤノン株式会社 位置検出装置、力覚センサ、および、装置
JP6400036B2 (ja) 2016-03-14 2018-10-03 キヤノン株式会社 位置検出装置、工作装置、および、露光装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6462883B2 (ja) レベルセンサ、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法
CN103994723B (zh) 基于纵横转换放大细分的宏微复合光栅尺测量系统
JP2015529510A5 (enExample)
JP2020046223A5 (enExample)
KR102785558B1 (ko) 계측 방법 및 연관된 계측, 그리고 리소그래피 장치
JP2007071874A (ja) 位置測定システムおよびリソグラフィ装置
EP2638562B1 (en) Method for determining a distance between two beamlets in a multi-beamlet exposure apparatus
JP2017508172A (ja) 半導体検査およびリソグラフィシステムのためのステージ装置
EP3035003B1 (en) Position detection apparatus, lens apparatus, image pickup system, machine tool apparatus, position detection method, program, and storage medium
JP2011040547A5 (enExample)
JP2012507173A5 (enExample)
JP2015045594A5 (enExample)
JP2018025817A5 (ja) エンコーダ装置及び計測方法、露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法
US20150378265A1 (en) Measurement apparatus, lithography apparatus, and method of manufacturing article
KR20100124312A (ko) 리소그래피 장치 및 방법
JP2006339438A5 (enExample)
WO2015162147A1 (en) Photolithography apparatus comprising projection system for control of image size
US10095125B2 (en) Measurement apparatus, lithography apparatus, and method of manufacturing article
KR101436403B1 (ko) 정현파 격자를 이용한 섀도우모아레 방법 및 이를 이용한 측정 장치
JP6321386B2 (ja) 露光装置および露光方法
CN108139695B (zh) 具有传感器的设备以及执行目标测量的方法
CN109631765B (zh) 影像位移传感器及其测量方法
JP2013026272A5 (enExample)
JP6776352B2 (ja) リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
JP7780993B2 (ja) 露光装置および露光位置測定方法