JP6462883B2 - レベルセンサ、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
[0001] 本出願は、2014年12月22日に出願され、参照により全体として本明細書に取り入れられる欧州仮特許出願第14199544.9号の利益を請求するものである。
基板上に測定ビームを投影するように構成された投影ユニットであって、周期Pを有する投影格子を含み、投影格子が測定ビームを付与するように構成され、それにより周期Pを有し、第1の方向に周期的に変動する強度分布を有するパターン付測定ビームを得る、投影ユニットと、
基板上での反射後に反射したパターン付測定ビームを受け入れるための検出ユニットであって、反射したパターン付測定ビームが周期Pを有し、第2の方向に周期的に変動する強度部分を有し、当該検出ユニットが、周期的に変動する強度分布を有する反射したパターン付測定ビームを受け入れるように構成されたセンサアレイを含み、センサアレイが複数の感知素子を含み、複数の感知素子が周期Pの半分より小さいか又はそれに等しいピッチpで第2の方向に沿って配置される、検出ユニットと、
入力においてセンサアレイから1つ以上のセンサ信号を受け入れ、センサアレイから受け入れた1つ以上のセンサ信号に基づいて基板の高さレベルを決定するように構成された処理ユニットと、
を含む、レベルセンサが提供される。
基板テーブル上に基板を提供することと、
本発明によるレベルセンサを使用して、基板テーブル上の基板の高さレベルを測定することと、
基板上にパターン付放射ビームを投影し、それによりパターン付ビームに対して基板を位置決めし、位置決めが少なくとも部分的に測定した高さレベルに基づくものであることと、
を含む、デバイス製造方法が提供される。
放射ビームB(例えばUV放射又はEUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTa又はWTbと、
パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSと、を備える。
1.ステップモードでは、マスクテーブルMT及び基板テーブルWTa/WTbは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに付与されたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTa/WTbがX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモードでは、マスクテーブルMT及び基板テーブルWTa/WTbは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに付与されるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTa/WTbの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の(スキャン方向における)高さが決まる。
3.別のモードでは、マスクテーブルMTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTa/WTbを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTa/WTbを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
Claims (10)
- 基板の高さレベルを決定するように構成されたレベルセンサであって、
前記基板上に測定ビームを投影するように構成された投影ユニットであって、周期Pを有する投影格子を含み、前記投影格子が前記測定ビームを付与するように構成され、それにより前記周期Pを有し、第1の方向に周期的に変動する強度分布を有するパターン付測定ビームを得る、投影ユニットと、
前記基板上での反射後に反射したパターン付測定ビームを受け入れるための検出ユニットであって、前記反射したパターン付測定ビームが前記周期Pを有し、第2の方向に周期的に変動する強度部分を有し、前記検出ユニットが、前記周期的に変動する強度分布を有する前記反射したパターン付測定ビームを受け入れるように構成されたセンサアレイを含み、前記センサアレイが複数の感知素子を含み、前記複数の感知素子が前記周期Pの半分より小さいか又は実質的にそれに等しいピッチpで前記第2の方向に沿って配置される、検出ユニットと、
入力において前記センサアレイから1つ以上のセンサ信号を受け入れ、前記センサアレイから受け入れた前記1つ以上のセンサ信号に基づいて前記基板の前記高さレベルを決定するように構成された処理ユニットと、
を備え、
前記センサアレイが、ピッチpで前記第2の方向に沿って交互に配置された第1の組の感知素子と第2の組の感知素子とを含み、nが偶数であるn*pが、前記周期的に変動する強度の前記周期Pに対応し、
前記第1の組の感知素子の前記感知素子同士が、前記センサアレイの第1の共通出力で接続され、
前記第2の組の感知素子の前記感知素子同士が、前記センサアレイの第2の共通出力で接続される、レベルセンサ。 - 前記センサアレイが、前記反射したパターン付測定ビームの前記周期的強度分布を直接受け入れるように構成される、請求項1に記載のレベルセンサ。
- 前記第2の方向に前記周期的強度分布に沿った位置と前記第2の方向に前記センサアレイに沿った位置との間の1対1の対応を有する、請求項1に記載のレベルセンサ。
- 前記投影格子が複数のスロット状アパーチャを含む、請求項1から3の何れか一項に記載のレベルセンサ。
- 前記感知素子が、前記周期的に変動する強度分布の前記第1の方向に対して垂直な方向に伸びる、請求項1から4の何れか一項に記載のレベルセンサ。
- 前記処理ユニットが、前記基板の前記高さを決定するために、前記センサアレイの前記第1の共通出力から第1の信号を受け入れるための第1の入力と、前記センサアレイの前記第2の共通出力から第2の信号を受け入れるための第2の入力と、を有する、請求項1から5の何れか一項に記載のレベルセンサ。
- 前記センサアレイが、単一フォトダイオード又はCCDセルから製造される、請求項1から6の何れか一項に記載のレベルセンサ。
- 前記センサアレイが、2D CCDアレイなどの感知素子の2次元アレイを含む、請求項1から3の何れか一項に記載のレベルセンサ。
- 放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成された支持部であって、前記パターニングデバイスが前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成できる、支持部と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分に前記パターン付放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
前記基板テーブル上の基板の高さレベルを測定するための請求項1から8の何れか一項に記載のレベルセンサと、
を含む、リソグラフィ装置。 - 基板テーブル上に基板を提供することと、
請求項1から8の何れか一項に記載のレベルセンサを使用して、前記基板テーブル上の前記基板の高さレベルを測定することと、
前記基板上にパターン付放射ビームを投影し、それにより前記パターン付ビームに対して前記基板を位置決めし、前記位置決めが少なくとも部分的に前記測定した高さレベルに基づくものであることと、
を含む、デバイス製造方法。
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